JPH0127158B2 - - Google Patents

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JPH0127158B2
JPH0127158B2 JP60119684A JP11968485A JPH0127158B2 JP H0127158 B2 JPH0127158 B2 JP H0127158B2 JP 60119684 A JP60119684 A JP 60119684A JP 11968485 A JP11968485 A JP 11968485A JP H0127158 B2 JPH0127158 B2 JP H0127158B2
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electrode
film
thin film
electrode plate
display
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JP60119684A
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Hiroshi Inaba
Kyoshi Nakase
Yukitoshi Yanagida
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Central Glass Co Ltd
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Central Glass Co Ltd
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D9/00—Electrolytic coating other than with metals
    • C25D9/04—Electrolytic coating other than with metals with inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
    • C09D5/44—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes for electrophoretic applications
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  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明はエレクトロクロミツク材として有用な
プルシアンブルー膜やその他の導電膜などの薄膜
の製造方法に関する。 〔従来の技術〕 電解合成法により薄膜を形成することは電気メ
ツキの分野などで知られている。またプルシアン
ブルー膜を電解合成法により形成することも電気
化学（1982年No.５）などに開示されている。 しかし表面にSiO2膜を有するネサガラスなど
比較的表面抵抗率の高い導電膜を有する基板が例
えば400mm×400mmの大面積の場合、均一な薄膜を
基板上に電解合成法で形成する方法は知られてい
なかつた。 〔発明が解決しようとする問題点〕 本発明はこのような比較的抵抗の高い導電膜を
有する基板で、しかも大面積の基板に電解合成法
により均一な薄膜を形成することを可能にしたも
のであつて、次のような手段により達成される。 〔問題を解決するための手段〕 本発明は電解液中に設けた一対の電極板に電流
を通じて、表面に表面抵抗率３Ω／□以上の導電
膜を有するネサガラスなどの一方の電極板にプル
シアンブルー膜などの薄膜を形成する方法におい
て、該一方の電極板上少なくとも全周にわたり、
銅などの金属の細線箔などの補助電極を設け、こ
の補助電極と他方の電極板例えば白金板との間に
直流電圧を印加して、一定電流を流して、一方の
電極板上にプルシアンブルーなどの薄膜を形成せ
しめるものである。 〔作用〕 電解合成法により薄膜が形成される基板（一方
の電極板）上の導電膜の表面抵抗率が３Ω／□よ
り小さければ、例えば1600cm2程度の大面積であつ
ても、電解合成法により、容易に基板上に薄膜を
形成することができるが、表面抵抗率が３Ω／□
以上になると（通常５〜50Ω／□）、100cm2程度の
大きさまでなら補助電極を基板に設けることな
く、クリツプ等によるコンタクトのみでほぼ均一
な薄膜が得られるが100cm2以上の大面積になると
全面に均一な薄膜を得られなくなる。 本発明は、このように比較的抵抗の高い大面積
の導電膜上に補助電極を少なくとも全周に設けて
電解するものであるから、電気抵抗を減少せし
め、従つて電圧降下を極力小さくし、電解電流が
均一、すなわち、均一な膜が得られるものであ
る。 〔実施例〕 以下、図面を参照しながら本発明を詳しく説明
する。 第１図は電解合成法により薄膜を形成するため
の装置を示す断面図、第２図〜第６図はネサガラ
ス板に配置された補助電極を示す平面図である。 実施例 １ 第１図において電解液１としてK3Fe（CN）6と
FeCl3の0.005モル／等モル混合水溶液を入れた
電解槽２に１対の電極板３，４を参照電極５とと
もに浸漬し、リード線６を介してポテンシヨスタ
ツト（定電圧・定電流電源）７に接続した。１対
の電極板は一方の電極板３と他方の電極板４から
なり、一方の電極板３は第２図に示すように400
mm角、厚さ3.5mmのネサガラス８（表面に表面抵
抗率25Ω／□の導電膜９を有する）のエツジより
10mmの距離をもつて全周にわたり（第２図）、補
助電極としての0.5mmφ銅線１０をマスキングテ
ープを用して貼り付けたものである。また他方の
電極板４として300mm角の白金板を、参照電極５
として飽和カロメル電極を用いた。 このような装置において、ポテンシヨスタツト
より一対の電極間に50分間、一定の直流電流
5μA／cm2を参照電極の電位を参照しながら供給
し、電解合成法により一方の電極板に化学式
Fe4〓〔Fe〓（CN）6〕3で表わされるプルシアンブル
ー膜を形成せしめた（表１に膜厚分布を示す）。 実施例 ２ 第３図のように、一方の電極板として800mm角、
厚さ3.5mmのネサガラス（表面に表面抵抗率25
Ω／□の導電膜を有する）、補助電極として0.5mm
φ銅線をネサガラス上、田字状に配して、その他
の条件は第１実施例と同じにして、電解合成法に
よりプルシアンブルー膜を形成せしめた。 得られた薄膜の膜厚は408nｍ±10mmで第１実
施例と同様均一な膜が得られた。 応用例 実施例１で得られたプルシアンブルー膜１１を
第１の表示極として、第２の表示極１２をWO3
（ネサガラス上に蒸着により形成したもの）、電解
液１２をLiClO4を１モル／含むプロピレンカ
ーボネート溶液としてシール材１３で封止して第
７図のような構造のエレクトロクロミツク表示体
を作製した。この場合、プルシアンブルー膜も
WO3膜もコーテイングした状態では、いずれも
電気化学的に酸化の状態（プルシアンブルー：青
色、WO3：無色）にあつて着消色駆動ができな
いので、どちらか一方を還元状態にする必要があ
る。本応用例では予めプルシアンブルー膜を常法
により還元（初期消色）して使用した。 このようにして得られたエレクトロクロミツク
表示体の第１表示極（プルシアンブルー膜）と第
２の表示極（WO3膜）との間に＋1Vの電圧を印
加したところ、全面、均一に鮮明な青色に着色し
た（可視光透過率10％）。次に−0.5Vの電圧を印
加したところ消色して、可視透過率80％の良好な
透明体となつた。 比較例 第１実施例と同一寸法のネサガラス表面に補助
電極として0.5mmφ銅線を上辺一辺のみに配した
ものを用いて、その他の条件は第１実施例と同じ
にしてプルシアンブルー膜を形成した。このよう
にして得られた膜厚分布を表１に掲載する。
〔発明の効果〕
エレクトロクロミツク膜、導電膜などの薄膜厚
さはばらつきが少なく、可及的に均一であるこ
と、とりわけエレクトロクロミツク材に用いる薄
膜の厚さは均一でないと色むらを起こすので、そ
のばらつきは少なくとも10％以内、好ましくは５
％以内であることが要求されるものであるが、本
発明の方法により得られた薄膜は大面積にもかか
わらず、表１から明らかなように比較例のものに
比較してばらつきが2.5％（10／400×100）以内と極 めて少なくエレクトロクロミツク表示用薄膜とし
て好適なものである。 また、本発明によると、1600cm2（400mm×400
mm）以上の大面積の薄膜であつても、第３図〜第
６図のように補助電極を配して分割して複数のセ
グメントとすることにより製膜しうるもので、こ
の薄膜をエレクトロクロミツク表示体に適用する
と、従来得られなかつたような大面積のものを製
作することが出来るものである。しかもこの場
合、補助電極部分は薄膜が形成されないので各セ
グメントを独立に着・消色させることも可能で、
セグメントの形状を適宜選択することにより、各
種表示板、装飾板などへの応用もできるものであ
る。 また、補助電極に導電ペーストを焼付けたも
の、あるいはさらに導電ペースト上に銅箔を貼り
つけたものなどを用いた場合には、得られた薄膜
をエレクトロクロミツク表示体として構成したと
きに、そのまま表示体用補助電極として転用する
ことができる。 さらに薄膜製膜時、電圧降下が少ないので電力
損が少ないという効果も併せもつものである。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の電解合成法により薄膜を形成
するための装置を示す断面図、第２図〜第６図は
補助電極の配置を示す平面図、第７図は本発明の
方法で得られた薄膜を応用したエレクトロクロミ
ツク表示体の断面図である。 １……電解液、２……電解槽、３……一方の電
極板、４……他方の電極板、５……参照電極、６
……リード線、７……ポテンシヨスタツト、８…
…ネサガラス、９……導電膜、１０……補助電
極、１１……第１の表示極、１２……第２の表示
極、１３……シール材。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 電解液中に設けた一対の電極板に電流を流し
    て、表面に表面抵抗率３Ω／□以上の導電膜を有
    する一方の電極板上に薄膜を形成する方法におい
    て、該一方の電極板の導電膜上に少なくとも全周
    にわたり導電材を補助電極として設け、この補助
    電極と他方の電極板間に電流を流すことにより、
    一方の電極板上に薄膜を形成することを特徴とす
    る電解合成法による薄膜の形成方法。
JP60119684A 1985-06-04 1985-06-04 電解合成法による薄膜の形成方法 Granted JPS61279695A (ja)

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JPS61279695A JPS61279695A (ja) 1986-12-10
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