SU743574A3 - Способ нанесени окисной металлической пленки - Google Patents
Способ нанесени окисной металлической пленки Download PDFInfo
- Publication number
- SU743574A3 SU743574A3 SU721743600A SU1743600A SU743574A3 SU 743574 A3 SU743574 A3 SU 743574A3 SU 721743600 A SU721743600 A SU 721743600A SU 1743600 A SU1743600 A SU 1743600A SU 743574 A3 SU743574 A3 SU 743574A3
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- substrate
- cathode
- oxygen
- argon
- indium
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
- C03C17/23—Oxides
- C03C17/245—Oxides by deposition from the vapour phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
- C23C14/0036—Reactive sputtering
- C23C14/0063—Reactive sputtering characterised by means for introducing or removing gases
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
- C03C2217/21—Oxides
- C03C2217/23—Mixtures
- C03C2217/231—In2O3/SnO2
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
- C03C2218/154—Deposition methods from the vapour phase by sputtering
- C03C2218/155—Deposition methods from the vapour phase by sputtering by reactive sputtering
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к технологии нанесени металлических покрытий на поверхность стекла, в частности к технологии нанесени прозрачных электрически провод щих металлических окисных пленок на стекло .
Известен способ нанесени окисного металлического покрыти , прозрачного и обладающего электропроводностью , на ЛИСТ стекла небольшого размера катодным распылением при подаче газовой среды в рабочее пространство и высокого напр жени на катод . При этом распьшение осуществл ют перпендикул рно к поверхности подложки .
Этот способ примен етс при получении прозрачных, электрически провод щих пленок, имеющих достаточно однородные характеристики, на подложках относительно малых поперечных размеров, например 4 см по ширине , но на более прот женных издели х получаема пленка имеет тенденцию к неоднородности. Из-за колебаний в электрическом сопротивлении пленки уменьшаетс или исключаетс возможность ее использовани в качестве .нагревательного средства в зависимости от электрического сопротивлени ; Из-за меньшей прозрачности в середине издели невозможно использовать такие стекла, например,дл 5 переднего стекла (козырька) пилотской кабины самолета.
Целью изобретени вл етс получение однородной по толщине, прозрачности и удельному электросопро10 тивлению пленки на прот женной подложке .
Это достигаетс тем, что газовую среду подают в рабочее пространство между катодным узлом, подразts деленным на продольные параллельные разнесенные между собоА полосы, и поверхностью подложки через каналы между полосами, а катодный узел и подложку перемещают возвратноао поступательно и параллельно относительно друг друга и поперек длины ПОЛОС с амплитудой перемещени , равной рассто нию между средними ЛИНИЯМИ соседних полос катодного
25 узла.
Така совокупность действий обеспечивает одинаковую концентрацию га .зовой среды, например кислорода,во всех точках поверхности и тем саэо шм однородность напыл емой пленки.
т.е. одинаковое электросопротивление и одинаковую пропускаемость света .
Пример 1. (Переднее стекло кабины пилота). Лист стекла с размерами 75x60x3 см закрепл ют в вакуумном резервуаре, прот женность которого составл ет 330 см, диаметр - 120 см. Это стекло устанавлингиот против катодной сборки,состо щей из 4 па.раллельных боковыми сторонами катодных секций прот женностью 100 с и шириной 7,6 см. Рабочие верхние поверхности катодных секций состо т из сплава следук цего состава: 7,5% инди и 12,5% олова.Рассто ние , на которое разнесены друг от друга секции катода и основание . (подложка), составл ет 38 мм. Катодные секции разнесены друг от друга так, чтобы составл ть рассто ние 78 см между их .центральными осевыми лини ми и установлены дл колебаний с посто нной скоростью между реверсивными точками с амплитудой 18 см.
Вакуумный резервуар откачиваетс до давлени пор дка 8x10 мм рт.ст. а стекл нный лист нагреваетс до температуры пор дка 330°G. Газовую смесь, содержащую 2,9% кислорода, остальное - аргон (не счита газовых микрокомпо ентов), запускают в систему, после этого устанавливают давление пор дка 5,6x10 мм рт.ст. Затем катодную сборку устанавливают 8 режим колебательного движени при частоте одного цикла в каждые 20 сек и к катодам подают отрицательное напр жение пор дка 2,2 кв. Подачу напр жени к нагревателю лепрерывно регулируют, чтобы поддерживать заданную температуру основани (подложки) посто нной с колебани ми в пределах - 10°С. Процесс нанесени покрыти распылением расчитан ва период времени пор дка 22 мин, по истечении которого напр жени катода и нагревател довод тс до нулевой величины. Затем вакуумную камеру открывают, а стекло с нанесенным покрытием удал ют из нее. Стекло имеет однородное по толщине покр;:1тие в пределах между и 255в А и сопротивление пор дка 10 ом/площс1дь. Удельное сопротивление покрыти - 2,5x10 ом-см. Прозрачность покрытого пленкой стекла, KQTOpoe было достаточно бесцветным, 84%.
Пример 2. Основные услови процесса такие же, как в примере 1, но отдельные режимы имеют следующие особенности (ветровое стекло локомотива):
Линейные размеры стекла, см 105x55
Катодный узел 5 катодных секций с линейными размерами 7,6x100 см, разнесенные на рассто ние 23 см между центральными лини ми. Амплитуда колебаний ,см 23 Первоначальное давление после
-Lоткачки ,мм рт.ст.2x10 Температура стекла,с
350 . Концентраци кислорода,%
3,4 Рабочее давле-г
5,6x10 ние,мм рт.ст. Рабочеедавле-2
5,6x10 ние,мм рт.ст. Катодное напр -2 ,7 жение, кв Продолжительность 6 3/4 процесса, мин Сопротивление покрытого стекла, ом/площадь
55
От 800 до 900 А Толщина пленки Удельное сопротивление , ом.см 4,7x10 Пропускание света ,%82 Пример 3. (Морской иллюмиатор ) .
Линейные размеры стекла,см 60x105 Катодный узел 5 катодных секций с размерами 7,6x100 см, разнесенные на рассто ние 23 см между центральными лини ми
Амплитуда колебаний , см23 Первоначальное давление после
.откачки ,мм рт.ст 2,5x10 Температура стеклаГс350 Концентраци кислорода,% 3,4 Рабочее давление,
-г мм РТ..СТ. 5,2x10 Катодное напр жение , кв -2,7 Продолжительность процесса нанесени пленки распылением ,мин 20 Сопротивление покрытого стекла, ом/площадь 12 Толщина пленки от 2150
до 2250
Claims (1)
- Удельное сопро ,тивление , ом см 2,6x10 Пропускание света ,%82 Однородность сопротивлени стек за исключением краевых эффектов, которые обычно устанавливаютс у н несенных пленок, составл ла ±10% от среднего значени . Посредством катодного распылени могут наноситьс сплавы: кадмий индий, олово-сурьма, сурьма-теллур т.е. металлы, имеющиепор дковый номер элемента между 48 и 51, сплав ленные с элементом более высокой валентности (предпочтительно на 1 или 2 выше). Могут использоватьс также сплавы: индий-германий, индий фосфор или индий-теллур. В процессе нанесени пленки распылением могут варьироватьс следую щие параметры: Температура поверхности основани С от 240 до 40 Приложенный к като-1 ,0 - 5,09 ду потенциал,КЗ Рабочее давление вакуумной камеры, от 1x10 мм рт.ст. ДО 10x10 Рассто ние между катодом и основаот 20 до 100 нием Могут использоватьс также другие , содержащие кислород, газовые среды (атмосферы) при проведении процесса нанесени пленкираспылени ем. Например, аргон может замен тьс другим инертным газом или веществами в вакуумном резервуаре. Альтернативно газова среда (атмос фера) может содержать смесь кислорода , аргона и азота или кислорода аргона и окиси углерода или двуокиси углерода, окись углерода или дву окись углерода, предназначенные дл пополнени процентного содержани кислорода. Кроме того изобретение может примен тьс к таким отражающим или преломл ющим основани м или кремнистым основани м как фарфор, двуокись кремни или слюда. Формула изобретени Способ нанесени окисной металлической пленки на поверхность плоской стекл нной подложки, включающий катодное распыление на нагретую подложку и подачу газовой кислородсодержащей среды в рабочее пространство , причем распыление осуществл ют перпендикул рно к поверхности подложки , отличающийс тем, что, с целью получени однородной по толщине, прозрачности и удельному электросопротивлению пленки на про:т женной подложке, газовую среду подают в рабочее пространство между катодным узлом, подразделенным на продольные параллельные разнесенные между собой полосы, и поверхностью подложки через каналы ме оду полосами , а катодный узел и подложку перемещают возвратно-поступательно и параллельно относительно друг друга и поперек длины полос с амплитудой перемещени , равной рассто нию ме оду средними лини ми соседних полос катодного узла. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе 1. Холлэнд Э. Нанесение тонких -М.: 1963, пленок в вакууме, с. 520-522.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB423471A GB1365492A (en) | 1971-02-05 | 1971-02-05 | Metal oxide films |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU743574A3 true SU743574A3 (ru) | 1980-06-25 |
Family
ID=9773271
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU721743600A SU743574A3 (ru) | 1971-02-05 | 1972-02-04 | Способ нанесени окисной металлической пленки |
SU721745595A SU740157A3 (ru) | 1971-02-05 | 1972-02-04 | Устройство дл нанесени прозрачной электропровод щей пленки на поверхность подложки |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU721745595A SU740157A3 (ru) | 1971-02-05 | 1972-02-04 | Устройство дл нанесени прозрачной электропровод щей пленки на поверхность подложки |
Country Status (21)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4006070A (ru) |
JP (1) | JPS5218729B1 (ru) |
AT (1) | AT324606B (ru) |
AU (1) | AU463425B2 (ru) |
BE (1) | BE778996A (ru) |
CA (1) | CA977306A (ru) |
CH (1) | CH580684A5 (ru) |
DE (1) | DE2204652C3 (ru) |
ES (2) | ES399507A1 (ru) |
FR (1) | FR2125075A5 (ru) |
GB (1) | GB1365492A (ru) |
IE (1) | IE36063B1 (ru) |
IL (1) | IL38624A (ru) |
IT (1) | IT949407B (ru) |
LU (1) | LU64721A1 (ru) |
NL (1) | NL161816C (ru) |
SE (1) | SE384233B (ru) |
SU (2) | SU743574A3 (ru) |
TR (1) | TR17189A (ru) |
YU (1) | YU23572A (ru) |
ZA (1) | ZA72751B (ru) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2661166C2 (ru) * | 2016-12-20 | 2018-07-12 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" | Способ создания прозрачных проводящих композитных нанопокрытий (варианты) |
Families Citing this family (35)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1446848A (en) * | 1972-11-29 | 1976-08-18 | Triplex Safety Glass Co | Sputtered metal oxide coatings articles comprising transparent electrically-conductive coatings on non-conducting substrates |
US4102768A (en) * | 1972-11-29 | 1978-07-25 | Triplex Safety Glass Company Limited | Metal oxide coatings |
FR2320565A1 (fr) * | 1973-04-12 | 1977-03-04 | Radiotechnique Compelec | Plaque a transparence selective et son procede de fabrication |
DE2441862B2 (de) * | 1974-08-31 | 1979-06-28 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur Herstellung einer transparenten, wärmereflektierenden Schicht aus dotiertem Indiumoxid auf Flachglas |
US3976555A (en) * | 1975-03-20 | 1976-08-24 | Coulter Information Systems, Inc. | Method and apparatus for supplying background gas in a sputtering chamber |
US4252595A (en) * | 1976-01-29 | 1981-02-24 | Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. | Etching apparatus using a plasma |
AU507748B2 (en) * | 1976-06-10 | 1980-02-28 | University Of Sydney, The | Reactive sputtering |
US4349425A (en) * | 1977-09-09 | 1982-09-14 | Hitachi, Ltd. | Transparent conductive films and methods of producing same |
US4113599A (en) * | 1977-09-26 | 1978-09-12 | Ppg Industries, Inc. | Sputtering technique for the deposition of indium oxide |
JPS55129347A (en) * | 1979-03-28 | 1980-10-07 | Chiyou Lsi Gijutsu Kenkyu Kumiai | Photomask |
DE2950997C2 (de) * | 1979-12-18 | 1986-10-09 | Nihon Shinku Gijutsu K.K., Chigasaki, Kanagawa | Vorrichtung zum Beschichten |
US4336118A (en) * | 1980-03-21 | 1982-06-22 | Battelle Memorial Institute | Methods for making deposited films with improved microstructures |
GB2085482B (en) * | 1980-10-06 | 1985-03-06 | Optical Coating Laboratory Inc | Forming thin film oxide layers using reactive evaporation techniques |
CA1163231A (en) * | 1981-07-24 | 1984-03-06 | Don E. Brodie | Reactive plating method and product |
FR2514033B1 (fr) * | 1981-10-02 | 1985-09-27 | Henaff Louis | Installation pour le depot de couches minces en grande surface en phase vapeur reactive par plasma |
US4704339A (en) * | 1982-10-12 | 1987-11-03 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Infra-red transparent optical components |
CH662755A5 (de) | 1984-09-11 | 1987-10-30 | Praezisions Werkzeuge Ag | Elektrodenanordnung fuer eine beschichtungsanlage. |
US5851642A (en) * | 1985-01-22 | 1998-12-22 | Saint-Gobain Vitrage | Product produced by coating a substrate with an electrically conductive layer |
NO168762C (no) * | 1985-12-20 | 1992-04-01 | Glaverbel | Belagt, flatt glass. |
JPH0645484B2 (ja) * | 1987-03-20 | 1994-06-15 | セントラル硝子株式会社 | 複写機用ガラスおよびその製造方法 |
US4970376A (en) * | 1987-12-22 | 1990-11-13 | Gte Products Corporation | Glass transparent heater |
US5147688A (en) * | 1990-04-24 | 1992-09-15 | Cvd, Inc. | MOCVD of indium oxide and indium/tin oxide films on substrates |
DE4106771A1 (de) * | 1991-03-04 | 1992-09-10 | Leybold Ag | Vorrichtung zum beschichten eines substrats, vorzugsweise zum beschichten von flachglas, mit einer indium-zinn-oxid-schicht |
DE4111384C2 (de) * | 1991-04-09 | 1999-11-04 | Leybold Ag | Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
DE4140862A1 (de) * | 1991-12-11 | 1993-06-17 | Leybold Ag | Kathodenzerstaeubungsanlage |
US5798029A (en) * | 1994-04-22 | 1998-08-25 | Applied Materials, Inc. | Target for sputtering equipment |
DE19543375A1 (de) * | 1995-11-21 | 1997-05-22 | Leybold Ag | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten mittels Magnetronzerstäuben |
GB0108782D0 (en) * | 2001-04-07 | 2001-05-30 | Trikon Holdings Ltd | Methods and apparatus for forming precursors |
US7378356B2 (en) * | 2002-03-16 | 2008-05-27 | Springworks, Llc | Biased pulse DC reactive sputtering of oxide films |
US7238628B2 (en) * | 2003-05-23 | 2007-07-03 | Symmorphix, Inc. | Energy conversion and storage films and devices by physical vapor deposition of titanium and titanium oxides and sub-oxides |
US8728285B2 (en) * | 2003-05-23 | 2014-05-20 | Demaray, Llc | Transparent conductive oxides |
JP2005048260A (ja) * | 2003-07-31 | 2005-02-24 | Canon Inc | 反応性スパッタリング方法 |
JP5095412B2 (ja) * | 2004-12-08 | 2012-12-12 | シモーフィックス,インコーポレーテッド | LiCoO2の堆積 |
US7959769B2 (en) * | 2004-12-08 | 2011-06-14 | Infinite Power Solutions, Inc. | Deposition of LiCoO2 |
US7838133B2 (en) * | 2005-09-02 | 2010-11-23 | Springworks, Llc | Deposition of perovskite and other compound ceramic films for dielectric applications |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
LU45647A1 (ru) * | 1964-03-12 | 1965-09-13 | ||
DE1765850A1 (de) * | 1967-11-10 | 1971-10-28 | Euratom | Verfahren und Vorrichtung zum Aufbringen von duennen Schichten |
DE1690692A1 (de) | 1968-02-12 | 1971-06-16 | Siemens Ag | Verfahren zum Aufbringen einer Schicht aus anorganischem festem Material auf einer Unterlage durch Kathodenzerstaeubung |
GB1147318A (en) | 1968-02-22 | 1969-04-02 | Standard Telephones Cables Ltd | Improvements in r.f. cathodic sputtering systems |
US3630873A (en) * | 1969-12-05 | 1971-12-28 | Ppg Industries Inc | Sputtering of transparent conductive oxide films |
US3907660A (en) * | 1970-07-31 | 1975-09-23 | Ppg Industries Inc | Apparatus for coating glass |
-
1971
- 1971-02-05 GB GB423471A patent/GB1365492A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-01-24 IL IL38624A patent/IL38624A/xx unknown
- 1972-01-26 US US05/220,899 patent/US4006070A/en not_active Expired - Lifetime
- 1972-01-27 CA CA133,314A patent/CA977306A/en not_active Expired
- 1972-01-28 DE DE2204652A patent/DE2204652C3/de not_active Expired
- 1972-01-28 AU AU38464/72A patent/AU463425B2/en not_active Expired
- 1972-02-01 YU YU00235/72A patent/YU23572A/xx unknown
- 1972-02-03 NL NL7201410.A patent/NL161816C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-03 JP JP47011896A patent/JPS5218729B1/ja active Pending
- 1972-02-03 LU LU64721D patent/LU64721A1/xx unknown
- 1972-02-04 AT AT92172A patent/AT324606B/de not_active IP Right Cessation
- 1972-02-04 BE BE778996A patent/BE778996A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-04 FR FR7203752A patent/FR2125075A5/fr not_active Expired
- 1972-02-04 TR TR17189A patent/TR17189A/xx unknown
- 1972-02-04 ES ES399507A patent/ES399507A1/es not_active Expired
- 1972-02-04 SE SE7201323A patent/SE384233B/xx unknown
- 1972-02-04 SU SU721743600A patent/SU743574A3/ru active
- 1972-02-04 SU SU721745595A patent/SU740157A3/ru active
- 1972-02-04 ES ES399506A patent/ES399506A1/es not_active Expired
- 1972-02-04 ZA ZA720751A patent/ZA72751B/xx unknown
- 1972-02-04 CH CH163372A patent/CH580684A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-04 IE IE139/72A patent/IE36063B1/xx unknown
- 1972-02-05 IT IT12460/72A patent/IT949407B/it active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2661166C2 (ru) * | 2016-12-20 | 2018-07-12 | Федеральное государственное бюджетное научное учреждение "Федеральный исследовательский центр "Красноярский научный центр Сибирского отделения Российской академии наук" | Способ создания прозрачных проводящих композитных нанопокрытий (варианты) |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2204652C3 (de) | 1980-04-17 |
YU23572A (en) | 1982-02-28 |
CH580684A5 (ru) | 1976-10-15 |
BE778996A (fr) | 1972-08-04 |
NL161816C (nl) | 1980-03-17 |
ES399507A1 (es) | 1975-01-16 |
AT324606B (de) | 1975-09-10 |
AU3846472A (en) | 1973-08-02 |
ZA72751B (en) | 1972-10-25 |
LU64721A1 (ru) | 1972-06-30 |
AU463425B2 (en) | 1975-07-10 |
SE384233B (sv) | 1976-04-26 |
FR2125075A5 (ru) | 1972-09-22 |
JPS5218729B1 (ru) | 1977-05-24 |
IL38624A (en) | 1975-05-22 |
DE2204652B2 (de) | 1979-08-09 |
IT949407B (it) | 1973-06-11 |
NL7201410A (ru) | 1972-08-08 |
CA977306A (en) | 1975-11-04 |
ES399506A1 (es) | 1975-07-01 |
IE36063L (en) | 1972-08-05 |
DE2204652A1 (de) | 1972-09-14 |
US4006070A (en) | 1977-02-01 |
GB1365492A (en) | 1974-09-04 |
IE36063B1 (en) | 1976-08-04 |
NL161816B (nl) | 1979-10-15 |
TR17189A (tr) | 1974-04-25 |
IL38624A0 (en) | 1972-03-28 |
SU740157A3 (ru) | 1980-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU743574A3 (ru) | Способ нанесени окисной металлической пленки | |
US2852415A (en) | Electrically conducting coated glass or ceramic articles suitable for use as a lens, a window or a windshield, or the like | |
US6329044B1 (en) | Transparent conductive film and method of making the film | |
US3107177A (en) | Method of applying an electroconductive tin oxide film and composition therefor | |
US4201649A (en) | Low resistance indium oxide coatings | |
EP0108616A1 (en) | A process for making an electrically conductive coated substrate | |
GB632256A (en) | Electrically conducting films and method of application | |
US4256377A (en) | Process for producing homeotropic orientation layers for liquid crystal devices and the resultant liquid crystal devices | |
ES391377A1 (es) | Un metodo para depositar un revestimiento transparente y e-lectricamente conductor, de oxido metalico, por sublimacion reactiva o desintegracion catodica. | |
GB2139647A (en) | Bottled coated by ion-plating or magnetron sputtering | |
US4213676A (en) | Liquid crystal display for reflection operation with a guest-host liquid crystal layer and method of making | |
US4132624A (en) | Apparatus for producing metal oxide films | |
US3704467A (en) | Reversible record and storage medium | |
US4508792A (en) | Electrochromic element | |
US5585959A (en) | Low transparency copper oxide coating for electrochromic device | |
US5013139A (en) | Alignment layer for liquid crystal devices and method of forming | |
US2769778A (en) | Method of making transparent conducting films by cathode sputtering | |
GB1446848A (en) | Sputtered metal oxide coatings articles comprising transparent electrically-conductive coatings on non-conducting substrates | |
US5157540A (en) | Electrochromic display device with improved absorption spectrum and method of producing it | |
JPS59180526A (ja) | エレクトロクロミツク表示素子 | |
EP0281278B1 (en) | Electroconductive coatings | |
JPS6118166B2 (ru) | ||
JPS5785972A (en) | Thin film former | |
JPH10183333A (ja) | 透明導電膜の成膜方法 | |
JPS5835511A (ja) | 液晶表示素子 |