JPS63271200A - Ｘ線反射鏡 - Google Patents
Ｘ線反射鏡Info
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- JPS63271200A JPS63271200A JP62105850A JP10585087A JPS63271200A JP S63271200 A JPS63271200 A JP S63271200A JP 62105850 A JP62105850 A JP 62105850A JP 10585087 A JP10585087 A JP 10585087A JP S63271200 A JPS63271200 A JP S63271200A
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- Japan
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- ray
- magnesium oxide
- reflecting mirror
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- Pending
Links
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、対象波長領域が１人から２００人のＸ線反射
鏡に関する。
鏡に関する。
本発明は、波長が１人から２００人の範囲のＸ線の反射
と分ｎｔを必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
、モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、ＸＳＳレ
ーザー反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範
な応用を有する。
と分ｎｔを必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
、モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、ＸＳＳレ
ーザー反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範
な応用を有する。
本発明は、例えば、モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線
望遠鏡、Ｘ線リソグラフィー装置などに用いるＸｖＡ反
射鏡において、ガラス、シリコンあるいはグラファイト
などの基板上に酸化マグネシウムと金属層（ＭＯＩＲｕ
、ＲｈｌＰｄｌＡｇ１ＨｆｌＴａｌＷ。
望遠鏡、Ｘ線リソグラフィー装置などに用いるＸｖＡ反
射鏡において、ガラス、シリコンあるいはグラファイト
などの基板上に酸化マグネシウムと金属層（ＭＯＩＲｕ
、ＲｈｌＰｄｌＡｇ１ＨｆｌＴａｌＷ。
Ｒｅ、 Ｏｓ、 Ｉ ｒ、 Ｐ ｔ、およびＡｕの中か
ら少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層させ
形成することにより、Ｘ線の反射率が高く、使用波長範
囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡を提供できるよ
うにしたものである。
ら少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層させ
形成することにより、Ｘ線の反射率が高く、使用波長範
囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡を提供できるよ
うにしたものである。
従来、Ｘ線領域において反射特性や分散特性を有する構
造体は、Ｌ ｉ Ｆ、熱分解グラファイト。
造体は、Ｌ ｉ Ｆ、熱分解グラファイト。
ラングミュア−ブロジェット（Ｌａｎｇｍｕｉｒ＝Ｂｌ
ｏｄｇｅｔｔ）膜などから形成されている（例えば、１
４］、Ｃｈａｒｌｅｓ著、 Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、
４２巻、 ３３２９頁（１９７１）に記載されている）
。
ｏｄｇｅｔｔ）膜などから形成されている（例えば、１
４］、Ｃｈａｒｌｅｓ著、 Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、
４２巻、 ３３２９頁（１９７１）に記載されている）
。
ＬｉＦ、熱分解グラファイト、およびラングミュア−プ
ロジェット膜などから形成された物質は、格子間隔の拘
束が大きいため、Ｘ線の使用波長領域が狭く、使用が限
定されていしまい、また反射率が小さいという欠点を有
していた。さらに、ラングミュアーブロジェ−／ ）膜
は、環境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中で、かつ室温近
傍で動作させる必要があり、入射ビームのエネルギーが
高い場合には、分解するおそれがあった。
ロジェット膜などから形成された物質は、格子間隔の拘
束が大きいため、Ｘ線の使用波長領域が狭く、使用が限
定されていしまい、また反射率が小さいという欠点を有
していた。さらに、ラングミュアーブロジェ−／ ）膜
は、環境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中で、かつ室温近
傍で動作させる必要があり、入射ビームのエネルギーが
高い場合には、分解するおそれがあった。
上記問題点を解決するために、本発明においては、酸化
マグネシウムと金属（Ｍｏ＋ Ｒｕ＋ Ｒｈ＋ Ｐｄ＋
Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、 Ｒｅ＋Ｏｓ＋ Ｉｒ、Ｐ’ｔ
、およびＡｕの中から少なくとも一種以上の元素を含む
）を交互に積層し構成した膜により、Ｘ線反射率の向上
、使用波長領域の拡大、耐環境性の向上を達成した。
マグネシウムと金属（Ｍｏ＋ Ｒｕ＋ Ｒｈ＋ Ｐｄ＋
Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、 Ｒｅ＋Ｏｓ＋ Ｉｒ、Ｐ’ｔ
、およびＡｕの中から少なくとも一種以上の元素を含む
）を交互に積層し構成した膜により、Ｘ線反射率の向上
、使用波長領域の拡大、耐環境性の向上を達成した。
上記の様な構成では、積層する二種類の物質の光学定数
が大きく異なり、又、境界面で互いに拡散しないため、
ｘＮＩＡの反射率を向上させることができる。さらに、
このＸ線反射鏡は、結晶性の拘束を受けないので、反射
率を制御することができる。又、入射ビームのエネルギ
ーが高い場合にも分解されない材料を用いているから、
耐環境性を向上させることができる。
が大きく異なり、又、境界面で互いに拡散しないため、
ｘＮＩＡの反射率を向上させることができる。さらに、
このＸ線反射鏡は、結晶性の拘束を受けないので、反射
率を制御することができる。又、入射ビームのエネルギ
ーが高い場合にも分解されない材料を用いているから、
耐環境性を向上させることができる。
本発明のＸ″＆ｊ１反射鏡は、分子線エビクキシー法。
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンビーム法などに
よって作製される。Ｈの形成範囲は、シャッターを用い
るか、又は基板を材料源に対して動かすことにより制御
Ｂされる。各層のＶ、厚は膜の形成が行われている場所
（例えば、゛蒸着が行われている場所）でＸ線反射率を
測定するか、又は水晶振動子膜厚計を監視することによ
り制御される。
よって作製される。Ｈの形成範囲は、シャッターを用い
るか、又は基板を材料源に対して動かすことにより制御
Ｂされる。各層のＶ、厚は膜の形成が行われている場所
（例えば、゛蒸着が行われている場所）でＸ線反射率を
測定するか、又は水晶振動子膜厚計を監視することによ
り制御される。
基板には、ガラス、シリコン、グラファイトを用いた。
基板の表面粗さは１０Å以下であった。
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。膜作
製には、多源の真空蒸着装置を用いた。
製には、多源の真空蒸着装置を用いた。
真空度はできるだけ高いことが望ましいので、タライオ
ボンブを用いて７ Ｘ １０− ”Ｔｏｒｒに保ち蒸着
を行った。加熱装置には電子ビームを用い、酸化マグネ
シウム及び金属の蒸着源は独立に加熱される。
ボンブを用いて７ Ｘ １０− ”Ｔｏｒｒに保ち蒸着
を行った。加熱装置には電子ビームを用い、酸化マグネ
シウム及び金属の蒸着源は独立に加熱される。
酸化マグネシウムと金属のそれぞれの蒸着層の厚さの制
御は２つのシャッターによって行なう。さらに、プログ
ラミング機構をもつ水晶振動子膜厚計を用いて、酸化マ
グ・ネシウム層と金属層の厚さを設定し、シャッターの
開閉を自動的に行ない、規則正しい蒸着を繰り返す、蒸
着時、基板は水あるいは液体窒素で冷却されている。ま
た、各層の膜厚測定にはＸＭ回折を用いた。
御は２つのシャッターによって行なう。さらに、プログ
ラミング機構をもつ水晶振動子膜厚計を用いて、酸化マ
グ・ネシウム層と金属層の厚さを設定し、シャッターの
開閉を自動的に行ない、規則正しい蒸着を繰り返す、蒸
着時、基板は水あるいは液体窒素で冷却されている。ま
た、各層の膜厚測定にはＸＭ回折を用いた。
第１図において、基板１の上に、酸化マグネシウムＮ２
が蒸着により形成され、さらにその上に、金属層３が形
成され、酸化マグネシウムＮ２と金属層３で１組の層対
４を作る。この層対を同じ手順で予め決めた数だけ積層
することにより、反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線１
１ば、反射鏡の各層対で反射され、反射光ｉ１２となる
。第１表に、金属層にＲｅを用いたＭｇｏ−Ｒｅ多層膜
Ｘ線反射鏡の反射率を示す、入射Ｘ線波長が１．５人か
ら２００人のときに反射率１８〜７２％が得られた。
が蒸着により形成され、さらにその上に、金属層３が形
成され、酸化マグネシウムＮ２と金属層３で１組の層対
４を作る。この層対を同じ手順で予め決めた数だけ積層
することにより、反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線１
１ば、反射鏡の各層対で反射され、反射光ｉ１２となる
。第１表に、金属層にＲｅを用いたＭｇｏ−Ｒｅ多層膜
Ｘ線反射鏡の反射率を示す、入射Ｘ線波長が１．５人か
ら２００人のときに反射率１８〜７２％が得られた。
第２表に、酸化マグネシウムと金属層（Ｍｏ、Ｒｕ。
Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ＋Ｈｆ、Ｔａ＋Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ
、Ｐｔ、Ａｕ）の積層膜による本発明のＸ線反射鏡の反
射率を示す。
、Ｐｔ、Ａｕ）の積層膜による本発明のＸ線反射鏡の反
射率を示す。
Ｍｇｏ−Ｒｅ Ｘ線反射鏡の反射重
筋 １ 表
第４図に、本発明の一例としてＭｇｏ −Ｐ ｔ ３０
ＪｉＸ線反射鏡に、波長２３．６人のＸＩを入射した時
の、入射角と反射率の関係を示す。
ＪｉＸ線反射鏡に、波長２３．６人のＸＩを入射した時
の、入射角と反射率の関係を示す。
以上述べたように、本発明によれば、種々のＸ線光学系
にて用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長
範囲が１人〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得られ
る０、また、結晶性の拘束を持たないので反射率を制御
することができ、かつ、反射率を向上させることができ
る。さらに、入射Ｘ線のエネルギーが高い場合にも使用
可能な耐環境性の良いＸ線反射鏡が得られるのである。
にて用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長
範囲が１人〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得られ
る０、また、結晶性の拘束を持たないので反射率を制御
することができ、かつ、反射率を向上させることができ
る。さらに、入射Ｘ線のエネルギーが高い場合にも使用
可能な耐環境性の良いＸ線反射鏡が得られるのである。
第１図は本発明のＸｉ反射鏡の断面図、第２図は本発明
の実施例のＭｇｏ −Ｐ Ｌ ３０層Ｘ線反射鏡に波長
２３．６人のＸ線を入射したときの入射角と反射率の関
係を示す説明図である。 ｌ・・・ガラス、シリコン、グラフプイトなどの基板 ２・・・酸化マグネシウム層 ３・・・金属層 ４・・・層耐 １１・・・入射光線 １２・・・反射光線 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 Ｘ線反肘鏡の断面図 第１図 反を１率（メ）
の実施例のＭｇｏ −Ｐ Ｌ ３０層Ｘ線反射鏡に波長
２３．６人のＸ線を入射したときの入射角と反射率の関
係を示す説明図である。 ｌ・・・ガラス、シリコン、グラフプイトなどの基板 ２・・・酸化マグネシウム層 ３・・・金属層 ４・・・層耐 １１・・・入射光線 １２・・・反射光線 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 Ｘ線反肘鏡の断面図 第１図 反を１率（メ）
Claims (2)
- （１）複数個の層対が互いの上に形成されており、前記
層対は１Åから２００ÅのＸ線波長領域で反射特性を有
し、各層対の一層が酸化マグネシウムであり、また各層
対の第二層は金属材料によって構成されていることを特
徴とするＸ線反射鏡。 - （２）金属材料層がＭｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈ
ｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、およびＡｕの
中から少なくとも一種以上の元素である特許請求の範囲
第１項記載のＸ線反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62105850A JPS63271200A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | Ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62105850A JPS63271200A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | Ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63271200A true JPS63271200A (ja) | 1988-11-09 |
Family
ID=14418476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62105850A Pending JPS63271200A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | Ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63271200A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
-
1987
- 1987-04-28 JP JP62105850A patent/JPS63271200A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| EP1091360A2 (en) * | 1995-01-19 | 2001-04-11 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| EP1091360A3 (en) * | 1995-01-19 | 2003-05-07 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
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