JP3097778B2 - 多層膜分光反射鏡 - Google Patents
多層膜分光反射鏡Info
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- JP3097778B2 JP3097778B2 JP04010254A JP1025492A JP3097778B2 JP 3097778 B2 JP3097778 B2 JP 3097778B2 JP 04010254 A JP04010254 A JP 04010254A JP 1025492 A JP1025492 A JP 1025492A JP 3097778 B2 JP3097778 B2 JP 3097778B2
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- layer
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体材料などの各種
の材料の化学状態、化学組成、不純物濃度、中でも軽元
素を高感度で分析する装置に必要な軟Ｘ線を選択する分
光素子や、微細加工、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡などに必
要なＸ線分光反射鏡に関するものである。
の材料の化学状態、化学組成、不純物濃度、中でも軽元
素を高感度で分析する装置に必要な軟Ｘ線を選択する分
光素子や、微細加工、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡などに必
要なＸ線分光反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】等間隔に原子面が並んだり、重元素層と
軽元素層がそれぞれ一定の厚みで交互に並んでいるよう
な物質や材料にＸ線が入射すると各原子や各層でＸ線が
散乱する。ある特定の角度方向ではこれら散乱したＸ線
が干渉し強めあう結果、その角度方向に強いＸ線が出射
する現象、いわゆるブラッグ回折が観察される。
軽元素層がそれぞれ一定の厚みで交互に並んでいるよう
な物質や材料にＸ線が入射すると各原子や各層でＸ線が
散乱する。ある特定の角度方向ではこれら散乱したＸ線
が干渉し強めあう結果、その角度方向に強いＸ線が出射
する現象、いわゆるブラッグ回折が観察される。
【０００３】現在、単色、準単色の軟Ｘ線やＸ線を選択
するために、このようなブラッグ回折効果を有する分光
素子が用いられているが、中でも重元素層と軽元素層が
交互に一定の厚みで形成された多層膜が使用されるよう
になってきた。多層膜はシリコンや石英などの基板の上
に、一般には軽元素層と重元素層をそれぞれ一定の厚み
で規則正しく積層させて形成されており、このような多
層膜は特に軟Ｘ線波長領域で回折格子や結晶に比べてＸ
線の反射率が高いという利点を有している。例えば波長
が約１３ｎｍ程度では重元素層にＭｏやＲｕを使用し、
軽元素層にＳｉを使用した、Ｍｏ／Ｓｉ，Ｒｕ／Ｓｉ
は、５０〜６０％という高い反射率が得られることから
上記分光素子への適用が検討されつつあった。
するために、このようなブラッグ回折効果を有する分光
素子が用いられているが、中でも重元素層と軽元素層が
交互に一定の厚みで形成された多層膜が使用されるよう
になってきた。多層膜はシリコンや石英などの基板の上
に、一般には軽元素層と重元素層をそれぞれ一定の厚み
で規則正しく積層させて形成されており、このような多
層膜は特に軟Ｘ線波長領域で回折格子や結晶に比べてＸ
線の反射率が高いという利点を有している。例えば波長
が約１３ｎｍ程度では重元素層にＭｏやＲｕを使用し、
軽元素層にＳｉを使用した、Ｍｏ／Ｓｉ，Ｒｕ／Ｓｉ
は、５０〜６０％という高い反射率が得られることから
上記分光素子への適用が検討されつつあった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜やＲｕ／Ｓｉ多層膜においては、Ｍｏ
の融点が約２６００℃、Ｒｕの融点が約２３００℃ある
のに対し、Ｓｉの融点が１４１０℃と低いために、数１
００℃のレベルでＭｏ／Ｓｉ多層膜やＲｕ／Ｓｉ多層膜
の構造が乱れ始める。例えばＭｏ／Ｓｉ多層膜をＡｒ雰
囲気中で１時間熱処理した場合のＸ線反射率は、２００
℃１時間の熱処理ではほとんど変化しないが、４００℃
程度の温度を越えると多層膜の積層構造が原子の拡散な
どによって乱れ、この影響でＸ線反射率は急激に低下す
る。この事実を反映して、高強度のＸ線や軟Ｘ線がこの
多層膜に照射されると照射部の温度が上昇するため、こ
の部分の積層構造が乱れ、この影響で反射率が低下す
る。反射率が低下すると、分析応用の場合には変化した
だけ精度や確度が悪くなり、また、Ｘ線リソグラフィー
などに適用された場合は、レジストを適正時間露光する
ことが困難になる。更には、多層膜そのものの寿命が短
いなどの様々の問題を有していた。
Ｍｏ／Ｓｉ多層膜やＲｕ／Ｓｉ多層膜においては、Ｍｏ
の融点が約２６００℃、Ｒｕの融点が約２３００℃ある
のに対し、Ｓｉの融点が１４１０℃と低いために、数１
００℃のレベルでＭｏ／Ｓｉ多層膜やＲｕ／Ｓｉ多層膜
の構造が乱れ始める。例えばＭｏ／Ｓｉ多層膜をＡｒ雰
囲気中で１時間熱処理した場合のＸ線反射率は、２００
℃１時間の熱処理ではほとんど変化しないが、４００℃
程度の温度を越えると多層膜の積層構造が原子の拡散な
どによって乱れ、この影響でＸ線反射率は急激に低下す
る。この事実を反映して、高強度のＸ線や軟Ｘ線がこの
多層膜に照射されると照射部の温度が上昇するため、こ
の部分の積層構造が乱れ、この影響で反射率が低下す
る。反射率が低下すると、分析応用の場合には変化した
だけ精度や確度が悪くなり、また、Ｘ線リソグラフィー
などに適用された場合は、レジストを適正時間露光する
ことが困難になる。更には、多層膜そのものの寿命が短
いなどの様々の問題を有していた。
【０００５】本発明は、上述の問題を解決するために提
案されたもので、その目的は、軽元素層にＳｉを用いた
多層膜のＸ線反射率を同程度に維持したまま耐熱性の向
上された多層膜分光反射鏡を提供することにある。
案されたもので、その目的は、軽元素層にＳｉを用いた
多層膜のＸ線反射率を同程度に維持したまま耐熱性の向
上された多層膜分光反射鏡を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために鋭意検討した結果、重元素層と軽元素
層との間にＳｉとＣの化合物からなる中間層を使用する
ことにより上記の問題が解消されることを見出した。す
なわち本発明は、ブラッグ回折効果を有する多層膜分光
素子のＳｉからなる軽元素層と融点がＳｉよりも高い材
料からなる重元素層との間にＳｉとＣからなる化合物中
間層を使用したことを特徴とする多層膜分光反射鏡を要
旨とするものである。
を達成するために鋭意検討した結果、重元素層と軽元素
層との間にＳｉとＣの化合物からなる中間層を使用する
ことにより上記の問題が解消されることを見出した。す
なわち本発明は、ブラッグ回折効果を有する多層膜分光
素子のＳｉからなる軽元素層と融点がＳｉよりも高い材
料からなる重元素層との間にＳｉとＣからなる化合物中
間層を使用したことを特徴とする多層膜分光反射鏡を要
旨とするものである。
【０００７】
【作用】Ｓｉの融点は１４１０℃程度であるが、これに
Ｃを約２％以上化合させると融点は図１に示すように上
昇していく。即ち、重元素層にＳｉよりも融点の高い材
料を用い、かつ、軽元素層にＳｉを用いた多層膜におい
て、重元素層と軽元素層との間にＳｉに約２％以上Ｃを
化合させたＳｉ−Ｃ化合物中間層を用いると多層膜の重
元素の金属とＳｉの拡散が抑制され、多層膜の耐熱性が
向上されることになる。しかも金属／Ｓｉ多層膜とＳｉ
−Ｃ化合物中間層を用いた金属／Ｓｉ多層膜の反射率を
比較した場合、一般にＳｉにＣが１０％程度まで入った
中間層が存在することによるＸ線反射率や軟Ｘ線反射率
の低下は少ない。また、特に高い反射率を必要とせず、
経時変化の少なさだけを求める場合、中間層のＣ含有量
が更に増加してもかまわない。このため、中間層にこの
ような材料を用い、かつ、重元素層に融点がＳｉよりも
高い材料を用いた多層膜を、（１）Ｘ線・軟Ｘ線を利用
した各種分析に適用させた場合、多層膜の耐熱性が軽元
素層にＳｉを用いた多層膜よりも向上するため、反射率
の変化が少なくなり、精度や確度が向上する。（２）Ｘ
線リソグラフィーに適用させた場合、中間層の無い金属
／Ｓｉを用いた多層膜よりも（１）と同様の理由で反射
率の変化が少なくなり、適正露光時間を正確に決められ
るようになる。（３）更に多層膜自身の寿命が延びるな
どの効果を有することとなる。
Ｃを約２％以上化合させると融点は図１に示すように上
昇していく。即ち、重元素層にＳｉよりも融点の高い材
料を用い、かつ、軽元素層にＳｉを用いた多層膜におい
て、重元素層と軽元素層との間にＳｉに約２％以上Ｃを
化合させたＳｉ−Ｃ化合物中間層を用いると多層膜の重
元素の金属とＳｉの拡散が抑制され、多層膜の耐熱性が
向上されることになる。しかも金属／Ｓｉ多層膜とＳｉ
−Ｃ化合物中間層を用いた金属／Ｓｉ多層膜の反射率を
比較した場合、一般にＳｉにＣが１０％程度まで入った
中間層が存在することによるＸ線反射率や軟Ｘ線反射率
の低下は少ない。また、特に高い反射率を必要とせず、
経時変化の少なさだけを求める場合、中間層のＣ含有量
が更に増加してもかまわない。このため、中間層にこの
ような材料を用い、かつ、重元素層に融点がＳｉよりも
高い材料を用いた多層膜を、（１）Ｘ線・軟Ｘ線を利用
した各種分析に適用させた場合、多層膜の耐熱性が軽元
素層にＳｉを用いた多層膜よりも向上するため、反射率
の変化が少なくなり、精度や確度が向上する。（２）Ｘ
線リソグラフィーに適用させた場合、中間層の無い金属
／Ｓｉを用いた多層膜よりも（１）と同様の理由で反射
率の変化が少なくなり、適正露光時間を正確に決められ
るようになる。（３）更に多層膜自身の寿命が延びるな
どの効果を有することとなる。
【０００８】
【実施例】次に本発明の代表的な実施例について説明す
る。
る。
【０００９】実施例１ スパッタリング法により重元素層としてＭｏを用い、軽
元素層にＳｉを用いたＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。ま
た中間層にＳｉＣを使用した多層膜を作製した。Ｍｏ／
Ｓｉの周期長は約６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の
比率は２：３、重元素層と軽元素層のペアの数を３０と
した。中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／Ｓｉ多層膜の周
期長は約６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、中間層の厚みは約３Å、ペア層数は３０とし
た。これらの多層膜をＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時
間熱処理した。そのときのＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。反射率と熱処理温度との関係を図２に
示す。高温での熱処理でも中間層にＳｉＣを使用したＭ
ｏ／Ｓｉ多層膜はＭｏ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の低下
がはるかに少なく、耐熱性に優れていることが確認され
た。波長１３ｎｍでの反射率はＭｏ／Ｓｉ多層膜で５６
％、中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／Ｓｉ多層膜で５３
％であった。熱処理後はＭｏ／Ｓｉ多層膜では反射率は
６％まで減少したが、中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／
Ｓｉ多層膜では反射率４６％と高い値を維持していた。
元素層にＳｉを用いたＭｏ／Ｓｉ多層膜を作製した。ま
た中間層にＳｉＣを使用した多層膜を作製した。Ｍｏ／
Ｓｉの周期長は約６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の
比率は２：３、重元素層と軽元素層のペアの数を３０と
した。中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／Ｓｉ多層膜の周
期長は約６７Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、中間層の厚みは約３Å、ペア層数は３０とし
た。これらの多層膜をＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時
間熱処理した。そのときのＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。反射率と熱処理温度との関係を図２に
示す。高温での熱処理でも中間層にＳｉＣを使用したＭ
ｏ／Ｓｉ多層膜はＭｏ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の低下
がはるかに少なく、耐熱性に優れていることが確認され
た。波長１３ｎｍでの反射率はＭｏ／Ｓｉ多層膜で５６
％、中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／Ｓｉ多層膜で５３
％であった。熱処理後はＭｏ／Ｓｉ多層膜では反射率は
６％まで減少したが、中間層にＳｉＣを使用したＭｏ／
Ｓｉ多層膜では反射率４６％と高い値を維持していた。
【００１０】実施例２ 実施例１と同様に、重元素層としてＭｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，
Ｒｅを用い、軽元素層にＳｉ、中間層にＳｉ100-xＣxを
使用して多層膜を作製した。中間層の無い多層膜の周期
長はいずれも約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比
率は２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０とし
た。中間層にＳｉ100-xＣxを使用した多層膜の周期長は
いずれも約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、ペア層数は３０とした。中間層の組成ｘの値を
２から９９までの間で変化させた。中間層の厚みは約３
Åとした。これらの多層膜をＡｒ雰囲気中、６００℃で
１時間熱処理した。そのときのＸ線（１．５４Å）反射
率の熱処理前後の変化を測定した。図３に熱処理後の反
射率／熱処理前の反射率と組成との関係を示す。反射率
の変化が少ない程耐熱性に優れていることを示す。高温
での熱処理においてもＳｉ100-xＣx中間層を使用した多
層膜は中間層の無い多層膜に比べ反射率の低下は少なく
耐熱性に優れることが確認された。
Ｒｅを用い、軽元素層にＳｉ、中間層にＳｉ100-xＣxを
使用して多層膜を作製した。中間層の無い多層膜の周期
長はいずれも約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比
率は２：３、重元素層と軽元素層のペアの数は３０とし
た。中間層にＳｉ100-xＣxを使用した多層膜の周期長は
いずれも約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比率は
２：３、ペア層数は３０とした。中間層の組成ｘの値を
２から９９までの間で変化させた。中間層の厚みは約３
Åとした。これらの多層膜をＡｒ雰囲気中、６００℃で
１時間熱処理した。そのときのＸ線（１．５４Å）反射
率の熱処理前後の変化を測定した。図３に熱処理後の反
射率／熱処理前の反射率と組成との関係を示す。反射率
の変化が少ない程耐熱性に優れていることを示す。高温
での熱処理においてもＳｉ100-xＣx中間層を使用した多
層膜は中間層の無い多層膜に比べ反射率の低下は少なく
耐熱性に優れることが確認された。
【００１１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の中間層にＳ
ｉとＣからなる化合物を使用した多層膜は、中間層の無
い金属／Ｓｉを用いた多層膜に比較して耐熱性が向上し
ている。このため、このような多層膜を（１）Ｘ線・軟
Ｘ線を利用した各種分析に適用させた場合、多層膜の耐
熱性が中間層なしで軽元素層にＳｉを用いた多層膜より
も向上するため、耐熱性の向上から反射率の変化が少な
くなり、精度や確度が向上する。（２）Ｘ線リソグラフ
ィーに適用させた場合、中間層の無い軽元素層にＳｉを
用いた多層膜よりも（１）と同様の理由で反射率の変化
が少なくなり、適正露光時間を正確に決められるように
なる。（３）更に多層膜自身の寿命が延びるなどの効果
を有することとなる。上記の実施例ではＳｉとＣの化合
物を中間層として使用した例を述べたが、これらに他の
元素を加えて融点が更に向上する場合、即ち、Ｓｉ−Ｃ
−他元素の化合物を中間層に適用しても効果があるこ
と、また、重元素層に実施例以外の元素や化合物でＳｉ
より融点の高い材料を使用した場合にも効果があること
は言うまでもない。さらに中間層中のＣ濃度は必ずしも
一定である必要は無く、例えば軽元素層側より重元素層
側に向って増加するように濃度勾配を持たせても良く、
また、軽元素側、重元素側でＣ濃度が減少していても増
加していても良い。
ｉとＣからなる化合物を使用した多層膜は、中間層の無
い金属／Ｓｉを用いた多層膜に比較して耐熱性が向上し
ている。このため、このような多層膜を（１）Ｘ線・軟
Ｘ線を利用した各種分析に適用させた場合、多層膜の耐
熱性が中間層なしで軽元素層にＳｉを用いた多層膜より
も向上するため、耐熱性の向上から反射率の変化が少な
くなり、精度や確度が向上する。（２）Ｘ線リソグラフ
ィーに適用させた場合、中間層の無い軽元素層にＳｉを
用いた多層膜よりも（１）と同様の理由で反射率の変化
が少なくなり、適正露光時間を正確に決められるように
なる。（３）更に多層膜自身の寿命が延びるなどの効果
を有することとなる。上記の実施例ではＳｉとＣの化合
物を中間層として使用した例を述べたが、これらに他の
元素を加えて融点が更に向上する場合、即ち、Ｓｉ−Ｃ
−他元素の化合物を中間層に適用しても効果があるこ
と、また、重元素層に実施例以外の元素や化合物でＳｉ
より融点の高い材料を使用した場合にも効果があること
は言うまでもない。さらに中間層中のＣ濃度は必ずしも
一定である必要は無く、例えば軽元素層側より重元素層
側に向って増加するように濃度勾配を持たせても良く、
また、軽元素側、重元素側でＣ濃度が減少していても増
加していても良い。
【図１】ＳｉとＣ、及びこれらの化合物の融点を示した
図である。
図である。
【図２】Ｍｏ／Ｓｉ多層膜とＳｉＣを中間層としたＭｏ
／Ｓｉ多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の関係を示した
図である。
／Ｓｉ多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の関係を示した
図である。
【図３】各種多層膜の熱処理後の反射率／熱処理前の反
射率と中間層のＣ濃度との関係を示した図である。
射率と中間層のＣ濃度との関係を示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G21K 1/06
Claims (1)
- 【請求項１】 ブラッグ回折効果を有する多層膜分光素
子のＳｉからなる軽元素層と融点がＳｉよりも高い材料
からなる重元素層との間にＳｉとＣからなる化合物中間
層を使用したことを特徴とする多層膜分光反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04010254A JP3097778B2 (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 多層膜分光反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04010254A JP3097778B2 (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 多層膜分光反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05203798A JPH05203798A (ja) | 1993-08-10 |
| JP3097778B2 true JP3097778B2 (ja) | 2000-10-10 |
Family
ID=11745187
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04010254A Expired - Lifetime JP3097778B2 (ja) | 1992-01-23 | 1992-01-23 | 多層膜分光反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3097778B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7261957B2 (en) | 2000-03-31 | 2007-08-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Multilayer system with protecting layer system and production method |
| EP1348984A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-01 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Optical broad band element and process for its production |
| JPWO2023037980A1 (ja) | 2021-09-07 | 2023-03-16 | ||
| KR20240070522A (ko) | 2021-09-30 | 2024-05-21 | 호야 가부시키가이샤 | 다층 반사막 부착 기판, 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법 |
-
1992
- 1992-01-23 JP JP04010254A patent/JP3097778B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05203798A (ja) | 1993-08-10 |
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| Date | Code | Title | Description |
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