SE465366B - Homogen, sintrad kiselnitridkropp med en korngraensfas samt foerfarande foer dess framstaellning - Google Patents
Homogen, sintrad kiselnitridkropp med en korngraensfas samt foerfarande foer dess framstaellningInfo
- Publication number
- SE465366B SE465366B SE8804256A SE8804256A SE465366B SE 465366 B SE465366 B SE 465366B SE 8804256 A SE8804256 A SE 8804256A SE 8804256 A SE8804256 A SE 8804256A SE 465366 B SE465366 B SE 465366B
- Authority
- SE
- Sweden
- Prior art keywords
- silicon nitride
- sintered
- temperature
- weight
- homogeneous
- Prior art date
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/593—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained by pressure sintering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
10
15
20
25
30
35
465 566
2
kornen och det främmande materialet i utgångsmaterialet,
eller variationen i vattenhalt, orsakat ojämn korndes-
integration, vilket resulterar i nackdelar såsom por-
bildning, vilken kvarstår i de formade kropparna efter
sintring, eller tillväxt av en kristallin fas, vilken
utgör mer än en väsentlig andel i korngränsen, varigenom
homogena,
att erhålla.
Särskilt i fallet med användning till lagerdelar,
sintrade kiselnitridkroppar varit omöjliga
slitagedelar eller friktionsdelar påverkar andelen av
den kristallina fasen i korngränsen i hög grad dessa
delars livslängd, varför det har varit erforderligt
att tillverka sintrade kroppar med en kristallin fas
som inte överstiger en viss andel i korngränsen i syfte
att åstadkomma resulterande sintrade kroppar med en
livslängd som är längre än den för de konventionella.
I fallet med användning till bl a lagerdelar är det
känt att utmattningslivslängden vid valsning för dess
material är viktig. Följaktligen är utveckling av ett
material som är homogent och har stor seghet erforderlig
för förbättring av utmattningslivslängden vid valsning.
Sammanfattning av uppfinningen
Ändamålet med föreliggande uppfinning är därför
att genom undanröjning av de ovannämnda nackdelarna
inom den kända tekniken åstadkomma sintrade kiselnitrid-
kroppar, som är homogena och har stor seghet, och ett
förfarande för tillverkning av desamma.
Det ovannämnda ändamålet kan uppnås med hjälp av
de olika aspekterna av uppfinningen; dvs en homogen,
sintrad kiselnitridkropp, som kännetecknas av en volyms-
andel av den kristallina fasen i korngränsen av högst
50% i förhållande till totala korngränsfasen, en maximal
pordiameter av högst 10 um och en porositet av högst
O,5% (en första aspekt av uppfinningen); ett förfarande
för tillverkning av en homogen, sintrad kiselnitridkropp,
där ett kiselnitridutgångsmaterial och ett sintringsmedel
blandas, pulvriseras, granuleras, formas och därefter
10
15
20
25
30
465 366
3
bränns, vilket förfarande kännetecknas av att en tempe-
ratursänkningshastighet frán bränntemperaturen till
lO00°C av minst 30°C/min används (en andra aspekt av
uppfinningen); och ett förfarande för tillverkning av
en homogen, sintrad kiselnitridkropp, där ett utgångs-
material för kiselnitrid och ett sintringsmedel blandas,
pulvriseras, granuleras, formas och därefter bränns,
vilket förfarande kännetecknas av att en kiselnitrid,
som innehåller minst 90% a-kiselnitrid och har en genom-
snittlig korndiameter av högst 1 pm, och ett sintrings-
medel med en genomsnittlig korndiameter av högst l pm,
används såsom utgângsmaterial resp sintringsmedel, var-
vid det granulerade pulvret snabbtorkas en gång, var-
efter, om så är erforderligt, vatten tillsätts före
formningen (en tredje aspekt av uppfinningen).
Detaljerad beskrivning av uppfinningen
Vid föreliggande uppfinning bestämdes den maximala
pordiametern och porositeten genom optisk, mikroskopisk
observation vid en förstoring av 400 ggr av en speglande,
polerad yta hos den sintrade kroppen. Den maximala por-
diametern är den största uppmätta diametern bland 1000
uppmätta porär. Alternativt erhölls en total porarea
genom addering av alla areor hos de 1000 verkligen upp-
mätta porerna, och porositeten erhölls genom division
av totala porarean med hela arean av det för mätningen
erforderliga synfältet.
Andelen (A) av den kristallina fasen i korngränsen
i förhållande till totala gränsfasen i en sintrad kropp
erhölls vidare med hjälp av följande ekvationer:
volymsandel kristallin korngränsfas (V2)
A= xl00%
volymsandel för totala korngränsfasen (Vä)
10
15
20
25
30
35
465 366
där,
V1 är ett areaförhållande (%) för korngränsfasen,
vilket erhållits från ett mikrofotografi av
en fin struktur som uppvisas på en etsad, speg-
lande, polerad yta av den sintrade kroppen,
där korngränsfasen är urskiljbar från Si3N4
(eftersom ett areaförhållande i ett tvärsnitt
av den sintrade kroppen kan betraktas som ungefär
lika med ett volymsförhållande, används här
areaförhållandet för att definiera volymsför-
hállandet), och
naximala topphöjden för den kristallina fasen i korngränsen*
V2=
(üqgmöjdauvid I x 5)
ß(ll0)
x 6-förhållandet x (100 V1)/100
Anmärkning: * när korngränsens maximala topphöjd inte
är identifierbar beroende på överlappning
med Si3N4-toppen, används ett värde som
erhållits från topphöjden vid I/Il = K
(K är så nära 100 som möjligt) multiplicerat
med l00/K.
Alternativt beräknas andelen (B) av den kristallina
fasen i korngränsen i förhållande till den kristallina
fasen av kiselnitrid enligt följande ekvation:
naximala topphöjden för den kristallina fasen i korngränsen
B= x ß~för-
(topphöjden vid IB(l00) x 5) hâllandet
(I . + I ) X 100
ß~förhå11anaet= I ffâm) f(š1°) + I
a(l02) u(2l0) ß(l0l) ß(2l0)
där, “
Ia(lO2)= topphöjden för d-Si3N4 (102),
Ia(2l0)= topphöjden för a-Si3N4 (210), *
Iß(1Ol)= topphöjden för B-Si3N4 (101), och
Iß(2l0)= topphojden for S-S13N4 (210).
10
15
20
25
30
35
465 366
5
I den homogena, sintrade kiselnitridkroppen enligt
föreliggande uppfinning är volymsandelen av den kristal-
lina fasen i korngränsen i förhållande till totala korn-
gränsen högst 50%, företrädesvis högst 30%, och helst
högst 10%. Om andelen av den kristallina fasen i korn-
gränsen överstiger 50%, får den sintrade kroppen en
inhomogen, fin struktur, vilken resulterar i försämring
av nötningshållfastheten, utmattningslivslängden vid
valsning etc.
Dessutom utgör företrädesvis denna kristallina
fas i korngränsen högst 5%, särskilt företrädesvis högst
2%, av den kristallina kiselnitridfasen.
Den sintrade kroppen enligt föreliggande uppfinning
har dessutom en maximal pordiameter av högst 10 um,
företrädesvis högst 6 pm, och helst högst 4 pm. Den
sintrade kroppen enligt föreliggande uppfinning har
dessutom en porositet av högst 0,5%, företrädesvis högst
0,3%, och helst högst 0,l%. När den sintrade kroppens
maximala pordiameter överstiger 10 um och porositeten
överstiger O,5%, försämras de mekaniska egenskaperna,
såsom segheten, hårdheten och liknande, varigenom nöt-
ningshållfastheten, utmattningslivslängden vid valsning
etc, också försämras.
Den sintrade kiselnitridkroppen enligt föreliggande
uppfinning innehåller dessutom såsom sintringsmedel
åtminstone en oxid som är vald från den grupp som består
av oxider av sällsynta jordartsmetaller, ZrO2, oxider
av alkaliska jordartsmetaller och Al2O3, företrädesvis
YZO3, ZrO2
i en mängd per typ av företrädesvis 0,1-10 vikt%, helst
och MgO. Dessa sintringsmedel förekommer
0,5-5 vikt%, och i aggregatet (totalmängden av alla
sintringsmedel) företrädesvis 0,5-20 vikt%, helst l-15
vikt%.
Uttrycket "typ" ovan skall tolkas som en oxid som
är vald bland de fyra typerna av oxider, dvs oxider
av sällsynta jordartsmetaller, ZrO2, oxider av alkaliska
jordartsmetaller och Al2O3. I fallet med oxider av säll-
10
15
20
25
30
35
465 566
6
synta jordartsmetaller eller alkaliska jordartsmetaller,
kan denna typ inkludera en mångfald föreningar, som
emellertid företrädesvis föreligger i aggregatet i en
halt av totalt 0,1-10 vikt%.
När mängden av aggregatet ligger i området l-5 vikt%,
förbättras korrosionshärdigheten mot syror och/eller
alkali, varför detta omrâde är föredraget i fallet där
en antikorrosiv egenskap är erforderlig.
I fallet där oxiderna övergår till nitrider genom
en reaktion under sintringen, är de ovannämnda halterna
omvandlade till motsvarande värden för oxider.
När sintringsmedelshalten understiger det ovannämnda
området, blir kiselnitridens packningsförmåga alltför
låg, medan när mängden av aggregatet överstiger 20 vikt%,
ökar andelen korngränsfas så mycket att kiselnitridens
inneboende egenskaper tenderar att försämras.
Bland de ovannämnda sällsynta jordartsmetallerna
och Yb O . Såsom oxider
O
2 3 2 7
av alkaliska jordartsmetaller används t ex MgO och SrO.
används t ex La2O3, CeO2, Y
Homogena, sintrade kiselnitridkroppar med ovannämnda
sammansättning och egenskaper kan tillverkas med hjälp
av ett förfarande som inbegriper företrädesvis snabb-
torkning en gång av pulver av granulerat material, till-
sättning av vatten om så är erforderligt, formning,
efterföljande bränning och därefter kylning från brän-
ningstemperaturen till l000°C vid en temperaturminsknings-
hastighet av åtminstone 30°C/min (i det följande kallas
detta förfarande för enkelhets skull för ett första
tillverkningsförfarande). Vid detta första tillverk-
ningsförfarande är nämligen det viktigaste särdraget
att bibehålla temperatursänkningshastigheten efter brän-
ningen vid eller över en förutbestämd nivå.
Temperatursänkningshastigheten efter bränningen
är åtminstone 30°C/min, företrädesvis åtminstone 50°C/min
och helst åtminstone 80°C/min.
När temperatursänkningshastigheten är lägre än
30°C/min tenderar den kristallina fasen i korngränsen
S*
10
15
20
25
30
35
465 366
7
att separera under kylningen, vilket resulterar i en
inhomogen, fin struktur.
När bränningssteget består av ett inledande brän-
ningssteg vid normalt tryck och ett efterföljande brän-
ningssteg vid trycket under isostatisk varmpressing,
kommer en kylningsoperation, som utförs med en tempera-
tursänkningshastighet av åtminstone 30°C/min i antingen
det inledande eller efterföljande bränningssteget, väsent-
ligen att förhindra separationen av den kristallina
fasen i korngränsen, vilket ger sintrade kroppar med
en homogen, fin struktur. Om kylningsoperationen vid
en temperatursänkningshastighet av åtminstone 30°C/min
alternativt utförs vid både det inledande och efterföl-
jande bränningssteget, kan mer föredragna resultat er-
hållas jämfört med fallet där en sådan kylning utförs
vid endast ett bränningssteg.
Dessutom är det föredraget att eventuellt sätta
vatten till det snabbtorkade, granulära pulvret för
eliminering av skillnader i vattenhalten granulat sins-
emellan, varigenom enhetliga granulat kan erhållas.
Såsom beskrivits ovan beträffande förfarandet enligt
föreliggande uppfinning, sker bränningssteget efter
formningssteget. Vid bränningssteget används två olika
metoder, nämligen bränning vid normalt tryck och brän-
ningsbehandling i två steg, vilken består av ett inledande
bränningssteg vid normalt tryck och ett efterföljande
steg vid trycket vid isostatisk varmpressning. Vid denna
bränningsbehandling i två steg kan det inledande brän-
ningssteget antingen vara inledande bränning eller inkaps-
ling till kapslar (behandling-i-kapsel-förfarande) av
formade kroppar. Vid det inledande bränningssteget bränns
de formade kropparna först vid 1400-l600°C, företrädesvis
i kväveatmosfär vid normalt tryck. Om bränningstempera-
turen är lägre än l400°C, försvinner inte öppna porer
ens efter bränningen, varför tätsintrade kroppar inte kan
erhållas ens efter den isostatiska varmpressningsbe-
handlingen. Om bränningstemperaturen är högre än l600°C
10
15
20
25
30
35
465 366
8
sker å andra sidan en nedbrytningsreaktion av kiselnitrid,
varför homogena, sintrade kroppar med hög densitet och
stor seghet inte kan erhållas ens efter den isostatiska
varmpressningsbehandlingen.
Vid behandling-i-kapsel-förfarandet inkapslas sam-
V)
tidigt de formade kropparna efter vakuumextraktion i
glaskapslar, vilka företrädesvis inbegriper Si02 såsom
huvudkomponent, eller inbäddas i glaspulver, som smälts
genom upphettning under bränningen, för inkapsling av
de formade kropparna. Såsom kapsel är glas föredraget,
p g a dess utmärkta bearbetbarhet och tätslutningsförmåga
under isostatisk varmpressning.
När behandling-i-kapsel-förfarandet utförs, sker
inkapslingen till kapslar av formade kroppar och den
isostatiska varmpressningen i följd, vanligtvis i samma
sintringsugn.
Efter det att dessa inledande bränningsbehandlingar
har genomförts, sker en behandling i form av isostatisk
varmpressning vid 1500-l900°C i kväveatmosfär vid ett
tryck av företrädesvis 20-170 MPa (200-l700 atm).
Vid föreliggande uppfinning kan dessutom homogena,
sintrade kiselnitridkroppar med de ovannämnda egenskaperna
också tillverkas genom användning av ett kiselnitridut-
gàngsmaterial som innehåller minst 90% a-kiselnitrid
(a-Si3N4) och har en genomsnittlig korndiameter av högst
l um, och ett sintringsmedel med en genomsnittlig korn-
diameter av högst l pm, snabbtorkning en gång av granu-
lerat pulverutgångsmaterial, därefter tillsättning av
vatten om så är erforderligt och formning, följt av
bränning (i det följande kallas för enkelhets skull
detta förfarande för ett andra tillverkningsförfarande).
L?
Vid det andra tillverkningsförfarandet har kisel-
nitridutgångsmaterialet och sintringsmedlen som skall
användas en genomsnittlig korndiameter av högst l pm,
företrädesvis högst 0,8 um och helst högst 0,6 um. När
den genomsnittliga korndiametern överstiger 1 um, sker
10
15
20
25
30
35
465 366
9
en ojämn reaktion mellan kiselnitriden och sintrings-
medlet, och den kristallina fasen i korngränsen tenderar
att separera under kylningen, vilket resulterar i en
inhomogen, fin struktur.
Det är dessutom känt att två typer av kristall-
strukturer, dvs a-fas och B-fas, förekommer i kisel-
nitriden. I detta fallet är det föredraget att använda
ett kiselnitridutgångsmaterial innehållande minst 90%
a-kiselnitrid för erhållande av en sintrad Sí3N4-kropp
med stor seghet, hög densitet och stor hårdhet.
I fallet med det andra tillverkningsförfarandet
utförs dessutom bränningen, såsom beskrivits ovan, vid
normalt tryck eller vid det inledande bränningssteget
vid normalt tryck, och vid det efterföljande vid trycket
under isostatisk varmpressning. Denna isostatiska varm-
pressning utförs vid 1500-l900°C, företrädesvis i kväve-
atmosfär vid ett tryck av 20-150 MPa (200-1500 atm).
Vid det första och andra tillverkningsförfarandet
används såsom sintringsmedel som skall blandas med kisel-
nitridutgångsmaterialet åtminstone en oxid som är vald
från den grupp som består av oxider av sällsynta jord-
artsmetaller, ZrO2, oxider av alkaliska jordartsmetaller
och Al2O3, i en mängd per typ av 0,1-10 vikt%, företrädes-
vis 0,5-5 vikt%, och i aggregatet 0,5-20 vikt%, företrä-
desvis 1-15 vikt%. Det ovannämnda uttrycket "typ" innebär
också liksom tidigare en typ som är vald bland de fyra
typerna av oxider, dvs oxider av sällsynta jordartsmetal-
ler, ZrO2, oxider av alkaliska jordartsmetaller och
Al2O3
eller alkaliska jordartsmetaller, kan denna typ inkludera
. I fallet med oxider av sällsynta jordartsmetaller
en mångfald föreningar, som emellertid företrädesvis
förekommer i aggregatet i en mängd av totalt 0,1-10 vikt%.
I fallet med användning av ett salt som omvandlas
till en oxid genom upphettning, är de ovannämnda halterna
omvandlade till de motsvarande för oxiden.
De ovannämnda sintringsmedlen används företrädesvis
465 366
10
15
20
25
30
35
10
som en kombination av YZO3 och ZrO2 tillsammans med
en oxid av en alkalisk jordartsmetall, företrädesvis MgO.
ZrO2 kan tillsättas genom nötning av ZrO2-malgods,
eller i form av ett ZrO2-pulver eller ett Zr-salt för
bildning av ZrO2 vid upphettning. Tillsättningen i form
vid
av ZrO2-pulver eller Zr-salt för bildning av ZrO2
upphettning är föredragen framför alternativet där ZrO2-
-malgods nöts, eftersom en mer enhetlig fördelning av
Zr02 kan uppnås för erhållande av en homogen struktur.
Bland de ovannämnda sintringsmedlen används företrä-
desvis La203, CeO2 och YZO3 såsom oxider av alkaliska
jordartsmetaller, och MgO och SrO såsom oxider av alka-
liska jordartsmetaller.
Enligt det ovan beskrivna första eller andra till-
verkningsförfarandet, kan homogena, sintrade kiselnitrid-
kroppar med ovan beskrivna egenskaper tillverkas.
Föredragna utföringsformer av den ovan beskrivna
uppfinningen är sammanfattade enligt följande:
(a) En homogen, sintrad kiselnitridkropp enligt
uppfinningen, där volymsandelen av den kristallina fasen
i korngränsen är högst 30%.
(b) En homogen, sintrad kiselnitridkropp enligt
föreliggande uppfinning, vilken innehåller O,l-10 vikt%
per typ och i aggregatet 0,5-20 vikt% per typ, av åtmins-
tone en oxid som är vald från den grupp som består av
fyra typer av oxider, nämligen oxider av sällsynta jord-
artsmetaller, ZrO2, oxider av alkaliska jordartsmetaller
och Al2O3.
(c) En homogen, sintrad kiselnitridkropp enligt
föreliggande uppfinning, vilken kropp innehåller YZO3,
ZrO och MgO.
(d) Förfarande för tillverkning av en homogen,
2
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
vilket förfarande inbegriper snabbtorkning en gång av
det granulerade pulvret, tillsättning av vatten om så
är erforderligt, formning och därefter bränning.
(I
10
15
20
25
30
35
465 366
ll
(e) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid bränningssteget utförs vid normalt tryck.
(f) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid bränningssteget utgörs av ett inledande brän-
ningssteg vid normalt tryck och ett efterföljande brän-
ningssteg vid trycket under isostatisk varmpressning,
och kylningen utförs vid en temperatursänkningshastighet
av åtminstone 30°C/min vid åtminstone ett av nämnda
inledande och efterföljande bränningssteg.
(g) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid temperatursänkningshastigheten vid det inledande
och efterföljande bränningssteget är åtminstone 50°C/min.
(h) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid åtminstone en oxid som är vald från den grupp
som består av fyra typer av oxider, nämligen oxider
av sällsynta jordartsmetaller, ZrO2, oxider av alkaliska
jordartsmetaller och AIZO3, används såsom sintringsmedel
i en mängd av 0,1-10 vikt% per typ, och i aggregatet
0,5-20 vikt%.
(i) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid ZrO2 tillsätts genom nötning av ZrO2-malgods
eller i form av Zr02-pulver.
(j) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid YZO3, ZrO2 och Mg0 används såsom sintringsmedel.
(k) Förfarande för tillverkning av en homogen,
sintrad kiselnitridkropp enligt föreliggande uppfinning,
varvid bränningen utförs vid trycket under isostatisk
varmpressning.
Föreliggande uppfinning förklaras i det följande
mer detaljerat med hjälp av exempel, vilka inte bör
tolkas såsom begränsande utan endast belysande.
10
15
20
25
30
35
465 566
12
Exempel l-4, Jämförande exempel l och 2
Till 100 viktdelar a-kiselnitridpulver med en genom-
snittlig korndiameter av 0,4 pm sattes 5 vikt% YZO3,
3 vikt% Al2O3 och 100 viktdelar vatten. Blandningen
pulvriserades och blandades under 5 h i en oscillations-
kvarn genom användning av ZrO2-malgods med en diameter
av 5 mm. 2 vikt% ZrO2 blandades i med hjälp av nötning
av malgodset. Efter passage av den blandade och pulvri-
serade uppslamningen genom en JIS standardsikt med mask-
vidden 32 pm, iblandades därefter 2 vikt% polyvinylalkohol
(PVA) och 0,5 vikt% stearinsyra såsom hjälpmedel för
spruttorkning. Med hjälp av spruttorkning erhölls ett
granulärt pulver med en genomsnittlig korndiameter av
80 pm och en vattenhalt av l vikt%. Efter torkning vid
80°C under 24 h genom användning av en isoterm tork
och därefter passage genom en JIS standardsikt med mask-
vidden 149 pm, formades det granulära pulvret genom
isostatisk kallpressning vid ett tryck av 2,5 ton/cmz,
och en formad kropp med diametern 30 mm och längden
100 mm erhölls. Därefter avfettades den formade kroppen
vid en temperatur av 500°C under 2 h. Efter upprätthål-
lande av den avfettade, formade kroppen vid 1700-l750°C
under 1 h i kvävgasatmosfär, sänktes temperaturen vid
de respektive temperatursänkningshastigheter som visas
i tabell l nedan för åstadkommande av en sintrad kropp.
Vad beträffar den erhållna sintrade kroppen bestämdes
andelarna av kristallin fas i korngränsen i förhållande
till den kristallina kiselnitridfasen respektive till
hela gränsfasen,den maximala pordiametern och porositeten
enligt de ovannämnda metoderna. De erhållna värdena
visas i tabell 1. Cylindrar med diametern 15 mm och
längden 15 mm skars ut från den sintrade kroppen. Efter
polering med en diamantslipsten nr 140 provades kolonnerna
med avseende på egenskaper vid hård nötning genom använd-
ning av en kulkvarn vid sådana betingelser att en alu-
miniumbehållare med en innerdiameter av 120 mm användes
och att rotationen ägde rum vid l50 rpm. Såsom uppslamning
n I'
10
465 566
13
blandades dessutom kiselkarbidpulver nr 100 och vatten
i ett viktförhållande av 1:1, och halva behållaren fylldes
med uppslamningen. I denna behållare placerades de ovan
tillverkade 5 cylinderformade, sintrade kropparna med
diametern 15 mm och längden 15 mm, och hårdnötnings-
provningen utfördes under 24 h. En avnött mängd erhölls
från vikt- och storleksskillnaderna före och efter prov-
ningen.
Såsom anges i tabell l visades det att när tempera~
tursänkningshastigheten vid bränningssteget understiger
30°C/min, överstiger andelen av den kristallina fasen
i korngränsen i förhållande till totala korngränsfasen
50%, och den avnötta mängden ökar avsevärt.
465 366
14
o.m .ïo N. 2 om oH omD N
o; m6 w 2 S ON 85 H Hwåwxw
wucmnmäuwo
wo.o Nio w N mH oo omßfl w
No.o m.o ß H ß ooH ooßfi m
mod m.o o v ßw om oo: N
Qma ïo w ß S om 85 H Hwgäš
3;
cmmmmkwzmfim A w o cwmmm
:så mñfißwfia. :mv umawflïuov. mflßou, :E51
^NEU\@5 Hwumë 33 wøcøfifimsumm fi HSB møcmïmnnæw 4... umsmflummn Üoo
ømGmE SL :mfiøuoa cwmcmumcnox fi mmm cwmflwumcuox .w mmm |wmcficxcmw Høvmuwâuwu
uumc>< uwuflmouom Håäxmz :Édwumflux flmwë cfiämumflux ämnad Hsumuwgöm. lmmcflccwum
cwmmoux wumuucflm :mv mo: uwmmxwcmmm
.H Qwhmmám.
10
15
20
25
30
35
465 366
15
Exempel 5-10, Jämförande exempel 3-5
Till 100 viktdelar a-kiselnitridpulver med en genom-
snittlig korndiameter av 0,5 pm sattes 8 vikt% YZO3,
4 vikt% MgO och 100 viktdelar vatten. Blandningen pulv-
riserades och blandades under 3 h i en attritor genom
användning av ZrO2-malgods med en diameter av 5 mm.
1 vikt% ZrO2 blandades i genom nötning av malgodset.
Efter passage av den blandade och pulvriserade uppslam-
ningen genom en sikt med maskvidden 20 pm, tillsattes
2 vikt% PVA, varefter ett granulärt pulver framställdes
genom användning av en spruttork. Efter snabbtorkning
vid de i tabell 2 nedan respektive visade temperaturerna
under 24 h genom användning av en isoterm tork och till-
sättning av 3 vikt% vatten, bringades det granulära
pulvret att passera genom en sikt med maskvidden 325 pm.
Det erhållna granulära pulvret formades genom isostatisk
kallpressning vid ett tryck av 5 ton/cm2, och en formkropp
med diametern 65 mm och längden 50 mm tillverkades.
Därefter avfettades formkroppen vid en temperatur av
500°C under 3 h. Efter en inledande bränning vid l500°C
under 5 h, sänktes temperaturen med de i tabell 2 visade
respektive temperatursänkningshastigheterna, varefter
en isostatisk varmpressning (HIP) utfördes vid ett tryck
av 100 MPa (1000 atm) vid l700°C under l h, följt av
efterföljande kylning vid de i tabell 2 visade respektive
temperatursänkningshastigheterna.
Den erhållna sintrade kroppen mättes med avseende
på andelarna kristallin fas i korngränsen, den maximala
pordiametern och porositeten, såsom i exempel l.
Vidare skars skivor med diametern 50 mm och tjock-
leken 10 mm ut från den sintrade kroppen. Efter polering
till spegling utfördes ett utmattningstest vid valsning
vid en Hertz-påkänning av 600 kg/mmz med hjälp av en
med 6 kulor försedd axiallagerprovningsanordning. Dessa
resultat visas också i tabell 2. Såsom framgår av ta-
bell 2 i fallet där temperatursänkningshastigheten är
465 366
16
30°C/min eller mer vid det inledande bränningssteget
eller HIP-bränningssteget, blir andelen av den kristal-
lina fasen i korngränsen i förhållande till totala korn-
gränsfasen mindre än 50%, och längre livslängder vid
valsníng erhålls jämfört med i fallet där temperatur-
sänkningshastigheterna i båda stegen understiger 30°C/min.
U'
465 366
>OHxHO.O mO.O O_mH OH OO O O 1 O
>OHx~O.O mO.O m_OH OH OO m OH | O
OOH:mO_O OO.O O_OH HH Om ON ON 1 O Hwgswxm
GÜCNHÛMHOHWÜ
>OH:~ OH.O O_O N HH OO Om OOH OH
>OH:OO mO_O m.N O O ONH ONH OO O
>OH:O mH.O O_O H O OOH OOH OO O
wU:OHxm.O ~O_O O.m O ON OH Om OO ß
>OHxO.H -_O O.m O OH . Om OO OO O
>OHxH_O OO_O m_m O OO OH Om OO O Hwmwxm
.OO H:::>u°. H:Hs\u°.
HH@:>uO :ww::|OzOHm HOO :mwmm OOOOOH u°OOOH
O:H:wH:> ::HHH::mH:: :ww |m:w:O::o: :H::o: HHH: OO>H .HHHQ OOOH
:H> :O:wH H21, HHH: m:::HH:: HHH: wO::HH:: :OMO :@:OH: :::: »::OH:
|w>flH Hwv uwumš lamm O cwwumum lamm H cwwcmnm |wmnwm:flc |wm:wmc«: Hung
|mm:H: :w:Hm »:H::o: |::o: H www :HH |::o: H mm: :HH |::ww::: |::ww::: :::m:@::w:
lunga :ouom Hmšflxmz lHmuwfluvH Hmøcm Åmpmfiux Hmwå umuøoäwa Imuwåmå :mmcficxuounnmcm
HÖQQOÜH wwmuuflfim Cwfl mo: .Hwmmxwcwmm
N .HQWm/HHB
10
15
20
25
30
465 366
18
Exempel 11-14, Jämförande exempel 6 och 7
Till 100 viktdelar kiselnitridpulver innehållande
minst 95% u-kiselnitrid och med en genomsnittlig korn-
O?
diameter av 0,4 pm sattes 6 vikt% YZO3 med en genom-
snittlig korndiameter av 1,0 pm eller 0,4 pm, 4 vikt%
f!
SrO med en genomsnittlig korndiameter av 0,7 pm, 1,5
vikt% ZrO2 med en genomsnittlig korndiameter av 0,9 pm
eller 0,5 pm och 100 viktdelar vatten. Blandningen pulv-
riserades och blandades under l h i en attritor. I jäm-
förande syfte bereddes en uppslamning med samma till-
sättnings- och pulvriseringsbetingelser som ovan, bortsett
från att Y O
2 3
och Zr02 med en genomsnittlig korndiameter av 1,5 pm
med en genomsnittlig korndiameter av 2,0 pm
användes. Dessa bearbetade blandningar behandlades på
samma sätt som i exempel 2, bortsett från att en snabb-
torkning vid l00°C under 24 h utfördes. De resulterande
granulära pulvren formades genom isostatisk kallpressning
vid ett tryck av 7 ton/cmz, och en formad kropp med
diametern 65 mm och längden 50 mm tillverkades. Den
formade kroppen avfettades därefter vid en temperatur
av 500°C under 3 h. Efter en inledande bränning vid
l500°C under 3 h, sänktes temperaturen till 1000°C vid
en temperatureänkningshastighet av l5°C/min, varefter
naturlig kylning till rumstemperatur ägde rum. Därefter
utfördes en isostatisk varmpressning vid ett tryck av
150 MPa (1500 atm) vid 1650°C under 1 h, och temperaturen
l5°C/min,
Den er-
sänktes med en temperatureänkningshastighet av
följt av naturlig kylning till rumstemperatur.
hållna sintrade kroppen mättes med avseende på andelen
kristallin fas i korngränsen, maximal pordiameter och
porositet, såsom i exempel 2. Resultatet visas i tabell
3 nedan. Det har visats att när sintringsmedel med en
genomsnittlig korndiameter av högst 1 pm används, erhålls
en lång utmattningslivslängd vid valsning.
465 366
cwmmøux w©mHucHm cwv mos Hwmmxmcmmm
m qHflmmHd-H.
ßoHxHoo.o oH.H m.æ mH Hm m.H >.o o.N H
>oHxmo.o mß.o ø.æ HH mm m.o >_o o.N w Hmmsmxm
ÜÜGÜHÛNÉWÜ
>oHxm æo.o o.« m ßH m.o >.o «.o HH
Q, ßoHxN~o oH.o o.w ß ow m.o ß.o «.o MH
>oHxH HN.o m_m w mw m.o >.o o.H NH
Hofinö mfio 06 w ä m5 H5 o; S Hwgää
Hwv
cwwwwëzmfiw få âwfl
HHwx>0v m:HHHmpmHux :mv lwcmumcuox mHmu0u ^E1v Hëiv ^E1v
mcH: Halv HHHu w©:mHHms HHHM wøcmHHm: uwumEøHø uwvwEmHw uwumEmH@
|mHm> ©H> Hwv uwumš |uww H cmmcmum |nmH H cwwcmum lcuox mHH zcuox mHH ncuox mHH
ømcmHm>HH uwuHw nmHwHom ucuox H mmm :HH lcuox H mmm cHH |uvHcm:Ccmm |u#HcmEö:wm |uuHcwE0cwm
lwmsëfiän: Lfiom Hmñxš åßwfië Hwwå åfifië Hwwë .Noš Öæ ao?
10
15
20
25
30
35
465 366
20
Exempel 15 och 16, Jämförande exempel 8
Till 100 viktdelar d-kiselnitridpulver med en genom-
snittlig korndiameter av 0,5 um sattes 0,3 vikt% SrO,
1,0 vikt% MgO, 1,5 vikt% CeO2 och 100 viktdelar vatten. 3
Blandningen pulvriserades och blandades under 3 h i
f?
en attritor genom användning av Si3N4-malgods för bered-
ning av en uppslamning (prov A).
Till 100 viktdelar av samma kiselnitridpulver som
ovan sattes dessutom 0,1 vikt% SrO, 0,1 vikt% MgO, 3,0
vikt% Ce02 och 100 viktdelar vatten. Blandningen pulvri-
serades och blandades under 5 h i en attritor genom
användning av ZrO2-malgods med en diameter av 5 mm.
Därefter iblandades 1,8 vikt% ZrO2 genom nötning av
malgodset. På så sätt bereddes ytterligare en uppslamning _
(prov B).
Efter passage av dessa uppslamningar genom en sikt
med maskvidden 25 um, iblandades 2 vikt% PVA och 0,2
vikt% stearinsyra såsom hjälpmedel för spruttorkning.
Genom utförande av spruttorkning erhölls därefter gra-
nulära pulver. Dessa granulära pulver formpressades
vid ett tryck av l ton/cmz för framställning av kulor
med diametern 20 mm. I syfte att förbereda HIP-behand-
ling-i-kapsel för dessa kulor, upphettades först dessa
kulor till 500°C i vakuum för avlägsnande av bindemedel
och placerades därefter tillsammans med glaspulver i
höljen så att kulorna bäddades in i glaspulvret. Två
typer av höljen framställdes, nämligen det ena inne-
hållande proverna A och B, och det andra innehållande
endast prov B. När höljet innehållande proverna A och
B användes, varvid trycksättning och upphettning användes
för smältning av glaset, utfördes HIP under 2 h vid
f)
500 kg/cmz vid l600°C. Därefter sänktes temperaturen
till 1000°C med en hastighet av 100°C/min, varefter
naturlig kylning till rumstemperatur ägde rum.
När höljet innehållande endast prov B användes,
utfördes alternativt samma HIP som ovan under 2 h vid
l600°C, men temperaturen sänktes till 1000°C med en
10
15
20
25
465 366
21
hastighet av l0°C/min, följt av naturlig kylning till
rumstemperatur.
De erhållna sintrade kropparna mättes med avseende
på andelen kristallin fas i korngränsen, den maximala
pordiametern och porositeten. Resultatet visas i tabell 4
nedan.
Prov B, som kylts med en hastighet av l00°C/min,
var uppenbarligen homogent, medan prov B som kylts med
en hastighet av l0°C/min uppvisade prickiga mönster.
Det visade sig som resultat efter en finfokuserad rönt-
gendiffraktionsanalys att den fläckiga delen hade kristal-
liserats i stor omfattning jämfört med de ej fläckiga
delarna. De i tabell 4 visade andelarna av den kristallina
fasen i korngränsen representerar medelvärden av hela
provet.
Med avseende på de erhållna kulorna utfördes ett
hårdnötnings- och korrosionstest med hjälp av en kul-
kvarn på samma sätt som hårdnötningsprovningen i exem-
pel 2, bortsett från att 15% HCl användes i stället
för vatten. Den avnötta mängden erhölls från vikt- och
storleksskillnaderna efter och före provningen. Såsom
framgår av tabell 4 uppvisar provet som kyldes vid en
lägre temperatursänkningshastighet en större avnött
mängd, och provet, till vilket sintringsmedel i en så
liten mängd som 2,8 vikt% sattes, uppvisar goda slitage-
och korrosionsegenskaper.
465 366
22
w~H æo.o m.m w oß ofi æ.H"o.m"H.o"H. u
Noë Nomoömzuouw w Hwgäš
wwcmuwwemw
~.o mo.o o.m ~ mfl oofi æ.~ o.m”H.o"~_ u
Noä Nowunomzöflm S
~o~o No~o m.N H ofl oofi m~H"o.~"m. H
Nowuömzufim 2 Hwgäš
Aw.
âwmwëzmflw :s 56mm. EEE...
mcflflfimßmflux :mv nwcwnmcuox mfimuou Uoooofi Hfiflu ^wuxfl>v
Aåv SE 66:63.? SE wmšßfiä; 32 små Éwmâfiwfi:
^NE0\mEV Aw. Hmumâ |nmm fi cwmcmnm luwm fi cwwcwum uwnmflumms lwmcfluvcfiw mmm um:
wmcmš uwuflw xmflwuom lcuox fi mmm cfifi |cuOx fi mmm cflfi nwmcficxcmm lmfluwmswmcflcuumw
»uwšm foäm Hmfixå åmpwfië Hwøë 1166362 Hwøå -äääåma :S3 :oo ä. m?
cmmmoux wwßuuflflm :mm mon Hmmmxmcmmfi
Q Qflflmdü
465 366
23
Såsom förklarats och visats ovan enligt föreliggande
uppfinning, kan homogena, sintrade kiselnitridkroppar
med liten maximal pordiameter och porositet och utmärkta
egenskaper, såsom nötningshållfasthet, utmattningslivs-
längd vid valsning eller liknande, erhållas. Följaktligen
kan de sintrade kiselnitridkropparna enligt föreliggande
uppfinning mycket effektivt användas till slitagedelar,
friktionsdelar etc, såväl som till lagerdelar.
Claims (4)
1. Homogen, sintrad kiselnitridkropp med en korn- därav, att den kristallina andelen av korngränsfasen utgör högst 50 vol% i förhållande till totala korngränsfasen, och att den sintrade kroppen har en maximal pordiameter av högst 10 pm ¶> gränsfas, k ä n n e t e c k n a d och en porositet av högst 0,5%.
2. Förfarande för tillverkning av en sintrad kisel- nitridkropp, vilket inbegriper stegen av blandning av ett kiselnitridutgångsmaterial med ett sintringshjälpmedel, pulvrisering av den resulterande blandningen, granulering av den pulvriserade blandningen, formning av det resulte- rande granulära pulvret och efterföljande bränning av den på så sätt formade kroppen vid en temperatur av åtminstone ca l400°C, följt av kylning, därav, att en homogen, sintrad kiselnitridkropp framställs k ä n n e t e c k n a t vid förfarandet, varvid kylning från en bränningstempera- tur till lOO0°C utförs med en temperatursänkningshastighet av åtminstone 30°C/min.
3. Förfarande för tillverkning av en sintrad kisel- nitridkropp, vilket inbegriper stegen av blandning av ett kiselnitridutgångsmaterial med ett sintringshjälpmedel, pulvrisering av den resulterande blandningen, granulering av den pulvriserade blandningen, formning av det resulte- rande granulära pulvret och efterföljande bränning av den på så sätt formade kroppen vid en temperatur av åtminstone ca l400°C, k ä n n e t e c k n a t därav, att en homo- gen, sintrad kiselnitridkropp framställs, varvid avkylning 1.7)- sker från en bränningstemperatur till 1000°C med en tempe- ratursänkningshastighet av åtminstone l5°C/min, och varvid ett kiselnitridutgångsmaterial, som innehåller åtminstone 3 90% a-kiselnitrid och har en genomsnittlig korndiameter av högst 1 pm, och ett sintringshjälpmedel med en genomsnitt- lig korndiameter av högst 1 um, används, och att det gra- nulära pulvret snabbtorkas en gång. 10 15 20 25 30 35 465 566 25
4. Förfarande enligt kravet 3, n a t därav, att vatten tillsätts efter snabbtorkningen k ä n n e t e c k - och före formningen och bränningen.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29846087 | 1987-11-26 | ||
JP63044001A JP2512061B2 (ja) | 1987-11-26 | 1988-02-26 | 均質窒化珪素焼結体およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SE465366B true SE465366B (sv) | 1991-09-02 |
Family
ID=26383839
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE8804256D SE8804256L (sv) | 1987-11-26 | 1988-11-25 | Homogen kiselnitridsintrad kropp och foerfarande foer tillverkning av densamma |
SE8804256A SE465366B (sv) | 1987-11-26 | 1988-11-25 | Homogen, sintrad kiselnitridkropp med en korngraensfas samt foerfarande foer dess framstaellning |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SE8804256D SE8804256L (sv) | 1987-11-26 | 1988-11-25 | Homogen kiselnitridsintrad kropp och foerfarande foer tillverkning av densamma |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5002907A (sv) |
JP (1) | JP2512061B2 (sv) |
SE (2) | SE8804256L (sv) |
Families Citing this family (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5120328A (en) * | 1988-01-27 | 1992-06-09 | The Dow Chemical Company | Dense, self-reinforced silicon nitride ceramic prepared by pressureless or low pressure gas sintering |
US5118645A (en) * | 1988-01-27 | 1992-06-02 | The Dow Chemical Company | Self-reinforced silicon nitride ceramic of high fracture toughness and a method of preparing the same |
US5156830A (en) * | 1990-07-24 | 1992-10-20 | Eaton Corporation | Process for preparing an alpha-phase silicon nitride material and thereafter converting to non-densified beta-phase material |
JPH0570242A (ja) * | 1991-06-26 | 1993-03-23 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 耐衝撃材用窒化ケイ素系焼結体 |
US5543371A (en) * | 1992-03-31 | 1996-08-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Slide member and method of manufacturing the same |
DE69316118T2 (de) * | 1992-09-08 | 1998-04-23 | Toshiba Kawasaki Kk | Siliciumnitrid-Sinterkörper mit hoher Wärmeleitfähigkeit und Verfahren zu seiner Herstellung |
US5382273A (en) * | 1993-01-15 | 1995-01-17 | Kennametal Inc. | Silicon nitride ceramic and cutting tool made thereof |
US5312785A (en) * | 1993-05-18 | 1994-05-17 | The Dow Chemical Company | Sintered self-reinforced silicon nitride |
US5364608A (en) * | 1993-07-30 | 1994-11-15 | Eaton Corporation | Method of converting a silicon nitride from alpha-phase to beta-phase, apparatus used therefor, and silicon nitride material made therefrom |
US5518673A (en) * | 1993-10-14 | 1996-05-21 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Silicon nitride ceramic having high fatigue life and high toughness |
US5954880A (en) * | 1993-11-05 | 1999-09-21 | Nsk Ltd. | Roller support device in molten metal plating bath |
US5508241A (en) * | 1994-03-22 | 1996-04-16 | Saint Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp. | Silicon nitride bearing ball having a high rolling contact fatigue life |
JP3335789B2 (ja) * | 1995-02-09 | 2002-10-21 | 日本碍子株式会社 | 熱間圧延用セラミック治具及びその製造方法 |
JPH0925171A (ja) * | 1995-07-11 | 1997-01-28 | Ngk Insulators Ltd | 成形用造粒粉体及びその製造方法並びに当該粉体を用いて作製された窒化珪素焼結体 |
US5908796A (en) * | 1998-05-01 | 1999-06-01 | Saint-Gobain Industrial Ceramics, Inc. | Dense silicon nitride ceramic having fine grained titanium carbide |
JP4822573B2 (ja) * | 1999-12-17 | 2011-11-24 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体の製造方法 |
US6613443B2 (en) | 2000-10-27 | 2003-09-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Silicon nitride ceramic substrate, silicon nitride ceramic circuit board using the substrate, and method of manufacturing the substrate |
JP4795588B2 (ja) * | 2001-01-12 | 2011-10-19 | 株式会社東芝 | 窒化けい素製耐摩耗性部材 |
JP2008222469A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Ngk Insulators Ltd | 窒化ケイ素焼結体及びその製造方法 |
US8772190B2 (en) * | 2008-08-29 | 2014-07-08 | Ab Skf | Large ceramic component and method of manufacture |
JP6354621B2 (ja) * | 2015-02-27 | 2018-07-11 | 新日鐵住金株式会社 | 窒化珪素質セラミックス焼結体及びその製造方法 |
CN107586136B (zh) * | 2017-10-17 | 2020-10-23 | 广东工业大学 | 一种3d打印氮化硅陶瓷的方法 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2258762A1 (de) * | 1972-11-30 | 1974-06-12 | Annawerk Gmbh | Verfahren zur verbesserung der biegefestigkeit und schlagzaehigkeit von formkoerpern aus siliziumnitrid und/oder siliziumoxinitrid |
JPS5850944B2 (ja) * | 1975-09-04 | 1983-11-14 | 株式会社東芝 | 窒化けい素系複合焼結体の製造法 |
JPS54107914A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-24 | Tokyo Shibaura Electric Co | Production of high density silicon nitride base sintered body |
JPS5547276A (en) * | 1978-05-31 | 1980-04-03 | Ford Motor Co | Si3n4 compounded material for cutting tool and its manufacture |
JPS55104975A (en) * | 1979-02-02 | 1980-08-11 | Asahi Glass Co Ltd | Manufacture of silicon nitride sintered body |
JPS6020347B2 (ja) * | 1979-02-12 | 1985-05-21 | 日本特殊陶業株式会社 | 窒化珪素焼結体の製造法 |
JPS5834428B2 (ja) * | 1979-11-22 | 1983-07-26 | 株式会社東芝 | 窒化珪素質セラミツクスの製造方法 |
JPS57123870A (en) * | 1981-01-27 | 1982-08-02 | Sumitomo Electric Industries | Manufacture of non-oxide ceramics |
JPS5850944A (ja) * | 1981-09-24 | 1983-03-25 | 株式会社島津製作所 | 超音波診断装置 |
JPS60161377A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | 株式会社小松製作所 | 窒化珪素焼結体の製造方法 |
US4628039A (en) * | 1984-03-06 | 1986-12-09 | Kyocera Corporation | Sintered silicon nitride body |
JPS60239363A (ja) * | 1984-05-11 | 1985-11-28 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 窒化けい素焼結体の製造法 |
SE453750B (sv) * | 1984-06-14 | 1988-02-29 | Skf Steel Eng Ab | Sett for forgasning av finfordelat kolhaltigt material |
JPS6168373A (ja) * | 1984-09-07 | 1986-04-08 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体およびその製造法 |
JPH0699191B2 (ja) * | 1984-12-22 | 1994-12-07 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体の製造方法 |
JPS62197356A (ja) * | 1986-02-25 | 1987-09-01 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体の製造方法 |
JPS62207765A (ja) * | 1986-03-06 | 1987-09-12 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体 |
DE3709137A1 (de) * | 1986-03-28 | 1987-10-15 | Ngk Insulators Ltd | Siliciumnitrid-sinterkoerper, verfahren zu ihrer herstellung und siliciumnitridpulver |
JPS62246865A (ja) * | 1986-04-16 | 1987-10-28 | 日本碍子株式会社 | 窒化珪素焼結体およびその製造法 |
JPH07115931B2 (ja) * | 1986-06-02 | 1995-12-13 | トヨタ自動車株式会社 | 窒化ケイ素焼結体の製造方法 |
JPS6355163A (ja) * | 1986-08-26 | 1988-03-09 | 株式会社豊田中央研究所 | 耐摩耗材用窒化けい素質焼結体 |
JP2549636B2 (ja) * | 1986-10-17 | 1996-10-30 | 株式会社東芝 | セラミツクス製転動体 |
JPS63106421A (ja) * | 1986-10-21 | 1988-05-11 | Kyocera Corp | セラミツク製ベアリング |
JP2518630B2 (ja) * | 1986-12-17 | 1996-07-24 | 京セラ株式会社 | 窒化珪素質焼結体及びその製法 |
JPH0197158A (ja) * | 1987-10-05 | 1989-04-14 | Hitachi Ltd | 磁気ディスク装置用磁気回路組立体 |
-
1988
- 1988-02-26 JP JP63044001A patent/JP2512061B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-25 SE SE8804256D patent/SE8804256L/sv not_active Application Discontinuation
- 1988-11-25 SE SE8804256A patent/SE465366B/sv not_active IP Right Cessation
-
1990
- 1990-01-04 US US07/462,944 patent/US5002907A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5002907A (en) | 1991-03-26 |
JPH01230478A (ja) | 1989-09-13 |
JP2512061B2 (ja) | 1996-07-03 |
SE8804256L (sv) | 1989-05-27 |
SE8804256D0 (sv) | 1988-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SE465366B (sv) | Homogen, sintrad kiselnitridkropp med en korngraensfas samt foerfarande foer dess framstaellning | |
Xue et al. | Deformation and Grain Growth of Low‐Temperature‐Sintered High‐Purity Alumina | |
CA1298321C (en) | Silicon carbide-alpha prime sialon | |
EP0572484B1 (en) | A dense, self-reinforced silicon nitride ceramic prepared by pressureless or low pressure gas sintering | |
KR0136298B1 (ko) | 세라믹 다공체 및 이의 제조방법 | |
US4640902A (en) | Low thermal conductivity Si3 N4 /ZrO2 composite ceramics | |
JPS64349B2 (sv) | ||
US5545597A (en) | Silicon nitride ceramic having high fatigue life and high toughness | |
US4615990A (en) | Silicon nitride sintered bodies and a method for their production | |
US5227346A (en) | Sialon composites and method of preparing the same | |
US5439855A (en) | Silicon nitride ceramics containing a dispersed pentamolybdenum trisilicide phase | |
EP0471568A2 (en) | A self-reinforced silicon nitride ceramic body and a method of preparing the same | |
US5728637A (en) | Nanocrystalline alumina-diamond composites | |
EP0676380A1 (en) | Composite powders of silicon nitride and silicon carbide | |
EP0468486B1 (en) | A ceramic material, reinforced by the incorporation of alumina fibers and process for production thereof | |
CA1123862A (en) | Oxidation resistant silicon nitride containing rare earth oxide | |
CA2359056A1 (en) | High-strength magnesia partially stabilized zirconia | |
EP0185224A2 (en) | Abrasion resistant silicon nitride based articles | |
CA2100957A1 (en) | A self-reinforced silicon nitride ceramic with crystalline grain boundary phase, and a method of preparing the same | |
EP0564257B1 (en) | Low thermal conductivity ceramic and process for producing the same | |
WO1998032711A1 (en) | Gas pressure sintered silicon nitride having high strength and stress rupture resistance | |
JPH03218974A (ja) | 窒化珪素焼結体およびその製造方法 | |
JP2650049B2 (ja) | セラミック切削工具及びその製造方法 | |
Akimov et al. | Role of cold isostatic pressing in the formation of the properties of ZrO2-base ceramics obtained from ultradisperse powders | |
US5110772A (en) | Fabrication of dense SI3 N4 ceramics using CaO-TiO2 SiO.sub.2 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
NUG | Patent has lapsed |