RU95121861A - Полупроводниковый датчик давления - Google Patents

Полупроводниковый датчик давления

Info

Publication number
RU95121861A
RU95121861A RU95121861/28A RU95121861A RU95121861A RU 95121861 A RU95121861 A RU 95121861A RU 95121861/28 A RU95121861/28 A RU 95121861/28A RU 95121861 A RU95121861 A RU 95121861A RU 95121861 A RU95121861 A RU 95121861A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
pressure sensor
semiconductor pressure
semiconductor
gate electrode
dielectric layer
Prior art date
Application number
RU95121861/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2134869C1 (ru
Inventor
Д.А. Резник
И.Ю. Петрова
М.Ф. Зарипов
Original Assignee
Астраханский государственный технический университет
Filing date
Publication date
Application filed by Астраханский государственный технический университет filed Critical Астраханский государственный технический университет
Priority to RU95121861A priority Critical patent/RU2134869C1/ru
Priority claimed from RU95121861A external-priority patent/RU2134869C1/ru
Publication of RU95121861A publication Critical patent/RU95121861A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2134869C1 publication Critical patent/RU2134869C1/ru

Links

Claims (1)

  1. Полупроводниковый датчик давления, содержащий металлдиэлектрическую полупроводниковую структуру, выполненную в виде полупроводниковой подложки одного типа проводимости со сформированными в ней диффузионными областями другого типа проводимости и затвор, отделенный от подложки слоем диэлектрика, отличающийся тем, что, с целью повышения точности измерений и уровня технологичности изготовления, а также расширения диапазона работы датчика давления, в него введены силовые чувствительные резисторы, электрод-затвор выполнен из синтетического материала, например из проводящего эластомера, слой диэлектрика между электродами выполнен сплошным с воздушным зазором между ним и электрод-затвором, причем диффузионные области и сами электроды истока и стока выполнены в виде встречно-штырьевых структур.
RU95121861A 1995-12-26 1995-12-26 Полупроводниковый датчик давления RU2134869C1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU95121861A RU2134869C1 (ru) 1995-12-26 1995-12-26 Полупроводниковый датчик давления

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RU95121861A RU2134869C1 (ru) 1995-12-26 1995-12-26 Полупроводниковый датчик давления

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU95121861A true RU95121861A (ru) 1997-12-27
RU2134869C1 RU2134869C1 (ru) 1999-08-20

Family

ID=20175051

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU95121861A RU2134869C1 (ru) 1995-12-26 1995-12-26 Полупроводниковый датчик давления

Country Status (1)

Country Link
RU (1) RU2134869C1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900003896A (ko) 반도체 메모리와 그 제조방법
KR890702022A (ko) 가연성 가스센서
KR970003739A (ko) 박막 트랜지스터를 이용한 생화학적 감지기 및 그 제조 방법
KR840006873A (ko) 반도체 메모리
KR940003098A (ko) 반도체 장치
KR960036125A (ko) 반도체장치
KR980003732A (ko) 액정표시소자의 제조방법
KR900019234A (ko) 반도체기억장치
KR900019261A (ko) 반도체장치
KR870008395A (ko) 절연게이트 전계효과 트랜지스터
KR940006395A (ko) 고체촬상장치 및 그 제조방법
KR960019766A (ko) 에스오아이(soi) 기판상의 모스페트(mosfet)
WO2005012896A8 (de) Kapazitiv kontrollierter feldeffekt-gassensor, enthaltend eine hydrophobe schicht
KR910008861A (ko) 집적회로소자
RU95121861A (ru) Полупроводниковый датчик давления
KR910020740A (ko) 반도체기억장치
KR930022575A (ko) 전하 전송 촬상 장치 및 그 제조 방법
KR920008964A (ko) 전송 전하 증폭 장치
KR880002039A (ko) 광전변환장치
KR910017656A (ko) 반도체장치
KR870009483A (ko) 고체촬상장치
KR860001489A (ko) 반도체장치
KR920005814A (ko) 전계효과트랜지스터, 메모리셀, 반도체기억장치 및 전계효과트랜지스터의 제조방법
KR910008853A (ko) 반도체장치와 그 제조방법
JPS6467970A (en) Thin film transistor