JPH09230098A - 多層膜ｘ線反射鏡 - Google Patents
多層膜ｘ線反射鏡Info
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- JPH09230098A JPH09230098A JP3324996A JP3324996A JPH09230098A JP H09230098 A JPH09230098 A JP H09230098A JP 3324996 A JP3324996 A JP 3324996A JP 3324996 A JP3324996 A JP 3324996A JP H09230098 A JPH09230098 A JP H09230098A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】Ｘ線反射特性と耐熱性を向上させた多層膜Ｘ線
反射鏡を提供することを目的としている。 【解決手段】複数の物質層を周期的に積層した多層膜Ｘ
線反射鏡において、重元素層１と軽元素層２の中間に中
間層３を形成し、中間層３として、少なくとも一つの重
元素層１、軽元素層２の構成物質よりも融点の高い物質
を使用する。また、中間層３として、少なくとも一つの
重元素層１、軽元素層２の構成物質よりも融点の高い、
硼素、炭素の少なくとも一種からなる材料を使用する。
また、中間層３として、少なくとも一つの重元素層１、
軽元素層２の構成物質よりも融点の高い、酸化物あるい
は窒化物からなる物質を使用する。さらに、中間層３の
厚みを１Å以上とする。
反射鏡を提供することを目的としている。 【解決手段】複数の物質層を周期的に積層した多層膜Ｘ
線反射鏡において、重元素層１と軽元素層２の中間に中
間層３を形成し、中間層３として、少なくとも一つの重
元素層１、軽元素層２の構成物質よりも融点の高い物質
を使用する。また、中間層３として、少なくとも一つの
重元素層１、軽元素層２の構成物質よりも融点の高い、
硼素、炭素の少なくとも一種からなる材料を使用する。
また、中間層３として、少なくとも一つの重元素層１、
軽元素層２の構成物質よりも融点の高い、酸化物あるい
は窒化物からなる物質を使用する。さらに、中間層３の
厚みを１Å以上とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体材料など各種
の材料の化学状態、化学組成、不純物濃度を分析する装
置、なかでも軽元素を高感度で分析する装置、微細加工
装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡などに用いられる多層膜
Ｘ線反射鏡に関するものである。
の材料の化学状態、化学組成、不純物濃度を分析する装
置、なかでも軽元素を高感度で分析する装置、微細加工
装置、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡などに用いられる多層膜
Ｘ線反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】多層膜Ｘ線反射鏡はシリコンや石英など
の基板の上に一般には軽元素層と重元素層を数１０Å〜
数１００Åの一定の厚みで規則正しく積層させて形成さ
れている。このような多層膜Ｘ線反射鏡は特に軟Ｘ線波
長領域で回折格子や結晶に比べて反射率が高いという利
点を有している。従来の単層膜では垂直入射に近づくに
つれて反射しなくなり、反射率は０．０００００１以下
とほとんど反射しないが、例えば波長が約１３ｎｍ程度
では重元素層にＭｏを使用し、軽元素層にＳｉを使用し
た多層膜（Ｍｏ／Ｓｉ多層膜）が直入射においても計算
上約８０％という高い反射率が得られ、また、実際に作
製されたＭｏ／Ｓｉ多層膜Ｘ線反射鏡においても５０〜
６４％程度の軟Ｘ線反射率が得られるため蛍光Ｘ線分析
装置やＸ線顕微鏡などに適用されつつある。
の基板の上に一般には軽元素層と重元素層を数１０Å〜
数１００Åの一定の厚みで規則正しく積層させて形成さ
れている。このような多層膜Ｘ線反射鏡は特に軟Ｘ線波
長領域で回折格子や結晶に比べて反射率が高いという利
点を有している。従来の単層膜では垂直入射に近づくに
つれて反射しなくなり、反射率は０．０００００１以下
とほとんど反射しないが、例えば波長が約１３ｎｍ程度
では重元素層にＭｏを使用し、軽元素層にＳｉを使用し
た多層膜（Ｍｏ／Ｓｉ多層膜）が直入射においても計算
上約８０％という高い反射率が得られ、また、実際に作
製されたＭｏ／Ｓｉ多層膜Ｘ線反射鏡においても５０〜
６４％程度の軟Ｘ線反射率が得られるため蛍光Ｘ線分析
装置やＸ線顕微鏡などに適用されつつある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜においてはＳｉの融点が約１４１４℃
と低いこと、また、一般に物質の融点は数１０Åの膜厚
ではバルクの融点よりも更に下がるため、Ｍｏ層とＳｉ
層の界面で拡散が生じ易くなる。
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜においてはＳｉの融点が約１４１４℃
と低いこと、また、一般に物質の融点は数１０Åの膜厚
ではバルクの融点よりも更に下がるため、Ｍｏ層とＳｉ
層の界面で拡散が生じ易くなる。
【０００４】軟Ｘ線波長領域を中心とした波長領域のＸ
線・軟Ｘ線・紫外線などを反射させる場合、多層膜Ｘ線
反射鏡では多層膜の界面の拡散が少ないほどＸ線・軟Ｘ
線・紫外線の反射率が大きくなるため、反射後のＸ線・
軟Ｘ線・紫外線を使用して、分析や加工を行う場合に感
度が向上し、加工性が向上する。しかし、例えば、この
Ｍｏ／Ｓｉの組み合わせの多層膜を用いた場合、成膜時
の基板温度の上昇や多層膜Ｘ線反射鏡使用時の温度の上
昇などの理由で組成物質の拡散が生じ、多層膜Ｘ線反射
鏡への軟Ｘ線などの入射強度に対する多層膜Ｘ線反射鏡
からの軟Ｘ線などの出射強度の比（反射率）が小さくな
り、特性が悪くなる。例えばＭｏとＳｉからなる多層膜
において周期長７０Å、層厚比２：３、Ｍｏ層とＳｉ層
のペア数３０の場合ではＭｏの融点が約２６００℃、Ｓ
ｉの融点が約１４１４℃であるが、この多層膜を真空中
４００℃で１時間熱処理すると、Ｘ線反射率は初期値の
５０％から６０％程度に、また、真空中６００℃で１時
間熱処理すると、Ｘ線反射率は初期値の１０％〜２０％
程度に低下してしまい、耐熱性が悪い。特に現在、高輝
度のＸ線・軟Ｘ線・紫外線源として放射光やレーザプラ
ズマなどが使用されているが、高輝度であるため、これ
ら軟Ｘ線などの照射される部分の多層膜の温度上昇は特
に激しい。このため、実際にこのこれらのＸ線・軟Ｘ線
・紫外線を多層膜Ｘ線反射鏡に照射させると照射部の多
層膜の界面に拡散が生じて、反射率が大幅に低下してし
まうという大きな問題が生じていた。多層膜Ｘ線反射鏡
にこれらのＸ線・軟Ｘ線・紫外線が照射され、反射率が
低下すると、分析応用の場合は反射率が変化すると分析
の精度や確度が悪くなるという問題が、また、Ｘ線リソ
グラフィーなどにこのような反射鏡を適用していた場合
は、レジストを適性時間露光することが困難になるとい
う問題が生じており、また、多層膜そのものの寿命が短
いなどの問題が生じていた。
線・軟Ｘ線・紫外線などを反射させる場合、多層膜Ｘ線
反射鏡では多層膜の界面の拡散が少ないほどＸ線・軟Ｘ
線・紫外線の反射率が大きくなるため、反射後のＸ線・
軟Ｘ線・紫外線を使用して、分析や加工を行う場合に感
度が向上し、加工性が向上する。しかし、例えば、この
Ｍｏ／Ｓｉの組み合わせの多層膜を用いた場合、成膜時
の基板温度の上昇や多層膜Ｘ線反射鏡使用時の温度の上
昇などの理由で組成物質の拡散が生じ、多層膜Ｘ線反射
鏡への軟Ｘ線などの入射強度に対する多層膜Ｘ線反射鏡
からの軟Ｘ線などの出射強度の比（反射率）が小さくな
り、特性が悪くなる。例えばＭｏとＳｉからなる多層膜
において周期長７０Å、層厚比２：３、Ｍｏ層とＳｉ層
のペア数３０の場合ではＭｏの融点が約２６００℃、Ｓ
ｉの融点が約１４１４℃であるが、この多層膜を真空中
４００℃で１時間熱処理すると、Ｘ線反射率は初期値の
５０％から６０％程度に、また、真空中６００℃で１時
間熱処理すると、Ｘ線反射率は初期値の１０％〜２０％
程度に低下してしまい、耐熱性が悪い。特に現在、高輝
度のＸ線・軟Ｘ線・紫外線源として放射光やレーザプラ
ズマなどが使用されているが、高輝度であるため、これ
ら軟Ｘ線などの照射される部分の多層膜の温度上昇は特
に激しい。このため、実際にこのこれらのＸ線・軟Ｘ線
・紫外線を多層膜Ｘ線反射鏡に照射させると照射部の多
層膜の界面に拡散が生じて、反射率が大幅に低下してし
まうという大きな問題が生じていた。多層膜Ｘ線反射鏡
にこれらのＸ線・軟Ｘ線・紫外線が照射され、反射率が
低下すると、分析応用の場合は反射率が変化すると分析
の精度や確度が悪くなるという問題が、また、Ｘ線リソ
グラフィーなどにこのような反射鏡を適用していた場合
は、レジストを適性時間露光することが困難になるとい
う問題が生じており、また、多層膜そのものの寿命が短
いなどの問題が生じていた。
【０００５】本発明は前述の問題点を解決するためにな
されたもので、Ｘ線反射特性と耐熱性を向上させた多層
膜Ｘ線反射鏡を提供することを目的としている。
されたもので、Ｘ線反射特性と耐熱性を向上させた多層
膜Ｘ線反射鏡を提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明においては、複数の物質層を周期的に積層し
た多層膜Ｘ線反射鏡において、上記物質層の各層間に中
間層を形成し、上記中間層として、少なくとも一つの上
記物質層よりも融点の高い物質を使用する。
め、本発明においては、複数の物質層を周期的に積層し
た多層膜Ｘ線反射鏡において、上記物質層の各層間に中
間層を形成し、上記中間層として、少なくとも一つの上
記物質層よりも融点の高い物質を使用する。
【０００７】また、上記中間層として、硼素、炭素の少
なくとも一種からなる材料を使用する。
なくとも一種からなる材料を使用する。
【０００８】また、上記中間層として、酸化物あるいは
窒化物からなる物質を使用する。
窒化物からなる物質を使用する。
【０００９】さらに、上記中間層の厚みを１Å以上とす
る。
る。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る多層膜Ｘ線反
射鏡の実施の形態を示す概念図である。図に示すよう
に、ブラッグ反射を起こす周期構成物質層４は、例えば
Ｍｏのような重元素層１と例えばＳｉのような軽元素層
２の２種の物質層から構成されており、さらに、重元素
層１と軽元素層２の間には中間層３が設けられている。
中間層３には、重元素層１、軽元素層２の少なくとも一
つの層を構成する物質の融点よりも高い物質を使用す
る。その中間層３としては、硼素、炭素の少なくとも一
種からなる物質を用いる場合もあり、酸化物あるいは窒
化物からなる物質を用いている場合もある。これらの物
質の融点は、重元素層１、軽元素層２の少なくとも一つ
の層を構成する物質の融点よりも高いため、中間層３が
無い場合に比べ、重元素層１、軽元素層２の間の拡散が
抑制され、周期構成物質層４の耐熱性が向上し、Ｘ線反
射率が向上する。
射鏡の実施の形態を示す概念図である。図に示すよう
に、ブラッグ反射を起こす周期構成物質層４は、例えば
Ｍｏのような重元素層１と例えばＳｉのような軽元素層
２の２種の物質層から構成されており、さらに、重元素
層１と軽元素層２の間には中間層３が設けられている。
中間層３には、重元素層１、軽元素層２の少なくとも一
つの層を構成する物質の融点よりも高い物質を使用す
る。その中間層３としては、硼素、炭素の少なくとも一
種からなる物質を用いる場合もあり、酸化物あるいは窒
化物からなる物質を用いている場合もある。これらの物
質の融点は、重元素層１、軽元素層２の少なくとも一つ
の層を構成する物質の融点よりも高いため、中間層３が
無い場合に比べ、重元素層１、軽元素層２の間の拡散が
抑制され、周期構成物質層４の耐熱性が向上し、Ｘ線反
射率が向上する。
【００１１】また、中間層３の厚さを１Å以上とする
と、重元素層１と軽元素層２との間の拡散の抑制効果、
多層膜の耐熱性、Ｘ線反射率が更に向上する。
と、重元素層１と軽元素層２との間の拡散の抑制効果、
多層膜の耐熱性、Ｘ線反射率が更に向上する。
【００１２】このような多層膜Ｘ線反射鏡においては、
次のような効果が期待できる。（１）Ｘ線・軟Ｘ線を利
用した各種分析に適用した場合、多層膜Ｘ線反射鏡の耐
熱性が向上するため、反射率の変化が中間層３の無い多
層膜Ｘ線反射鏡よりも少なくなり、精度や確度が向上す
る。（２）Ｘ線リソグラフィーに適用した場合、中間層
のない多層膜Ｘ線反射鏡よりも（１）と同様の理由で反
射率の変化が少なくなり、適性露光時間を中間層３のな
い多層膜Ｘ線反射鏡を使用した場合に比較し、正確に決
められる。（３）多層膜Ｘ線反射鏡自身の寿命が延びる
などの効果を有する。また（４）中間層３の厚みを適切
に選択すると多層膜Ｘ線反射鏡の反射率が向上し感度や
精度の向上、露光時間の短縮などの効果が生じる。
次のような効果が期待できる。（１）Ｘ線・軟Ｘ線を利
用した各種分析に適用した場合、多層膜Ｘ線反射鏡の耐
熱性が向上するため、反射率の変化が中間層３の無い多
層膜Ｘ線反射鏡よりも少なくなり、精度や確度が向上す
る。（２）Ｘ線リソグラフィーに適用した場合、中間層
のない多層膜Ｘ線反射鏡よりも（１）と同様の理由で反
射率の変化が少なくなり、適性露光時間を中間層３のな
い多層膜Ｘ線反射鏡を使用した場合に比較し、正確に決
められる。（３）多層膜Ｘ線反射鏡自身の寿命が延びる
などの効果を有する。また（４）中間層３の厚みを適切
に選択すると多層膜Ｘ線反射鏡の反射率が向上し感度や
精度の向上、露光時間の短縮などの効果が生じる。
【００１３】上記の実施の形態では、２種類の層が繰り
返される多層膜の各層の間に中間層を形成する例を述べ
たが、当然３種類以上の層が繰り返される多層膜の各層
の間に中間層を形成しても同様の効果があることはいう
までもない。
返される多層膜の各層の間に中間層を形成する例を述べ
たが、当然３種類以上の層が繰り返される多層膜の各層
の間に中間層を形成しても同様の効果があることはいう
までもない。
【００１４】
【実施例】次に本発明の代表的な実施例について説明す
る。
る。
【００１５】（実施例１）スパッタリング法により重元
素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを用いてＭｏ／Ｓｉ
多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の周期長は６７
Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は２：３、重元素
層と軽元素層のペアの数は３０であった。また、これと
同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に中間層として
Ｃを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Åのいずれかの値と
したＭｏ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製した。これらをＡ
ｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線
（１．５４Å）反射率の変化を測定した。表１に中間層
を形成しないＭｏ／Ｓｉ多層膜の反射率と熱処理温度と
の関係を示す。このとき電気炉中に試料を保持し、Ａｒ
雰囲気にし、室温から保持温度まで５分で上昇させ、こ
の温度で１時間保持し、その後加熱を停止し、試料をＡ
ｒ雰囲気中に放置することで室温にまで冷した。中間層
が無いＭｏ／Ｓｉ多層膜の場合、Ａｒ雰囲気中、４００
℃で１時間保持後ではＣｕＫα線反射率（１次のブラッ
グ反射強度／入射強度）は熱処理前の６０％に減少し
た。また、放射光を使用し波長を連続的に変化させなが
ら測定した軟Ｘ線反射率（入射角を３度に固定、ピーク
反射率を示す波長における測定値）は熱処理前には６２
％であったものが３２％にまで減少した。また、Ｍｏ／
Ｓｉ多層膜の周期長を８２Åと長くして、重元素層と軽
元素層の層厚の比率を２：３、重元素層と軽元素層のペ
アの数は３０とした場合においてもこれらの特性の変化
率は周期長６７Åの場合とほぼ±１．５％以内の誤差内
で一致していた。
素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを用いてＭｏ／Ｓｉ
多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜の周期長は６７
Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は２：３、重元素
層と軽元素層のペアの数は３０であった。また、これと
同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に中間層として
Ｃを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Åのいずれかの値と
したＭｏ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製した。これらをＡ
ｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線
（１．５４Å）反射率の変化を測定した。表１に中間層
を形成しないＭｏ／Ｓｉ多層膜の反射率と熱処理温度と
の関係を示す。このとき電気炉中に試料を保持し、Ａｒ
雰囲気にし、室温から保持温度まで５分で上昇させ、こ
の温度で１時間保持し、その後加熱を停止し、試料をＡ
ｒ雰囲気中に放置することで室温にまで冷した。中間層
が無いＭｏ／Ｓｉ多層膜の場合、Ａｒ雰囲気中、４００
℃で１時間保持後ではＣｕＫα線反射率（１次のブラッ
グ反射強度／入射強度）は熱処理前の６０％に減少し
た。また、放射光を使用し波長を連続的に変化させなが
ら測定した軟Ｘ線反射率（入射角を３度に固定、ピーク
反射率を示す波長における測定値）は熱処理前には６２
％であったものが３２％にまで減少した。また、Ｍｏ／
Ｓｉ多層膜の周期長を８２Åと長くして、重元素層と軽
元素層の層厚の比率を２：３、重元素層と軽元素層のペ
アの数は３０とした場合においてもこれらの特性の変化
率は周期長６７Åの場合とほぼ±１．５％以内の誤差内
で一致していた。
【００１６】
【表１】
【００１７】一方、４００℃熱処理後の本多層膜のＸ線
（ＣｕＫα線）の１次ブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反
射Ｘ線強度の比を表２に示した。Ｃ中間層を形成したＭ
ｏ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以上になると中
間層の無いＭｏ／Ｓｉ多層膜にくらべ反射率の変化が少
なくなった。Ｃ中間層の厚みが１２Å以上では１２Åの
時とほぼ同様の値あるいはより大きなＸ線反射率比を示
した。また、作製したままで熱処理を施さない多層膜に
対し直入射角３度で放射光を入射させた場合の軟Ｘ線の
反射率を示す。Ｃから成る中間層を形成したＭｏ／Ｓｉ
多層膜では中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の
１割にあたる７Åの厚みになるまで、Ｃ中間層が無い場
合に比べ高い軟Ｘ線反射率を示した。
（ＣｕＫα線）の１次ブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反
射Ｘ線強度の比を表２に示した。Ｃ中間層を形成したＭ
ｏ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以上になると中
間層の無いＭｏ／Ｓｉ多層膜にくらべ反射率の変化が少
なくなった。Ｃ中間層の厚みが１２Å以上では１２Åの
時とほぼ同様の値あるいはより大きなＸ線反射率比を示
した。また、作製したままで熱処理を施さない多層膜に
対し直入射角３度で放射光を入射させた場合の軟Ｘ線の
反射率を示す。Ｃから成る中間層を形成したＭｏ／Ｓｉ
多層膜では中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の
１割にあたる７Åの厚みになるまで、Ｃ中間層が無い場
合に比べ高い軟Ｘ線反射率を示した。
【００１８】
【表２】
【００１９】（実施例２）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０である。
また、これと同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に
中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＭｏ／ＢＮ／Ｓｉ／ＢＮ多層膜を
作製した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱
処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測
定した結果と多層膜に対し直入射角３度での波長１３ｎ
ｍの軟Ｘ線の反射率を測定した結果を表３に示した。Ｂ
Ｎ中間層の厚みが０．５Å以下ではＸ線反射率の変化が
中間層が無い場合と同等で耐熱効果が認められなかった
が、膜厚１Å以上になると熱処理によるＸ線（１．５４
Å）反射率の変化が中間層が無いＭｏ／Ｓｉ多層膜より
も少なくなって耐熱効果が現れた。膜厚１２Å以上では
１２Åの時とほぼ同様の耐熱性を示した。
ング法により重元素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０である。
また、これと同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に
中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＭｏ／ＢＮ／Ｓｉ／ＢＮ多層膜を
作製した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱
処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測
定した結果と多層膜に対し直入射角３度での波長１３ｎ
ｍの軟Ｘ線の反射率を測定した結果を表３に示した。Ｂ
Ｎ中間層の厚みが０．５Å以下ではＸ線反射率の変化が
中間層が無い場合と同等で耐熱効果が認められなかった
が、膜厚１Å以上になると熱処理によるＸ線（１．５４
Å）反射率の変化が中間層が無いＭｏ／Ｓｉ多層膜より
も少なくなって耐熱効果が現れた。膜厚１２Å以上では
１２Åの時とほぼ同様の耐熱性を示した。
【００２０】熱処理を施さない本多層膜Ｘ線反射鏡に入
射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率を
示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率については、
中間層が無い場合の周期長の約１割にあたる７Åの厚み
になるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線
反射率を示した。
射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率を
示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率については、
中間層が無い場合の周期長の約１割にあたる７Åの厚み
になるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線
反射率を示した。
【００２１】
【表３】
【００２２】（実施例３）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０である。
また、これと同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に
中間層としてＨｆＯ2を使用し、ＨｆＯ2層の厚みを１〜
１２Åのいずれかの値としたＭｏ／ＨｆＯ2／Ｓｉ／Ｈ
ｆＯ2多層膜を作製した。これらをＡｒ雰囲気中、４０
０℃熱処理した後のＭｏ／ＨｆＯ2／Ｓｉ／ＨｆＯ2多層
膜のＸ線（ＣｕＫα線）による１次のブラッグ反射の入
射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比と熱処理を施さないＭｏ
／ＨｆＯ2／Ｓｉ／ＨｆＯ2多層膜の軟Ｘ線反射率の変化
を測定した結果を表４に示した。ＨｆＯ2中間層を形成
したＭｏ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以上にな
ると中間層の無いＭｏ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の変化
が少なくなり耐熱性が向上した。ＨｆＯ2中間層の厚み
が１２Å以上では１２Åの時とほぼ同様のＸ線（１．５
４Å）反射率を示した。
ング法により重元素層にＭｏを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０である。
また、これと同一構造のＭｏ／Ｓｉ多層膜の各層界面に
中間層としてＨｆＯ2を使用し、ＨｆＯ2層の厚みを１〜
１２Åのいずれかの値としたＭｏ／ＨｆＯ2／Ｓｉ／Ｈ
ｆＯ2多層膜を作製した。これらをＡｒ雰囲気中、４０
０℃熱処理した後のＭｏ／ＨｆＯ2／Ｓｉ／ＨｆＯ2多層
膜のＸ線（ＣｕＫα線）による１次のブラッグ反射の入
射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比と熱処理を施さないＭｏ
／ＨｆＯ2／Ｓｉ／ＨｆＯ2多層膜の軟Ｘ線反射率の変化
を測定した結果を表４に示した。ＨｆＯ2中間層を形成
したＭｏ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以上にな
ると中間層の無いＭｏ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の変化
が少なくなり耐熱性が向上した。ＨｆＯ2中間層の厚み
が１２Å以上では１２Åの時とほぼ同様のＸ線（１．５
４Å）反射率を示した。
【００２３】熱処理を施さないこの多層膜Ｘ線反射鏡に
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、ＨｆＯ2中間層の厚みが中間層が無い場合の周期
長の約１割にあたる７Åになるまで、ＨｆＯ2中間層が
無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、ＨｆＯ2中間層の厚みが中間層が無い場合の周期
長の約１割にあたる７Åになるまで、ＨｆＯ2中間層が
無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００２４】
【表４】
【００２５】（実施例４）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＲｕ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。また、これと同一構造のＲｕ／Ｓｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＣを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＲｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製
した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃熱処理した後の
Ｒｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜のＸ線（ＣｕＫα線）による
１次のブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比
と熱処理を施さないＲｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜の軟Ｘ線
反射率の変化を測定した結果を表５に示した。Ｃ中間層
を形成したＲｕ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以
上になると中間層の無いＲｕ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率
の変化が少なくなり耐熱性が向上した。Ｃ中間層の厚み
が１２Å以上では１２Åの時とほぼ同様のＸ線（１．５
４Å）反射率を示した。
ング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＲｕ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。また、これと同一構造のＲｕ／Ｓｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＣを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＲｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製
した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃熱処理した後の
Ｒｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜のＸ線（ＣｕＫα線）による
１次のブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比
と熱処理を施さないＲｕ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜の軟Ｘ線
反射率の変化を測定した結果を表５に示した。Ｃ中間層
を形成したＲｕ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以
上になると中間層の無いＲｕ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率
の変化が少なくなり耐熱性が向上した。Ｃ中間層の厚み
が１２Å以上では１２Åの時とほぼ同様のＸ線（１．５
４Å）反射率を示した。
【００２６】熱処理を施さないこの多層膜Ｘ線反射鏡に
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、Ｃ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の約
１割にあたる７Åになるまで、Ｃ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、Ｃ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の約
１割にあたる７Åになるまで、Ｃ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００２７】
【表５】
【００２８】（実施例５）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＲｈを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＲｈ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。また、これと同一構造のＲｈ／Ｓｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＣを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＲｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製
した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃熱処理した後の
Ｒｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜のＸ線（ＣｕＫα線）による
１次のブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比
と熱処理を施さないＲｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜の軟Ｘ線
反射率の変化を測定した結果を表６に示した。Ｃ中間層
を形成したＲｈ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以
上になると中間層の無いＲｈ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率
の変化が少なくなり耐熱性が向上した。
ング法により重元素層にＲｈを用い、軽元素層にＳｉを
用いてＲｈ／Ｓｉ多層膜を作製した。Ｍｏ／Ｓｉ多層膜
の周期長を６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。また、これと同一構造のＲｈ／Ｓｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＣを使用し、Ｃ層の厚みを１〜１２Å
のいずれかの値としたＲｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜を作製
した。これらをＡｒ雰囲気中、４００℃熱処理した後の
Ｒｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜のＸ線（ＣｕＫα線）による
１次のブラッグ反射の入射Ｘ線強度と反射Ｘ線強度の比
と熱処理を施さないＲｈ／Ｃ／Ｓｉ／Ｃ多層膜の軟Ｘ線
反射率の変化を測定した結果を表６に示した。Ｃ中間層
を形成したＲｈ／Ｓｉ多層膜では中間層の厚みが１Å以
上になると中間層の無いＲｈ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率
の変化が少なくなり耐熱性が向上した。
【００２９】熱処理を施さないこの多層膜Ｘ線反射鏡に
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、Ｃ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の約
１割にあたる７Åになるまで、Ｃ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率を測定した
場合、Ｃ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の約
１割にあたる７Åになるまで、Ｃ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００３０】
【表６】
【００３１】（実施例６）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＣａＦ
2を用いてＲｕ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｒｕ／Ｃａ
Ｆ2多層膜の周期長は４０Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は
５０である。また、これと同一構造のＲｕ／ＣａＦ2多
層膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の
厚みを１〜８Åのいずれかの値としたＲｕ／ＢＮ／Ｃａ
Ｆ2／ＢＮ多層膜を作製した。これらをＡｒ雰囲気中、
４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４
Å）反射率の変化を測定した結果と熱処理を施さない本
多層膜に対し、放射光を用いて直入射角３度で軟Ｘ線を
入射させ、波長７．４ｎｍ以上での軟Ｘ線のピーク反射
率を測定した結果を表７に示した。ＢＮ中間層の厚みが
０．５Å以下ではＸ線（ＣｕＫα線）反射率の変化に変
わりはなく熱効果が認められなかったたが、膜厚１Å以
上になると熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変
化が中間層が無いＲｕ／ＣａＦ2多層膜よりも少なくな
って耐熱効果が現れた。
ング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＣａＦ
2を用いてＲｕ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｒｕ／Ｃａ
Ｆ2多層膜の周期長は４０Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は９：１１、重元素層と軽元素層のペアの数は
５０である。また、これと同一構造のＲｕ／ＣａＦ2多
層膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の
厚みを１〜８Åのいずれかの値としたＲｕ／ＢＮ／Ｃａ
Ｆ2／ＢＮ多層膜を作製した。これらをＡｒ雰囲気中、
４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４
Å）反射率の変化を測定した結果と熱処理を施さない本
多層膜に対し、放射光を用いて直入射角３度で軟Ｘ線を
入射させ、波長７．４ｎｍ以上での軟Ｘ線のピーク反射
率を測定した結果を表７に示した。ＢＮ中間層の厚みが
０．５Å以下ではＸ線（ＣｕＫα線）反射率の変化に変
わりはなく熱効果が認められなかったたが、膜厚１Å以
上になると熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変
化が中間層が無いＲｕ／ＣａＦ2多層膜よりも少なくな
って耐熱効果が現れた。
【００３２】熱処理を施さないこの多層膜Ｘ線反射鏡に
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率について
は、ＢＮ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の１
割にあたる４Åになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
入射角３度で放射光軟Ｘ線を入射させ、最も高い反射率
を示す波長（ピーク波長）での軟Ｘ線反射率について
は、ＢＮ中間層の厚みが中間層が無い場合の周期長の１
割にあたる４Åになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００３３】
【表７】
【００３４】（実施例７）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣａＦ
2を用いてＮｉ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃａ
Ｆ2多層膜の周期長は２８Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は８
０とした。また、これと同一構造のＮｉ／ＣａＦ2多層
膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚
みを１〜６Åのいずれかの値としたＮｉ／ＢＮ／ＣａＦ
2／ＢＮ多層膜を作製した。これらを実施例１と同様、
Ａｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ
線（１．５４Å）反射率の変化を測定した結果と作製し
たままで熱処理無しの本多層膜に対し直入射角６度での
波長４．８ｎｍ以上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した
結果とを表８に示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上で
は熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変化が中間
層が無いＮｉ／ＣａＦ2多層膜に比べて向上した。入射
角３度でピークを示す波長での軟Ｘ線反射率については
ＢＮ中間層が、中間層が無い場合のＮｉ／ＣａＦ2多層
膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みになるまで、Ｂ
Ｎ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示し
た。
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣａＦ
2を用いてＮｉ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃａ
Ｆ2多層膜の周期長は２８Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は８
０とした。また、これと同一構造のＮｉ／ＣａＦ2多層
膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚
みを１〜６Åのいずれかの値としたＮｉ／ＢＮ／ＣａＦ
2／ＢＮ多層膜を作製した。これらを実施例１と同様、
Ａｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ
線（１．５４Å）反射率の変化を測定した結果と作製し
たままで熱処理無しの本多層膜に対し直入射角６度での
波長４．８ｎｍ以上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した
結果とを表８に示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上で
は熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変化が中間
層が無いＮｉ／ＣａＦ2多層膜に比べて向上した。入射
角３度でピークを示す波長での軟Ｘ線反射率については
ＢＮ中間層が、中間層が無い場合のＮｉ／ＣａＦ2多層
膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みになるまで、Ｂ
Ｎ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示し
た。
【００３５】
【表８】
【００３６】（実施例８）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＶを用
いてＮｉ／Ｖ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｖ多層膜の周期
長は２８Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｖ多層膜の各層界面に中間
層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６Åのいず
れかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｖ／ＢＮ多層膜を作製し
た。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４００℃
で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無しの本
多層膜に対し直入射角６度での波長４ｎｍ以上の軟Ｘ線
のピーク反射率を測定した結果とを表９に示した。ＢＮ
中間層の厚みが１Å以上では熱処理によるＸ線（１．５
４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／Ｖ多層膜に比
べて向上した。入射角３度でピークを示す波長での軟Ｘ
線反射率についてはＢＮ中間層が、中間層が無い場合の
Ｎｉ／Ｖ多層膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みに
なるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反
射率を示した。
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＶを用
いてＮｉ／Ｖ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｖ多層膜の周期
長は２８Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｖ多層膜の各層界面に中間
層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６Åのいず
れかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｖ／ＢＮ多層膜を作製し
た。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４００℃
で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無しの本
多層膜に対し直入射角６度での波長４ｎｍ以上の軟Ｘ線
のピーク反射率を測定した結果とを表９に示した。ＢＮ
中間層の厚みが１Å以上では熱処理によるＸ線（１．５
４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／Ｖ多層膜に比
べて向上した。入射角３度でピークを示す波長での軟Ｘ
線反射率についてはＢＮ中間層が、中間層が無い場合の
Ｎｉ／Ｖ多層膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みに
なるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反
射率を示した。
【００３７】
【表９】
【００３８】（実施例９）実施例１と同様、スパッタリ
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＴｉを
用いてＮｉ／Ｔｉ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｔｉ多層膜
の周期長は２８Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とし
た。また、これと同一構造のＮｉ／Ｔｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６
Åのいずれかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｔｉ／ＢＮ多層膜
を作製した。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、
４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４
Å）反射率の変化を測定した結果と作製したままで熱処
理無しの本多層膜に対し直入射角６度での波長４ｎｍ以
上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した結果とを表１０に
示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上では熱処理による
Ｘ線（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／
Ｔｉ多層膜に比べて向上した。入射角３度でピークを示
す波長での軟Ｘ線反射率についてはＢＮ中間層が、中間
層が無い場合のＮｉ／Ｔｉ多層膜の周期長の約１割にあ
たる３Åの厚みになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
ング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＴｉを
用いてＮｉ／Ｔｉ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｔｉ多層膜
の周期長は２８Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とし
た。また、これと同一構造のＮｉ／Ｔｉ多層膜の各層界
面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６
Åのいずれかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｔｉ／ＢＮ多層膜
を作製した。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、
４００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４
Å）反射率の変化を測定した結果と作製したままで熱処
理無しの本多層膜に対し直入射角６度での波長４ｎｍ以
上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した結果とを表１０に
示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上では熱処理による
Ｘ線（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／
Ｔｉ多層膜に比べて向上した。入射角３度でピークを示
す波長での軟Ｘ線反射率についてはＢＮ中間層が、中間
層が無い場合のＮｉ／Ｔｉ多層膜の周期長の約１割にあ
たる３Åの厚みになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同
等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００３９】
【表１０】
【００４０】（実施例１０）実施例１と同様、スパッタ
リング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣを
用いてＮｉ／Ｃ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃ多層膜の周
期長は３３Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｃ多層膜の各層界面に中間
層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６Åのいず
れかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｃ／ＢＮ多層膜を作製し
た。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４００℃
で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無しの本
多層膜に対し直入射角１０度での波長４ｎｍ以上の軟Ｘ
線のピーク反射率を測定した結果とを表１１に示した。
ＢＮ中間層の厚みが１Å以上では熱処理によるＸ線
（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／Ｃ多
層膜に比べて向上した。入射角１０度でピークを示す波
長での軟Ｘ線反射率についてはＢＮ中間層が、中間層が
無い場合のＮｉ／Ｃ多層膜の周期長の約１割にあたる３
Åの厚みになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上
の軟Ｘ線反射率を示した。
リング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣを
用いてＮｉ／Ｃ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃ多層膜の周
期長は３３Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｃ多層膜の各層界面に中間
層としてＢＮを使用し、ＢＮ層の厚みを１〜６Åのいず
れかの値としたＮｉ／ＢＮ／Ｃ／ＢＮ多層膜を作製し
た。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４００℃
で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無しの本
多層膜に対し直入射角１０度での波長４ｎｍ以上の軟Ｘ
線のピーク反射率を測定した結果とを表１１に示した。
ＢＮ中間層の厚みが１Å以上では熱処理によるＸ線
（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／Ｃ多
層膜に比べて向上した。入射角１０度でピークを示す波
長での軟Ｘ線反射率についてはＢＮ中間層が、中間層が
無い場合のＮｉ／Ｃ多層膜の周期長の約１割にあたる３
Åの厚みになるまで、ＢＮ中間層が無い場合と同等以上
の軟Ｘ線反射率を示した。
【００４１】
【表１１】
【００４２】（実施例１１）実施例１と同様、スパッタ
リング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣを
用いてＮｉ／Ｃ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃ多層膜の周
期長は３３Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｃ多層膜の各層界面に中間
層としてＳｉＣを使用し、ＳｉＣ層の厚みを１〜６Åの
いずれかの値としたＮｉ／ＳｉＣ／Ｃ／ＳｉＣ多層膜を
作製した。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４
００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）
反射率の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無
しの本多層膜に対し直入射角１０度での波長４ｎｍ以上
の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した結果とを表１２に示
した。ＳｉＣ中間層の厚みが１Å以上では熱処理による
Ｘ線（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／
Ｃ多層膜に比べて向上した。入射角１０度でピークを示
す波長での軟Ｘ線反射率についてはＳｉＣ中間層が、中
間層が無い場合のＮｉ／Ｃ多層膜の周期長の約１割にあ
たる３Åの厚みになるまで、ＳｉＣ中間層が無い場合と
同等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
リング法により重元素層にＮｉを用い、軽元素層にＣを
用いてＮｉ／Ｃ多層膜を作製した。Ｎｉ／Ｃ多層膜の周
期長は３３Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：
２、重元素層と軽元素層のペアの数は１００とした。ま
た、これと同一構造のＮｉ／Ｃ多層膜の各層界面に中間
層としてＳｉＣを使用し、ＳｉＣ層の厚みを１〜６Åの
いずれかの値としたＮｉ／ＳｉＣ／Ｃ／ＳｉＣ多層膜を
作製した。これらを実施例１と同様、Ａｒ雰囲気中、４
００℃で１時間熱処理し、その時のＸ線（１．５４Å）
反射率の変化を測定した結果と作製したままで熱処理無
しの本多層膜に対し直入射角１０度での波長４ｎｍ以上
の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した結果とを表１２に示
した。ＳｉＣ中間層の厚みが１Å以上では熱処理による
Ｘ線（１．５４Å）反射率の変化が中間層が無いＮｉ／
Ｃ多層膜に比べて向上した。入射角１０度でピークを示
す波長での軟Ｘ線反射率についてはＳｉＣ中間層が、中
間層が無い場合のＮｉ／Ｃ多層膜の周期長の約１割にあ
たる３Åの厚みになるまで、ＳｉＣ中間層が無い場合と
同等以上の軟Ｘ線反射率を示した。
【００４３】
【表１２】
【００４４】（実施例１２）実施例１と同様、スパッタ
リング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＣａ
Ｆ2を用いてＲｕ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｒｕ／Ｃ
ａＦ2多層膜の周期長は３６Å、重元素層と軽元素層の
層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は
１００とした。また、これと同一構造のＲｕ／ＣａＦ2
多層膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層
の厚みを１〜６Åのいずれかの値としたＲｕ／ＢＮ／Ｃ
ａＦ2／ＢＮ多層膜を作製した。これらを実施例１と同
様、Ａｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時
のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測定した結果と作
製したままで熱処理無しの本多層膜に対し直入射角８度
での波長６ｎｍ以上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した
結果とを表１３に示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上
では熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変化が中
間層が無いＲｕ／ＣａＦ2多層膜に比べて向上した。入
射角８度でピークを示す波長での軟Ｘ線反射率について
はＢＮ中間層が、中間層が無い場合のＮｉ/ＣａＦ2多層
膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みになるまで、Ｂ
Ｎ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示し
た。
リング法により重元素層にＲｕを用い、軽元素層にＣａ
Ｆ2を用いてＲｕ／ＣａＦ2多層膜を作製した。Ｒｕ／Ｃ
ａＦ2多層膜の周期長は３６Å、重元素層と軽元素層の
層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は
１００とした。また、これと同一構造のＲｕ／ＣａＦ2
多層膜の各層界面に中間層としてＢＮを使用し、ＢＮ層
の厚みを１〜６Åのいずれかの値としたＲｕ／ＢＮ／Ｃ
ａＦ2／ＢＮ多層膜を作製した。これらを実施例１と同
様、Ａｒ雰囲気中、４００℃で１時間熱処理し、その時
のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測定した結果と作
製したままで熱処理無しの本多層膜に対し直入射角８度
での波長６ｎｍ以上の軟Ｘ線のピーク反射率を測定した
結果とを表１３に示した。ＢＮ中間層の厚みが１Å以上
では熱処理によるＸ線（１．５４Å）反射率の変化が中
間層が無いＲｕ／ＣａＦ2多層膜に比べて向上した。入
射角８度でピークを示す波長での軟Ｘ線反射率について
はＢＮ中間層が、中間層が無い場合のＮｉ/ＣａＦ2多層
膜の周期長の約１割にあたる３Åの厚みになるまで、Ｂ
Ｎ中間層が無い場合と同等以上の軟Ｘ線反射率を示し
た。
【００４５】
【表１３】
【００４６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る多層
膜Ｘ線反射鏡においては、周期構成物質層の各層間に中
間層を形成したとき、中間層のない多層膜Ｘ線反射鏡に
比較して耐熱性が向上し、しかも、作製した多層膜Ｘ線
反射鏡のＸ線反射率が向上する。
膜Ｘ線反射鏡においては、周期構成物質層の各層間に中
間層を形成したとき、中間層のない多層膜Ｘ線反射鏡に
比較して耐熱性が向上し、しかも、作製した多層膜Ｘ線
反射鏡のＸ線反射率が向上する。
【００４７】また、上記中間層として１Å以上の適切な
膜厚を用いると、更に上記の効果が向上する。
膜厚を用いると、更に上記の効果が向上する。
【図１】本発明に係る多層膜Ｘ線反射鏡の実施の形態を
示す概念図である。
示す概念図である。
１ 重元素層 ２ 軽元素層 ３ 中間層 ４ 周期構成物質層
Claims (4)
- 【請求項１】複数の物質層を周期的に積層した多層膜Ｘ
線反射鏡において、上記物質層の各層間に中間層を形成
し、上記中間層として、少なくとも一つの上記物質層よ
りも融点の高い物質を使用することを特徴とする多層膜
Ｘ線反射鏡。 - 【請求項２】上記中間層として、硼素、炭素の少なくと
も一種からなる材料を使用することを特徴とする請求項
１に記載の多層膜Ｘ線反射鏡。 - 【請求項３】上記中間層として、酸化物あるいは窒化物
からなる物質を使用することを特徴とする請求項１に記
載の多層膜Ｘ線反射鏡。 - 【請求項４】上記中間層の厚みを１Å以上とすることを
特徴とする請求項１、２または３に記載の多層膜Ｘ線反
射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324996A JPH09230098A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3324996A JPH09230098A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09230098A true JPH09230098A (ja) | 1997-09-05 |
Family
ID=12381225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3324996A Pending JPH09230098A (ja) | 1996-02-21 | 1996-02-21 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09230098A (ja) |
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-
1996
- 1996-02-21 JP JP3324996A patent/JPH09230098A/ja active Pending
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