RU2007127839A - Термостабильное многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового спектального диапазона - Google Patents

Термостабильное многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового спектального диапазона Download PDF

Info

Publication number
RU2007127839A
RU2007127839A RU2007127839/28A RU2007127839A RU2007127839A RU 2007127839 A RU2007127839 A RU 2007127839A RU 2007127839/28 A RU2007127839/28 A RU 2007127839/28A RU 2007127839 A RU2007127839 A RU 2007127839A RU 2007127839 A RU2007127839 A RU 2007127839A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
multilayer mirror
layer
silicon
mirror according
molybdenum
Prior art date
Application number
RU2007127839/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2410732C2 (ru
Inventor
Никол БЕНУА (DE)
Николя БЕНУА
Торстен ФАЙГЛЬ (DE)
Торстен ФАЙГЛЬ
Норберт КАЙЗЕР (DE)
Норберт КАЙЗЕР
Сергий ЮЛИН (DE)
Сергий ЮЛИН
Original Assignee
Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De)
Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De), Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. filed Critical Фраунхофер-Гезелльшафт Цур Фердерунг Дер Ангевандтен Форшунг Е.Ф. (De)
Publication of RU2007127839A publication Critical patent/RU2007127839A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2410732C2 publication Critical patent/RU2410732C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
    • G02B5/0825—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only
    • G02B5/0833—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers the reflecting layers comprising dielectric materials only comprising inorganic materials only
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
    • G21K1/062—Devices having a multilayer structure
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K2201/00—Arrangements for handling radiation or particles
    • G21K2201/06—Arrangements for handling radiation or particles using diffractive, refractive or reflecting elements
    • G21K2201/067—Construction details

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Claims (15)

1. Многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового (УФ) излучения, которое содержит множество чередующихся слоев (4) молибдена и слоев (3) кремния,
отличающееся тем, что
на множестве граничных поверхностей между соответствующим слоем (4) молибдена и соответствующим соседним слоем (3) кремния расположен барьерный слой (5), который содержит борид кремния.
2. Многослойное зеркало по п.1, отличающееся тем, что на всех граничных поверхностях между соответствующим слоем (4) молибдена и соответствующим слоем (3) кремния расположен барьерный слой (5), который содержит борид кремния.
3. Многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового (УФ) излучения, которое содержит множество чередующихся слоев (4) молибдена и слоев (3) кремния,
отличающееся тем, что
на множестве граничных поверхностей между соответствующим слоем (4) молибдена и соответствующим соседним слоем (3) кремния расположен барьерный слой (5), который содержит нитрид кремния.
4. Многослойное зеркало по п.3, отличающееся тем, что на всех граничных поверхностях между соответствующим слоем (4) молибдена и соответствующим слоем (3) кремния расположен барьерный слой (5), который содержит нитрид кремния.
5. Многослойное зеркало по п.1 или 3, отличающееся тем, что на граничных поверхностях, на которых в направлении роста слой (4) молибдена следует за слоем (3) кремния, размещен, соответственно, барьерный слой (5), который содержит нитрид кремния или борид кремния, а на граничных поверхностях, на которых в направлении роста слой (3) кремния следует за слоем (4) молибдена, соответственно, не размещается барьерный слой.
6. Многослойное зеркало по любому из пп. 1-4, отличающееся тем, что барьерные слои (5) имеют толщину от 0,2 до 0,8 нм.
7. Многослойное зеркало по любому из пп. 1-4, отличающееся тем, что многослойное зеркало (1) содержит, по меньшей мере, один накрывающий слой (6), который выполнен не из кремния или молибдена.
8. Многослойное зеркало по п.7, отличающееся тем, что накрывающий слой содержит нитрид кремния или борид кремния.
9. Многослойное зеркало по п.7, отличающееся тем, что накрывающий слой содержит оксиды, нитриды, карбиды или бориды, или, по меньшей мере, один из следующих материалов: рутений, родий, скандий и цирконий.
10. Многослойное зеркало по любому из пп.1-4, отличающееся тем, что многослойное зеркало (23) нанесено на искривленную поверхность подложки (24).
11. Многослойное зеркало по п.10, отличающееся тем, что поверхность подложки (24) имеет асферическую кривизну.
12. Многослойное зеркало по любому из пп.1-4, отличающееся тем, что предусмотрено нагревательное устройство (27), чтобы нагревать многослойное зеркало (23) до рабочей температуры от 300°С или выше, предпочтительно до 400°С или выше.
13. Многослойное зеркало по п.12, отличающееся тем, что многослойное зеркало (23) размещено на подложке (24), на которой размещено нагревательное устройство (27).
14. Многослойное зеркало по любому из пп.1-4, отличающееся тем, что многослойное зеркало (23) является коллекторным зеркалом источника (25) излучения крайнего УФ-диапазона.
15. Применение многослойного зеркала по любому из пунктов 1-14 для отражения излучения крайнего УФ-диапазона при рабочей температуре от 300 до 500°С.
RU2007127839/28A 2004-12-23 2005-12-23 Термостабильное многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового спектрального диапазона RU2410732C2 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102004062289.2 2004-12-23
DE102004062289A DE102004062289B4 (de) 2004-12-23 2004-12-23 Thermisch stabiler Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2007127839A true RU2007127839A (ru) 2009-01-27
RU2410732C2 RU2410732C2 (ru) 2011-01-27

Family

ID=35892371

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2007127839/28A RU2410732C2 (ru) 2004-12-23 2005-12-23 Термостабильное многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового спектрального диапазона

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7920323B2 (ru)
EP (1) EP1828818B1 (ru)
JP (1) JP4904287B2 (ru)
KR (1) KR101176682B1 (ru)
CN (1) CN101088031A (ru)
CA (1) CA2591530A1 (ru)
DE (1) DE102004062289B4 (ru)
RU (1) RU2410732C2 (ru)
WO (1) WO2006066563A1 (ru)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7843632B2 (en) * 2006-08-16 2010-11-30 Cymer, Inc. EUV optics
DE102006006283B4 (de) 2006-02-10 2015-05-21 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Thermisch stabiler Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich
US7959310B2 (en) 2006-09-13 2011-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical arrangement and EUV lithography device with at least one heated optical element, operating methods, and methods for cleaning as well as for providing an optical element
US20080318066A1 (en) * 2007-05-11 2008-12-25 Asml Holding N.V. Optical Component Fabrication Using Coated Substrates
US20080280539A1 (en) * 2007-05-11 2008-11-13 Asml Holding N.V. Optical component fabrication using amorphous oxide coated substrates
US10690823B2 (en) 2007-08-12 2020-06-23 Toyota Motor Corporation Omnidirectional structural color made from metal and dielectric layers
US8736959B2 (en) * 2007-08-12 2014-05-27 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Omnidirectional reflector
US10788608B2 (en) 2007-08-12 2020-09-29 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Non-color shifting multilayer structures
US10870740B2 (en) 2007-08-12 2020-12-22 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Non-color shifting multilayer structures and protective coatings thereon
EP2210147B1 (en) * 2007-10-02 2013-05-22 Universita Degli Studi Di Padova Aperiodic multilayer structures
JP2009141177A (ja) * 2007-12-07 2009-06-25 Canon Inc Ｅｕｖ用ミラー及びそれを有するｅｕｖ露光装置
US7960701B2 (en) 2007-12-20 2011-06-14 Cymer, Inc. EUV light source components and methods for producing, using and refurbishing same
DE102008002403A1 (de) * 2008-06-12 2009-12-17 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zum Herstellen einer Mehrlagen-Beschichtung, optisches Element und optische Anordnung
CN102138185B (zh) * 2008-07-07 2015-09-09 皇家飞利浦电子股份有限公司 包含耐溅射材料的极端紫外线辐射反射元件
DE102008040265A1 (de) 2008-07-09 2010-01-14 Carl Zeiss Smt Ag Reflektives optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
US7641349B1 (en) 2008-09-22 2010-01-05 Cymer, Inc. Systems and methods for collector mirror temperature control using direct contact heat transfer
DE102009017095A1 (de) * 2009-04-15 2010-10-28 Carl Zeiss Smt Ag Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
DE102009017096A1 (de) * 2009-04-15 2010-10-21 Carl Zeiss Smt Ag Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
DE102009032779A1 (de) * 2009-07-10 2011-01-13 Carl Zeiss Smt Ag Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
DE102009054653A1 (de) * 2009-12-15 2011-06-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Substrat für einen solchen Spiegel, Verwendung einer Quarzschicht für ein solches Substrat, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel oder einem solchen Substrat und Projetktionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
EP2513686B1 (en) 2009-12-15 2019-04-10 Carl Zeiss SMT GmbH Reflective optical element for euv lithography
CN103229248B (zh) * 2010-09-27 2016-10-12 卡尔蔡司Smt有限责任公司 反射镜，包含这种反射镜的投射物镜，以及包含这种投射物镜的用于微光刻的投射曝光设备
JP5340321B2 (ja) * 2011-01-01 2013-11-13 キヤノン株式会社 ミラーおよびその製造方法、露光装置、ならびに、デバイス製造方法
DE102011002953A1 (de) * 2011-01-21 2012-07-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Substrat für Spiegel für die EUV-Lithographie
US9448492B2 (en) 2011-06-15 2016-09-20 Asml Netherlands B.V. Multilayer mirror, method of producing a multilayer mirror and lithographic apparatus
CN102866442A (zh) * 2011-07-07 2013-01-09 同济大学 一种Mg/Zr极紫外多层膜反射镜及其制作方法
DE102012203633A1 (de) * 2012-03-08 2013-09-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage mit einem solchen Spiegel
CN103076644B (zh) * 2013-01-09 2015-04-29 同济大学 一种硅铝合金/硅/锆/硅极紫外多层膜反射镜及其制备方法
DE102013200294A1 (de) * 2013-01-11 2014-07-17 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Spiegel und optisches System mit EUV-Spiegel
DE102013008486B4 (de) 2013-05-18 2016-07-14 Saxray GmbH Rauscharmes optisches Element zur Detektion von Strahlung mittels Messung elektrischer Signale und Verwendung desselben zur Einstellung einer Reflexionsbedingung
DE102013107192A1 (de) * 2013-07-08 2015-01-08 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Reflektives optisches Element für streifenden Einfall im EUV-Wellenlängenbereich
DE102013221550A1 (de) 2013-10-23 2015-04-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Vielschichtstruktur für EUV-Spiegel
DE102013222330A1 (de) 2013-11-04 2015-05-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
JP6741586B2 (ja) 2014-04-01 2020-08-19 トヨタ モーター エンジニアリング アンド マニュファクチャリング ノース アメリカ，インコーポレイティド 色シフトのない多層構造
CN104749662A (zh) * 2015-04-21 2015-07-01 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 具有极紫外光谱纯度及热稳定性的多层膜
CN104765078A (zh) * 2015-04-21 2015-07-08 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 具有热稳定性及抗辐照损伤的极紫外多层膜
KR102369935B1 (ko) 2015-08-31 2022-03-03 삼성전자주식회사 드립 홀을 갖는 콜렉팅 미러를 포함하는 euv 광 발생 장치
EP3391138A1 (en) * 2015-12-14 2018-10-24 ASML Netherlands B.V. A membrane for euv lithography
CN105467472B (zh) * 2015-12-21 2017-07-14 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 高热稳定性极紫外多层膜
CN105445823A (zh) * 2015-12-21 2016-03-30 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 具有抗溅射损伤和抗氧化性的高热稳定性极紫外多层膜
RU197307U1 (ru) * 2019-12-23 2020-04-21 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Балтийский федеральный университет имени Иммануила Канта" Многослойное зеркало для монохроматизации жесткого рентгеновского излучения
CN113204179A (zh) * 2021-05-21 2021-08-03 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种极紫外多层膜及其制备方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310603A (en) * 1986-10-01 1994-05-10 Canon Kabushiki Kaisha Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray
JPH0797159B2 (ja) * 1986-10-01 1995-10-18 キヤノン株式会社 軟ｘ線・真空紫外線用多層膜反射鏡
JP2723955B2 (ja) * 1989-03-16 1998-03-09 キヤノン株式会社 軟ｘ線・真空紫外線用多層膜反射鏡
JP2883100B2 (ja) * 1989-05-22 1999-04-19 キヤノン株式会社 軟ｘ線・真空紫外線用ハーフミラー又はビームスプリッター
JP2946199B2 (ja) * 1995-11-01 1999-09-06 株式会社エスアイアイ・マイクロパーツ ボタン形アルカリ電池およびその製造方法
JPH08262198A (ja) 1995-03-27 1996-10-11 Toyota Gakuen Ｘ線多層膜反射鏡
JPH09230098A (ja) * 1996-02-21 1997-09-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多層膜ｘ線反射鏡
JPH1138192A (ja) * 1997-07-17 1999-02-12 Nikon Corp 多層膜反射鏡
US5958605A (en) 1997-11-10 1999-09-28 Regents Of The University Of California Passivating overcoat bilayer for multilayer reflective coatings for extreme ultraviolet lithography
JP4174970B2 (ja) * 1998-05-29 2008-11-05 株式会社ニコン レーザ励起プラズマ光源、露光装置及びその製造方法、並びにデバイス製造方法
TW561279B (en) * 1999-07-02 2003-11-11 Asml Netherlands Bv Reflector for reflecting radiation in a desired wavelength range, lithographic projection apparatus containing the same and method for their preparation
DE10011547C2 (de) * 2000-02-28 2003-06-12 Fraunhofer Ges Forschung Thermisch stabiles Schichtsystem zur Reflexion von Strahlung im extremen ultravioletten Spektralbereich (EUV)
DE10011548C2 (de) * 2000-02-28 2003-06-18 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zur Herstellung eines thermisch stabilen Schichtsystems zur Reflexion von Strahlung im extremen ultravioletten Spektralbereich (EUV)
US7261957B2 (en) * 2000-03-31 2007-08-28 Carl Zeiss Smt Ag Multilayer system with protecting layer system and production method
US6396900B1 (en) * 2001-05-01 2002-05-28 The Regents Of The University Of California Multilayer films with sharp, stable interfaces for use in EUV and soft X-ray application
US6508561B1 (en) 2001-10-17 2003-01-21 Analog Devices, Inc. Optical mirror coatings for high-temperature diffusion barriers and mirror shaping
EP1348984A1 (en) * 2002-03-27 2003-10-01 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag Optical broad band element and process for its production
EP1369744A1 (en) 2002-06-06 2003-12-10 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1376239A3 (en) * 2002-06-25 2005-06-29 Nikon Corporation Cooling device for an optical element
DE10258709A1 (de) * 2002-12-12 2004-07-01 Carl Zeiss Smt Ag Schutzsystem für reflektive optische Elemente, reflektives optisches Element und Verfahren zu deren Herstellung
US7217940B2 (en) * 2003-04-08 2007-05-15 Cymer, Inc. Collector for EUV light source
US7193228B2 (en) * 2004-03-10 2007-03-20 Cymer, Inc. EUV light source optical elements
JP4692984B2 (ja) * 2004-09-24 2011-06-01 Ｈｏｙａ株式会社 反射型マスクブランク、反射型マスク及び多層膜反射鏡並びにこれらの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101176682B1 (ko) 2012-08-23
DE102004062289A1 (de) 2006-07-06
KR20070090967A (ko) 2007-09-06
RU2410732C2 (ru) 2011-01-27
DE102004062289B4 (de) 2007-07-19
JP2008526002A (ja) 2008-07-17
US7920323B2 (en) 2011-04-05
CA2591530A1 (en) 2006-06-29
CN101088031A (zh) 2007-12-12
US20080088916A1 (en) 2008-04-17
WO2006066563A1 (de) 2006-06-29
EP1828818A1 (de) 2007-09-05
JP4904287B2 (ja) 2012-03-28
EP1828818B1 (de) 2012-10-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2007127839A (ru) Термостабильное многослойное зеркало для крайнего ультрафиолетового спектального диапазона
JP2009526387A5 (ru)
JP2012501073A5 (ru)
JP5054707B2 (ja) 極紫外線スペクトル領域（ｅｕｖ）用の熱安定多層ミラー及び当該多層ミラーの使用
JP2011521289A5 (ru)
BR0211421B1 (pt) vidraça provida com finas camadas empilhadas refletindo raios infravermelhos e/ou radiação solar, e, aplicação da mesma.
EP1275158A1 (en) Antireflection coated refractory metal matched emitters for use in thermophotovoltaic generators
DE60305985D1 (de) Thermischer Aktuator mit optimierter Heizelementlänge
ATE333709T1 (de) Piezokeramischer biegewandler sowie verwendung des piezokeramischen biegewandlers
RU2004127192A (ru) Устройство для завивки волос с нагретой текучей средой в качестве источника тепла
ATE384624T1 (de) Streifenförmiges sicherheitselement
SG129254A1 (en) Lithographic projection apparatus and reflector assembly for use in said apparatus
JP4852852B2 (ja) 加熱ユニット
TWI313487B (ru)
JP2004029314A (ja) 光学素子冷却装置、光学素子冷却方法及び露光装置
ATE461410T1 (de) Wärmetauscherplatte
JP2008507851A5 (ru)
ATE427517T1 (de) Schaltbares infrarotfilter
JP2000206809A5 (ru)
JP6671654B2 (ja) 熱輻射光源
TW200741933A (en) Heating and cooling module
ATE439567T1 (de) MAßSTAB MIT EINEM REFLEKTIERENDEN PHASENGITTER
US10873991B2 (en) Photonic near infrared heater
CN102057217A (zh) 照明器具
JP2011077451A (ja) ヒータユニット反射板および該反射板を備えたヒータユニット

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A The patent is invalid due to non-payment of fees

Effective date: 20191224