JPS63266399A - Ｘ線反射鏡 - Google Patents
Ｘ線反射鏡Info
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- JPS63266399A JPS63266399A JP62101347A JP10134787A JPS63266399A JP S63266399 A JPS63266399 A JP S63266399A JP 62101347 A JP62101347 A JP 62101347A JP 10134787 A JP10134787 A JP 10134787A JP S63266399 A JPS63266399 A JP S63266399A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、対象波長領域が１人から２００人のＸ線光学
素子、特にＸ線反射鏡に関するものである。
素子、特にＸ線反射鏡に関するものである。
本発明は、波長が１人から２００人の範囲のＸ線の反射
と分散を必要とする全ての分野に対して、例えば、分光
結晶、モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡。
と分散を必要とする全ての分野に対して、例えば、分光
結晶、モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡。
Ｘ線望遠鏡、Ｘ線リングラフィ、あるいはＸ線を利用し
た分析計測機器などへの広範な応用を有する。
た分析計測機器などへの広範な応用を有する。
本発明のＸ線反射鏡においては、ガラス、シリコン、グ
ラファイトあるいは金属などの基板上に酸化ベリリウム
と金属層（Ｗ、 ｌ（ｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ。
ラファイトあるいは金属などの基板上に酸化ベリリウム
と金属層（Ｗ、 ｌ（ｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ。
Ｒｕ＋ Ｐｔ、 Ａｕ、 Ｔａ、 ｌｒ、 Ｏｓ、 Ｒ
ｅの中から少なくとも一種以上の元素を含む）とを交互
に積層させることにより、形成されている。このＸ線反
射鏡は、結晶性の拘束を受けず、反射率を制御すること
ができる。また、−次および高次の反射率が向上し、あ
るいは特別な用途に対しては１次の反射率を増加させ高
次の反射率を実質的にゼロにすることができる。
ｅの中から少なくとも一種以上の元素を含む）とを交互
に積層させることにより、形成されている。このＸ線反
射鏡は、結晶性の拘束を受けず、反射率を制御すること
ができる。また、−次および高次の反射率が向上し、あ
るいは特別な用途に対しては１次の反射率を増加させ高
次の反射率を実質的にゼロにすることができる。
本発明は、波長が１人から２００人のＸ線領域において
反射と分散を必要とするすべての分野に対して、例えば
、分光結晶、モノクロメータ、Ｘ線ＯＪｉ微ｖＬ、Ｘ線
望遠鏡、Ｘ線リソグラフィあるいはＸ線を利用する分析
計測機器などの分野への応用が可能である。
反射と分散を必要とするすべての分野に対して、例えば
、分光結晶、モノクロメータ、Ｘ線ＯＪｉ微ｖＬ、Ｘ線
望遠鏡、Ｘ線リソグラフィあるいはＸ線を利用する分析
計測機器などの分野への応用が可能である。
本発明の対象波長傾城である１人から２００人の範囲は
、使用する光学素子の面で隣接する波長領域と大きく異
なっている。すなわち、はぼ２００人を境にして、それ
より長波長側では直入射光学系が使用でき、また１人よ
り短波長の領域では結晶光学が使われている。それに対
して、その中間の１人から２００人のＸ線波長領域では
、あらゆる物質の垂直入射に対する反射率が実用上はと
んどゼロになるため、反射面にすれすれに光を入射させ
る斜入射光学系が一般に用いられている。
、使用する光学素子の面で隣接する波長領域と大きく異
なっている。すなわち、はぼ２００人を境にして、それ
より長波長側では直入射光学系が使用でき、また１人よ
り短波長の領域では結晶光学が使われている。それに対
して、その中間の１人から２００人のＸ線波長領域では
、あらゆる物質の垂直入射に対する反射率が実用上はと
んどゼロになるため、反射面にすれすれに光を入射させ
る斜入射光学系が一般に用いられている。
また、Ｘ線領域において反射特性や分散特性を有するも
のとしては、ＬｉＦ、熱分解グラファイト。
のとしては、ＬｉＦ、熱分解グラファイト。
ラングミュア−プロジェット膜などが知られている。
従来の斜入射光学系を使ったものでは数１０％の高い反
射率が得られるが、細い入射ビームに対しても大面積の
光学素子が必要になるばかりでなく、結像光学系では収
差が極端に大きくなる。また、−ｍ的に光路が長くなる
という欠点がある。
射率が得られるが、細い入射ビームに対しても大面積の
光学素子が必要になるばかりでなく、結像光学系では収
差が極端に大きくなる。また、−ｍ的に光路が長くなる
という欠点がある。
Ｌｉｄ、熱分解グラファイトおよびラングミュア−プロ
ジェット膜などから形成された光学素子は、格子間隔の
拘束が大きいためにＸ線の使用波長領域が狭く、使用範
囲が限定されてしまう、さらに、これらの材料は反射率
がすべて望ましい値よりも大幅に小さいという欠点があ
る。
ジェット膜などから形成された光学素子は、格子間隔の
拘束が大きいためにＸ線の使用波長領域が狭く、使用範
囲が限定されてしまう、さらに、これらの材料は反射率
がすべて望ましい値よりも大幅に小さいという欠点があ
る。
そこで本発明は、従来のこのような欠点を解決するため
になされたものであり、直入射でも高い反射率を有し、
使用波長範囲が広いｘｖＡ用反射鏡を提供することを目
的としている。
になされたものであり、直入射でも高い反射率を有し、
使用波長範囲が広いｘｖＡ用反射鏡を提供することを目
的としている。
また直入射ばかりでなく、ビームの方向を高い効率で直
角方向に曲げたり、偏光子やフィルタ。
角方向に曲げたり、偏光子やフィルタ。
ビームスプリフタの役割を果たす光学素子に対する要望
をも満たすことができる。
をも満たすことができる。
上記の問題点を解決するために本発明は、酸化ベリリウ
ムと金属Ｎ （Ｗ、 Ｉｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、
Ｒｕ。
ムと金属Ｎ （Ｗ、 Ｉｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、
Ｒｕ。
ｐｔ、八ｕ、 Ｔａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅの中から
少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層させて
形成することにより、直入射でも高い反射率を有し、使
用可能なＸ線の波長領域を１人から２００人までに拡大
することができる。
少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層させて
形成することにより、直入射でも高い反射率を有し、使
用可能なＸ線の波長領域を１人から２００人までに拡大
することができる。
本発明のＸ線用多層膜反射鏡は、境界面で互いに拡散せ
ず、しかも光学定数の大きく異なる２種〜数１００人の
緻密な連続膜を積層させたものである。各多対のうち金
属層はＸ線を反射する役割をもち、酸化ベリリウムの層
はバフファーの役割をする。この多対を連続的に多層化
することによって、Ｘ線は各層で多重反射し反射率を増
大させることができる。
ず、しかも光学定数の大きく異なる２種〜数１００人の
緻密な連続膜を積層させたものである。各多対のうち金
属層はＸ線を反射する役割をもち、酸化ベリリウムの層
はバフファーの役割をする。この多対を連続的に多層化
することによって、Ｘ線は各層で多重反射し反射率を増
大させることができる。
また各層の膜厚を数人から数１００人の間の適切な値に
することによってＸ線の波長が１人から２００人の範囲
でＸ線用の反射鏡として利用することができ、反射率は
８人付近で２０％以上、１１４人では９０％以上のもの
が得られた。
することによってＸ線の波長が１人から２００人の範囲
でＸ線用の反射鏡として利用することができ、反射率は
８人付近で２０％以上、１１４人では９０％以上のもの
が得られた。
以下本発明を実施例にもとすいて説明する。
本発明のＸｖＡ反射鏡は、分子線エピタキシー法。
スパッタリング法、イ゛オンビームスバッタ法、真空蒸
着法などによって作製することができるが、ここでは膜
作製に多蒸発源の真空蒸着装置を用いた。
着法などによって作製することができるが、ここでは膜
作製に多蒸発源の真空蒸着装置を用いた。
装置蒸着室内の真空度はできるだけ高真空が望ましいの
で、タライオボンプを使って７ Ｘ １０−”Ｔ。
で、タライオボンプを使って７ Ｘ １０−”Ｔ。
ｒｒに保ち蒸着を行った。加熱には電子ビームを用い、
各金属（Ｗ、 Ｈｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、 Ｒｕ
、 Ｐｔ、 Ａｕ。
各金属（Ｗ、 Ｈｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、 Ｒｕ
、 Ｐｔ、 Ａｕ。
τａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅの中から少なくとも一種
以上の元素）と酸化ベリリウムの２つの藩着源がそれぞ
れ独立に加熱される。各金属と酸化ベリリウムの蒸着層
の厚さは、それぞれ独立の二つのシャッターによって制
御する。ざらにプログラミング機構をもつ水晶発振式Ｉ
Ｅ［計を用いて、金属と酸化ベリリウムとの膜厚を設定
し、二つのシャッターの開閉を自動的に行い規則正しい
蒸着を繰り返して行わせることによって膜厚と層対の数
を制御する。
以上の元素）と酸化ベリリウムの２つの藩着源がそれぞ
れ独立に加熱される。各金属と酸化ベリリウムの蒸着層
の厚さは、それぞれ独立の二つのシャッターによって制
御する。ざらにプログラミング機構をもつ水晶発振式Ｉ
Ｅ［計を用いて、金属と酸化ベリリウムとの膜厚を設定
し、二つのシャッターの開閉を自動的に行い規則正しい
蒸着を繰り返して行わせることによって膜厚と層対の数
を制御する。
基牟反にはガラス、シリコンウェハ、グラファイト。
各種金属を用いた。基板の表面粗さは１０Å以下であっ
た。蒸着中は基板の温度が上昇しないように基板を水冷
あるいは液体窒素で冷却した。
た。蒸着中は基板の温度が上昇しないように基板を水冷
あるいは液体窒素で冷却した。
第１図は本発明のＸ線反射鏡の構成図を示したものであ
る。入射ビーム１は、反射鏡の各層対の金属Ｎ３で反射
される。また一部は酸化ベリリウム層４の中で多重反射
されて反射ビーム２を構成する。以下、酸化ベリリウム
を８ｅＯと書く。
る。入射ビーム１は、反射鏡の各層対の金属Ｎ３で反射
される。また一部は酸化ベリリウム層４の中で多重反射
されて反射ビーム２を構成する。以下、酸化ベリリウム
を８ｅＯと書く。
第１表は真空蒸着法で作ったＰｔ −ＢｅＯ多層膜につ
いてＸ線波長が８．３４人から１１４人の範囲で測定し
た反射率の値である。 Ｐｔｃ！： ＢｅＯ膜厚と層対
を変化させることによって各Ｘ線波長で反射率１３〜５
９％が得られた。第１表には、Ｐｔ −ＢｅＯの組合せ
の結果についてのみを示したが、金属としてＷ、 Ｈｆ
。
いてＸ線波長が８．３４人から１１４人の範囲で測定し
た反射率の値である。 Ｐｔｃ！： ＢｅＯ膜厚と層対
を変化させることによって各Ｘ線波長で反射率１３〜５
９％が得られた。第１表には、Ｐｔ −ＢｅＯの組合せ
の結果についてのみを示したが、金属としてＷ、 Ｈｆ
。
Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、 Ｒｕ、 Ｐｔ、 Ａｕ、 Ｔ
ａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅを用いても、あるいはこれ
らの金属の合金によってもｐｔＢｅＯ多層膜と同様に反
射率を向上させるという結果が得られた。Ｘ線波長が数
人の領域では各金属とＢｅＯとの層対の数を増やせば増
やすほど反射率が向上するという結果が得られている。
ａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅを用いても、あるいはこれ
らの金属の合金によってもｐｔＢｅＯ多層膜と同様に反
射率を向上させるという結果が得られた。Ｘ線波長が数
人の領域では各金属とＢｅＯとの層対の数を増やせば増
やすほど反射率が向上するという結果が得られている。
しかし、現実的には沼対作製上の装置的ｔ１１約や基板
の平滑性などの制約から１００層以上のものを作ること
は困難であることがわかった。 第２表はＷ、 Ｉｆ。
の平滑性などの制約から１００層以上のものを作ること
は困難であることがわかった。 第２表はＷ、 Ｉｆ。
八ｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ、 Ｒｕ、 Ｐｔ、 Ａｕ、 Ｔ
ａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅの各金属と［ｌｅＯとの
多層膜の多対３０層についてＸ線波長が、８６３４人と
１１４人のときに測定した反射率の値を示す。Ｘ線の入
射角は１０°である。それぞれの波長において各金属と
Ａｊ’Ｎとの組合せによる多層膜反射鏡は、反射率３
〜９２％の値が得られた。
ａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒｅの各金属と［ｌｅＯとの
多層膜の多対３０層についてＸ線波長が、８６３４人と
１１４人のときに測定した反射率の値を示す。Ｘ線の入
射角は１０°である。それぞれの波長において各金属と
Ａｊ’Ｎとの組合せによる多層膜反射鏡は、反射率３
〜９２％の値が得られた。
第 １ 表
第２図は、Ｐｔ −ＢｅＯの３０！多層膜反射鏡につい
てＸ線波長２３．６人での反射率の測定結果を示すもの
である。Ｘ線の入射角は０＠がら２５°まで変化させて
測定した。また、ｐｔの膜厚は２３人、ＢｅＯの膜厚は
４５人である。Ｘ線の波長と多対の膜厚との関係から、
特定の入射角の付近に反射率の大きくなる分が現れる。
てＸ線波長２３．６人での反射率の測定結果を示すもの
である。Ｘ線の入射角は０＠がら２５°まで変化させて
測定した。また、ｐｔの膜厚は２３人、ＢｅＯの膜厚は
４５人である。Ｘ線の波長と多対の膜厚との関係から、
特定の入射角の付近に反射率の大きくなる分が現れる。
以上説明したように、本発明はガラス、シリコンウェハ
、グラファイトあるいは各種金属などの基板上にＢｅ０
層と金属Ｆｉ （Ｗ、 Ｈｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ
。
、グラファイトあるいは各種金属などの基板上にＢｅ０
層と金属Ｆｉ （Ｗ、 Ｈｆ、 Ａｇ、 Ｐｄ、 Ｒｈ
。
Ｒｕ、 ＰＬ、 Ａｕ、 Ｔａ、 Ｉｒ、 Ｏｓ、 Ｒ
ｅの中から少なくとも一種以上の元素を含む層）を交互
に積層させることにより形成される、Ｘ線波長１人から
２００人の範囲で使用可能な多層膜反射鏡である。
ｅの中から少なくとも一種以上の元素を含む層）を交互
に積層させることにより形成される、Ｘ線波長１人から
２００人の範囲で使用可能な多層膜反射鏡である。
このＸ線反射鏡は、結晶性の拘束を受けることなく、制
御された反射率を有し、１次および高次の反射率を向上
させ、あるいは特別な用途に対しては１次の反射を増加
され高次の反射を実質的にゼロにすることができる。
御された反射率を有し、１次および高次の反射率を向上
させ、あるいは特別な用途に対しては１次の反射を増加
され高次の反射を実質的にゼロにすることができる。
第１図は本発明に係わるＸ￥ａ反射鏡の構成を示す断面
図、第２図は、真空蒸着法で作製したｐｔ−Ｂｅ０３０
Ｆ！膜反射鏡の反射率測定結果を示す説明図である。 １・・・入射Ｘ線ビーム ２・・・反射Ｘ＆？ｔビーム ３・・・金属層 ４・・・ Ｂｅ０層 ５・・・基板 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 ×Ｂ反Ａすすをのり昨１０図 第１図 反 身重 牟 （７ζン
図、第２図は、真空蒸着法で作製したｐｔ−Ｂｅ０３０
Ｆ！膜反射鏡の反射率測定結果を示す説明図である。 １・・・入射Ｘ線ビーム ２・・・反射Ｘ＆？ｔビーム ３・・・金属層 ４・・・ Ｂｅ０層 ５・・・基板 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 ×Ｂ反Ａすすをのり昨１０図 第１図 反 身重 牟 （７ζン
Claims (2)
- （１）複数個の層対が互いの上に形成されており、前記
の層対は対象波長領域が１Åから２００Åの波長領域で
Ｘ線分散特性を有し、各層対の一層が酸化ベリリウムで
あり、また各層対の第二層は金属材料によって構成され
ていることを特徴とするＸ線反射鏡。 - （２）金属材料層がＷ、Ｈｆ、Ａｇ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕ
、Ｐｔ、Ａｕ、Ｔａ、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｒｅの中から少なく
とも一種以上の元素を含むことを特徴とする特許請求の
範囲第１項に記載のＸ線反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62101347A JPS63266399A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | Ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62101347A JPS63266399A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | Ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63266399A true JPS63266399A (ja) | 1988-11-02 |
Family
ID=14298302
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62101347A Pending JPS63266399A (ja) | 1987-04-24 | 1987-04-24 | Ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63266399A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
-
1987
- 1987-04-24 JP JP62101347A patent/JPS63266399A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
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