RU2012111218A - Ионно-плазменные излучатели электронов для плавильной печи - Google Patents
Ионно-плазменные излучатели электронов для плавильной печи Download PDFInfo
- Publication number
- RU2012111218A RU2012111218A RU2012111218/02A RU2012111218A RU2012111218A RU 2012111218 A RU2012111218 A RU 2012111218A RU 2012111218/02 A RU2012111218/02 A RU 2012111218/02A RU 2012111218 A RU2012111218 A RU 2012111218A RU 2012111218 A RU2012111218 A RU 2012111218A
- Authority
- RU
- Russia
- Prior art keywords
- field
- cathode
- electron
- plasma
- electrically conductive
- Prior art date
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/10—Supplying or treating molten metal
- B22D11/11—Treating the molten metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B4/00—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys
- C22B4/005—Electrothermal treatment of ores or metallurgical products for obtaining metals or alloys using plasma jets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/04—Refining by applying a vacuum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/16—Remelting metals
- C22B9/22—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
- C22B9/226—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by electric discharge, e.g. plasma
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22B—PRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
- C22B9/00—General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
- C22B9/16—Remelting metals
- C22B9/22—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
- C22B9/228—Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by particle radiation, e.g. electron beams
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B3/00—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces
- F27B3/08—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces heated electrically, with or without any other source of heat
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B3/00—Hearth-type furnaces, e.g. of reverberatory type; Tank furnaces
- F27B3/10—Details, accessories, or equipment peculiar to hearth-type furnaces
- F27B3/20—Arrangements of heating devices
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27B—FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS IN GENERAL; OPEN SINTERING OR LIKE APPARATUS
- F27B5/00—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated
- F27B5/04—Muffle furnaces; Retort furnaces; Other furnaces in which the charge is held completely isolated adapted for treating the charge in vacuum or special atmosphere
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F27—FURNACES; KILNS; OVENS; RETORTS
- F27D—DETAILS OR ACCESSORIES OF FURNACES, KILNS, OVENS, OR RETORTS, IN SO FAR AS THEY ARE OF KINDS OCCURRING IN MORE THAN ONE KIND OF FURNACE
- F27D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
- F27D99/0001—Heating elements or systems
- F27D99/0006—Electric heating elements or system
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/06—Electron sources; Electron guns
- H01J37/077—Electron guns using discharge in gases or vapours as electron sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/15—Means for deflecting or directing discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/31—Processing objects on a macro-scale
- H01J2237/3128—Melting
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Geology (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Furnace Details (AREA)
- Discharge Heating (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
1. Устройство для плавления электропроводящего металлического материала, содержащее:вакуумную камеру;под, расположенный в вакуумной камере;по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления первого поля электронов, имеющего первую площадь поперечного сечения, в вакуумную камеру, причем первое поле электронов имеет достаточную энергию для нагревания электропроводящего металлического материала до его температуры плавления;по меньшей мере одно из кристаллизатора и распылительного устройства, размещенного для приема электропроводящего металлического материала из пода; ивспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления второго поля электронов, имеющего вторую площадь поперечного сечения, в вакуумную камеру, причем второе поле электронов имеет достаточную энергию для по меньшей мере одного из нагревания частей электропроводящего металлического материала до по меньшей мере его температуры плавления, плавления любого твердого конденсата внутри электропроводящего металлического материала и подачи тепла в зоны образующегося слитка, при этом первая площадь поперечного сечения первого поля электронов отличается от второй площади поперечного сечения второго поля электронов, и при этом второе поле электронов, испускаемое вспомогательным ионно-плазменным излучателем электронов, является ориентируемым.2. Устройство по п.1, дополнительно содержащее по меньшей мере один питатель, выполненный с возможностью введения электропрово�
Claims (58)
1. Устройство для плавления электропроводящего металлического материала, содержащее:
вакуумную камеру;
под, расположенный в вакуумной камере;
по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления первого поля электронов, имеющего первую площадь поперечного сечения, в вакуумную камеру, причем первое поле электронов имеет достаточную энергию для нагревания электропроводящего металлического материала до его температуры плавления;
по меньшей мере одно из кристаллизатора и распылительного устройства, размещенного для приема электропроводящего металлического материала из пода; и
вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления второго поля электронов, имеющего вторую площадь поперечного сечения, в вакуумную камеру, причем второе поле электронов имеет достаточную энергию для по меньшей мере одного из нагревания частей электропроводящего металлического материала до по меньшей мере его температуры плавления, плавления любого твердого конденсата внутри электропроводящего металлического материала и подачи тепла в зоны образующегося слитка, при этом первая площадь поперечного сечения первого поля электронов отличается от второй площади поперечного сечения второго поля электронов, и при этом второе поле электронов, испускаемое вспомогательным ионно-плазменным излучателем электронов, является ориентируемым.
2. Устройство по п.1, дополнительно содержащее по меньшей мере один питатель, выполненный с возможностью введения электропроводящего металлического материала в вакуумную камеру в положении над по меньшей мере одной зоной пода.
3. Устройство по п.2, при этом питатель и упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов расположены так, что первое поле электронов, испускаемое упомянутым по меньшей мере одним ионно-плазменным излучателем электронов, по меньшей мере частично падает на электропроводящий металлический материал, введенный в вакуумную камеру питателем.
4. Устройство по п.1, при этом под включает в себя зону удержания расплавленного материала, и при этом под и упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов расположены так, что первое поле электронов, испускаемое упомянутым по меньшей мере одним ионно-плазменным излучателем электронов, по меньшей мере частично падает на зону удержания расплавленного материала.
5. Устройство по п.1, при этом упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов содержит плазменную зону, включающую в себя электрод, выполненный с возможностью создания плазмы положительных ионов.
6. Устройство по п.5, при этом электрод содержит проволоку, размещенную вдоль части плазменной зоны.
7. Устройство по п.5, при этом упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов дополнительно содержит катодную зону, включающую в себя катод, электрически соединенный с высоковольтным источником питания, выполненным с возможностью придания катоду отрицательного заряда, причем катод размещен относительно электрода так, что генерируемые электродом положительные ионы ускоряются к катоду и бомбардируют его, высвобождая первое поле электронов из катода.
8. Устройство по п.7, при этом упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов дополнительно содержит проницаемое для электронов фольговое окно, причем фольговое окно размещено в стенке вакуумной камеры, тем самым позволяя первому полю электронов, высвобожденных из катода, входить в вакуумную камеру через фольговое окно.
9. Устройство по п.7, при этом высоковольтный источник питания запитывает катод до отрицательного напряжения более 20000 В.
10. Устройство по п.1, при этом упомянутый по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов открыт в вакуумную камеру так, что первое поле электронов может проходить непосредственно из упомянутого по меньшей мере одного ионно-плазменного излучателя электронов в вакуумную камеру, не проходя через проницаемое для электронов окно.
11. Устройство по п.1, при этом устройство представляет собой электронно-лучевую плавильную печь с холодным подом, а электропроводящий металлический материал представляет собой по меньшей мере один из материалов, выбранных из титана, титановых сплавов, вольфрама, ниобия, тантала, платины, палладия, циркония, иридия, никеля, сплавов на основе никеля, железа, сплавов на основе железа, кобальта и сплавов на основе кобальта.
12. Устройство по п.1, при этом первая площадь поперечного сечения первого поля электронов представляет собой обширное электронное поле.
13. Устройство по п.1, при этом первая площадь поперечного сечения первого поля электронов больше, чем вторая площадь поперечного сечения второго поля электронов.
14. Устройство по п.1, при этом вторая площадь поперечного сечения второго поля электронов содержит один из, по существу, круглого профиля поперечного сечения и, по существу, прямоугольного профиля поперечного сечения.
15. Устройство по п.1, дополнительно содержащее ориентирующее устройство для ориентирования второго поля электронов, испускаемых из вспомогательного ионно-плазменного излучателя электронов.
16. Устройство по п.1, при этом второе поле электронов выполнено растрируемым, чтобы позволить по меньшей мере одно из нагревания части электропроводящего металлического материала до его температуры плавления, плавления твердого конденсата внутри электропроводящего металлического материала и подачи тепла в зоны образующегося слитка.
17. Устройство по п.1, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов содержит плазменную зону, включающую в себя электрод, выполненный с возможностью создания плазмы положительных ионов.
18. Устройство по п.17, при этом электрод содержит проволоку, размещенную в плазменной зоне вблизи конца вакуумной камеры, противоположного питателю, выполненному с возможностью введения электропроводящего металлического материала в вакуумную камеру в положении над по меньшей мере одной зоной пода.
19. Устройство по п.17, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов дополнительно содержит катодную зону, включающую в себя катод, электрически соединенный с высоковольтным источником питания, выполненным с возможностью придания катоду отрицательного заряда, причем катод размещен относительно электрода так, что генерируемые электродом положительные ионы ускоряются и бомбардируют катод, высвобождая второе поле электронов из катода.
20. Устройство по п.19, при этом по меньшей мере один из электрода и катода является, по существу, круглым по форме для создания, по существу, круглого профиля поперечного сечения у второго поля электронов.
21. Устройство по п.19, при этом по меньшей мере один из электрода и катода является, по существу, прямоугольным по форме для создания, по существу, прямоугольного профиля поперечного сечения у второго поля электронов.
22. Устройство по п.19, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов дополнительно содержит проницаемое для электронов фольговое окно, причем фольговое окно размещено в стенке вакуумной камеры, тем самым позволяя второму полю электронов, высвобожденных из катода, входить в вакуумную камеру через фольговое окно.
23. Устройство по п.19, при этом катод содержит вкладыш, имеющий высокую температуру плавления и низкую работу выхода.
24. Устройство по п.19, при этом высоковольтный источник питания запитывает катод до отрицательного напряжения более 20000 В.
25. Устройство по п.1, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов открыт в вакуумную камеру так, что второе поле электронов может проходить непосредственно из вспомогательного ионно-плазменного излучателя электронов в вакуумную камеру, не проходя через проницаемое для электронов окно.
26. Устройство для плавления электропроводящего металлического материала, содержащее:
вакуумную камеру;
под, расположенный в вакуумной камере;
плавильное приспособление, выполненное с возможностью плавления электропроводящего металлического материала;
по меньшей мере одно из кристаллизатора и распылительного устройства, размещенного для приема расплавленного электропроводящего металлического материала из пода; и
вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления сфокусированного электронного поля, имеющего площадь поперечного сечения, в вакуумную камеру, причем сфокусированное электронное поле имеет достаточную энергию для по меньшей мере одного из плавления частей электропроводящего металлического материала, плавления твердого конденсата внутри электропроводящего металлического материала и нагревания зон затвердевающего слитка, при этом сфокусированное электронное поле является ориентируемым для направления сфокусированного электронного поля к по меньшей мере одному из частей электропроводящего металлического материала, твердого конденсата и затвердевающего слитка.
27. Устройство по п.26, при этом плавильное приспособление содержит по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов, расположенный в вакуумной камере или смежно с ней и размещенный для направления обширного электронного поля в вакуумную камеру, причем обширное электронное поле имеет достаточную энергию для нагревания электропроводящего металлического материала до его температуры плавления.
28. Устройство по п.26, при этом плавильное приспособление содержит по меньшей мере одну термоионную электронно-лучевую пушку, выполненную с возможностью испускания электронного луча, имеющего достаточную энергию для нагревания электропроводящего металлического материала до его температуры плавления.
29. Устройство для плавления электропроводящего металлического материала, содержащее:
вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов, выполненный с возможностью создания сфокусированного электронного поля с профилем поперечного сечения, имеющим первую форму; и
систему ориентирования, выполненную с возможностью направления сфокусированного электронного поля для падения сфокусированного электронного поля на по меньшей мере часть электропроводящего металлического материала для по меньшей мере одного из плавления любых затвердевших частей электропроводящего металлического материала, плавления любого твердого конденсата внутри электропроводящего металлического материала и подачи тепла в зоны образующегося слитка.
30. Устройство по п.29, дополнительно содержащее электрод, имеющий вторую форму, и катод, имеющий третью форму, при этом первая форма, по существу, подобна по меньшей мере одной из второй формы и третьей формы.
31. Устройство по п.29, при этом первая форма представляет собой одну из, по существу, круглой и, по существу, прямоугольной формы.
32. Устройство по п.31, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов содержит, по существу, круглый электрод и, по существу, круглый катод, выполненные с возможностью создания сфокусированного электронного поля, имеющего, по существу, круглый профиль поперечного сечения.
33. Устройство по п.31, при этом вспомогательный ионно-плазменный излучатель электронов содержит проволочный электрод, по существу, прямоугольной формы и катод, по существу, прямоугольной формы, выполненные с возможностью создания сфокусированного электронного поля, имеющего профиль поперечного сечения, по существу, прямоугольной формы.
34. Способ обработки материала, содержащий:
введение материала, содержащего по меньшей мере один из металла и металлического сплава, в камеру печи, поддерживаемую при низком давлении относительно атмосферного давления;
генерирование первого электронного поля, имеющего первую площадь поперечного сечения, с использованием по меньшей мере первого ионно-плазменного излучателя электронов;
подвергание материала внутри камеры печи воздействию первого электронного поля для нагревания материала до температуры выше температура плавления этого материала;
генерирование второго электронного поля, имеющего вторую площадь поперечного сечения, с использованием второго ионно-плазменного излучателя электронов; и
подвергание по меньшей мере одного из любого твердого конденсата внутри материала, любых затвердевших частей материала и зон затвердевающего слитка воздействию второго электронного поля с использованием системы ориентирования для плавления или нагревания по меньшей мере одного из твердого конденсата, затвердевших частей и зон затвердевающего слитка, при этом первая площадь поперечного сечения первого электронного поля отличается от второй площади поперечного сечения второго электронного поля.
35. Способ по п.34, при этом материал содержит по меньшей мере один из титана, титановых сплавов, вольфрама, ниобия, тантала, платины, палладия, циркония, иридия, никеля, сплавов на основе никеля, железа, сплавов на основе железа, кобальта и сплавов на основе кобальта.
36. Способ по п.34, дополнительно содержащий:
формирование отливки или порошка из материала последовательно или одновременно с подверганием материала воздействию по меньшей мере первого электронного поля.
37. Способ по п.34, дополнительно содержащий:
введение по меньшей мере одного электропроводящего материала, выбранного из группы, состоящей из титана, титановых сплавов, вольфрама, ниобия, тантала, платины, палладия, циркония, иридия, никеля, сплавов на основе никеля, железа, сплавов на основе железа, кобальта и сплавов на основе кобальта, в камеру печи;
необязательно, добавление к материалу по меньшей мере одной легирующей добавки и
формирование отливки или порошка из материала последовательно или одновременно с подверганием материала воздействию первого электронного поля.
38. Способ по п.34, дополнительно содержащий поддержание давления внутри первого ионно-плазменного излучателя электронов и второго ионно-плазменного излучателя электронов, которое является, по существу, таким же, как и давление внутри камеры печи.
39. Способ по п.34, дополнительно содержащий поддержание давления внутри камеры печи, которое ниже давления внутри первого ионно-плазменного излучателя электронов и второго ионно-плазменного излучателя электронов.
40. Способ по п.34, дополнительно содержащий поддержание давления внутри камеры печи, которое больше, чем 40 µ, для уменьшения или устранения нежелательного испарения летучих элементов из материала во время нагревания материала в камере печи.
41. Способ по п.34, дополнительно содержащий поддержание давления внутри камеры печи большим чем 300 µ, для уменьшения или устранения нежелательного испарения летучих элементов из материала во время нагревания материала в камере печи.
42. Способ по п.34, при этом первая площадь поперечного сечения первого электронного поля больше, чем вторая площадь поперечного сечения второго электронного поля.
43. Способ по п.34, дополнительно содержащий сканирование вторым электронным полем по одному из твердого конденсата, затвердевших частей и зон затвердевающего слитка для плавления или нагревания одного из твердого конденсата, затвердевших частей и зон затвердевающего слитка.
44. Способ по п.34, дополнительно содержащий направление второго электронного поля к одному из твердого конденсата, затвердевших частей и зон затвердевающего слитка с использованием системы магнитного ориентирования.
45. Способ по п.34, при этом второе электронное поле имеет один из, по существу, круглого профиля поперечного сечения и, по существу, прямоугольного профиля поперечного сечения.
46. Способ обработки материала, содержащий:
введение материала, содержащего по меньшей мере один из металла и металлического сплава, в камеру печи, поддерживаемую при низком давлении относительно атмосферного давления;
подвергание материала внутри камеры печи воздействию плавильного приспособления, выполненного с возможностью нагревания материала до температуры выше температуры плавления этого материала;
генерирование сфокусированного электронного поля с использованием вспомогательного ионно-плазменного излучателя электронов; и
подвергание по меньшей мере одного из любого твердого конденсата внутри материала, любых затвердевших частей материала и зон затвердевающего слитка воздействию сфокусированного электронного поля с использованием системы ориентирования для плавления или нагревания по меньшей мере одного из твердого конденсата, затвердевших частей и зон затвердевающего слитка.
47. Способ по п.46, при этом плавильное приспособление содержит по меньшей мере одну термоионную электронно-лучевую пушку, выполненную с возможностью испускания электронного луча.
48. Способ по п.46, при этом плавильное приспособление содержит по меньшей мере один ионно-плазменный излучатель электронов.
49. Способ обработки материала, содержащий:
генерирование сфокусированного электронного поля с профилем поперечного сечения, имеющим первую форму, с использованием вспомогательного ионно-плазменного излучателя электронов; и
ориентирование сфокусированного электронного поля для падения сфокусированного электронного поля на материал и плавления или нагревания по меньшей мере одного из любого твердого конденсата внутри материала, любых затвердевших частей материала и зон затвердевающего слитка.
50. Способ по п.49, дополнительно содержащий генерирование сфокусированного электронного поля с использованием электрода, имеющего вторую форму, и катода, имеющего третью форму, при этом первая форма, по существу, подобна по меньшей мере одной из второй формы и третьей формы.
51. Способ по п.49, дополнительно содержащий генерирование сфокусированного электронного поля, имеющего один из, по существу, круглого профиля поперечного сечения и, по существу, прямоугольного профиля поперечного сечения, с использованием вспомогательного ионно-плазменного излучателя электронов.
52. Способ по п.51, дополнительно содержащий генерирование сфокусированного электронного поля с использованием, по существу, круглого электрода и, по существу, круглого катода.
53. Способ по п.51, дополнительно содержащий генерирование сфокусированного электронного поля с использованием, по существу, прямоугольного электрода и, по существу, прямоугольного катода.
54. Способ генерирования электронного поля для плавления электропроводящего материала внутри плавильной печи, содержащий:
обеспечение анода, имеющего первую нелинейную форму;
подачу напряжения на анод;
получение содержащей положительные катионы плазмы на аноде;
обеспечение катода, имеющего вторую форму;
размещение катода относительно анода;
подачу напряжения на катод, причем напряжение приспособлено для придания катоду отрицательного заряда;
ускорение положительных катионов к катоду для генерирования свободных вторичных электронов; и
формирование электронного поля с использованием свободных вторичных электронов, причем электронное поле имеет профиль поперечного сечения с третьей формой, причем третья форма соответствует первой нелинейной форме анода.
55. Способ по п.54, при этом третья форма электронного поля соответствует второй форме катода.
56. Способ по п.55, при этом третья форма электронного поля, по существу, аналогична второй форме катода.
57. Способ по п.54, при этом анод содержит одно из проволоки, электропроводящей тонкой пластины, электропроводящего тонкого листа и электропроводящей тонкой фольги.
58. Способ по п.54, при этом третья форма электронного поля, по существу, аналогична первой нелинейной форме анода.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US12/546,785 | 2009-08-25 | ||
US12/546,785 US8748773B2 (en) | 2007-03-30 | 2009-08-25 | Ion plasma electron emitters for a melting furnace |
PCT/US2010/044944 WO2011025648A1 (en) | 2009-08-25 | 2010-08-10 | Ion plasma electron emitters for a melting furnace |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
RU2012111218A true RU2012111218A (ru) | 2013-10-10 |
RU2544328C2 RU2544328C2 (ru) | 2015-03-20 |
Family
ID=42990229
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
RU2012111218/02A RU2544328C2 (ru) | 2009-08-25 | 2010-08-10 | Ионно-плазменные излучатели электронов для плавильной печи |
Country Status (16)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US8748773B2 (ru) |
EP (1) | EP2470847A1 (ru) |
JP (1) | JP2013503259A (ru) |
KR (1) | KR20120047940A (ru) |
CN (2) | CN104409306A (ru) |
AU (1) | AU2010286883B2 (ru) |
BR (1) | BR112012003444A2 (ru) |
CA (1) | CA2769285A1 (ru) |
HK (2) | HK1172946A1 (ru) |
IL (1) | IL217888A0 (ru) |
MX (1) | MX2012001678A (ru) |
NZ (1) | NZ597859A (ru) |
RU (1) | RU2544328C2 (ru) |
SG (1) | SG178528A1 (ru) |
UA (1) | UA111144C2 (ru) |
WO (1) | WO2011025648A1 (ru) |
Families Citing this family (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8891583B2 (en) | 2000-11-15 | 2014-11-18 | Ati Properties, Inc. | Refining and casting apparatus and method |
US6496529B1 (en) * | 2000-11-15 | 2002-12-17 | Ati Properties, Inc. | Refining and casting apparatus and method |
US7578960B2 (en) * | 2005-09-22 | 2009-08-25 | Ati Properties, Inc. | Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys |
US7803211B2 (en) * | 2005-09-22 | 2010-09-28 | Ati Properties, Inc. | Method and apparatus for producing large diameter superalloy ingots |
US7803212B2 (en) * | 2005-09-22 | 2010-09-28 | Ati Properties, Inc. | Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys |
US8381047B2 (en) * | 2005-11-30 | 2013-02-19 | Microsoft Corporation | Predicting degradation of a communication channel below a threshold based on data transmission errors |
US8748773B2 (en) * | 2007-03-30 | 2014-06-10 | Ati Properties, Inc. | Ion plasma electron emitters for a melting furnace |
US8642916B2 (en) * | 2007-03-30 | 2014-02-04 | Ati Properties, Inc. | Melting furnace including wire-discharge ion plasma electron emitter |
US7798199B2 (en) | 2007-12-04 | 2010-09-21 | Ati Properties, Inc. | Casting apparatus and method |
US8747956B2 (en) | 2011-08-11 | 2014-06-10 | Ati Properties, Inc. | Processes, systems, and apparatus for forming products from atomized metals and alloys |
US9184038B2 (en) * | 2012-06-06 | 2015-11-10 | Purdue Research Foundation | Ion focusing |
CN103952569A (zh) * | 2014-04-23 | 2014-07-30 | 宝鸡市凯博真空科技有限公司 | 电子束冷床炉 |
JP5703414B1 (ja) * | 2014-09-10 | 2015-04-22 | 石福金属興業株式会社 | 白金族基合金の製造方法 |
RU2578192C2 (ru) * | 2014-10-06 | 2016-03-27 | Геннадий Леонидович Багич | Способ излучения энергии и устройство для его осуществления (плазменный излучатель) |
CN106399721A (zh) * | 2016-08-27 | 2017-02-15 | 宝鸡众有色金属材料有限公司 | 一种半导体靶材用高纯镍锭的制备工艺 |
US10662509B2 (en) * | 2016-09-09 | 2020-05-26 | Uchicago Argonne, Llc | Method for making metal-carbon composites and compositions |
US20230189424A1 (en) * | 2020-05-01 | 2023-06-15 | Essentium Ipco, Llc | Emitter and method for plasma fusing of materials |
CN113695593B (zh) * | 2020-05-07 | 2023-05-02 | 昆山晶微新材料研究院有限公司 | 一种用于生产高均匀性航空材料的液态3d打印供液方法及其供液系统 |
CN112048624B (zh) * | 2020-09-14 | 2021-08-03 | 大连理工大学 | 一种电子束循环超温处理提高镍基高温合金成分均匀性的方法 |
CN113042742A (zh) * | 2021-03-17 | 2021-06-29 | 南京工业大学 | 一种用于钛粉制备深度精炼装置 |
Family Cites Families (204)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3072982A (en) * | 1953-07-13 | 1963-01-15 | Westinghouse Electric Corp | Method of producing sound and homogeneous ingots |
US3005246A (en) * | 1958-12-24 | 1961-10-24 | Union Carbide Corp | Method of producing high-quality ingots of reactive metals |
US3105275A (en) * | 1960-05-27 | 1963-10-01 | Stauffer Chemical Co | Electron-beam furnace with double-coil magnetic beam guidance |
US3101515A (en) | 1960-06-03 | 1963-08-27 | Stauffer Chemical Co | Electron beam furnace with magnetically guided axial and transverse beams |
US3177535A (en) * | 1960-06-21 | 1965-04-13 | Stauffer Chemical Co | Electron beam furnace with low beam source |
US3157922A (en) * | 1960-06-25 | 1964-11-24 | Heraeus Gmbh W C | Method and apparatus for producing castings of metals having high melting points |
US3343828A (en) * | 1962-03-30 | 1967-09-26 | Air Reduction | High vacuum furnace |
US3288593A (en) * | 1963-11-08 | 1966-11-29 | United Metallurg Corp | Purification of metals |
DE1291760B (de) * | 1963-11-08 | 1969-04-03 | Suedwestfalen Ag Stahlwerke | Verfahren und Vorrichtung zum diskontinuierlichen und kontinuierlichen Vakuum-Schmelzen und -Giessen von Staehlen und stahlaehnlichen Legierungen (Superiegierungen) |
US3420977A (en) | 1965-06-18 | 1969-01-07 | Air Reduction | Electron beam apparatus |
US3389208A (en) * | 1967-05-04 | 1968-06-18 | Consarc Corp | Consumable electrode furnace for electroslag refining |
CA847777A (en) * | 1967-07-12 | 1970-07-28 | Grigorievich Voskoboinikov Viktor | Method of casting metals and alloys in a mold, and a device for effecting same |
GB1218365A (en) | 1968-04-23 | 1971-01-06 | Steel Co Of Wales Ltd | Improvements in and relating to the continuous casting of steel strip |
US3547622A (en) * | 1968-06-12 | 1970-12-15 | Pennwalt Corp | D.c. powered plasma arc method and apparatus for refining molten metal |
US3985177A (en) * | 1968-12-31 | 1976-10-12 | Buehler William J | Method for continuously casting wire or the like |
DE1912935A1 (de) | 1969-03-14 | 1970-09-24 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zum Reinigen von Metallen durch Unterschlackegiessen |
US3690635A (en) | 1969-05-16 | 1972-09-12 | Air Reduction | Condensate collection means |
US3737305A (en) | 1970-12-02 | 1973-06-05 | Aluminum Co Of America | Treating molten aluminum |
US3702630A (en) * | 1971-01-05 | 1972-11-14 | Centrifugation Soc Civ De | Apparatus for casting solid cylindrical metallic objects |
US3786853A (en) * | 1971-05-18 | 1974-01-22 | Heppenstall Co | Production of large steel ingots using an electrode remelting hot top practice |
SU345826A1 (ru) * | 1971-06-07 | 1977-11-25 | Ордена Ленина И Ордена Трудового Красного Знамени Институт Электросварки Им. Е.О.Патона | Способ электрошлакового переплава титана и его сплавов |
GB1355433A (en) * | 1971-07-28 | 1974-06-05 | Electricity Council | Production of titanium |
BE790453A (fr) | 1971-10-26 | 1973-02-15 | Brooks Reginald G | Fabrication d'articles en metal |
US3909921A (en) | 1971-10-26 | 1975-10-07 | Osprey Metals Ltd | Method and apparatus for making shaped articles from sprayed molten metal or metal alloy |
JPS4851835A (ru) * | 1971-11-02 | 1973-07-20 | ||
BE795856A (fr) * | 1972-02-24 | 1973-08-23 | Air Liquide | Perfectionnement au procede de raffinage electrique par laitier dit "procede e.s.r." |
AT312121B (de) | 1972-10-09 | 1973-12-27 | Boris Grigorievich Sokolov | Elektronenstrahlanlage zur Warmbehandlung von Objekten durch Elektronenbeschuß |
US3817503A (en) * | 1973-06-13 | 1974-06-18 | Carpenter Technology Corp | Apparatus for making metal powder |
US3896258A (en) | 1973-09-04 | 1975-07-22 | Charles W Hanks | Electron beam gun system |
US3972713A (en) | 1974-05-30 | 1976-08-03 | Carpenter Technology Corporation | Sulfidation resistant nickel-iron base alloy |
US3988084A (en) * | 1974-11-11 | 1976-10-26 | Carpenter Technology Corporation | Atomizing nozzle assembly for making metal powder and method of operating the same |
US4272463A (en) * | 1974-12-18 | 1981-06-09 | The International Nickel Co., Inc. | Process for producing metal powder |
JPS5178730A (en) | 1974-12-30 | 1976-07-08 | Nippon Steel Corp | Fueraitosoto kyureihentaisoyorinaru fukugososhikikohanno seizohoho |
US3970892A (en) | 1975-05-19 | 1976-07-20 | Hughes Aircraft Company | Ion plasma electron gun |
US4061944A (en) * | 1975-06-25 | 1977-12-06 | Avco Everett Research Laboratory, Inc. | Electron beam window structure for broad area electron beam generators |
US4066117A (en) | 1975-10-28 | 1978-01-03 | The International Nickel Company, Inc. | Spray casting of gas atomized molten metal to produce high density ingots |
DE2602941C3 (de) | 1976-01-23 | 1980-12-18 | Mannesmann Ag, 4000 Duesseldorf | Vorrichtung zum Kühlen gegossener, nicht rotierender Rundstränge |
US4025818A (en) | 1976-04-20 | 1977-05-24 | Hughes Aircraft Company | Wire ion plasma electron gun |
US4264641A (en) | 1977-03-17 | 1981-04-28 | Phrasor Technology Inc. | Electrohydrodynamic spraying to produce ultrafine particles |
US4305451A (en) | 1977-06-23 | 1981-12-15 | Ksendzyk Georgy V | Electroslag remelting and surfacing apparatus |
US4343433A (en) * | 1977-09-29 | 1982-08-10 | Ppg Industries, Inc. | Internal-atomizing spray head with secondary annulus suitable for use with induction charging electrode |
US4190404A (en) | 1977-12-14 | 1980-02-26 | United Technologies Corporation | Method and apparatus for removing inclusion contaminants from metals and alloys |
DE2831602A1 (de) * | 1978-07-19 | 1980-02-07 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Vorrichtung zur erfassung von strahlparametern eines periodisch ueber eine zielflaeche gefuehrten, fokussierten ladungstraegerstrahls und messverfahren unter verwendung der vorrichtung |
US4221587A (en) * | 1979-03-23 | 1980-09-09 | Allied Chemical Corporation | Method for making metallic glass powder |
US4261412A (en) | 1979-05-14 | 1981-04-14 | Special Metals Corporation | Fine grain casting method |
US4449568A (en) * | 1980-02-28 | 1984-05-22 | Allied Corporation | Continuous casting controller |
RO76187A2 (ro) | 1980-11-14 | 1983-08-03 | Institutul De Cercetare Stiintifica Inginerie Tehnologica Si Proiectare Sectoare Calde,Ro | Procedeu si instalatie pentru topirea si turnarea metalelor greu fuzibile |
US4471831A (en) * | 1980-12-29 | 1984-09-18 | Allied Corporation | Apparatus for rapid solidification casting of high temperature and reactive metallic alloys |
US4426141A (en) | 1981-04-23 | 1984-01-17 | Holcomb Harry F | Bright ring keratoscope |
US4441542A (en) | 1981-06-10 | 1984-04-10 | Olin Corporation | Process for cooling and solidifying continuous or semi-continuously cast material |
CA1202490A (en) | 1981-08-26 | 1986-04-01 | Charles B. Adasczik | Alloy remelting process |
EP0095298A1 (en) | 1982-05-24 | 1983-11-30 | Energy Conversion Devices, Inc. | Casting |
DE3319508A1 (de) * | 1983-05-03 | 1984-11-08 | BBC Aktiengesellschaft Brown, Boveri & Cie., Baden, Aargau | Vorrichtung und verfahren zur zerstaeubung von fluessigen metallen zwecks erzeugung eines feinkoernigen pulvers |
US4762975A (en) | 1984-02-06 | 1988-08-09 | Phrasor Scientific, Incorporated | Method and apparatus for making submicrom powders |
US4619597A (en) * | 1984-02-29 | 1986-10-28 | General Electric Company | Apparatus for melt atomization with a concave melt nozzle for gas deflection |
US4631013A (en) * | 1984-02-29 | 1986-12-23 | General Electric Company | Apparatus for atomization of unstable melt streams |
US4801412A (en) * | 1984-02-29 | 1989-01-31 | General Electric Company | Method for melt atomization with reduced flow gas |
US4755722A (en) | 1984-04-02 | 1988-07-05 | Rpc Industries | Ion plasma electron gun |
US4694222A (en) | 1984-04-02 | 1987-09-15 | Rpc Industries | Ion plasma electron gun |
US4596945A (en) | 1984-05-14 | 1986-06-24 | Hughes Aircraft Company | Modulator switch with low voltage control |
US4645978A (en) | 1984-06-18 | 1987-02-24 | Hughes Aircraft Company | Radial geometry electron beam controlled switch utilizing wire-ion-plasma electron source |
US4642522A (en) | 1984-06-18 | 1987-02-10 | Hughes Aircraft Company | Wire-ion-plasma electron gun employing auxiliary grid |
EP0188994B1 (de) * | 1984-12-21 | 1989-07-12 | MANNESMANN Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen eines metallischen Blockes |
ZA86528B (en) * | 1985-01-31 | 1986-09-24 | Himont Inc | Polypropylene with free-end long chain branching,process for making it,and use thereof |
US4619845A (en) * | 1985-02-22 | 1986-10-28 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Method for generating fine sprays of molten metal for spray coating and powder making |
US4544404A (en) * | 1985-03-12 | 1985-10-01 | Crucible Materials Corporation | Method for atomizing titanium |
GB8507647D0 (en) * | 1985-03-25 | 1985-05-01 | Osprey Metals Ltd | Manufacturing metal products |
SU1280901A1 (ru) * | 1985-04-16 | 1990-10-15 | Предприятие П/Я Г-4615 | Электронно-лучева печь |
JPS6247432A (ja) * | 1985-08-23 | 1987-03-02 | Mitsubishi Metal Corp | 金属スクラツプからインゴツトを製造する方法 |
JPS61279638A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-10 | Mitsubishi Metal Corp | 金属スクラツプからインゴツトを製造する方法 |
US4681627A (en) * | 1985-06-03 | 1987-07-21 | Mitsubishi Kinzoku Kabushiki Kaisha | Process for preparing an ingot from metal scrap |
US4689074A (en) | 1985-07-03 | 1987-08-25 | Iit Research Institute | Method and apparatus for forming ultrafine metal powders |
DE3527628A1 (de) * | 1985-08-01 | 1987-02-05 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | Verfahren und vorrichtung zum einschmelzen und umschmelzen von partikelfoermigen metallen zu straengen, insbesondere zu brammen |
GB8527852D0 (en) * | 1985-11-12 | 1985-12-18 | Osprey Metals Ltd | Atomization of metals |
EP0225732B1 (en) | 1985-11-12 | 1992-01-22 | Osprey Metals Limited | Production of spray deposits |
JPH0671645B2 (ja) * | 1986-04-18 | 1994-09-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 電子ビ−ム偏向コイルを装着した電子ビ−ム溶解炉用鋳型 |
US4801411A (en) | 1986-06-05 | 1989-01-31 | Southwest Research Institute | Method and apparatus for producing monosize ceramic particles |
GB8614566D0 (en) | 1986-06-16 | 1986-07-23 | Ici Plc | Spraying |
JPS63128134A (ja) | 1986-11-18 | 1988-05-31 | Osaka Titanium Seizo Kk | 電子ビ−ム溶解法 |
US4738713A (en) * | 1986-12-04 | 1988-04-19 | The Duriron Company, Inc. | Method for induction melting reactive metals and alloys |
US4749911A (en) | 1987-03-30 | 1988-06-07 | Rpc Industries | Ion plasma electron gun with dose rate control via amplitude modulation of the plasma discharge |
US4786844A (en) | 1987-03-30 | 1988-11-22 | Rpc Industries | Wire ion plasma gun |
EP0286306B1 (en) | 1987-04-03 | 1993-10-06 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for vapor deposition of diamond |
US4762553A (en) | 1987-04-24 | 1988-08-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method for making rapidly solidified powder |
US4842170A (en) | 1987-07-06 | 1989-06-27 | Westinghouse Electric Corp. | Liquid metal electromagnetic flow control device incorporating a pumping action |
US4842704A (en) | 1987-07-29 | 1989-06-27 | Collins George J | Magnetron deposition of ceramic oxide-superconductor thin films |
US4769064A (en) | 1988-01-21 | 1988-09-06 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method for synthesizing ultrafine powder materials |
DE58901620D1 (de) | 1988-04-08 | 1992-07-16 | Siemens Ag | Plasma-roentgenroehre, insbesondere zur roentgen-vorionisierung von gaslasern, verfahren zur erzeugung von roentgenstrahlung mit einer solchen roentgenroehre und verwendung letzterer. |
US4916361A (en) | 1988-04-14 | 1990-04-10 | Hughes Aircraft Company | Plasma wave tube |
CA1305609C (en) | 1988-06-14 | 1992-07-28 | Peter D. Waite | Treatment of molten light metals |
US4961776A (en) | 1988-07-11 | 1990-10-09 | Axel Johnson Metals, Inc. | Cold hearth refining |
US4932635A (en) | 1988-07-11 | 1990-06-12 | Axel Johnson Metals, Inc. | Cold hearth refining apparatus |
US4919335A (en) | 1988-07-19 | 1990-04-24 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method and apparatus for atomization and spraying of molten metals |
US4910435A (en) | 1988-07-20 | 1990-03-20 | American International Technologies, Inc. | Remote ion source plasma electron gun |
US4936375A (en) * | 1988-10-13 | 1990-06-26 | Axel Johnson Metals, Inc. | Continuous casting of ingots |
US4838340A (en) | 1988-10-13 | 1989-06-13 | Axel Johnson Metals, Inc. | Continuous casting of fine grain ingots |
US5102620A (en) * | 1989-04-03 | 1992-04-07 | Olin Corporation | Copper alloys with dispersed metal nitrides and method of manufacture |
US5104634A (en) | 1989-04-20 | 1992-04-14 | Hercules Incorporated | Process for forming diamond coating using a silent discharge plasma jet process |
WO1990013683A1 (en) | 1989-05-10 | 1990-11-15 | Institut Elektrosvarki Imeni E.O.Patona Akademii Nauk Ukrainskoi Ssr | Method of obtaining carbon-containing materials |
US5102449A (en) | 1989-05-11 | 1992-04-07 | Societe Nationale D'etude Et De Construction De Moteurs D'aviation "S.N.E.C.M.A." | Inclusion decanting process for nickel-based superalloys and other metallic materials |
US5074933A (en) | 1989-07-25 | 1991-12-24 | Olin Corporation | Copper-nickel-tin-silicon alloys having improved processability |
JPH0364456A (ja) * | 1989-08-03 | 1991-03-19 | Arubatsuku Seimaku Kk | プラズマ電子ビーム加熱装置 |
US5263044A (en) | 1989-09-05 | 1993-11-16 | Bremer Siegfried M K | Remelting method for recognition and recovery of noble metals and rare metals |
US5142549A (en) * | 1989-09-05 | 1992-08-25 | Bremer Siegfried M K | Remelting apparatus and method for recognition and recovery of noble metals and rare earths |
US5084091A (en) * | 1989-11-09 | 1992-01-28 | Crucible Materials Corporation | Method for producing titanium particles |
US5093602A (en) | 1989-11-17 | 1992-03-03 | Charged Injection Corporation | Methods and apparatus for dispersing a fluent material utilizing an electron beam |
US5004153A (en) * | 1990-03-02 | 1991-04-02 | General Electric Company | Melt system for spray-forming |
JP2780429B2 (ja) | 1990-03-30 | 1998-07-30 | 松下電器産業株式会社 | 希土類―鉄系磁石の製造方法 |
GB9008703D0 (en) * | 1990-04-18 | 1990-06-13 | Alcan Int Ltd | Spray deposition of metals |
DE4011392B4 (de) | 1990-04-09 | 2004-04-15 | Ald Vacuum Technologies Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Formung eines Gießstrahls |
US5272718A (en) | 1990-04-09 | 1993-12-21 | Leybold Aktiengesellschaft | Method and apparatus for forming a stream of molten material |
US5100463A (en) * | 1990-07-19 | 1992-03-31 | Axel Johnson Metals, Inc. | Method of operating an electron beam furnace |
US5222547A (en) | 1990-07-19 | 1993-06-29 | Axel Johnson Metals, Inc. | Intermediate pressure electron beam furnace |
CA2048836A1 (en) | 1990-10-22 | 1992-04-23 | Thomas F. Sawyer | Low flow rate nozzle and spray forming process |
DE4105154A1 (de) | 1990-11-17 | 1992-05-21 | Eckart Standard Bronzepulver | Verfahren zur herstellung von metallpartikeln aus einer metallschmelze durch verduesung |
AU1474692A (en) * | 1991-06-05 | 1992-12-10 | General Electric Company | Method and apparatus for casting an electron beam melted metallic material in ingot form |
US5291940A (en) | 1991-09-13 | 1994-03-08 | Axel Johnson Metals, Inc. | Static vacuum casting of ingots |
US5160532A (en) | 1991-10-21 | 1992-11-03 | General Electric Company | Direct processing of electroslag refined metal |
US5268018A (en) | 1991-11-05 | 1993-12-07 | General Electric Company | Controlled process for the production of a spray of atomized metal droplets |
US5176874A (en) | 1991-11-05 | 1993-01-05 | General Electric Company | Controlled process for the production of a spray of atomized metal droplets |
US5266098A (en) * | 1992-01-07 | 1993-11-30 | Massachusetts Institute Of Technology | Production of charged uniformly sized metal droplets |
US5240067A (en) | 1992-01-08 | 1993-08-31 | Reynolds Metals Company | Method and apparatus for continuous molten material cladding of extruded products |
RU2032280C1 (ru) | 1992-02-18 | 1995-03-27 | Инженерный центр "Плазмодинамика" | Способ управления плазменным потоком и плазменное устройство |
RU2089633C1 (ru) | 1992-02-24 | 1997-09-10 | Верхнесалдинское металлургическое производственное объединение им.В.И.Ленина | Устройство для плавления и литья металлов и сплавов |
US5226946A (en) | 1992-05-29 | 1993-07-13 | Howmet Corporation | Vacuum melting/casting method to reduce inclusions |
US5302881A (en) | 1992-06-08 | 1994-04-12 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | High energy cathode device with elongated operating cycle time |
US5310165A (en) | 1992-11-02 | 1994-05-10 | General Electric Company | Atomization of electroslag refined metal |
US5348566A (en) | 1992-11-02 | 1994-09-20 | General Electric Company | Method and apparatus for flow control in electroslag refining process |
US5332197A (en) | 1992-11-02 | 1994-07-26 | General Electric Company | Electroslag refining or titanium to achieve low nitrogen |
FR2700657B1 (fr) * | 1993-01-15 | 1995-02-17 | Gen Electric Cgr | Ensemble radiogène. |
US5699850A (en) | 1993-01-15 | 1997-12-23 | J. Mulcahy Enterprises Inc. | Method and apparatus for control of stirring in continuous casting of metals |
GB9302387D0 (en) | 1993-02-06 | 1993-03-24 | Osprey Metals Ltd | Production of powder |
US5377961A (en) | 1993-04-16 | 1995-01-03 | International Business Machines Corporation | Electrodynamic pump for dispensing molten solder |
US5346184A (en) * | 1993-05-18 | 1994-09-13 | The Regents Of The University Of Michigan | Method and apparatus for rapidly solidified ingot production |
US5381847A (en) | 1993-06-10 | 1995-01-17 | Olin Corporation | Vertical casting process |
US5749989A (en) | 1993-10-06 | 1998-05-12 | The Procter & Gamble Company | Continuous, high-speed method for producing a pant-style garment having a pair of elasticized leg openings |
US5472177A (en) | 1993-12-17 | 1995-12-05 | General Electric Company | Molten metal spray forming apparatus |
US5366206A (en) | 1993-12-17 | 1994-11-22 | General Electric Company | Molten metal spray forming atomizer |
US5527381A (en) | 1994-02-04 | 1996-06-18 | Alcan International Limited | Gas treatment of molten metals |
US5503655A (en) | 1994-02-23 | 1996-04-02 | Orbit Technologies, Inc. | Low cost titanium production |
US5480097A (en) | 1994-03-25 | 1996-01-02 | General Electric Company | Gas atomizer with reduced backflow |
US5520715A (en) | 1994-07-11 | 1996-05-28 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Directional electrostatic accretion process employing acoustic droplet formation |
US5609922A (en) * | 1994-12-05 | 1997-03-11 | Mcdonald; Robert R. | Method of manufacturing molds, dies or forming tools having a cavity formed by thermal spraying |
US5894980A (en) | 1995-09-25 | 1999-04-20 | Rapid Analysis Development Comapny | Jet soldering system and method |
US5683653A (en) | 1995-10-02 | 1997-11-04 | General Electric Company | Systems for recycling overspray powder during spray forming |
US5649992A (en) | 1995-10-02 | 1997-07-22 | General Electric Company | Methods for flow control in electroslag refining process |
US5649993A (en) | 1995-10-02 | 1997-07-22 | General Electric Company | Methods of recycling oversray powder during spray forming |
US5992503A (en) * | 1995-12-21 | 1999-11-30 | General Electric Company | Systems and methods for maintaining effective insulation between copper segments during electroslag refining process |
US5810066A (en) | 1995-12-21 | 1998-09-22 | General Electric Company | Systems and methods for controlling the dimensions of a cold finger apparatus in electroslag refining process |
US5769151A (en) | 1995-12-21 | 1998-06-23 | General Electric Company | Methods for controlling the superheat of the metal exiting the CIG apparatus in an electroslag refining process |
US6068043A (en) | 1995-12-26 | 2000-05-30 | Hot Metal Technologies, Inc. | Method and apparatus for nucleated forming of semi-solid metallic alloys from molten metals |
US6135194A (en) * | 1996-04-26 | 2000-10-24 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Spray casting of metallic preforms |
DE19621874C2 (de) * | 1996-05-31 | 2000-10-12 | Karlsruhe Forschzent | Quelle zur Erzeugung von großflächigen, gepulsten Ionen- und Elektronenstrahlen |
US6368375B1 (en) | 1996-06-24 | 2002-04-09 | General Electric Company | Processing of electroslag refined metal |
US5809057A (en) | 1996-09-11 | 1998-09-15 | General Electric Company | Electroslag apparatus and guide |
DE19724996C1 (de) * | 1997-06-13 | 1998-09-03 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US5905753A (en) * | 1997-06-23 | 1999-05-18 | The Boc Group, Inc. | Free-standing rotational rod-fed source |
US5972282A (en) * | 1997-08-04 | 1999-10-26 | Oregon Metallurgical Corporation | Straight hearth furnace for titanium refining |
US6043451A (en) * | 1997-11-06 | 2000-03-28 | Promet Technologies, Inc. | Plasma spraying of nickel-titanium compound |
US5985206A (en) | 1997-12-23 | 1999-11-16 | General Electric Company | Electroslag refining starter |
US5954112A (en) | 1998-01-27 | 1999-09-21 | Teledyne Industries, Inc. | Manufacturing of large diameter spray formed components using supplemental heating |
US6168666B1 (en) | 1998-05-22 | 2001-01-02 | Sarnoff Corporation | Focused acoustic bead charger/dispenser for bead manipulating chucks |
GB9813826D0 (en) | 1998-06-27 | 1998-08-26 | Campbell John | Dispensing apparatus and method |
US6162377A (en) * | 1999-02-23 | 2000-12-19 | Alberta Research Council Inc. | Apparatus and method for the formation of uniform spherical particles |
US6350293B1 (en) | 1999-02-23 | 2002-02-26 | General Electric Company | Bottom pour electroslag refining systems and methods |
US6427752B1 (en) | 1999-02-23 | 2002-08-06 | General Electric Company | Casting systems and methods with auxiliary cooling onto a liquidus portion of a casting |
US6460595B1 (en) | 1999-02-23 | 2002-10-08 | General Electric Company | Nucleated casting systems and methods comprising the addition of powders to a casting |
US6631753B1 (en) | 1999-02-23 | 2003-10-14 | General Electric Company | Clean melt nucleated casting systems and methods with cooling of the casting |
WO2000060658A1 (fr) * | 1999-04-06 | 2000-10-12 | Tokyo Electron Limited | Electrode, etage de tranche, dispositif a plasma, et procede de fabrication d'une electrode et d'un etage de tranche |
JP2001068538A (ja) * | 1999-06-21 | 2001-03-16 | Tokyo Electron Ltd | 電極構造、載置台構造、プラズマ処理装置及び処理装置 |
US6175585B1 (en) * | 1999-07-15 | 2001-01-16 | Oregon Metallurgical Corporation | Electron beam shielding apparatus and methods for shielding electron beams |
US6407399B1 (en) * | 1999-09-30 | 2002-06-18 | Electron Vision Corporation | Uniformity correction for large area electron source |
US6264717B1 (en) | 1999-11-15 | 2001-07-24 | General Electric Company | Clean melt nucleated cast article |
TW464947B (en) * | 1999-11-29 | 2001-11-21 | Ushio Electric Inc | Measuring apparatus of electron beam quantity and processing apparatus of electron beam irradiation |
EP1252359B1 (en) * | 1999-12-02 | 2020-03-11 | OEM Group, Inc | Method of operating a platinum etch reactor |
US6156667A (en) | 1999-12-31 | 2000-12-05 | Litmas, Inc. | Methods and apparatus for plasma processing |
JP2001279340A (ja) | 2000-03-29 | 2001-10-10 | Shinko Electric Co Ltd | インゴット製造方法およびその装置 |
US6562099B2 (en) | 2000-05-22 | 2003-05-13 | The Regents Of The University Of California | High-speed fabrication of highly uniform metallic microspheres |
US6491737B2 (en) | 2000-05-22 | 2002-12-10 | The Regents Of The University Of California | High-speed fabrication of highly uniform ultra-small metallic microspheres |
JP3848816B2 (ja) | 2000-05-31 | 2006-11-22 | 三菱重工業株式会社 | 高純度金属精製方法及びその装置 |
DE10027140A1 (de) | 2000-05-31 | 2001-12-06 | Linde Ag | Mehrstöckiger Badkondensator |
AU2001268542A1 (en) | 2000-06-16 | 2001-12-24 | Ati Properties, Inc. | Methods and apparatus for spray forming, atomization and heat transfer |
US6496529B1 (en) | 2000-11-15 | 2002-12-17 | Ati Properties, Inc. | Refining and casting apparatus and method |
US8891583B2 (en) | 2000-11-15 | 2014-11-18 | Ati Properties, Inc. | Refining and casting apparatus and method |
JP2002311877A (ja) | 2001-02-06 | 2002-10-25 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 受像管の駆動方法および駆動装置 |
US6416564B1 (en) | 2001-03-08 | 2002-07-09 | Ati Properties, Inc. | Method for producing large diameter ingots of nickel base alloys |
US7150412B2 (en) | 2002-08-06 | 2006-12-19 | Clean Earth Technologies Llc | Method and apparatus for electrostatic spray |
JP2004108696A (ja) | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 金属溶融精製装置,及び金属精製方法 |
US6904955B2 (en) | 2002-09-20 | 2005-06-14 | Lectrotherm, Inc. | Method and apparatus for alternating pouring from common hearth in plasma furnace |
US20040065171A1 (en) * | 2002-10-02 | 2004-04-08 | Hearley Andrew K. | Soild-state hydrogen storage systems |
US6975073B2 (en) | 2003-05-19 | 2005-12-13 | George Wakalopulos | Ion plasma beam generating device |
EP1711289A4 (en) * | 2004-02-05 | 2008-01-16 | Titanium Metals Corp | METHOD AND DEVICE FOR CLEARING THE CALENDAR REFRESHING |
US20050173847A1 (en) | 2004-02-05 | 2005-08-11 | Blackburn Allan E. | Method and apparatus for perimeter cleaning in cold hearth refining |
US20050224722A1 (en) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for reducing charge density on a dielectric coated substrate after exposure to large area electron beam |
US7114548B2 (en) | 2004-12-09 | 2006-10-03 | Ati Properties, Inc. | Method and apparatus for treating articles during formation |
JP4443430B2 (ja) | 2005-01-25 | 2010-03-31 | 東邦チタニウム株式会社 | 電子ビーム溶解装置 |
US7578960B2 (en) | 2005-09-22 | 2009-08-25 | Ati Properties, Inc. | Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys |
US7803212B2 (en) * | 2005-09-22 | 2010-09-28 | Ati Properties, Inc. | Apparatus and method for clean, rapidly solidified alloys |
US7803211B2 (en) * | 2005-09-22 | 2010-09-28 | Ati Properties, Inc. | Method and apparatus for producing large diameter superalloy ingots |
RU2454471C2 (ru) * | 2007-03-12 | 2012-06-27 | Анатолий Евгеньевич Волков | Способ электронно-лучевой или плазменной зонной плавки в квадратный кристаллизатор |
US8642916B2 (en) | 2007-03-30 | 2014-02-04 | Ati Properties, Inc. | Melting furnace including wire-discharge ion plasma electron emitter |
US8748773B2 (en) * | 2007-03-30 | 2014-06-10 | Ati Properties, Inc. | Ion plasma electron emitters for a melting furnace |
US7798199B2 (en) * | 2007-12-04 | 2010-09-21 | Ati Properties, Inc. | Casting apparatus and method |
EP2073249B1 (en) * | 2007-12-21 | 2012-06-13 | Applied Materials, Inc. | Linear electron source and application of the electron source for charging foils |
-
2009
- 2009-08-25 US US12/546,785 patent/US8748773B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-08-10 SG SG2012012043A patent/SG178528A1/en unknown
- 2010-08-10 CN CN201410655724.XA patent/CN104409306A/zh active Pending
- 2010-08-10 CN CN201080048029.7A patent/CN102575900B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2010-08-10 BR BR112012003444A patent/BR112012003444A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2010-08-10 EP EP10742991A patent/EP2470847A1/en not_active Withdrawn
- 2010-08-10 UA UAA201203504A patent/UA111144C2/ru unknown
- 2010-08-10 NZ NZ597859A patent/NZ597859A/xx not_active IP Right Cessation
- 2010-08-10 WO PCT/US2010/044944 patent/WO2011025648A1/en active Application Filing
- 2010-08-10 CA CA2769285A patent/CA2769285A1/en not_active Abandoned
- 2010-08-10 RU RU2012111218/02A patent/RU2544328C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2010-08-10 MX MX2012001678A patent/MX2012001678A/es active IP Right Grant
- 2010-08-10 JP JP2012526811A patent/JP2013503259A/ja active Pending
- 2010-08-10 AU AU2010286883A patent/AU2010286883B2/en not_active Ceased
- 2010-08-10 KR KR1020127003615A patent/KR20120047940A/ko not_active Application Discontinuation
-
2012
- 2012-02-02 IL IL217888A patent/IL217888A0/en unknown
-
2013
- 2013-01-04 HK HK13100099.5A patent/HK1172946A1/xx not_active IP Right Cessation
- 2013-01-04 HK HK15106973.1A patent/HK1206484A1/xx unknown
-
2014
- 2014-04-24 US US14/260,570 patent/US20140230605A1/en not_active Abandoned
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IL217888A0 (en) | 2012-03-29 |
NZ597859A (en) | 2013-10-25 |
HK1206484A1 (en) | 2016-01-08 |
US20100012629A1 (en) | 2010-01-21 |
EP2470847A1 (en) | 2012-07-04 |
WO2011025648A1 (en) | 2011-03-03 |
BR112012003444A2 (pt) | 2016-02-23 |
CA2769285A1 (en) | 2011-03-03 |
AU2010286883B2 (en) | 2015-01-15 |
US20140230605A1 (en) | 2014-08-21 |
US8748773B2 (en) | 2014-06-10 |
CN102575900A (zh) | 2012-07-11 |
AU2010286883A1 (en) | 2012-02-16 |
CN102575900B (zh) | 2014-12-17 |
KR20120047940A (ko) | 2012-05-14 |
UA111144C2 (ru) | 2016-04-11 |
CN104409306A (zh) | 2015-03-11 |
MX2012001678A (es) | 2012-03-07 |
HK1172946A1 (en) | 2013-05-03 |
RU2544328C2 (ru) | 2015-03-20 |
SG178528A1 (en) | 2012-03-29 |
JP2013503259A (ja) | 2013-01-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2012111218A (ru) | Ионно-плазменные излучатели электронов для плавильной печи | |
JP5781710B2 (ja) | 鋳造又は噴霧されて粉末になる処理材料を製造する方法 | |
JP2013503259A5 (ru) | ||
DE102010049521B3 (de) | Vorrichtung zum Erzeugen eines Elektronenstrahls | |
EP3333878B1 (en) | Gas-discharge electron gun | |
JPH11224797A (ja) | プラズマ発生装置及び薄膜形成装置 | |
JP2020173984A (ja) | イオン源及びイオン注入装置並びにマグネシウムイオン生成方法 | |
JP2005290510A (ja) | 電子ビーム蒸着方法及びその装置 | |
UA93625C2 (ru) | Газоразрядная электронная пушка | |
CN106231713A (zh) | 一种充氩气的电子束熔炼炉用电子枪室 | |
AU2014221194A1 (en) | Ion plasma electron emitters for a melting furnace | |
JP2019139990A (ja) | イオン源及びイオン注入装置 | |
UA78195U (ru) | Газоразрядная электродная пушка | |
JPH01201470A (ja) | イオン化装置及びイオンプレーティング装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | The patent is invalid due to non-payment of fees |
Effective date: 20160811 |