JPS61249120A - 差圧計を用いたチヤンバ内圧力制御装置 - Google Patents
差圧計を用いたチヤンバ内圧力制御装置Info
- Publication number
- JPS61249120A JPS61249120A JP60091941A JP9194185A JPS61249120A JP S61249120 A JPS61249120 A JP S61249120A JP 60091941 A JP60091941 A JP 60091941A JP 9194185 A JP9194185 A JP 9194185A JP S61249120 A JPS61249120 A JP S61249120A
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- JP
- Japan
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- pressure
- chamber
- pressure gauge
- gauge
- gas
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は差圧計を用いたチャンバ内圧力制御装置に関し
、更に詳しく言えば、チャンバ内にガスを定常的に流す
場合のチャンバ内圧力の精密制御に関する。
、更に詳しく言えば、チャンバ内にガスを定常的に流す
場合のチャンバ内圧力の精密制御に関する。
従来の技術
近年、半導体薄膜デバイスの製造技術として、チャンバ
内にガスを導入し、熱、プラズマあるいは光のエネルギ
ーを利用して薄膜を成長させたり、加工したりする方法
が広く用いられている。
内にガスを導入し、熱、プラズマあるいは光のエネルギ
ーを利用して薄膜を成長させたり、加工したりする方法
が広く用いられている。
このような方法においては、プロセスの安定性の点から
、チャンバ内の圧力変動を抑制することが不可欠である
。
、チャンバ内の圧力変動を抑制することが不可欠である
。
このような要求から、従来は添付第２図に示すように、
チャンバ１に設けられた絶対圧力計７（あるいは基準圧
力側ポートを開放した差圧計）の出力をガス導入管２に
設けられた制御バルブ８に帰還し、導入ガスの流量を制
御し、チャンバ１内の圧力を制御する。
チャンバ１に設けられた絶対圧力計７（あるいは基準圧
力側ポートを開放した差圧計）の出力をガス導入管２に
設けられた制御バルブ８に帰還し、導入ガスの流量を制
御し、チャンバ１内の圧力を制御する。
しかしながら、このような従来法ではチャンバ内圧力を
高い値に制御しようとするほど、フルスクールの大きな
絶対圧力計を用いる必要があり、このため、圧力計の分
解能が下がり、これに伴いチャンバ内圧力の制御精度も
下がるという欠点がある。
高い値に制御しようとするほど、フルスクールの大きな
絶対圧力計を用いる必要があり、このため、圧力計の分
解能が下がり、これに伴いチャンバ内圧力の制御精度も
下がるという欠点がある。
また、圧力計として基準圧力側ボートを開放した差圧計
を用いる従来法では、大気圧の変動による基準圧力の変
動と、チャンバ内圧力を大気圧以外の圧力に制御できな
いという欠点がある。
を用いる従来法では、大気圧の変動による基準圧力の変
動と、チャンバ内圧力を大気圧以外の圧力に制御できな
いという欠点がある。
発明が解決しようとする問題点
そこで、上記のような従来法の欠点を解決し、新しい差
圧計を用いたチャンバ内圧力制御装置を開発することは
、これら技術の応用分野の拡大、例えば、半導体薄膜デ
バイスの作製などにとって大きな意義を有するものと思
われる。
圧計を用いたチャンバ内圧力制御装置を開発することは
、これら技術の応用分野の拡大、例えば、半導体薄膜デ
バイスの作製などにとって大きな意義を有するものと思
われる。
本発明の目的は、定常的にガスが導入されるチャンバ内
の圧力を精密制御し得る新たな差圧計を用いたチャンバ
内圧力＃御装置を提供することにあり、それによって半
導体薄膜デバイスの作製プロセスの制御性の向上を図る
ことにある。
の圧力を精密制御し得る新たな差圧計を用いたチャンバ
内圧力＃御装置を提供することにあり、それによって半
導体薄膜デバイスの作製プロセスの制御性の向上を図る
ことにある。
問題点を解決するための手段
本発明は上記のようなチャンバ内圧力制御装置の現状に
鑑みて、その諸欠点を改善すべく種々検討した結果、チ
ャンバ内圧力測定する圧力計として差圧計を用い、該差
圧計の測定圧力側ボートをチャンバに連結し、上記差圧
計の基準圧力側ボートを絶対圧力計を具備してその内部
に任意の圧力でガスを導入し封じ込めることができる基
準圧力設定用ガス導入管に連結し、上記差圧計の出力を
チャンバ内に導入するガスの流量を制御する制御バルブ
に帰還することが上記本発明の目的を達する上で極めて
有効であることを見出した。
鑑みて、その諸欠点を改善すべく種々検討した結果、チ
ャンバ内圧力測定する圧力計として差圧計を用い、該差
圧計の測定圧力側ボートをチャンバに連結し、上記差圧
計の基準圧力側ボートを絶対圧力計を具備してその内部
に任意の圧力でガスを導入し封じ込めることができる基
準圧力設定用ガス導入管に連結し、上記差圧計の出力を
チャンバ内に導入するガスの流量を制御する制御バルブ
に帰還することが上記本発明の目的を達する上で極めて
有効であることを見出した。
本発明の差圧計を用いたチャンバ内圧力制御装置の１例
を添付第１図に従って説明すると、チャンバ１と、該チ
ャンバｌにガスを導入するガス導入管２と、上記チャン
バｌ内のガスを排気する排気管３と、上記チャンバ１に
測定圧力側ボートを連結され念差圧計４と、該差圧計４
の基準圧力側ボートに連結されてその内部に任意の圧力
でガスを導入する基準圧力設定用ガス導入管５と、該基
準圧力設定用ガス導入管５に設けられて任意の圧力でガ
スを封じ込めるバルブ６と、該バルブ６と上記差圧計４
の間の上記基準圧力設定用ガス導入管５に設けられた絶
対圧力計７と、上記ガス導入管２に設けられて上記差圧
計４の出力を受けて上記チャンバ１へ導入されるガスの
流量を制御する制御バルブ８から主として構成される。
を添付第１図に従って説明すると、チャンバ１と、該チ
ャンバｌにガスを導入するガス導入管２と、上記チャン
バｌ内のガスを排気する排気管３と、上記チャンバ１に
測定圧力側ボートを連結され念差圧計４と、該差圧計４
の基準圧力側ボートに連結されてその内部に任意の圧力
でガスを導入する基準圧力設定用ガス導入管５と、該基
準圧力設定用ガス導入管５に設けられて任意の圧力でガ
スを封じ込めるバルブ６と、該バルブ６と上記差圧計４
の間の上記基準圧力設定用ガス導入管５に設けられた絶
対圧力計７と、上記ガス導入管２に設けられて上記差圧
計４の出力を受けて上記チャンバ１へ導入されるガスの
流量を制御する制御バルブ８から主として構成される。
尚、差圧計４としては高精度静電容量型差圧計が有効で
ある。
ある。
作用
本発明の装置によれば、チャンバ内圧力は絶対圧力計７
によってモニタして任意に設定された基準圧力（基準圧
力設定用ガス導入管内圧力）に制御され、設定された基
準圧力の値の大小に関係なく差圧計４が持つ分解能で決
まる一定の精度でチャンバ内圧力が基準圧力に制御され
る。
によってモニタして任意に設定された基準圧力（基準圧
力設定用ガス導入管内圧力）に制御され、設定された基
準圧力の値の大小に関係なく差圧計４が持つ分解能で決
まる一定の精度でチャンバ内圧力が基準圧力に制御され
る。
発明の詳細
な説明したように、本発明の差圧計を用いたチャンバ内
圧力制御装置によれば、制御しようとするチャンバ内圧
力の値の大小に関係なく、フルスクールが小さく従って
分解能が高い差圧計を使用することが可能であるため、
チャンバ内圧力を高い値に制御しようとする場合でも精
度良く制御でき、従来の半導体薄膜の成長や加工におい
てみられたチャンバ内圧力の変動によるプロセスの不安
定性を有利に回避し、その結果、半導体薄膜デバイス作
製の制御性および再現性が向上し、半導体薄膜デバイス
の性能や生産性においても大きく改善されるものと期待
する。
圧力制御装置によれば、制御しようとするチャンバ内圧
力の値の大小に関係なく、フルスクールが小さく従って
分解能が高い差圧計を使用することが可能であるため、
チャンバ内圧力を高い値に制御しようとする場合でも精
度良く制御でき、従来の半導体薄膜の成長や加工におい
てみられたチャンバ内圧力の変動によるプロセスの不安
定性を有利に回避し、その結果、半導体薄膜デバイス作
製の制御性および再現性が向上し、半導体薄膜デバイス
の性能や生産性においても大きく改善されるものと期待
する。
第１図は本発明の詳細な説明するための模式的な図であ
り、 第２図は従来のチャンバ内圧力制御装置を説明するため
の模式的な図である。 （参照番号） １・・拳チャンバ ２・・−ガス導入管 ３・・・排気
管 ４・・・差圧計 ５−・・基準圧力設定用ガス導入
管 ６・・・バルブ ７・・・絶対圧力計 ８・・・制
御バルブ
り、 第２図は従来のチャンバ内圧力制御装置を説明するため
の模式的な図である。 （参照番号） １・・拳チャンバ ２・・−ガス導入管 ３・・・排気
管 ４・・・差圧計 ５−・・基準圧力設定用ガス導入
管 ６・・・バルブ ７・・・絶対圧力計 ８・・・制
御バルブ
Claims (1)
- チャンバと、該チャンバに連結されて上記チャンバにガ
スを導入するガス導入管と、上記チャンバ内のガスを排
気する排気管と、上記チャンバに測定圧力側ポートを連
結した差圧計と、該差圧計の基準圧力側ポートに連結さ
れてその内部に任意の圧力でガスを導入する基準圧力設
定用ガス導入管と、該基準圧力設定用ガス導入管に設け
られて任意の圧力でガスを封じ込めるバルブと、該バル
ブと上記差圧計の基準圧力側ポートの間の上記基準圧力
設定用ガス導入管に設けられた絶対圧力計と、上記ガス
導入管に設けられて上記差圧計の出力を受けてガスの流
量を制御する制御バルブを具備することを特徴とする差
圧計を用いたチャンバ内圧力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091941A JPS61249120A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 差圧計を用いたチヤンバ内圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60091941A JPS61249120A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 差圧計を用いたチヤンバ内圧力制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61249120A true JPS61249120A (ja) | 1986-11-06 |
Family
ID=14040616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60091941A Pending JPS61249120A (ja) | 1985-04-26 | 1985-04-26 | 差圧計を用いたチヤンバ内圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61249120A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0317809A2 (en) * | 1987-11-25 | 1989-05-31 | Becton, Dickinson and Company | Sheated particle flow controlled by differential pressure |
| KR100846758B1 (ko) * | 2003-10-06 | 2008-07-16 | 가부시키가이샤 후지킨 | 챔버의 내압 제어 장치 및 내압 피제어식 챔버 |
| JP2011081548A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Canon Inc | 圧力制御装置 |
-
1985
- 1985-04-26 JP JP60091941A patent/JPS61249120A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0317809A2 (en) * | 1987-11-25 | 1989-05-31 | Becton, Dickinson and Company | Sheated particle flow controlled by differential pressure |
| KR100846758B1 (ko) * | 2003-10-06 | 2008-07-16 | 가부시키가이샤 후지킨 | 챔버의 내압 제어 장치 및 내압 피제어식 챔버 |
| JP2011081548A (ja) * | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Canon Inc | 圧力制御装置 |
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