JP2995371B2 - Ｘ線反射鏡用材料 - Google Patents
Ｘ線反射鏡用材料Info
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- G—PHYSICS
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- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、Ｘ線領域における全
反射鏡、多層膜鏡などのＸ線反射鏡の反射面材料に関す
る。
反射鏡、多層膜鏡などのＸ線反射鏡の反射面材料に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線領域である波長；０．１〜２００Å
において、反射光学系では、その用途および波長に合わ
せて全反射鏡、多層膜反射鏡などが用いられる。斜入射
角が小さい場合、ミラーの面積が大きくなり、また集光
・結像素子として用いる光学系においては、開口が小さ
く、収差が大きくなる。このため、Ｘ線の反射面に対す
る全反射の臨界角は大きいことが望まれ、全反射の臨界
角の大きさは反射材料の密度に比例することから、Ａｕ
（金），Ｐｔ（白金）などの高密度物質を用いる。Ａ
ｕ、Ｐｔは化学的に非常に安定で、反射特性の信頼性か
らＸ線の反射面として、これらの物質が用いられる。こ
れらの反射鏡は非常に平滑に研磨できる石英ガラス、単
結晶シリコン、ＳｉＣなどの材料の表面にＡｕ，Ｐｔな
ど材料が真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的あ
るいは化学的ベイパーデポジッション法、またはメッキ
法で成膜される。
において、反射光学系では、その用途および波長に合わ
せて全反射鏡、多層膜反射鏡などが用いられる。斜入射
角が小さい場合、ミラーの面積が大きくなり、また集光
・結像素子として用いる光学系においては、開口が小さ
く、収差が大きくなる。このため、Ｘ線の反射面に対す
る全反射の臨界角は大きいことが望まれ、全反射の臨界
角の大きさは反射材料の密度に比例することから、Ａｕ
（金），Ｐｔ（白金）などの高密度物質を用いる。Ａ
ｕ、Ｐｔは化学的に非常に安定で、反射特性の信頼性か
らＸ線の反射面として、これらの物質が用いられる。こ
れらの反射鏡は非常に平滑に研磨できる石英ガラス、単
結晶シリコン、ＳｉＣなどの材料の表面にＡｕ，Ｐｔな
ど材料が真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的あ
るいは化学的ベイパーデポジッション法、またはメッキ
法で成膜される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】Ｘ線の波長は通常の可
視光と比べて、およそ１０〜１００００倍、波長が短い
ため、この波長領域で高効率の反射率を得るためには、
反射面の表面粗さ及び界面の粗さ１０〜１０００倍程度
小さくしなてはならない。平滑に研磨された石英ガラス
などの基板においても、成膜時に膜表面の粗さが大きく
なる可能性がある。特に、Ｐｔ，Ａｕなどの物質はデバ
イ温度が低く、室温での原子のモビリティーが大きい。
このため、真空蒸着やスパッタリング時に結晶粒が成長
し表面粗さが大きくなる原因となる。さらに、成膜する
膜厚は全反射鏡に対しては１００〜１０００Å、多層膜
鏡に対しては一層の膜厚が１０〜１００Åであり、この
ような膜厚範囲においては薄膜の密度は上記のような方
法で作製する場合、バルク材料の密度に比べて５〜３０
％程度小さくなる傾向がある。このため十分なＸ線反射
性能が得られていない。
視光と比べて、およそ１０〜１００００倍、波長が短い
ため、この波長領域で高効率の反射率を得るためには、
反射面の表面粗さ及び界面の粗さ１０〜１０００倍程度
小さくしなてはならない。平滑に研磨された石英ガラス
などの基板においても、成膜時に膜表面の粗さが大きく
なる可能性がある。特に、Ｐｔ，Ａｕなどの物質はデバ
イ温度が低く、室温での原子のモビリティーが大きい。
このため、真空蒸着やスパッタリング時に結晶粒が成長
し表面粗さが大きくなる原因となる。さらに、成膜する
膜厚は全反射鏡に対しては１００〜１０００Å、多層膜
鏡に対しては一層の膜厚が１０〜１００Åであり、この
ような膜厚範囲においては薄膜の密度は上記のような方
法で作製する場合、バルク材料の密度に比べて５〜３０
％程度小さくなる傾向がある。このため十分なＸ線反射
性能が得られていない。
【０００４】そこで、この発明の目的は、上記のような
成膜方法により作製したＰｔ膜の表面粗さの低減化をは
かり、純Ｐｔ膜の密度とほぼ等しい密度を有し、反射特
性に優れ、かつ化学的に安定なＸ線反射鏡用反射材料を
得ることである。
成膜方法により作製したＰｔ膜の表面粗さの低減化をは
かり、純Ｐｔ膜の密度とほぼ等しい密度を有し、反射特
性に優れ、かつ化学的に安定なＸ線反射鏡用反射材料を
得ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明ではＸ線反射鏡の反射面として、一般式がＰ
ｔ1-x Ｍx で表される合金膜を用い、膜密度をあまり低
下させずに、表面粗さを小さくする。
に、本発明ではＸ線反射鏡の反射面として、一般式がＰ
ｔ1-x Ｍx で表される合金膜を用い、膜密度をあまり低
下させずに、表面粗さを小さくする。
【０００６】ただし、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。つまり、ｘは％でいうと、０．
５％〜１０％の範囲のＰｔ100-x Ｍx である。
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。つまり、ｘは％でいうと、０．
５％〜１０％の範囲のＰｔ100-x Ｍx である。
【０００７】
【作用】Ｐｔ（白金）に前述の添加物を０．５％〜１０
％を添加すると、従来純Ｐｔ膜の結晶粒径より、本願発
明の合金膜の結晶粒径が、かなり小さくなる。そして、
その結晶粒径のばらつきも小さくなり、そして、表面粗
さも小さくなる。また、添加量が小さいため、膜密度も
それ程低下しないため、Ｘ線反射能が高くなる。添加物
の量を１０％以上にすると、表面粗さが悪くなると同時
に、膜の密度も低下するためＸ線反射能も低下すること
になる。
％を添加すると、従来純Ｐｔ膜の結晶粒径より、本願発
明の合金膜の結晶粒径が、かなり小さくなる。そして、
その結晶粒径のばらつきも小さくなり、そして、表面粗
さも小さくなる。また、添加量が小さいため、膜密度も
それ程低下しないため、Ｘ線反射能が高くなる。添加物
の量を１０％以上にすると、表面粗さが悪くなると同時
に、膜の密度も低下するためＸ線反射能も低下すること
になる。
【０００８】
【実施例】以下に、この発明の実施例に基づいて説明す
る。 （実施例１）この発明で使用するＸ線反射鏡用材料はＰ
ｔ−Ｐｄ膜は次のような方法で成膜することができる。
成膜は、スパッタリング法で行われたが、そのほかの多
くの成膜技術によっても作製することができる。また基
板には単結晶シリコンとＢＫ７ガラスが用いられたが、
その他の非常に平滑に研磨された材料においても同様で
ある。スパッタリング法で行う場合、スパッタリング中
の基板温度ほぼ室温に保たれている。
る。 （実施例１）この発明で使用するＸ線反射鏡用材料はＰ
ｔ−Ｐｄ膜は次のような方法で成膜することができる。
成膜は、スパッタリング法で行われたが、そのほかの多
くの成膜技術によっても作製することができる。また基
板には単結晶シリコンとＢＫ７ガラスが用いられたが、
その他の非常に平滑に研磨された材料においても同様で
ある。スパッタリング法で行う場合、スパッタリング中
の基板温度ほぼ室温に保たれている。
【０００９】本実施例は、Ｘ線波長領域が０．７〜２Å
において全反射鏡として用いる場合のＰｔ−Ｐｄ合金膜
である。ターゲットはＰｔターゲット上にＰｄチップを
配置した複合ターゲットを用い、精密にＰｄ量を調整を
した。Ｐｔ−Ｐｄ合金膜の膜厚は５００Åとした。Ｐｄ
含有量は、１原子％〜１０原子％の間で調整された。従
来の純Ｐｔ膜の結晶粒径は１００〜５００Åで、様々な
大きさの結晶粒径からなっている。平均粒径は２００Å
であった。Ｐｄを添加することによって、１〜２原子％
のＰｄ添加したＰｔ−Ｐｄ合金膜の結晶粒径は５０〜１
５０Åで、かなり結晶粒径が小さくなる。そして結晶粒
径のばらつきも小さくなった。平均結晶粒径はおよそ９
０Åである。結晶粒のばらつきを抑え、しかも微細な結
晶粒化はＰｄが１０原子％まで効果がある。
において全反射鏡として用いる場合のＰｔ−Ｐｄ合金膜
である。ターゲットはＰｔターゲット上にＰｄチップを
配置した複合ターゲットを用い、精密にＰｄ量を調整を
した。Ｐｔ−Ｐｄ合金膜の膜厚は５００Åとした。Ｐｄ
含有量は、１原子％〜１０原子％の間で調整された。従
来の純Ｐｔ膜の結晶粒径は１００〜５００Åで、様々な
大きさの結晶粒径からなっている。平均粒径は２００Å
であった。Ｐｄを添加することによって、１〜２原子％
のＰｄ添加したＰｔ−Ｐｄ合金膜の結晶粒径は５０〜１
５０Åで、かなり結晶粒径が小さくなる。そして結晶粒
径のばらつきも小さくなった。平均結晶粒径はおよそ９
０Åである。結晶粒のばらつきを抑え、しかも微細な結
晶粒化はＰｄが１０原子％まで効果がある。
【００１０】図１は、Ｐｄ添加量とｒｍｓ（ｒｏｏｔ
ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅｓ）表面粗さの関係を示したの
である。Ｐｄを添加することによって、純Ｐｔスパッタ
リング膜に比べてかなり表面粗さが小さくなる。単結晶
シリコン及びＢＫ７ガラス基板ともに同様の効果があ
り、３〜４原子％のＰｄ含有量で最もＰｔ−Ｐｄ合金膜
の表面粗さは小さくなる。
ｍｅａｎ ｓｑｕａｒｅｓ）表面粗さの関係を示したの
である。Ｐｄを添加することによって、純Ｐｔスパッタ
リング膜に比べてかなり表面粗さが小さくなる。単結晶
シリコン及びＢＫ７ガラス基板ともに同様の効果があ
り、３〜４原子％のＰｄ含有量で最もＰｔ−Ｐｄ合金膜
の表面粗さは小さくなる。
【００１１】図２はＣｕＫαＸ線（波長：１．５４Å）
で測定したＸ線反射率である。実線で示した曲線はＰｔ
膜が理想的な表面（粗さ＝０）とバルクに等しい密度を
有したときの理論反射率である。実際に計測されたＸ線
反射率は図２に示すごとく、理論反射率に比較して小さ
い反射率を示す。この原因は、表面粗さとバルク材料と
比べて低いＰｔ膜の密度によるものである。Ｐｄを添加
したＰｔ−Ｐｄ合金膜のほとんどが０．５゜以下の斜入
射角で純Ｐｔ膜よりも高い反射率が得られる。
で測定したＸ線反射率である。実線で示した曲線はＰｔ
膜が理想的な表面（粗さ＝０）とバルクに等しい密度を
有したときの理論反射率である。実際に計測されたＸ線
反射率は図２に示すごとく、理論反射率に比較して小さ
い反射率を示す。この原因は、表面粗さとバルク材料と
比べて低いＰｔ膜の密度によるものである。Ｐｄを添加
したＰｔ−Ｐｄ合金膜のほとんどが０．５゜以下の斜入
射角で純Ｐｔ膜よりも高い反射率が得られる。
【００１２】一方、全反射の臨界角は、およそ３原子％
以上のＰｄの添加で密度がかなり減少するため、低下す
る。およそ３原子％以下のＰｄ添加であれば純Ｐｔ膜密
度とほとんど同じ値であり、純Ｐｔ膜の反射率よりも高
い反射率がＰｔ−Ｐｄ膜から得られる。
以上のＰｄの添加で密度がかなり減少するため、低下す
る。およそ３原子％以下のＰｄ添加であれば純Ｐｔ膜密
度とほとんど同じ値であり、純Ｐｔ膜の反射率よりも高
い反射率がＰｔ−Ｐｄ膜から得られる。
【００１３】このようにして成膜したＰｔ1-x Ｍx 膜
は、Ｍ＝Ｐｔの他に特許請求範囲に記載の、Ｍ＝Ｍｏ，
Ｒｕ，Ｒｄ，Ｔａ，Ｗについても同様の効果がある。 （実施例２）実施例１に示す結果をもとに、一般式がＰ
ｔ1-x Ｍx で表される合金膜を用いて高反射率を有する
Ｘ線多層膜反射鏡を製作できる。
は、Ｍ＝Ｐｔの他に特許請求範囲に記載の、Ｍ＝Ｍｏ，
Ｒｕ，Ｒｄ，Ｔａ，Ｗについても同様の効果がある。 （実施例２）実施例１に示す結果をもとに、一般式がＰ
ｔ1-x Ｍx で表される合金膜を用いて高反射率を有する
Ｘ線多層膜反射鏡を製作できる。
【００１４】ただし、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
【００１５】Ｘ線多層膜反射鏡は重金属物質と軽元素物
質の組み合わせで１層が１０〜１００Åで１０〜２００
層程度積層させたものである。Ｘ線多層膜反射鏡は真空
蒸着法によって作製した。多層膜は一層の厚さが２５Å
のＰｔと炭素（Ｃ）の組み合わせとＰｔ−１原子％Ｐｄ
とＣの組み合わせの２種類が製作された。
質の組み合わせで１層が１０〜１００Åで１０〜２００
層程度積層させたものである。Ｘ線多層膜反射鏡は真空
蒸着法によって作製した。多層膜は一層の厚さが２５Å
のＰｔと炭素（Ｃ）の組み合わせとＰｔ−１原子％Ｐｄ
とＣの組み合わせの２種類が製作された。
【００１６】図３はＰｔ／ＣＸ線多層膜反射鏡とＰｔ−
１原子％Ｐｄ／ＣＸ線多層膜反射鏡のＡｌＫαＸ線（波
長：８．３４Å）で計測したＸ線反射率である。図３に
示すごとく、ピークＸ線反射率は２〜３％である。Ｐｔ
とＣ膜が理想的な表面と界面（粗さ＝０）を有し、そし
てバルクに等しい密度を有したときのＰｔ／ＣＸ線多層
膜反射鏡の理論反射率は３２％である。理想反射率との
違いは表面と界面の粗さおよび膜密度の低下である。作
製したＰｔ／ＣＸ線多層膜反射鏡の多層膜のｒｍｓ表面
粗さ及び界面の粗さは４．５〜５．５Å、ＰｔおよびＣ
の膜密度はバルク材料の密度の８０％程度と見積もるこ
とができる。
１原子％Ｐｄ／ＣＸ線多層膜反射鏡のＡｌＫαＸ線（波
長：８．３４Å）で計測したＸ線反射率である。図３に
示すごとく、ピークＸ線反射率は２〜３％である。Ｐｔ
とＣ膜が理想的な表面と界面（粗さ＝０）を有し、そし
てバルクに等しい密度を有したときのＰｔ／ＣＸ線多層
膜反射鏡の理論反射率は３２％である。理想反射率との
違いは表面と界面の粗さおよび膜密度の低下である。作
製したＰｔ／ＣＸ線多層膜反射鏡の多層膜のｒｍｓ表面
粗さ及び界面の粗さは４．５〜５．５Å、ＰｔおよびＣ
の膜密度はバルク材料の密度の８０％程度と見積もるこ
とができる。
【００１７】一方、Ｐｔ−１原子％ＰｄとＣの組み合わ
せのＸ線多層膜反射鏡では、ピーク反射率１５％程度が
得られ、膜表面と界面の粗さは２．５〜３Åである。膜
表面と界面粗さの低減化は、多層膜の１層の厚さが１０
〜１００Åの領域でも、ほぼ同じ効果で可能であり、同
様の結果が得られる。図３は、Ｐｔ−１原子％Ｐｄ／Ｃ
の組み合わせの例であるが、一般式；Ｐｔ1-x Ｍx で表
される合金膜が多層膜の組み合わせの一方を構成すると
き、同様の効果が得られる。
せのＸ線多層膜反射鏡では、ピーク反射率１５％程度が
得られ、膜表面と界面の粗さは２．５〜３Åである。膜
表面と界面粗さの低減化は、多層膜の１層の厚さが１０
〜１００Åの領域でも、ほぼ同じ効果で可能であり、同
様の結果が得られる。図３は、Ｐｔ−１原子％Ｐｄ／Ｃ
の組み合わせの例であるが、一般式；Ｐｔ1-x Ｍx で表
される合金膜が多層膜の組み合わせの一方を構成すると
き、同様の効果が得られる。
【００１８】ただし、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
【００１９】（実施例３）実施例１において、表面粗さ
の低減化は、微細結晶化でによるものであったが、合金
化でアモルファス膜とし、表面粗さの低減化ができる。
一般式；Ｐｔ1-xＭx で表される合金膜においてＸ線回
折的に、回折ピークは認められず、アモルファス膜であ
る。
の低減化は、微細結晶化でによるものであったが、合金
化でアモルファス膜とし、表面粗さの低減化ができる。
一般式；Ｐｔ1-xＭx で表される合金膜においてＸ線回
折的に、回折ピークは認められず、アモルファス膜であ
る。
【００２０】ただし、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｈ，Ｔａ，Ｗの一
種類以上であり、 ０．１０≦ｘ≦０．２０ を満たす組成を有する。
種類以上であり、 ０．１０≦ｘ≦０．２０ を満たす組成を有する。
【００２１】
【発明の効果】この発明によれば、以上説明したように
Ｘ線の反射面として、一般式がＰｔ1- x Ｍx で表される
合金膜は表面及び界面粗さを低減化することができ、し
かも密度の減少が少なく、安定なＸ線反射鏡用反射材料
を提供することができる。
Ｘ線の反射面として、一般式がＰｔ1- x Ｍx で表される
合金膜は表面及び界面粗さを低減化することができ、し
かも密度の減少が少なく、安定なＸ線反射鏡用反射材料
を提供することができる。
【００２２】ただし、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
Ｔａ，Ｗ，Ａｕの一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たす組成を有する。
【図１】本発明にかかる、Ｐｔ−Ｐｄ合金膜のＰｄ添加
量と表面粗さの変化を示したものである。
量と表面粗さの変化を示したものである。
【図２】本発明にかかる、Ｐｔ−Ｐｄ合金膜のＣｕＫα
Ｘ線によるＸ線反射率曲線を示したものである。
Ｘ線によるＸ線反射率曲線を示したものである。
【図３】本発明にかかる、Ｐｔ−Ｐｄ合金膜と炭素
（Ｃ）の組み合わせから成るＸ線多層膜反射鏡のＡｌＫ
αＸ線によるＸ線反射率曲線を示したものである。
（Ｃ）の組み合わせから成るＸ線多層膜反射鏡のＡｌＫ
αＸ線によるＸ線反射率曲線を示したものである。
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｘ線反射鏡用の反射面の材料として一般
式が Ｐｔ1-xＭx で表され、Ｍは、Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｔａ，Ｗ，
Ａｕ の一種類以上であり、 ０．００５≦ｘ≦０．１０ を満たすことを特徴とするＸ線反射鏡用材料。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302556A JP2995371B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Ｘ線反射鏡用材料 |
| US08/149,351 US5454021A (en) | 1992-11-12 | 1993-11-09 | X-ray mirror and material |
| EP93308928A EP0597664B1 (en) | 1992-11-12 | 1993-11-09 | X-ray mirror and material |
| DE69304177T DE69304177T2 (de) | 1992-11-12 | 1993-11-09 | Spiegel für Röntgenstrahlung und Material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4302556A JP2995371B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Ｘ線反射鏡用材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06148398A JPH06148398A (ja) | 1994-05-27 |
| JP2995371B2 true JP2995371B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=17910404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4302556A Expired - Fee Related JP2995371B2 (ja) | 1992-11-12 | 1992-11-12 | Ｘ線反射鏡用材料 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5454021A (ja) |
| EP (1) | EP0597664B1 (ja) |
| JP (1) | JP2995371B2 (ja) |
| DE (1) | DE69304177T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2000338299A (ja) | 1999-05-28 | 2000-12-08 | Mitsubishi Electric Corp | Ｘ線露光装置、ｘ線露光方法、ｘ線マスク、ｘ線ミラー、シンクロトロン放射装置、シンクロトロン放射方法および半導体装置 |
| JP3766802B2 (ja) | 1999-07-22 | 2006-04-19 | コーニング インコーポレイテッド | 遠紫外軟ｘ線投影リソグラフィー法システムおよびリソグラフィーエレメント |
| DE10040998A1 (de) * | 2000-08-22 | 2002-03-14 | Zeiss Carl | Projektionsbelichtungsanlage |
| JP2002093684A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-29 | Canon Inc | Ｘ線露光装置、ｘ線露光方法、半導体製造装置および微細構造体 |
| US20040247073A1 (en) * | 2003-06-03 | 2004-12-09 | Cho Yong Min | High resolution X-ray system |
| US7403593B1 (en) * | 2004-09-28 | 2008-07-22 | Bruker Axs, Inc. | Hybrid x-ray mirrors |
| US20070255184A1 (en) * | 2006-02-10 | 2007-11-01 | Adnan Shennib | Disposable labor detection patch |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4693933A (en) * | 1983-06-06 | 1987-09-15 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | X-ray dispersive and reflective structures and method of making the structures |
| JPS63266398A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Seiko Instr & Electronics Ltd | Ｘ線反射鏡 |
| JP2648599B2 (ja) * | 1987-10-06 | 1997-09-03 | キヤノン株式会社 | Ｘ線又は真空紫外線用多層膜反射鏡の作成方法 |
| JPH01309000A (ja) * | 1988-06-07 | 1989-12-13 | Seiko Instr Inc | Ｘ線反射鏡 |
| EP0372278A3 (de) * | 1988-12-02 | 1991-08-21 | Gkss-Forschungszentrum Geesthacht Gmbh | Verfahren und Anordung zur Untersuchung von Proben nach der Methode der Röntgenfluoreszenzanalyse |
| JP3060624B2 (ja) * | 1991-08-09 | 2000-07-10 | 株式会社ニコン | 多層膜反射鏡 |
-
1992
- 1992-11-12 JP JP4302556A patent/JP2995371B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-11-09 US US08/149,351 patent/US5454021A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-09 DE DE69304177T patent/DE69304177T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-11-09 EP EP93308928A patent/EP0597664B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| EP0597664A2 (en) | 1994-05-18 |
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