JPS59180526A - エレクトロクロミツク表示素子 - Google Patents
エレクトロクロミツク表示素子Info
- Publication number
- JPS59180526A JPS59180526A JP58055393A JP5539383A JPS59180526A JP S59180526 A JPS59180526 A JP S59180526A JP 58055393 A JP58055393 A JP 58055393A JP 5539383 A JP5539383 A JP 5539383A JP S59180526 A JPS59180526 A JP S59180526A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrochromic
- oxide
- iridium
- electrochromic layer
- display element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/15—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect
- G02F1/1514—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material
- G02F1/1523—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on an electrochromic effect characterised by the electrochromic material, e.g. by the electrodeposited material comprising inorganic material
- G02F1/1524—Transition metal compounds
- G02F1/15245—Transition metal compounds based on iridium oxide or hydroxide
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（ａ） 発明の分野
この発明はエレクトロクロミック現象を利用した表示素
子、特に表示層として酸化発色型エレクトロクロミック
層を有するエレクトロクコミック表示素子に関する。
子、特に表示層として酸化発色型エレクトロクロミック
層を有するエレクトロクコミック表示素子に関する。
（ｂ） 技術の背景
エレクトロクロミック現象、即ち物質に電圧を印加する
と、その物質の酸化還元現象により色が付く現象を利用
した表示素子はエレクトロクロミック表示素子として知
られている。仁のエレクトロクロミック表示素子は他の
表示素子１例えば液晶、ＬＥＤ、ＥＬなどに比べてコン
トラストが高い、視野依存性がない、メモリー機能を有
しているため消費電力が小さいなどの利点を有する。
と、その物質の酸化還元現象により色が付く現象を利用
した表示素子はエレクトロクロミック表示素子として知
られている。仁のエレクトロクロミック表示素子は他の
表示素子１例えば液晶、ＬＥＤ、ＥＬなどに比べてコン
トラストが高い、視野依存性がない、メモリー機能を有
しているため消費電力が小さいなどの利点を有する。
（Ｃ１従来技術の問題点
酸化発色型エレクトロクロミック層を備えたエレクトロ
クロミック表示素子としては特開昭５６−４６７９号公
報に開示されている。この表示素子は３Ｎ構造のエレク
トロクロミック表示素子であり、１対の透明電層間に酸
化発色型エレクトロクロミック層、還元発色型エレクト
ロクロミソク層及び電解質層を介在させたものである。
クロミック表示素子としては特開昭５６−４６７９号公
報に開示されている。この表示素子は３Ｎ構造のエレク
トロクロミック表示素子であり、１対の透明電層間に酸
化発色型エレクトロクロミック層、還元発色型エレクト
ロクロミソク層及び電解質層を介在させたものである。
また。
１対の透明電極間に酸化発色型エレクトロクロミック層
と電解質層のみを介在させた２層構造のエレクトロクロ
ミック表示素子も知られている。このようなエレクトロ
クロミンク表示素子の酸化発色型エレクトロクロミック
層は陽極酸化法により成膜するのが一般的であるが均一
な厚さの膜が得られない、導電性の下地が必要である。
と電解質層のみを介在させた２層構造のエレクトロクロ
ミック表示素子も知られている。このようなエレクトロ
クロミンク表示素子の酸化発色型エレクトロクロミック
層は陽極酸化法により成膜するのが一般的であるが均一
な厚さの膜が得られない、導電性の下地が必要である。
成膜時間が長いなどの欠点を有する。
このために反応性スパッタリング法１反応性イオンブレ
ーティグ法により成膜することが考えられるが、成膜時
に膜が着色してしまう欠点を有する。エレクトロクロミ
ック層が着色すると表示素子としてのコントラストが低
くなり２表示素子の特性を悪化する。
ーティグ法により成膜することが考えられるが、成膜時
に膜が着色してしまう欠点を有する。エレクトロクロミ
ック層が着色すると表示素子としてのコントラストが低
くなり２表示素子の特性を悪化する。
＋ｄｌ 発明の目的
この発明はこのような点に鑑み２反応性スパッタリング
法１反応性イオンブレーティグ法により成膜しても膜自
体が成膜時に着色することのない酸化発色型エレクトロ
クロミック層を提供するものである。
法１反応性イオンブレーティグ法により成膜しても膜自
体が成膜時に着色することのない酸化発色型エレクトロ
クロミック層を提供するものである。
（Ｑｌ 発明の構成
このため本発明は少なくとも酸化発色型エレクトロクロ
ミック層を備えたエレクトロクロミック表示素子におい
て、前記酸化発色型エレクトロクロミック層は酸化発色
型エレクトロクロミック物質と金属酸化物の複合物より
なることを特徴とするものである。
ミック層を備えたエレクトロクロミック表示素子におい
て、前記酸化発色型エレクトロクロミック層は酸化発色
型エレクトロクロミック物質と金属酸化物の複合物より
なることを特徴とするものである。
（ｆ） 発明の実施例
以下本発明によるエレクトロクロミック表示素子の実施
例を詳細に説明する。
例を詳細に説明する。
以下の実施例では酸化発色型エレクトロクロミック物質
として酸化イリジウム、金属酸化物として五酸化タンタ
ルを用い１反応性イオンブレーティング法により成膜す
る例について説明する。イオンブレーティング装置は第
１図に示すように真空に排気されたベルジャ１１内に１
対のルツボ１２ａ、１２ｂ、電子ビーム発生用の電子銃
１３ａ、１３ｂ 、高周波コイル１４．およびホルダー
１５を有する。ホルダー１５にはガラス板１６に透明導
電体（ＩＴＯ）１７を蒸着した基板１８をガラス板１６
がホルダー１５に面するように固定されている。ベルジ
ャ１１内には反応ガスとして酸素０２が導入されている
。ルツボ１２ａにはイリジウム金属１９が蒸着源として
設置してあり、ルツボ１２ｂには五酸化タンタル２０が
蒸着源として設置しである。
として酸化イリジウム、金属酸化物として五酸化タンタ
ルを用い１反応性イオンブレーティング法により成膜す
る例について説明する。イオンブレーティング装置は第
１図に示すように真空に排気されたベルジャ１１内に１
対のルツボ１２ａ、１２ｂ、電子ビーム発生用の電子銃
１３ａ、１３ｂ 、高周波コイル１４．およびホルダー
１５を有する。ホルダー１５にはガラス板１６に透明導
電体（ＩＴＯ）１７を蒸着した基板１８をガラス板１６
がホルダー１５に面するように固定されている。ベルジ
ャ１１内には反応ガスとして酸素０２が導入されている
。ルツボ１２ａにはイリジウム金属１９が蒸着源として
設置してあり、ルツボ１２ｂには五酸化タンタル２０が
蒸着源として設置しである。
そして、イオンブレーティングの条件としては導入ガス
（０２）圧は６ Ｘ １０．−’ （Ｔｏｒｒ） 、プ
ラズマ高周波電力は５０ （Ｗ） 、成膜速度はイリジ
ウムが１〜２ 〔人／Ｓ〕、五酸化タンタルが１〜１０
〔人／Ｓ）とした。なお、２１は高周波電源である。
（０２）圧は６ Ｘ １０．−’ （Ｔｏｒｒ） 、プ
ラズマ高周波電力は５０ （Ｗ） 、成膜速度はイリジ
ウムが１〜２ 〔人／Ｓ〕、五酸化タンタルが１〜１０
〔人／Ｓ）とした。なお、２１は高周波電源である。
このようにして得られた五酸化タンタルとイリジウムと
の複合酸化物よりなるエレクトロクロミック層の透明率
の特性を第２図に示す。第２図において横軸は五酸化タ
ンタルＴａ２ ｏ、とイリジウム゛Ｉｒの混合比Ｔ ａ
／ Ｉ ｒを、縦軸は透過率Ｔを示す。この図よりわ
かるように、五酸化タンタルを全く混合しない場合のエ
レクトロクロミック層の透過率は６０ 〔％〕前後であ
るのに対し、イリジウムを１に対して五酸化タンタルを
５の割合で混合したエレクトロクロミック層は透過率Ｔ
が略１００ 〔％〕を示した。なお、透過率測定用の光
源としてはＨｅ−Ｎｅレーザを使用した。
の複合酸化物よりなるエレクトロクロミック層の透明率
の特性を第２図に示す。第２図において横軸は五酸化タ
ンタルＴａ２ ｏ、とイリジウム゛Ｉｒの混合比Ｔ ａ
／ Ｉ ｒを、縦軸は透過率Ｔを示す。この図よりわ
かるように、五酸化タンタルを全く混合しない場合のエ
レクトロクロミック層の透過率は６０ 〔％〕前後であ
るのに対し、イリジウムを１に対して五酸化タンタルを
５の割合で混合したエレクトロクロミック層は透過率Ｔ
が略１００ 〔％〕を示した。なお、透過率測定用の光
源としてはＨｅ−Ｎｅレーザを使用した。
また、イリジウム二五酸化タンタルの混合比を１：５と
したエレクトロクロミック層を第３図に示すように３層
のエレクトロクロミック素子に適用した場合の発色応答
性、安定性を測定した。第３図において３１はガラス板
、３２ａ、３２ｂはＩＴｏ。
したエレクトロクロミック層を第３図に示すように３層
のエレクトロクロミック素子に適用した場合の発色応答
性、安定性を測定した。第３図において３１はガラス板
、３２ａ、３２ｂはＩＴｏ。
３３は酸化タングステンよりなる還元発色型エレクトロ
クロミック層、３４は五酸化クンクルよりなる電解質層
、３５は前記イリジウム：五酸化タンタルの混合比を１
：５とした酸化発色型エレクトロクロミック層、３６は
方形波電源である。
クロミック層、３４は五酸化クンクルよりなる電解質層
、３５は前記イリジウム：五酸化タンタルの混合比を１
：５とした酸化発色型エレクトロクロミック層、３６は
方形波電源である。
この結果１表示応答速度は１００ （ｍｓ） 、繰り返
し寿命は１０回迄安定して動作することが確かめられた
。
し寿命は１０回迄安定して動作することが確かめられた
。
なお、上記の実施例において酸化発色型エレクトロクロ
ミック物質として酸化イリジウムの他に酸化ニッケル、
酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化マンガンなどを用い
ることができる。また、金属酸化物の蒸着源として五酸
化タンタルを使用したが、タンタル金属でもよい。
ミック物質として酸化イリジウムの他に酸化ニッケル、
酸化コバルト、酸化ビスマス、酸化マンガンなどを用い
ることができる。また、金属酸化物の蒸着源として五酸
化タンタルを使用したが、タンタル金属でもよい。
ｆｇｌ 発明の効果
このように本発明によれば、酸化発色型エレクトロクロ
ミック層を酸化発色型エレクトロクロミンク物質と金属
酸化物の複合物より構成することによりイオンブレーテ
ィング法などで成膜しても透明な膜を得ることができ、
コントラストの優れたエレクトロクロミック素子を得る
ことができる。
ミック層を酸化発色型エレクトロクロミンク物質と金属
酸化物の複合物より構成することによりイオンブレーテ
ィング法などで成膜しても透明な膜を得ることができ、
コントラストの優れたエレクトロクロミック素子を得る
ことができる。
第１図は本発明の酸化発色型エレクトロクロミック層を
成膜するための反応性イオンブレーティング装置を示す
概略側面図、第２図は本発明の酸化発色型エレクトロク
ロミック層の透明率を示す特性図、第３図は本発明の酸
化発色型エレクトロクロミック層を３層構造のエレクト
ロクロミック素子に適用したエレクトロクコミック素子
の構造を示す０Ｉ１１断面図である。 図中、１９はイリジウム金属、２０は五酸化タンクル、
１６−３１はガラス板、 １７ ・３２ａ ・３２ｂ
は透明導電膜（Ｉ Ｔｏ）、 ３３は還元発色型エレク
トロクロミック眉、３４は電解質層、３５は前記イリジ
ウム：五酸化タンタルの混合比を１：５とした酸化発色
型エレクトロクロミック層である。 第１図 第２図 一□ ＴＺ。 第３図
成膜するための反応性イオンブレーティング装置を示す
概略側面図、第２図は本発明の酸化発色型エレクトロク
ロミック層の透明率を示す特性図、第３図は本発明の酸
化発色型エレクトロクロミック層を３層構造のエレクト
ロクロミック素子に適用したエレクトロクコミック素子
の構造を示す０Ｉ１１断面図である。 図中、１９はイリジウム金属、２０は五酸化タンクル、
１６−３１はガラス板、 １７ ・３２ａ ・３２ｂ
は透明導電膜（Ｉ Ｔｏ）、 ３３は還元発色型エレク
トロクロミック眉、３４は電解質層、３５は前記イリジ
ウム：五酸化タンタルの混合比を１：５とした酸化発色
型エレクトロクロミック層である。 第１図 第２図 一□ ＴＺ。 第３図
Claims (3)
- （１）少なくとも酸化発色型エレクトロクロミック層を
備えたエレクトロクロミック表示素子において、前記酸
化発色型エレクトロクロミック層は酸化発色型エレクト
ロクロミック物質と金属酸化物の複合物よりなることを
特徴とするエレクトロクロミック表示素子。 - （２）前記金属酸化物は透明であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項に記載のエレクトロクロミック表示
素子。 - （３）前記酸化発色型エレクトロクロミック物質は酸化
イリジウム、酸化ニッケル、酸化コバルト。 酸化ビスマスあるいは酸化マンガンであることを特徴と
する特許請求の範囲第１項に記載のエレクトロクロミッ
ク表示素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58055393A JPS59180526A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58055393A JPS59180526A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59180526A true JPS59180526A (ja) | 1984-10-13 |
Family
ID=12997274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58055393A Pending JPS59180526A (ja) | 1983-03-30 | 1983-03-30 | エレクトロクロミツク表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59180526A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60222827A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | エレクトロクロミツク表示装置 |
| JPS60238818A (ja) * | 1984-05-11 | 1985-11-27 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | エレクトロクロミック表示装置 |
| JPS6129822A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-10 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | スパッタリングによるエレクトロクロミック薄膜の製造方法 |
| JPH05303119A (ja) * | 1992-05-11 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 真空蒸着による透明な酸化イリジウム薄膜の製造方法 |
| WO2003014254A1 (en) * | 2001-08-07 | 2003-02-20 | Midwest Research Institute | Electrochromic counter electrode |
| US7099062B2 (en) | 2001-09-26 | 2006-08-29 | Forskarpatent I Uppsala Ab | Electrochromic film and device comprising the same |
| US8084265B2 (en) | 2001-05-05 | 2011-12-27 | Alliance for Sustianable Energy, LLC | Method and Pd/V2 O5 device for H2 detection |
-
1983
- 1983-03-30 JP JP58055393A patent/JPS59180526A/ja active Pending
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60222827A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-07 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | エレクトロクロミツク表示装置 |
| JPH0533373B2 (ja) * | 1984-04-20 | 1993-05-19 | Nippon Kogaku Kk | |
| JPS60238818A (ja) * | 1984-05-11 | 1985-11-27 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | エレクトロクロミック表示装置 |
| JPH0578805B2 (ja) * | 1984-05-11 | 1993-10-29 | Nippon Kogaku Kk | |
| JPS6129822A (ja) * | 1984-07-23 | 1986-02-10 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | スパッタリングによるエレクトロクロミック薄膜の製造方法 |
| JPH0558171B2 (ja) * | 1984-07-23 | 1993-08-25 | Nippon Kogaku Kk | |
| JPH05303119A (ja) * | 1992-05-11 | 1993-11-16 | Nikon Corp | 真空蒸着による透明な酸化イリジウム薄膜の製造方法 |
| US8084265B2 (en) | 2001-05-05 | 2011-12-27 | Alliance for Sustianable Energy, LLC | Method and Pd/V2 O5 device for H2 detection |
| WO2003014254A1 (en) * | 2001-08-07 | 2003-02-20 | Midwest Research Institute | Electrochromic counter electrode |
| US7099062B2 (en) | 2001-09-26 | 2006-08-29 | Forskarpatent I Uppsala Ab | Electrochromic film and device comprising the same |
| EP1438629B1 (en) * | 2001-09-26 | 2009-01-14 | Chromogenics Sweden AB | Electrochromic film and device comprising the same |
| EP1986043A3 (en) * | 2001-09-26 | 2009-06-10 | ChromoGenics AB | Electrochromic film and device comprising the same |
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