RU2680867C1 - Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати и полученная из нее оригинальная форма для высокой печати - Google Patents
Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати и полученная из нее оригинальная форма для высокой печати Download PDFInfo
- Publication number
- RU2680867C1 RU2680867C1 RU2018115996A RU2018115996A RU2680867C1 RU 2680867 C1 RU2680867 C1 RU 2680867C1 RU 2018115996 A RU2018115996 A RU 2018115996A RU 2018115996 A RU2018115996 A RU 2018115996A RU 2680867 C1 RU2680867 C1 RU 2680867C1
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- polyamide
- acid
- structural units
- letterpress
- alicyclic
- Prior art date
Links
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims abstract description 36
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims abstract description 87
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims abstract description 87
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 54
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 44
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 26
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 25
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 claims abstract description 25
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims abstract description 8
- -1 alicyclic diamine Chemical class 0.000 claims description 28
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 20
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 20
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 18
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)CC1 PXGZQGDTEZPERC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical compound NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-diamine Chemical compound NC1CCCC(N)C1 GEQHKFFSPGPGLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 claims description 3
- KYQRDNYMKKJUTH-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-3,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC2(C(O)=O)C(C(=O)O)CC1C2 KYQRDNYMKKJUTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 abstract description 54
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 23
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 5
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 37
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 31
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 18
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 6
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 6
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 6
- KMBPCQSCMCEPMU-UHFFFAOYSA-N n'-(3-aminopropyl)-n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCCCN(C)CCCN KMBPCQSCMCEPMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 6
- JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(C)CCCN JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N Laurolactam Chemical compound O=C1CCCCCCCCCCCN1 JHWNWJKBPDFINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 4
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 4
- IVVOCRBADNIWDM-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC2C(C(O)=O)C(C(=O)O)C1C2 IVVOCRBADNIWDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-7-fluoroquinazolin-4-amine Chemical compound FC1=CC=C2C(N)=NC(Cl)=NC2=C1 FZZMTSNZRBFGGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 2
- CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-7h-pyrrolo[2,3-d]pyrimidin-2-amine Chemical compound COC1=NC(N)=NC2=C1C=CN2 CNPURSDMOWDNOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 125000006182 dimethyl benzyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 2
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 2
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N trimethylenediamine Chemical compound NCCCN XFNJVJPLKCPIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxy-3-prop-2-enoyloxypropyl) 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)COC(=O)C=C ZODNDDPVCIAZIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLCPRUJXNXWSRF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)CCC2CC(C(=O)O)CCC21 GLCPRUJXNXWSRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057054 1,3-dimethylurea Drugs 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMBSSXSNDSJXCG-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2-hydroxyundecylamino)ethylamino]undecan-2-ol Chemical compound CCCCCCCCCC(O)CNCCNCC(O)CCCCCCCCC KMBSSXSNDSJXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTFAGPBUAGFMQX-UHFFFAOYSA-N 1-[2-[2-(2-aminopropoxy)propoxy]propoxy]propan-2-amine Chemical compound CC(N)COCC(C)OCC(C)OCC(C)N WTFAGPBUAGFMQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMNWCRSMLWXZSL-UHFFFAOYSA-N 2,3-dibutylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCCC1C(CCCC)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O OMNWCRSMLWXZSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLJKIPLAWCANHD-UHFFFAOYSA-N 2,3-diethylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1C(CC)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O WLJKIPLAWCANHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBRNELXPVXNKHH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CC1C(C)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O UBRNELXPVXNKHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CC(C)(C)CCN DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 2,5-di-tert-butylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=C(C(C)(C)C)C=C1O JZODKRWQWUWGCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 2,5-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound O=C1C=C(C=2C=CC=CC=2)C(=O)C=C1C1=CC=CC=C1 QYXHDJJYVDLECA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUFMERRXRMSAPZ-UHFFFAOYSA-N 2-(azaniumylmethyl)cyclopropane-1-carboxylate Chemical compound NCC1CC1C(O)=O QUFMERRXRMSAPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNDYMLYIFUKKEI-UHFFFAOYSA-N 2-(oxiran-2-ylmethoxymethyl)oxirane;propane-1,2,3-triol Chemical compound OCC(O)CO.C1OC1COCC1CO1 RNDYMLYIFUKKEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBJWRQAYTRNAPT-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-3-ethylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCCC1C(CC)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O GBJWRQAYTRNAPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGWCCHFKQKPUCO-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-3-methylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCCC1C(C)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O ZGWCCHFKQKPUCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHZQYRPFORQTIY-UHFFFAOYSA-N 2-butylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCCC1CC(C(O)=O)CCC1C(O)=O XHZQYRPFORQTIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOOKANMCKCMUNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-3-methylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1C(C)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O VOOKANMCKCMUNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SPWYWMASEHENFA-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-3-propylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCC1C(CC)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O SPWYWMASEHENFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTPOFBPKMDYSSL-UHFFFAOYSA-N 2-ethylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCC1CC(C(O)=O)CCC1C(O)=O LTPOFBPKMDYSSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJVAKIMDRZETII-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-3-propylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCC1C(C)C(C(O)=O)CCC1C(O)=O QJVAKIMDRZETII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWYDEWXSKCTWMJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexane-1,1-diamine Chemical compound CC1CCCCC1(N)N NWYDEWXSKCTWMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCHCHXYBRSBAIS-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CC1CC(C(O)=O)CCC1C(O)=O DCHCHXYBRSBAIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoic acid;propane-1,2,3-triol Chemical compound CC(=C)C(O)=O.CC(=C)C(O)=O.OCC(O)CO UPTHZKIDNHJFKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAWHHRXCBUNWFI-UHFFFAOYSA-N 2-pentylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCC(C(O)=O)C(O)=O LAWHHRXCBUNWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHUPHKVFRLSDQQ-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-2-ylethanamine Chemical compound NCCC1CNCCN1 KHUPHKVFRLSDQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCYHQRZKSCYJGM-UHFFFAOYSA-N 2-propylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CCCC1CC(C(O)=O)CCC1C(O)=O XCYHQRZKSCYJGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCCJRHKFHIWCDW-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-3-methylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CC1C(C(O)=O)CCC(C(O)=O)C1C(C)(C)C LCCJRHKFHIWCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHNOLQTBJIIS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylcyclohexane-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)C1CC(C(O)=O)CCC1C(O)=O RXOHNOLQTBJIIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUIXANYOOSRZMC-UHFFFAOYSA-N 3,3,5,5-tetramethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(C)C1 HUIXANYOOSRZMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYRQHZCLXXBANV-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)cyclohexane-1-carboxylic acid Chemical compound NCC1CCCC(C(O)=O)C1 LYRQHZCLXXBANV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKTUXQBZPWBFDX-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumylcyclohexane-1-carboxylate Chemical compound NC1CCCC(C(O)=O)C1 CKTUXQBZPWBFDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RHRMMKXCZSAUEI-UHFFFAOYSA-N 3-butyl-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)CCC2CC(C(O)=O)C(CCCC)CC21 RHRMMKXCZSAUEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWQHFUCPHIOWHE-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1C(C(O)=O)CCC2CC(C(O)=O)C(C)CC21 YWQHFUCPHIOWHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPTVIOGQWIIWKA-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-4-propyl-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC(C(O)=O)CC2C(CCC)C(C)C(C(O)=O)CC21 RPTVIOGQWIIWKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminocyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1C(C)(C)C1CCC(N)CC1 BDBZTOMUANOKRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DRNGLYHKYPNTEA-UHFFFAOYSA-N 4-azaniumylcyclohexane-1-carboxylate Chemical compound NC1CCC(C(O)=O)CC1 DRNGLYHKYPNTEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFOWXZWORCMFTR-UHFFFAOYSA-N 4-butyl-3-methyl-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydronaphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1CC(C(O)=O)CC2C(CCCC)C(C)C(C(O)=O)CC21 WFOWXZWORCMFTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylcatechol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C(O)=C1 XESZUVZBAMCAEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBBURRWEMSTGIX-UHFFFAOYSA-N 5-ethyl-5-methyl-1,3-bis(oxiran-2-ylmethyl)imidazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)C(CC)(C)N1CC1CO1 JBBURRWEMSTGIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 230000005653 Brownian motion process Effects 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000000177 Indigofera tinctoria Nutrition 0.000 description 1
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 1
- QFURQUXNARPLAA-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C=C.OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O Chemical compound OC(=O)C=C.OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O QFURQUXNARPLAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N Tert-Butylhydroquinone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1O BGNXCDMCOKJUMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDJEQRTZSCIOI-UHFFFAOYSA-N Tranexamic acid Chemical compound NCC1CCC(C(O)=O)CC1 GYDJEQRTZSCIOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 125000006177 alkyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004054 benzoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005537 brownian motion Methods 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-diamine Chemical compound NCCCCCCCCCCCCN QFTYSVGGYOXFRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- TVZISJTYELEYPI-UHFFFAOYSA-N hypodiphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)P(O)(O)=O TVZISJTYELEYPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N imidazolidin-2-one Chemical compound O=C1NCCN1 YAMHXTCMCPHKLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229940097275 indigo Drugs 0.000 description 1
- COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N indigo powder Natural products N1C2=CC=CC=C2C(=O)C1=C1C(=O)C2=CC=CC=C2N1 COHYTHOBJLSHDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 150000002828 nitro derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N putrescine Chemical compound NCCCCN KIDHWZJUCRJVML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/265—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids from at least two different diamines or at least two different dicarboxylic acids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/02—Engraving; Heads therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G69/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain of the macromolecule
- C08G69/02—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids
- C08G69/26—Polyamides derived from amino-carboxylic acids or from polyamines and polycarboxylic acids derived from polyamines and polycarboxylic acids
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L77/00—Compositions of polyamides obtained by reactions forming a carboxylic amide link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L77/06—Polyamides derived from polyamines and polycarboxylic acids
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/037—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polyamides or polyimides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Architecture (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
Настоящее изобретение относится к светочувствительной смоляной композиции для оригинальной формы для высокой печати, а также к полученной из нее оригинальной формы для высокой печати. Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати содержит в качестве основных компонентов растворимый в воде или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет от 30 до 90 мол.%, при этом среди алициклических структурных звеньев полиамида содержание алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 мол.% или более, а также оригинальная форма для высокой печати с использованием указанной композиции. Техническим результатом является разработка светочувствительной смоляной композиции для оригинальной формы для высокой печати, которая позволяет обеспечить воспроизводимость печати градации светлых участков и стойкость печати и позволяет достичь низкой липкости поверхности формы, а также разработка оригинальной формы для высокой печати с использованием указанной композиции. 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 1 табл.
Description
Область техники, к которой относится изобретение
Настоящее изобретение относится к светочувствительной смоляной композиции для оригинальной формы для высокой печати, а также к полученной из нее оригинальной форме для высокой печати. Более конкретно, изобретение относится к проявляемой водой светочувствительной смоляной композиции, которая позволяет получить оригинальную форму для высокой печати, обеспечивающую отличную воспроизводимость печати градации светлых участков, отличную стойкость печати и низкую липкость поверхности формы.
Уровень техники
Обычно светочувствительная смоляная композиция, используемая для печатных форм, содержит в качестве основных компонентов растворимое полимерное соединение, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, и при необходимости содержит добавки, такие как стабилизатор и пластификатор.
Как уже широко известно, форму для высокой печати готовят фотогравированием, когда активный луч облучает слой светочувствительной смоляной композиции, проходя через негативную пленку, имеющую прозрачный участок изображения, так что светочувствительный слой на экспонированном участке затвердевает, затем светочувствительный слой на неэкспонированных участках растворяют/удаляют, используя подходящий растворитель, после чего проводят сушку и дополнительную экспозицию.
В качестве растворимого полимерного соединения для светочувствительной смоляной композиции предлагалось использовать растворимый полиамид, простой полиэфируретан, полностью или частично омыленный поливинилацетат и т.д. Из них особенно предпочтительно применялись формы для рельефной печати, использующие растворимый полиамид или полиэфироуретан, так как они имеют отличное сопротивление истиранию (смотри патентные документы 1 и 2).
В последнее время спрос потребителей на оригинальные формы для высокой печати сфокусирован на воспроизведении сверхтонкого рисунка. Что касается мельчайших светлых участков, используемых для печати фотоматериалов, требуется, чтобы не более 5% из 200 строк демонстрировали такую воспроизводимость, что яркость плавно изменяется на формате оттиска вблизи размера негатива (градация растровых точек светлых участков).
Из предшествующего уровня техники, относящегося к требованиям к качеству печати мелких растровых точек светлых участков, в качестве примера можно привести оригинальную форму для высокой печати, у которой воспроизводимость изображения повышена благодаря многослойной структуре слоя светочувствительной смолы со слоями, имеющими разное светопропускание (смотри патентный документ 3), и оригинальную форму для высокой печати, у которой рельефное форме придана резкость благодаря введению слоя светочувствительной смолы в многослойную систему (смотри патентный документ 4). Однако ни одна из указанных выше оригинальных печатных форм для высокой печати не удовлетворяет полностью градации растровых точек на светлых участках. Кроме того, обе указанные выше оригинальные формы для высокой печати приводят к повышению производственных затрат из-за использования нескольких слоев.
Предлагался также способ, в котором информация, обработанная компьютером, отображается прямо на оригинальную форму для высокой печати, при этом для получения печатной формы не требуется процесс получения негативной пленки (смотри патентный документ 5). В соответствии с этим способом, рассеяния света негативной пленкой не происходит, поэтому рельефная форма становится резкой, и наблюдается значительное улучшение качества печати строкового рисунка. Однако, градация растровых точек светлых участков не вполне удовлетворительная. Кроме того, для фотогравирования требуется дорогостоящий лазерный аппарат-облучатель.
Между тем, с формой для высокой печати часто возникает проблема образования трещин в процессе печати, в результате чего получается низкокачественный печатный продукт. Чтобы улучшить стойкость печати, предлагался способ, в котором используется комбинация частично омыленного ПВА и полиамидного соединения (смотри патентный документ 6), и способ, в котором используется особый сшивающий агент (смотри патентный документ 7). Несмотря на некоторые улучшения, обеспечиваемые этими способами, в настоящее время еще не достигнуто удовлетворительной стойкости печати.
Известный уровень техники
Патентные документы
Патентный документ 1: выложенная заявка на патент Японии JP-A 97154/92
Патентный документ 2: выложенная заявка на патент Японии JP-A 11447/93
Патентный документ 3: выложенная заявка на патент Японии JP-A 2002-23349
Патентный документ 4: выложенная заявка на патент Японии JP-A 313966/94
Патентный документ 5: выложенная заявка на патент Японии JP-A 171247/97
Патентный документ 6: выложенная заявка на патент Японии JP-A 2001-272776
Патентный документ 7: выложенная заявка на патент Японии JP-A 2014-142622
Описание изобретения
Задача, стоящая перед изобретением
Настоящее изобретение было совершено с учетом текущего уровня техники, указанного выше. Целью настоящего изобретения является разработать светочувствительную смоляную композицию для оригинальной формы для высокой печати, которая позволяет обеспечить воспроизводимость печати градации светлых участков и стойкость печати и, кроме того, позволяет достичь низкой липкости поверхности формы, другой целью является разработать оригинальную форму для высокой печати с использованием указанной композиции.
Средства для решения поставленной задачи
Чтобы достичь вышеуказанной цели, авторы настоящей заявки провели усердные исследования растворимого в воде или диспергируемого в воде полиамида для светочувствительной смоляной композиции, используемой в оригинальной форме для высокой печати. В результате они нашли, что можно достичь воспроизводимости печати градации светлых участков и стойкости печати, а также низкой липкости поверхности формы, если полиамид получен полимеризацией дикарбоновой кислоты, содержащий алициклическую дикарбоновую кислоту в количестве не менее заданного, причем полное количество алициклического диамина и алициклической дикарбоновой кислоты лежит в определенном интервале. В результате было совершено настоящее изобретение.
Таким образом, настоящее изобретение можно сформулировать в следующем семи пунктах:
(1) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати, содержащая в качестве основных компонентов растворимый в воде или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, отличающаяся тем, что общее содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет от 30 до 90 моль%, при этом содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 моль% или более.
(2) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати в соответствии с пунктом (1), причем динамический модуль упругости полиамида, измеренный на устройстве измерения динамических вязкоупругих свойств, составляет от 500 до 4000 МПа.
(3) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати в соответствии с пунктом (1) или (2), причем алициклический диамин, из которого получены алициклические структурные звенья, является по меньшей мере одним алициклическим диамином, выбранным из группы, состоящей из изофорондиамина, 1,4-циклогександиамина, 1,3-циклогександиамина, 1,3-бис(аминометил)циклогексана, 1,4-бис(аминометил)-циклогексана, норборнилдиамина, 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазина и N-(2-аминоэтил)пиперазина.
(4) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати в соответствии любым из пунктов (1)-(3), причем алициклическая дикарбоновая кислота, из которой образованы алициклические структурные звенья, является по меньшей мере одной алициклической дикарбоновой кислотой, выбранной из группы, состоящей из изофорондикарбоновой кислоты, 1,4-циклогександикарбоновой кислоты, 2,3-нонборнандикарбоновой кислоты и 1,3-циклогександикарбоновой кислоты.
(5) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати в соответствии любым из пунктов (1)-(4), причем полиамид содержит третичный атом азота.
(6) Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати в соответствии любым из пунктов (1)-(5), причем полиамид содержит от 10 до 70 моль% структурных звеньев, полученных из лактама и/или аминокарбоновой кислоты.
(7) Оригинальная форма для высокой печати, содержащая светочувствительный смоляной слой, содержащий светочувствительную смоляную композицию для оригинальной формы для высокой печати в соответствии любым из пунктов (1)-(6).
Преимущества изобретения
Настоящее изобретение позволяет получить светочувствительную смоляную композицию для оригинальной формы для высокой печати, которая может обеспечить воспроизводимость печати градации светлых участков 1-5% и стойкость печати, а также может обеспечить низкую липкость поверхности формы.
Лучшие варианты осуществления изобретения
Предлагаемая настоящим изобретением светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати содержит в качестве основных компонентов растворимый или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации.
Полиамид, использующийся в настоящем изобретении, имеет суммарное содержание алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, от 30 до 90 моль%, при этом содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 моль% или более.
Если суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, меньше, чем указанный интервал, снижается воспроизводимость печати градации светлых участков, и повышается также липкость поверхности формы. Напротив, когда это содержание превышает указанный интервал, стойкость печати полимера низкая или, в частности, имеется недостаточная стойкость растровых точек светлых участков. Далее, если содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, меньше указанного интервала, воспроизводимость печати градации светлых участков низкая, и повышается липкость поверхности формы, тогда как при содержании выше указанного интервала, стойкость печати низкая или, в частности, низкая стойкость растровых точек светлых участков.
В качестве примеров алициклического диамина можно назвать изофорондиамин, 1,4-циклогександиамин, 1,3-циклогександиамин, 1,3-бис(аминометил)циклогексан, 1,4-бис(аминометил)циклогексан, 1-амино-3-метил-3,5,5-триметилциклогексан, бис(4-аминоциклогексил)метан, бис(3-метил-4-аминоциклогексил)метан, 2,2-бис(4-аминоциклогексил)пропан, 1,4-бис(3-аминопропил)-пиперазин, N-(2-аминоэтил)пиперазин, метилциклогександиамин, нонборнандиамин и трициклодекандиамин. Из них с точки зрения воспроизводимости печати градации светлых участков предпочтительны изофорондиамин и 1,3-бис(аминометил)циклогексан.
В качестве примеров алициклической дикарбоновой кислоты можно назвать изофорондикарбоновую кислоту, 1,4-циклогексан-дикарбоновую кислоту, 2,3-нонборнандикарбоновую кислоту, 1,3-циклогександикарбоновую кислоту, 2-метил-1,4-циклогексан-дикарбоновую кислоту, 2-этил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-пропил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-бутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-трет-бутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2,3-диметил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2,3-диэтил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2,3-дипропил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2,3-дибутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-метил-3-этил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-метил-3-пропил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-метил-3-бутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-этил-3-пропил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-этил-3-бутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 2-метил-3-трет-бутил-1,4-циклогександикарбоновую кислоту, 1,2-циклогександикарбоновую кислоту, 2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-метил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-этил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-пропил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-бутил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,4-диметил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,4-диэтил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,4-дипропил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,4-дибутил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,8-диметил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,8-диэтил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,8-дипропил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3,8-дибутил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-метил-4-этил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту, 3-метил-4-пропил-2,6-декалин-дикарбоновую кислоту, 3-метил-4-бутил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту и 3-этил-4-бутил-2,6-декалиндикарбоновую кислоту. Из них с точки зрения воспроизводимости печати градации светлых участков предпочтительна 1,4-циклогександикарбоновая кислота.
Для получения полиамида по настоящему изобретению может частично использоваться алициклическая аминокарбоновая кислота. В качестве примеров алициклической аминокарбоновой кислоты можно назвать 4-аминоциклогексанкарбоновую кислоту, 3-аминоциклогексан-карбоновую кислоту, 4-(аминометил)циклогексанкарбоновую кислоту, 3-(аминометил)циклогексанкарбоновую кислоту и 2-аминометил-циклопропанкарбоновую кислоту.
Печатная форма, полученная из оригинальной формы для высокой печати по настоящему изобретению может улучшить воспроизводимость печати светлых участков благодаря использованию полиамида, имеющего содержание алициклических структурных звеньев не менее заданного. По-видимому, это объясняется тем, что степень свободы молекулярной цепи снижается в присутствии алициклических структурных звеньев, в результате чего модуль упругости полимера повышается. Предполагается, что в результате повышения модуля упругости полимера деформация светлых растровых точек подавляется даже при приложении давления печати, в результате чего воспроизводимость печати повышается.
Предпочтительно, чтобы динамический модуль упругости полиамида, используемого в настоящем изобретении, измеренный на устройстве измерения динамических вязкоупругих свойств, составлял от 500 до 4000 МПа. Более предпочтительно, он составляет от 1000 до 3500 МПа. В качестве способа получения динамического модуля упругости в вышеуказанном диапазоне можно назвать введение в молекулярную цепь циклической структуры, такой, как ароматическое кольцо или алифатическое кольцо.
Благодаря использованию полиамида с динамическим модулем упругости в указанном интервале можно также снизить липкость поверхности формы. Когда динамический модуль упругости меньше указанного диапазона, липкость поверхности формы высокая, тем самым адгезия бумажной пыли, образованной из печатной бумаги, к поверхности печатной формы повышается при печати, что в результате может привести к неоднородной адгезии печатной краски из-за прилипания бумажной пыли к сплошным участкам печати. С другой стороны, когда динамический модуль упругости больше вышеуказанного диапазона, степень свободы молекулярной цепи снижается, и стойкость печати ухудшается. Причина, почему липкость снижается, когда динамический модуль упругости полимерного соединения лежит в вышеуказанном диапазоне, вероятно, заключается в том, что когда динамический модуль упругости находится в вышеуказанном диапазоне, молекулярная цепь полимерного соединения находится в замороженном состоянии, тем самым подавляется броуновское движение.
Предпочтительно, чтобы полиамид, использующийся в настоящем изобретении, имел температуру стеклования (Tg), измеренную на дифференциальном сканирующем калориметре, от 80°C до 150°C. Боле предпочтительно, Tg составляет от 90°C до 140°C. Одним примером способа получения Tg в указанном выше диапазоне является введение в молекулярную цепь циклической структуры, такой, как ароматическое кольцо или алифатическое кольцо. Известно, что при температуре выше Tg становится возможным микроброуновское движение молекулярной цепи, в результате чего модуль упругости значительно снижается, а также то, что Tg полиамида снижается из-за абсорбции, влажности и т.д. Соответственно, Tg предпочтительно должна быть не ниже 80°C, чтобы сохранить высокий модуль упругости, даже когда форма нагревается или смачивается из-за теплоты трения и т.д. во время печати. С другой стороны, при Tg больше 150°C вязкость расплава после полимеризации полиамида становится слишком высокой, что невыгодно с точки зрения получения полиамида.
Необходимо, чтобы полиамид, использующийся в настоящем изобретении, растворялся в воде или мог диспергироваться в воде (проявляемый водой). Чтобы удовлетворить этому условию, можно выбрать диамин или дикарбоновую кислоту, содержащие полярную группу. Диамин можно выбрать из алифатических диаминов, ароматических диаминов, гетероциклических диаминов и алициклических диаминов. Из них с точки зрения возможности проявления водой предпочтителен диамин, содержащий пиперазиновое кольцо, и диамин, содержащий третичный атом азота, например, как метилиминобиспропиламин. С точки зрения модуля упругости полимера особенно предпочтительно использовать диамин, содержащий пиперазиновое кольцо. В качестве примеров диамина, содержащего пиперазиновое кольцо, можно назвать 1,4-бис(3-аминоэтил)пиперазин, 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазин и N-(2-аминоэтил)пиперазин.
Судить о том, растворяется ли полиамид в воде или диспергируется, можно, погрузив полиамид полностью в воду или подкисленную воду при 30°C, а затем потерев щеткой или подобным. Если полиамид однородно смешивается с водой или подкисленной водой после физического натирания щеткой или подобным, считается, что полиамид растворен в воде. Напротив, если часть или весь полиамид набух и диспергировался в воде, т.е. полиамид не смешался однородно, то полиамид считается диспергируемым в воде.
Что касается полиамида по настоящему изобретению, помимо алициклического диамина или алициклической дикарбоновой кислоты можно использовать и известные диамины или дикарбоновые кислоты в таком содержании, чтобы они не влияли на характеристические свойства полиамида. В качестве примеров алифатического диамина можно назвать этилендиамин, диэтилендиамин, 1,3-пропилендиамин, 1,4-тетраметилендиамин, 2-метилпентаметилендиамин, 1,6-гександиамин, 1,11-ундекаметилендиамин, 1,12-додекандиамин, 2,2,4- или 2,4,4-триметилгексаметилендиамин и простой полиэфирамин JEFFAMINE ED 900. В качестве примеров ароматического диамина можно назвать м- или п-ксилилендиамин и м- или п-фенилендиамин.
В качестве дикарбоновой кислоты в настоящем изобретении помимо алициклических дикарбоновых кислот можно использовать известные алифатические дикарбоновые кислоты. В качестве примеров алифатических дикарбоновых кислот можно назвать глутаровую кислоту, адипиновую кислоту, себациновую кислоту и декандикарбоновую кислоту. Можно также использовать аминокарбоновые кислоты, не являющиеся алициклическими.
Полиамид по настоящему изобретению предпочтительно содержит от 10 до 70 моль% структурных звеньев, полученных из лактама и/или аминокарбоновой кислоты. В результате можно с выгодой контролировать модуль упругости полученного полиамида.
Мольная доля алициклических структурных звеньев в полиамиде по настоящему изобретению определяется как отношение числа молей алициклических структурных звеньев к сумме числа молей структурных звеньев, полученных из аминокарбоновой кислоты, числа молей структурных звеньев, полученных из диамина, и числа молей структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты. Мольную долю алициклических структурных звеньев можно рассчитать из числа молей на стадии загрузки материалов или из результата H-ЯМР-измерений. Анализ посредством H-ЯМР является широко применяемым аналитическим методом, в котором мольная доля каждого структурного звена рассчитывается из интегральных значений.
Полимеризацию полиамида согласно настоящему изобретению можно осуществить известными способами.
Мольное отношение диамина к дикарбоновой кислоте (отношение аминогрупп к карбоксильным группам) при полимеризации полиамида по настоящему изобретению составляет 1,0 или больше, предпочтительно не менее 1,01. Когда это мольное отношение лежит в указанном выше диапазоне, полимер можно выделить, когда полимеризация достигнет равновесия, и можно предотвратить колебания молекулярного веса.
Для получения полиамида, используемого в настоящем изобретении, предпочтительно проводить сополимеризацию, используя диамин, содержащий основный третичный атом азота в молекуле, дикарбоновую кислоту или аминокарбоновую кислоту. В этом случае с точки зрения растворимости в воде предпочтительно провести реакцию в присутствии кватернизующего агента, чтобы получить растворимое полимерное соединение, содержащее атом азота аммониевого типа. В качестве кватернизующего агента можно использовать известные органические кислоты, алифатическую органическую кислоту и ароматическую органическую кислоту. Конкретными примерами органической кислоты являются метакриловая кислота, акриловая кислота, янтарная кислота, адипиновая кислота, себациновая кислота, гликолевая кислота и молочная кислота, в качестве примеров алифатической органической кислоты можно назвать бензойную кислоту, а в качестве ароматической органической кислоты изофталевую кислоту. С точки зрения водорастворимости предпочтительна алифатическая органическая кислота.
Количество полиамида, используемого в настоящем изобретении, предпочтительно составляет от 45 до 65 масс.% от общей массы светочувствительной смоляной композиции. Если это количество составляет менее 45 масс.%, нельзя достичь надлежащих физических свойств, а если оно больше 65 масс.%, светоотверждение может стать плохим, и воспроизводимость изображения может ухудшиться. Чтобы удовлетворить требования к физическим свойствам и воспроизводимости изображения, количество полиамида более предпочтительно должно составлять от 50 до 65 масс.%.
Фотополимеризуемое ненасыщенное соединение, использующееся в настоящем изобретении, содержит одну или более фотополимеризуемых ненасыщенных групп на молекулу, при этом можно использовать известные соединения. В качестве примеров соединения, содержащего одну фотополимеризуемую ненасыщенную группу на молекулу, можно назвать соединения с одной ненасыщенной связью, такие как 2-гидроксиэтил(мет)акрилат, 2-гидроксипропил(мет)акрилат, 3-хлор-2-гидроксипропил(мет)акрилат, циклогексил(мет)акрилат, бензил(мет)акрилат, N,N'-диметиламиноэтил(мет)акрилат, глицидил(мет)акрилат, (мет)акриламид, N-метилол(мет)акриламид, н-бутиловый эфир N-метилол(мет)акриламида, диацетакриламид, N-трет-бутил (мет)акриламид, продукт реакции присоединения с раскрытием цикла глицидил(мет)акрилата с одноатомным спиртом и 2-акриламидо-2-метилпропансульфоновой кислоты. В качестве соединения, содержащего две или более фотополимеризуемых ненасыщенных групп на молекулу, можно назвать соединения с двумя или более ненасыщенными связями, такие, как этиленгликоль ди(мет)акрилат, 1,3-пропандиол ди(мет)акрилат, 1,4-бутандиол ди(мет)акрилат, 1,6-гександиол ди(мет)акрилат, триметилолэтан ди(мет)акрилат, триметилолэтан три(мет)акрилат, триметилолпропан ди(мет)акрилат, триметилолпропан три(мет)акрилат, тетраметилолметан ди(мет)акрилат, тетраметилолметан три(мет)акрилат, тетраметилолметан тетра(мет)акрилат, три(мет)акрилоилоксиэтил фосфат, триэфир трис(2-гидроксиэтил)изоциануровой кислоты и (мет)акриловой кислоты и продукт реакции присоединения с раскрытием цикла простого полиглицидилового эфира многоатомного спирта и (мет)акриловой кислоты (такой, как продукт реакции диглицидилового эфира полиэтиленгликоля с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции диглицидилового эфира полипропиленгликоля с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции диглицидилового эфира 1,6-гексаметиленгликоля с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции диглицидилового эфира глицерина с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции триглицидилового эфира триметилолэтана с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции триглицидилового эфира триметилолпропана с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции диглицидилового эфира изофталевой кислоты с (мет)акриловой кислотой, продукт реакции диглицидилового эфира дикарбоновой кислоты изопренового олигомера с (мет)акриловой кислотой), продукт реакции присоединения с раскрытием цикла других соединений, содержащих активный атом водорода, с глицидил(мет)акрилатом (такой как продукт реакции полиэтиленгликоля с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции полипропиленгликоля с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции глицерина с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции 2-гидроксиэтил(мет)акрилата с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции триметилолэтана с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции триметилолпропана с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции (мет)акриловой кислоты с глицидил(мет)акрилатом, продукт реакции алифатической поликарбоновой кислоты с глицидил(мет)акрилатом и продукт реакции ароматической поликарбоновой кислоты с глицидил(мет)акрилатом)); соединения с двумя или более ненасыщенными группами, полученные реакцией соединения, содержащего первичную или вторичную аминогруппу, с глицидил(мет)акрилатом, N,N'-метиленбис(мет)акриламидом, N,N'-этилен-бис(мет)акриламидом, N,N'-пропиленбис(мет)акриламидом, N,N'-гексаметиленбис(мет)акриламидом, N,N'-м-фенилен-бис(мет)акриламидом, N,N'-м-ксилилен-бис(мет)акриламидом, простым ди(мет)акриламид-N-метиловым эфиром, 1,3-бис[(мет)акрилоил-аминометил]мочевиной и ее производными, 1,3-[бис(мет)акрилоиламинометил]-1,3-диметилмочевиной и ее производными, 1,3-[бис(мет)акрилоиламинометил]этиленмочевиной и ее производными, 1,3-[бис(мет)акрилоиламинометил]-триметиленмочевиной и ее производными, триакрилформалем, три(мет)акрилатом трис(2-гидроксиэтил)изоциануровой кислоты, 1,3-диглицидил-5-метил-5-этилгидантоином, и другие соединения, содержащие две или более ненасыщенные связи.
Хотя можно использовать единственное фотополимеризуемое ненасыщенное соединение, можно также использовать комбинацию двух или более таких соединений. Количество используемого фотополимеризующегося ненасыщенного соединения предпочтительно должно составлять от 25 до 50 масс.% от общей массы светочувствительной смоляной композиции. Если количество фотополимеризующегося ненасыщенного соединения составляет более 50 масс.%, нельзя достичь достаточной механической прочности, а когда оно составляет менее 25 масс.%, может ухудшиться светоотверждаемость, вследствие чего может ухудшиться воспроизводимость изображения.
В качестве инициатора фотополимеризации в настоящем изобретении можно применять известные фотоинициаторы, конкретные примеры включают бензофеноны, бензоины, ацетофеноны, бензилы, простые алкиловые эфиры бензоина, алкилбензилкетали, антрахиноны и тиоксантоны. Предпочтительными конкретными примерами являются бензофенон, бензоин, ацетофенон, бензоилметиловый эфир, бензоинэтиловый эфир, диметилбензилкеталь, антрахинон, 2-хлорантрахинон, тиоксантон и 2-хлортиоксантон. Количество используемого инициатора фотополимеризации предпочтительно составляет от 0,05 до 5 масс.% от общей массы светочувствительной смоляной композиции. Когда это количество составляет меньше 0,05 масс.%, ухудшается способность инициировать фотополимеризацию, а когда оно больше 5 масс.%, может снизиться способность к светоотверждению в направлении толщины светочувствительного смоляного слоя оригинальной печатной формы при получении рельефа для печати, в результате чего изображение может отсутствовать.
При необходимости можно также добавить известный ингибитор термополимеризации. Ингибитор термополимеризации добавляют, чтобы предотвратить неожиданную термополимеризацию вследствие нагрева при компаундировании, получении, изготовлении и т.д. светочувствительной смоляной композиции или чтобы предотвратить темновую реакцию при хранении композиции. В качестве примеров ингибитора термополимеризации можно назвать гидрохиноны (такие, как гидрохинон, моно-трет-бутилгидрохинон, 2,5-ди-трет-бутилгидрохинон и монометиловый эфир гидрохинона), бензохиноны (такие, как бензохинон и 2,5-дифенил-п-бензохинон), фенолы, катехолы (как катехол и п-трет-бутилкатехол), ароматические аминовые соединения, пикриновые кислоты, фенотиазин, α-нафтохиноны, антрахиноны, нитро-соединения и соединения серы. Количество используемого ингибитора термополимеризации предпочтительно составляет от 0,001 до 2 масс.%, особенно предпочтительно от 0,005 до 1 масс.% от общей массы светочувствительной смоляной композиции. Можно использовать одновременно два или более таких соединений.
Чтобы получить оригинальную форму для высокой печати, содержащую светочувствительный смоляной слой, светочувствительную смоляную композицию по настоящему изобретению отливают в виде желаемой слоистой структуры любым известным способом, таким как формование из расплава, термопрессование, литье, экструзия наплавляемого материала или отливка пленок из раствора.
Оригинальную форму для высокой печати можно использовать, укладывая продукт формования в виде листа (неэкспонированная смола) на подложку с или без известного адгезива. В качестве подложки можно использовать что угодно, например, сталь, алюминий, стекло или полимерную пленку (как полиэфирная пленка), толщиной слоя от 50 до 500 мкм. Когда продукт формования в виде листа (неэкспонированная смола) поставляется в виде слоистого продукта, в котором продукт формования уложен на подложку, предпочтительно нанести дополнительно защитную пленку в контакте с продуктом формования. В качестве защитной пленки можно использовать тонкий пластик, например, полиэфирную пленку толщиной 125 мкм. Далее, между светочувствительным смоляным слоем и защитной пленкой можно предусмотреть антиадгезионный слой. Антиадгезионный слой можно образовать, нанося нелипкий прозрачный полимер толщиной от 0,5 до 3 мкм, способный диспергироваться или растворяться в проявителе. Благодаря наличию антиадгезионного слоя на поверхности светочуствительного смоляного слоя защитный слой можно легко отделить на последующей операции экспонирования, даже при поверхность юудет очень липкой.
В оригинальной форме для высокой печати согласно настоящему изобретению между светочувствительным смоляным слоем и антиадгезионным слоем можно предусмотреть верхний слой толщиной от 1 до 30 мкм. Так как верхний слой не удаляется на стадии проявления, а остается на печатной форме, характеристические свойства поверхности печатной формы и ее стойкость можно регулировать посредством верхнего слоя. В качестве верхнего слоя можно использовать известные верхние слои.
С оригинальной формой для высокой печати согласно настоящему изобретению можно получить CTP-форму (Computer-to-Plate, система "компьютер - печатная форма"), в которой не используется негативная пленка, предусмотрев термочувствительный маскирующий слой на поверхности светочувствительного смоляного слоя. В качестве термочувствительного маскирующего слоя можно использовать известные термочувствительные маски.
Негативную пленку, имеющую прозрачный участок изображения, накладывают в плотном сцеплении на светочувствительный смоляной слой оригинальной формы для высокой печати, полученный из светочувствительной смоляной композиции по настоящему изобретению. Затем сверху испускается активный луч для экспозиции, чтобы только экспонированный участок светочувствительного смоляного слоя, облученный активным лучом, остался нерастворенным. В качестве источника активного луча обычно используются такие источники света, как ртутная лампа высокого давления, ртутная лампа ультравысокого давления, металлогалогенная лампа, ксеноновая лампа или химический источник света, который испускает в основном свет с длиной волны от 300 до 450 нм. С другой стороны, в случае CTP-формы термочувствительный маскирующий слой облучают ИК-лазером в соответствии с изображением, в результате чего на слое светочувствительной смолы образуется маска (имеющая ту же функцию, что и негативная пленка). Затем на термочувствительный маскирующий слой вводится графическая информация. После этого активный луч облучает всю площадь светочувствительной оригинальной печатной формы через маску, чтобы только экспонированный участок слоя светочувствительной смолы, облученный активным лучом, оставался нерастворенным.
Затем неэкспонированный участок удаляют путем растворения в подходящем растворителе или, в частности, в настоящем изобретении, в нейтральной воде. Неэкспонированный участок можно удалить с помощью проявочной системы, такой как струйное проявочное устройство или устройство для проявления магнитной кистью. После этого печатную форму с удаленным неэкспонированным участком подвергают растяжению, сушке и дополнительной экспозиции, получая в результате окончательную печатную форму.
Было найдено, что оригинальная форма для высокой печати, полученная из светочувствительной смоляной композиции по настоящему изобретению, обеспечивает высокое качество печати градации светлых участков и стойкость печати и, кроме того, демонстрирует очень низкую липкость поверхности формы. Таким образом, применяя оригинальную форму для высокой печати согласно настоящему изобретению, с одной печатной формы можно напечатать много высококачественных копий. Кроме того, благодаря уменьшению липкости поверхности формы можно уменьшить прилипание пыли и частичек бумаги перед и во время печати, в результате можно значительно реже промывать форму для удаления прилипших частиц.
Примеры
Далее настоящее изобретение будет более подробно проиллюстрировано на нижеследующих примерах, хотя настоящее изобретение не ограничено этими примерами. Термин "части" в примерах (тексте) означает весовые части. Состав полиамида в таблице 1 выражен в моль%. Мольный состав полиамида был определен путем H-ЯМР-измерений. Оценка характеристических свойств в примерах производилась в соответствии со следующими способами.
(1) Качество печати светлых участков (воспроизводимость печати градации светлых участков)
Сначала оригинальную форму для высокой печати, содержащую светочувствительный смоляной слой толщиной 685 мкм, экспонировали светом с высоты 5 см от поверхности светочувствительного смоляного слоя, используя негатив для оценки печати, применяя химический источник света с освещенностью, установленной на 25 Вт/м2, и принимая оптимальное время экспозиции равным минимальному времени, требующемуся для репродуцирования 200 строк, - 1%. Негатив для оценки печати содержит в качестве изображения сплошное изображение (1 см ширина х 5 см длина), в котором число растровых точек составляло 200 строк - 1-95%, минимальный диаметр отдельной точки составлял 50-600 мкм, и минимальная ширина отдельной строки составляла 10-150 мкм. После этого форму проявляли с использованием моечного устройства щеточного типа (нейлоновая щетка диаметром 120 мкм, тип JW-A2-PD, производство Nihon Denshi Seiki), используя водопроводную воду с температурой 25°C, в результате чего получали рельефное изображение. Затем его сушили горячим воздухом при 60°C в течение 10 минут. После этого экспонировали 30 секунд с помощью ртутной лампы ультравысокого давления, получая печатную форму. Воспроизведение изображения 200 строк - 1% оценивали невооруженным глазом, используя лупу с 10-кратным увеличением. Качество печати светлых участков оценивали на полученной печатной форме. В качестве печатной машины использовали ротационную печатную машину P-20 (производство Sanjo Kikai), в качестве печатной краски использовали Best Cure Indigo (производство T&K TOKA), в качестве материала для нанесения печати использовали Gross PW-8K (производство Lintec). Оценку печати проводили, постепенно повышая давление печати (давление между формой и материалом для печати), и давление, при котором исчезало расплывание сплошного оттиска, принимали за собственное давление. Далее, количество печатной краски подбирали так, чтобы концентрация краски сплошного оттиска составляла 1,7 абс. Концентрацию растровых точек 200 строк - 1-5% при собственном давлении измеряли, используя прибор CCDot 4 (производство SDG). Результаты, выраженные в процентах, приведены в таблице 1. Качество печати светлых участков оценивалось как отличное, когда концентрация растровых точек на печатном материале была близка к концентрации растровых точек негативной пленки, и когда концентрация растровых точек на печатном материале равномерно уменьшалась при уменьшении размера растровой точки негативной пленки с 5% до 1%.
(2) Липкость поверхности формы
Печатную форму готовили тем же способом, что и способ получения рельефа для оценки качества печати светлых участков, описанный в пункте (1). Липкость поверхности печатной формы оценивали на готовой печатной форме. Мелованную бумагу (Gross PW-8K, производство Lintec), которая была объектом печати, прижимали к форме и проверяли степень проскальзывания мелованной бумаги. Липкость оценивали по следующим критериям, основанным на степени проскальзывания мелованной бумаги.
o: мелованная бумага скользит без сопротивления,
Δ: мелованная бумага прилипает к форме, но скользит, если к ней приложить усилие,
×: мелованная бумага и форма слипаются друг с другом, и скольжения больше не происходит.
(3) Стойкость печати (растрескивание на сплошном оттиске)
Печатную форму готовили тем же способом, что и способ получения рельефа для оценки качества печати светлых участков, описанный в пункте (1). Печать 10000 оттисков проводили в условиях, когда давление было на 50 мкм собственного давления печати. После печати 10000 оттисков печатные материалы и форму обследовали в микроскоп с 200-кратным увеличением. Стойкость печати оценивали в соответствии со следующими критериями:
oo: не обнаружено дефектов в печатных материалах и также не обнаружено трещин в форме,
o: хотя дефектов в печатных материалах не обнаружено, в форме наблюдаются небольшие трещины,
Δ: хотя невооруженным глазом не видно дефектов в печатных матриалах, в микроскоп с 200-кратным увеличением отмечено ухудшение качества,
×: снижение качества печатных материалов видно невооруженным глазом.
(4) Стойкость печати (отсутствие 1% растровых точек)
1% растровых точек в форме, полученной для оценки (3), рассматривали в микроскоп при 200-кратном увеличении. Стойкость печати оценивали в соответствии со следующими критериями:
o: отсутствие изменений в 1% растровых точек до и после печати,
Δ: менее 20% от 1% растровых точек отсутствует после печати,
×: не менее 20% от 1% растровых точек отсутствует после печати.
(5) Модуль упругости
Модуль упругости измеряли в режиме вытягивания, используя устройство измерения динамической вязкоупругости DVA 220 производства IT Keisoku-Seigyo. Условия измерения: скорость повышения температуры 4 °C/мин, частота 10 Гц, образец размерами 15 мм х 4 мм, воздушная среда. Модуль упругости при 30°C был определен как динамический модуль упругости.
(6) Температура стеклования (Tg)
Температуру стеклования (Tg) измеряли на дифференциальном сканирующем калориметре DSC 100 производства TA Instruments. Полиамидную смолу (10,0 мг) помещали в алюминиевую кастрюлю и нагревали до 300°C со скоростью повышения температуры 20 °C/мин. Выдерживали 3 минуты после достижения температуры 300°C и сразу после этого быстро охлаждали в жидком азоте. Затем температуру повышали до 300°C со скоростью повышения температуры 20 °C/мин, чтобы определить температуру стеклования (Tg). Tg определена как температура в точке пересечения базисной линии с касательной в точке перегиба.
Пример 1
В автоклав помещали ε-капролактам (339 частей), 596 частей циклогександикарбоновой кислоты, 514 частей метилиминобиспропиламина, 5 частей 50%-ного водного раствора гипофосфорной кислоты и 1000 частей воды. После замещения воздуха азотом автоклав герметично закрывали и постепенно нагревали. Начиная со стадии, при которой давление внутри достигло 0,4 МПа, воду отгоняли до тех пор, пока такое давление больше не сохранялось и в пределах примерно двух часов давление возвращалось к нормальному давлению. После этого реакцию проводили еще 1 час при нормальном давлении. Наивысшая температура полимеризация реакции полимеризации составляла 255°C. В результате получали полиамид, имеющий температуру стеклования 90°C, модуль упругости 1000 МПа и относительную вязкость 2,10. Состав полиамида определяли методом H-ЯМР. Было подтверждено отсутствие разницы между составом загрузки и составом полимера.
Полученный полиамид (55,0 частей) добавляли без дополнительной обработки в смесь 62 частей метанола и 10 частей воды и растворяли путем нагревания до 65°C, затем добавляли 9,0 частей диэтиленгликоля, 5,0 частей молочной кислоты в качестве кватернизующего агента и 0,1 часть монометилового эфира гидрохинона и растворяли 30 минут путем перемешивания, полиамид превращали в аммониевую соль, чтобы сделать его водорастворимым. После этого добавляли 2,5 части глицидилметакрилата (GMA), 1,0 часть диметилбензилкеталя (инициатор фотополимеризации), 13 частей глицериндиметакрилата (Light Ester G101P, производство Kyoeisha Kagaku) и 14,5 частей 2-гидрокси-3-акрилоилоксипропил метакрилата (Light Ester G201P, производство Kyoeisha Kagaku) и перемешивали 30 минут для растворения. После этого температуру постепенно повышали, чтобы отогнать метанол и воду, а затем концентрировали до достижения температуры в автоклаве 110°C. На этом этапе была получена вязкая светочувствительная смоляная композиция, обладающая текучестью.
Затем готовили подложку, содержащую адгезионный слой. Подложку, содержащую адгезионный слой, получали, нанося на полиэфирную пленку толщиной 250 мкм адгезионную композицию, содержащую УФ-абсорбер, на толщину 20 мкм. Описанную выше светочувствительную смоляную композицию выливали на поверхность адгезионного слоя подложки. Сырую многослойную пластину в форме листа суммарной толщиной 1080 мкм, формовали, используя ламинатор, таким образом, чтобы сторона полиэфирной пленки толщиной 125 мкм, покрытой слоем поливинилового спирта (AH-24, производство Nippon Synthetic Chemical) толщиной 2 мкм, контактировала со светочувствительной смоляной композицией.
После хранения сырой формы в течение семи дней или дольше оценивали качество печати светлых участков, липкость поверхности формы и стойкость печати. Результаты оценки приведены в таблице 1 вместе с информацией о полиамиде из примера 1.
Примеры 2-18 и сравнительные примеры 1-4
Водорастворимые полиамиды синтезировали как в примере 1. Модуль упругости и температуру стеклования (Tg) полиамидов измеряли как в примере 1. Светочувствительные смоляные композиции готовили, используя полученные полиамиды, таким же образом, как в примере 1, после чего изготавливали печатные формы. Полученные печатные формы оценивали так же, как в примере 1. Результаты оценки приведены в таблице 1 вместе с деталями относительно полиамида из примеров 2-18 и сравнительных примеров 1-4.
Пример 19
Подложку, содержащую адгезионный слой, готовили, нанося на полиэфирную пленку толщиной 250 мкм слой адгезионной композиции, содержащей УФ-абсорбер, толщиной 20 мкм. Светочувствительную смоляную композицию из примера 2 выливали на поверхность адгезионного слоя подложки. Сырую слоистую пластину в форме листа полной толщиной 1080 мкм формовали, используя ламинатор, таким образом, чтобы полиэфирная пленка толщиной 125 мкм контактировала со светочувствительной смоляной композицией. Полученную печатную форму экспонировали химическим источником света с освещенностью 25 В/м2 с расстояния 5 см над поверхностью светочувствительного смоляного слоя. После этого осуществляли лазерное гравирование (прямое гравирование), используя систему "FlexPose!direct", причем аппарат для лазерного гравирования был оборудован 300-ваттным углекислотным лазером производства Luescher Flexo. Адгезия отходов гравирования и адгезивов была небольшой. Воспроизводились резкие и мелкие рельефные точки. Качество печати светлых участков, липкость поверхности формы и стойкость печати оценивали как в примере 2. Во всех случаях были достигнуты отличные результаты.
Таблица 1
| Пример 1 | Пример 2 | Пример 3 | Пример 4 | Пример 5 | Пример 6 | ||||
| Состав полиамида (моль%) | диамин | BAPP | 35,4 | 20,0 | 20,0 | 20,0 | 20,0 | ||
| AEP | |||||||||
| IPDA | 15,4 | 10,4 | |||||||
| 1,3BAC | 15,4 | 5,0 | |||||||
| MPDA | 15,4 | ||||||||
| метилимино биспропиламин | 35,4 | ||||||||
| HMDA | |||||||||
| дикарбоновая кислота | адипиновая кислота | ||||||||
| CHDA | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | |||
| 2,3-нонборнандикарбоновая кислота | |||||||||
| ε-капролактам | 30,0 | 30,0 | 30,0 | 30,0 | 30,0 | 30,0 | |||
| ω-лауролактам | |||||||||
| Содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 34,6 | |||
| Суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 34,6 | 70 | 54,6 | 70 | 70 | 70 | |||
| Tg полиамида (°C) | 90 | 100 | 90 | 110 | 130 | 120 | |||
| Модуль упругости полиамида (МПа) | 1000 | 1500 | 1000 | 2000 | 2500 | 2000 | |||
| Предмет оценка | Оценка качества печати светлых участков | 5% | 8 | 7 | 8 | 7 | 7 | 7 | |
| 3% | 6 | 5 | 6 | 5 | 5 | 5 | |||
| 2% | 5 | 4 | 5 | 4 | 4 | 4 | |||
| 1% | 5 | 4 | 5 | 3 | 3 | 3 | |||
| Липкость поверхности формы | o | o | o | oo | oo | oo | |||
| Стойкость печати | трещины на сплошном оттиске | o | o | o | o | o | o | ||
| недостаток в 1% растровых точек | o | o | o | o | o | o | |||
BAPP: 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазин
AEP: N-(2-аминоэтил)-пиперазин
IPDA: изофорондиамин
1,3BAC: 1,3-бис(аминометил)циклогексан
MPDA: 2-метилпентаметилендиамин
HMDA: гексаметилендиамин
CHDA: 1,4-циклогександикарбоновая кислота
| Пример 7 | Пример 8 | Пример 9 | Пример 10 | Пример 11 | Пример 12 | ||||
| Состав полиамида (моль%) | диамин | BAPP | 23,4 | 42,9 | 20,0 | ||||
| AEP | 20,0 | ||||||||
| IPDA | 15,4 | ||||||||
| 1,3BAC | 15,4 | 15,4 | |||||||
| MPDA | |||||||||
| метилимино биспропиламин | 20,0 | 42,9 | |||||||
| HMDA | |||||||||
| дикарбоновая кислота | адипиновая кислота | ||||||||
| CHDA | 22,6 | 42,1 | 34,6 | 34,6 | 42,1 | ||||
| 2,3-нонборнандикарбоновая кислота | 34,6 | ||||||||
| ε-капролактам | 54,0 | 15,0 | 30,0 | 30,0 | 15,0 | 30,0 | |||
| ω-лауролактам | |||||||||
| Содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, (моль%) | 22,6 | 42,1 | 34,6 | 34,6 | 42,1 | 34,6 | |||
| Суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 46 | 85 | 70 | 50 | 42,1 | 70 | |||
| Tg полиамида (°C) | 80 | 150 | 120 | 95 | 100 | 120 | |||
| Модуль упругости полиамида (МПа) | 1000 | 3500 | 2700 | 1400 | 1500 | 2300 | |||
| Предмет оценки | Оценка качества печати светлых участков | 5% | 8 | 7 | 7 | 7 | 6 | 7 | |
| 3% | 6 | 5 | 5 | 6 | 5 | 5 | |||
| 2% | 5 | 4 | 4 | 5 | 4 | 4 | |||
| 1% | 4 | 4 | 3 | 4 | 4 | 3 | |||
| Липкость поверхности формы | o | oo | oo | o | o | oo | |||
| Стойкость печати | трещины на сплошном оттиске | o | o | o | o | o | o | ||
| недостаток в 1% растровых точек | o | Δ | o | o | o | o | |||
BAPP: 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазин
AEP: N-(2-аминоэтил)-пиперазин
IPDA: изофорондиамин
1,3BAC: 1,3-бис(аминометил)циклогексан
MPDA: 2-метилпентаметилендиамин
HMDA: гексаметилендиамин
CHDA: 1,4-циклогександикарбоновая кислота
| Пример 13 | Пример 14 | Пример 15 | Пример 16 | Пример 17 | Пример 18 | ||||
| Состав полиамида (моль%) | диамин | BAPP | 20,0 | 20,0 | 20,0 | 23,4 | 42,9 | 35,4 | |
| AEP | |||||||||
| IPDA | 15,4 | 10,4 | |||||||
| 1,3BAC | 15,4 | 5,0 | |||||||
| MPDA | |||||||||
| метилимино биспропиламин | |||||||||
| HMDA | 15,0 | 15,0 | 15,0 | 27,0 | 7,5 | ||||
| дикарбоновая кислота | адипиновая кислота | 15,0 | 15,0 | 15,0 | 27,0 | 7,5 | |||
| CHDA | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 22,6 | 42,1 | 34,6 | |||
| 2,3-нонборнандикарбоновая кислота | |||||||||
| ε-капролактам | |||||||||
| ω-лауролактам | 30,0 | ||||||||
| Содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 34,6 | 34,6 | 34,6 | 22,6 | 42,1 | 34,6 | |||
| Суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 70 | 70 | 70 | 46 | 85 | 70,0 | |||
| Tg полиамида (°C) | 115 | 135 | 125 | 85 | 150 | 90 | |||
| Модуль упругости полиамида (МПа) | 2100 | 2500 | 2200 | 1000 | 3500 | 1200 | |||
| Предмет оценки | Оценка качества печати светлых участков | 5% | 7 | 7 | 7 | 8 | 7 | 8 | |
| 3% | 5 | 5 | 5 | 6 | 5 | 6 | |||
| 2% | 4 | 4 | 4 | 5 | 4 | 5 | |||
| 1% | 3 | 3 | 3 | 3 | 3 | 4 | |||
| Липкость поверхности формы | oo | oo | oo | o | oo | o | |||
| Стойкость печати | трещины на сплошном оттиске | o | o | o | o | o | o | ||
| недостаток в 1% растровых точек | o | o | o | o | Δ | o | |||
BAPP: 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазин
AEP: N-(2-аминоэтил)-пиперазин
IPDA: изофорондиамин
1,3BAC: 1,3-бис(аминометил)циклогексан
MPDA: 2-метилпентаметилендиамин
HMDA: гексаметилендиамин
CHDA: 1,4-циклогександикарбоновая кислота
| Сравнительный пример 1 | Сравнительный пример 2 | Сравнительный пример 3 | Сравнительный пример 4 | ||||
| Состав полиамида (моль%) | диамин | BAPP | 17,9 | 17,0 | 17,4 | 18,0 | |
| AEP | |||||||
| IPDA | |||||||
| 1,3BAC | 15,9 | 29,9 | |||||
| MPDA | |||||||
| метилимино биспропиламин | |||||||
| HMDA | |||||||
| дикарбоновая кислота | адипиновая кислота | 17,1 | 32,1 | ||||
| CHDA | 16,6 | 47,1 | |||||
| 2,3-нонборнандикарбоновая кислота | |||||||
| ε-капролактам | 65,0 | 35,0 | 66,0 | 5,0 | |||
| ω-лауролактам | |||||||
| Содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 0,0 | 0,0 | 16,6 | 47,1 | |||
| Суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты (моль%) | 17,9 | 32,,9 | 34,0 | 95 | |||
| Tg полиамида (°C) | 20 | 30 | 60 | 190 | |||
| Модуль упругости полиамида (МПа) | 100 | 200 | 300 | 4500 | |||
| Предмет оценки | Оценка качества печати светлых участков | 5% | 10 | 10 | 9 | 7 | |
| 3% | 9 | 9 | 8 | 5 | |||
| 2% | 8 | 8 | 7 | 4 | |||
| 1% | 8 | 7 | 7 | 4 | |||
| Липкость поверхности формы | × | × | Δ | oo | |||
| Стойкость печати | трещины на сплошном оттиске | o | o | o | o | ||
| недостаток в 1% растровых точек | o | o | o | × | |||
BAPP: 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазин
AEP: N-(2-аминоэтил)-пиперазин
IPDA: изофорондиамин
1,3BAC: 1,3-бис(аминометил)циклогексан
MPDA: 2-метилпентаметилендиамин
HMDA: гексаметилендиамин
CHDA: 1,4-циклогександикарбоновая кислота
Как следует из таблицы 1, примеры 1-18 показывают, что градация 1-5% светлых растровых точек, липкость и стойкость печати были отличными, когда использовался полиамид, в котором суммарное содержание алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляло от 30 до 90 моль%, причем содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, было 20 моль% или более. Напротив, когда использовался полиамид, не содержащий алициклических структурных звеньев, производных от дикарбоновой кислоты, как в сравнительных примерах 1 и 2, качество печати светлых растровых точек и липкость поверхности формы были хуже. Даже когда использовался полиамид, содержащий алициклические структурные звенья, производные от дикарбоновой кислоты, как в сравнительном примере 3, градация светлых растровых точек и липкость поверхности формы были плохими, если содержание этих звеньев составляло менее 20 моль%. Когда суммарное содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, производных от диамина, и алициклических структурных звеньев, производных от дикарбоновой кислоты, составляет 90 моль% или больше, как в сравнительном примере 4, то хотя градация светлых растровых точек была отличной, стойкость печати (отсутствие 1% растровых точек) была значительно хуже.
Промышленная применимость
Благодаря предлагаемой настоящим изобретением светочувствительной смоляной композиции можно получить оригинальную форму для высокой печати, демонстрирующую отличную воспроизводимость печати градации светлых участков, от 1% до 5%, высокую стойкость печати и низкую липкость поверхности формы.
Claims (7)
1. Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати, содержащая в качестве основных компонентов растворимый в воде или диспергируемый в воде полиамид, фотополимеризуемое ненасыщенное соединение и инициатор фотополимеризации, отличающаяся тем, что общее содержание в полиамиде алициклических структурных звеньев, полученных из диамина, и алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет от 30 до 90 мол.%, при этом среди алициклических структурных звеньев полиамида содержание алициклических структурных звеньев, полученных из дикарбоновой кислоты, составляет 20 мол.% или более.
2. Композиция по п. 1, в которой динамический модуль упругости полиамида, измеренный на устройстве измерения динамических вязкоупругих свойств, составляет от 500 до 4000 МПа.
3. Композиция по п. 1 или 2, в которой алициклический диамин, из которого получены алициклические структурные звенья, является по меньшей мере одним алициклическим диамином, выбранным из группы, состоящей из изофорондиамина, 1,4-циклогександиамина, 1,3-циклогександиамина, 1,3-бис(аминометил)циклогексана, 1,4-бис(аминометил)циклогексана, норборнилдиамина, 1,4-бис(3-аминопропил)пиперазина и N-(2-аминоэтил)пиперазина.
4. Композиция по любому из пп. 1-3, в которой алициклическая дикарбоновая кислота, является по меньшей мере одной алициклической дикарбоновой кислотой, выбранной из группы, состоящей из изофорондикарбоновой кислоты, 1,4-циклогександикарбоновой кислоты, 2,3-нонборнандикарбоновой кислоты и 1,3-циклогександикарбоновой кислоты.
5. Композиция по любому из пп. 1-4, в которой полиамид содержит третичный атом азота.
6. Композиция по любому из пп. 1-5, в которой полиамид содержит от 10 до 70 мол.% структурных звеньев, полученных из лактама и/или аминокарбоновой кислоты.
7. Оригинальная форма для высокой печати, содержащая светочувствительный смоляной слой, содержащий светочувствительную смоляную композицию для оригинальной формы для высокой печати по любому из пп. 1-6.
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015-189208 | 2015-09-28 | ||
| JP2015189208 | 2015-09-28 | ||
| JP2015247131 | 2015-12-18 | ||
| JP2015-247131 | 2015-12-18 | ||
| PCT/JP2016/072627 WO2017056692A1 (ja) | 2015-09-28 | 2016-08-02 | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| RU2680867C1 true RU2680867C1 (ru) | 2019-02-28 |
Family
ID=58423453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| RU2018115996A RU2680867C1 (ru) | 2015-09-28 | 2016-08-02 | Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати и полученная из нее оригинальная форма для высокой печати |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10807400B2 (ru) |
| EP (1) | EP3358411B1 (ru) |
| JP (1) | JP6226255B2 (ru) |
| CN (1) | CN108139669B (ru) |
| ES (1) | ES2798799T3 (ru) |
| PL (1) | PL3358411T3 (ru) |
| RU (1) | RU2680867C1 (ru) |
| WO (1) | WO2017056692A1 (ru) |
Families Citing this family (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6903919B2 (ja) * | 2017-01-16 | 2021-07-14 | 東洋紡株式会社 | 水現像性凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる水現像性凸版印刷用感光性樹脂原版 |
| EP3667418B1 (en) * | 2017-08-07 | 2024-02-21 | TOYOBO MC Corporation | Photosensitive resin composition for relief printing original plate and relief printing original plate using the same |
| JP6372599B1 (ja) * | 2017-08-07 | 2018-08-15 | 東洋紡株式会社 | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版 |
| JP6972953B2 (ja) * | 2017-11-17 | 2021-11-24 | 東洋紡株式会社 | 感光性ｃｔｐ凸版印刷原版 |
| EP3795611A1 (en) * | 2019-09-23 | 2021-03-24 | Solvay Specialty Polymers USA, LLC. | Polyamides and corresponding polymer compositions and articles |
| CN113825784B (zh) * | 2019-05-14 | 2024-03-01 | 索尔维特殊聚合物美国有限责任公司 | 聚酰胺和对应的聚合物组合物及制品 |
| CN114245808B (zh) * | 2019-08-22 | 2024-01-05 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 基于聚醚的水性聚氨酯分散体和其制备方法 |
| EP4119343A4 (en) * | 2020-03-11 | 2023-08-16 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | LAMINATE AND METHOD OF MAKING PRINTING PLATE |
| EP4172238A1 (en) | 2020-06-29 | 2023-05-03 | Solvay Specialty Polymers USA, LLC. | High melt temperature soluble semi-crystalline polyamides |
| EP4411479A1 (en) | 2021-09-30 | 2024-08-07 | TOYOBO MC Corporation | Printing original plate for photosensitive resin letterpress, and printing plate |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4464456A (en) * | 1982-01-06 | 1984-08-07 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive polymer compositions comprising polyether-ester amides |
| US5886136A (en) * | 1995-09-12 | 1999-03-23 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Pattern forming process |
| US6605353B2 (en) * | 1999-12-28 | 2003-08-12 | Kaneka Corporation | Epoxy-modified polyimide, photosensitive composition, coverlay film, solder resist, and printed wiring board using the epoxy-modified polyimide |
| WO2005061586A1 (ja) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 不飽和基含有ポリアミド酸樹脂及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5174704A (ja) * | 1974-12-24 | 1976-06-28 | Toray Industries | Kankoseihoriamidojushisoseibutsu |
| JP2682211B2 (ja) | 1990-08-09 | 1997-11-26 | 東洋紡績株式会社 | 感光性樹脂組成物 |
| JPH0511447A (ja) | 1991-07-03 | 1993-01-22 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JPH04303841A (ja) * | 1991-03-30 | 1992-10-27 | Toppan Printing Co Ltd | 光崩壊性マイクロカプセルおよびそれを用いた感光性樹脂組成物 |
| JP2739387B2 (ja) * | 1991-04-25 | 1998-04-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 水無し平版印刷版及びその製版方法 |
| JP3362797B2 (ja) | 1993-04-30 | 2003-01-07 | 東洋紡績株式会社 | 印刷原版用感光性樹脂積層体 |
| DE19536808A1 (de) | 1995-10-02 | 1997-04-03 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Hochdruckplatten |
| JP2001272776A (ja) | 2000-03-27 | 2001-10-05 | Toyobo Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
| JP2002023349A (ja) | 2000-07-11 | 2002-01-23 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂凸版材 |
| JP2004309783A (ja) * | 2003-04-07 | 2004-11-04 | Toyobo Co Ltd | 感光性印刷用原版 |
| WO2009122853A1 (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-08 | Jsr株式会社 | ポジ型感放射線性樹脂組成物、マイクロレンズおよびマイクロレンズの形成方法 |
| JP2009271277A (ja) * | 2008-05-07 | 2009-11-19 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物およびそれを用いた印刷版材 |
| US20100075117A1 (en) * | 2008-09-24 | 2010-03-25 | Fujifilm Corporation | Relief printing plate precursor for laser engraving, method of producing the same, relief printing plate obtainable therefrom, and method of producing relief printing plate |
| JP5332566B2 (ja) * | 2008-12-05 | 2013-11-06 | 東洋紡株式会社 | 水現像性凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる水現像性凸版印刷用感光性樹脂原版 |
| CN102439520B (zh) * | 2010-04-28 | 2014-08-27 | 旭化成电子材料株式会社 | 感光性树脂组合物 |
| JP2012068423A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂印刷版原版およびその製造方法 |
| JP5903854B2 (ja) * | 2011-11-30 | 2016-04-13 | 東洋紡株式会社 | 感光性樹脂凸版印刷原版 |
| JP6295642B2 (ja) | 2012-12-25 | 2018-03-20 | 東レ株式会社 | 感光性樹脂組成物および感光性樹脂印刷版原版 |
-
2016
- 2016-08-02 US US15/754,398 patent/US10807400B2/en active Active
- 2016-08-02 JP JP2016551332A patent/JP6226255B2/ja active Active
- 2016-08-02 CN CN201680056364.9A patent/CN108139669B/zh active Active
- 2016-08-02 WO PCT/JP2016/072627 patent/WO2017056692A1/ja active Application Filing
- 2016-08-02 PL PL16850869T patent/PL3358411T3/pl unknown
- 2016-08-02 RU RU2018115996A patent/RU2680867C1/ru active
- 2016-08-02 EP EP16850869.5A patent/EP3358411B1/en active Active
- 2016-08-02 ES ES16850869T patent/ES2798799T3/es active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4464456A (en) * | 1982-01-06 | 1984-08-07 | Toray Industries, Inc. | Photosensitive polymer compositions comprising polyether-ester amides |
| US5886136A (en) * | 1995-09-12 | 1999-03-23 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Pattern forming process |
| US6605353B2 (en) * | 1999-12-28 | 2003-08-12 | Kaneka Corporation | Epoxy-modified polyimide, photosensitive composition, coverlay film, solder resist, and printed wiring board using the epoxy-modified polyimide |
| WO2005061586A1 (ja) * | 2003-12-22 | 2005-07-07 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | 不飽和基含有ポリアミド酸樹脂及びそれを用いた感光性樹脂組成物並びにその硬化物 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6226255B2 (ja) | 2017-11-08 |
| CN108139669B (zh) | 2021-02-26 |
| US10807400B2 (en) | 2020-10-20 |
| JPWO2017056692A1 (ja) | 2017-10-05 |
| CN108139669A (zh) | 2018-06-08 |
| PL3358411T3 (pl) | 2020-11-02 |
| EP3358411A1 (en) | 2018-08-08 |
| US20180236804A1 (en) | 2018-08-23 |
| EP3358411A4 (en) | 2019-06-12 |
| WO2017056692A1 (ja) | 2017-04-06 |
| ES2798799T3 (es) | 2020-12-14 |
| EP3358411B1 (en) | 2020-05-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2680867C1 (ru) | Светочувствительная смоляная композиция для оригинальной формы для высокой печати и полученная из нее оригинальная форма для высокой печати | |
| JP6614494B2 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版 | |
| EP2960066B1 (en) | Use of a resin printing plate precursor for laser engraving and method of manufacturing a printing plate | |
| JP2016191772A (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版 | |
| JP6395039B2 (ja) | 凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる感光性樹脂凸版用印刷原版 | |
| JP2020013066A (ja) | 感光性ｃｔｐフレキソ印刷原版 | |
| WO2017056763A1 (ja) | 感光性凸版印刷原版 | |
| US11067892B2 (en) | Photosensitive CTP flexographic printing original plate | |
| JP6903919B2 (ja) | 水現像性凸版印刷用感光性樹脂組成物及びそれから得られる水現像性凸版印刷用感光性樹脂原版 | |
| JP6970916B2 (ja) | 水現像可能な感光性樹脂印刷原版 | |
| JP2019095470A (ja) | 感光性ｃｔｐ凸版印刷原版 | |
| JP2018165772A (ja) | Ｃｔｐフレキソ印刷原版 | |
| WO2020017326A1 (ja) | 樹脂凹版印刷版、その製造方法および印刷方法 | |
| JP6842663B2 (ja) | レーザー彫刻用凸版印刷原版 | |
| CN110998444B (zh) | 凸版印刷原版用感光性树脂组合物以及用其得到的凸版印刷原版 | |
| JP6810905B2 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版 | |
| JP7125675B2 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版 | |
| JP6558107B2 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、及びそれから得られる凸版印刷原版 | |
| JP2020013005A (ja) | 凸版印刷原版 | |
| JP6372599B1 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物及びそれを用いた凸版印刷原版 | |
| WO2023054272A1 (ja) | 感光性樹脂凸版用印刷原版及び印刷版 | |
| WO2024070139A1 (ja) | 凸版印刷原版用感光性樹脂組成物、凸版印刷原版、及び印刷版 | |
| JPH04301643A (ja) | フレキソ印刷版用感光性樹脂組成物 |