JPH04164297A - Ｘ線反射鏡 - Google Patents
Ｘ線反射鏡Info
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- JPH04164297A JPH04164297A JP29105390A JP29105390A JPH04164297A JP H04164297 A JPH04164297 A JP H04164297A JP 29105390 A JP29105390 A JP 29105390A JP 29105390 A JP29105390 A JP 29105390A JP H04164297 A JPH04164297 A JP H04164297A
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、対象波長領域が１０人から２００人のＸ線反
射鏡に関する。
射鏡に関する。
本発明は、波長が１０人から２００人の範囲でＸ線の反
射と分散を必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線レーザ
反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範な応用
を有する。
射と分散を必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線レーザ
反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範な応用
を有する。
本発明は、例えばモノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望
遠鏡、Ｘ線リソグラフィー装置等に用いるＸ線反射鏡に
おいて、ガラス、シリコンあるいはグラフアイＩ・など
の基板上に窒化ボロンと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉの中から少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に
積層させ形成することにより、Ｘ線反射率が高く、使用
波長範囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡を提供で
きるようにしたものである。
遠鏡、Ｘ線リソグラフィー装置等に用いるＸ線反射鏡に
おいて、ガラス、シリコンあるいはグラフアイＩ・など
の基板上に窒化ボロンと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ
ｉの中から少なくとも一種以上の元素を含む）を交互に
積層させ形成することにより、Ｘ線反射率が高く、使用
波長範囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡を提供で
きるようにしたものである。
従来、ＸＶＡ領域において反則特性や分散特性を有する
構造体は、Ｌ ｉ Ｆ、熱分解グラファイト、！、、
＋３膜などから形成されている（例えば、Ｍ、Ｗ。
構造体は、Ｌ ｉ Ｆ、熱分解グラファイト、！、、
＋３膜などから形成されている（例えば、Ｍ、Ｗ。
Ｃｈａｒｌｅｓ著、Ｊ、Ａｐｐｌ、Ｐｈｙｓ、。
４２巻、３３２９頁（］ ９７１）に記載されている）
。またＸ線反射率の向上などの目的で新しい結晶性材料
を考案する試みが成されている。そのような試めの一つ
として、タングステンと炭素、あるいはタングステン合
金と炭素の積層膜があり、それは例えば、石井池、第３
３回春季応用物理学関係連合講演会予稿集、２６８頁（
１，９８６）に記載されている。
。またＸ線反射率の向上などの目的で新しい結晶性材料
を考案する試みが成されている。そのような試めの一つ
として、タングステンと炭素、あるいはタングステン合
金と炭素の積層膜があり、それは例えば、石井池、第３
３回春季応用物理学関係連合講演会予稿集、２６８頁（
１，９８６）に記載されている。
〔発明が解決しようとする課題］
Ｌ ｉ Ｆ 、 熱分解グラファイト、ｌ−１’を膜な
どがら形成された物質ル３１、格子間陥の拘束が大きい
ため、Ｘ線の使用波長領域が狭く、使用が限定されてし
まい、また反則率が小さいという欠点を有していた。さ
らにＬＢ膜は環境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中でかつ
室温近傍で動作させる必要があり、入射ビームのエネル
ギーが高い場合には分解するおそれがあった。
どがら形成された物質ル３１、格子間陥の拘束が大きい
ため、Ｘ線の使用波長領域が狭く、使用が限定されてし
まい、また反則率が小さいという欠点を有していた。さ
らにＬＢ膜は環境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中でかつ
室温近傍で動作させる必要があり、入射ビームのエネル
ギーが高い場合には分解するおそれがあった。
一方タングステンと炭素あるいはタングステン合金と炭
素の積層膜は、使用波長範囲が限定されるという欠点が
あった。
素の積層膜は、使用波長範囲が限定されるという欠点が
あった。
１−記問題点を解決するために、本発明においては、窒
化ボロンと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ１の中から少
なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層し構成し
た膜により、Ｘ線反射率の向」二、使用波長領域の拡大
、耐環境性の向上を達成した。
化ボロンと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎ１の中から少
なくとも一種以上の元素を含む）を交互に積層し構成し
た膜により、Ｘ線反射率の向」二、使用波長領域の拡大
、耐環境性の向上を達成した。
上記のような構成では、積層する２種類の物質の光学定
数か大きく異なり、また境界面で互いに拡散しないため
、Ｘ線の反射率を向上させることができる。さらにこの
Ｘ線反射鏡は結晶性の拘束を受けないので、反則率を制
御することができる。
数か大きく異なり、また境界面で互いに拡散しないため
、Ｘ線の反射率を向上させることができる。さらにこの
Ｘ線反射鏡は結晶性の拘束を受けないので、反則率を制
御することができる。
また入射ビームのエネルギーが高い場合にも分解されな
い材料を用いているから耐環境性を向」二さ−Ｕること
ができる。
い材料を用いているから耐環境性を向」二さ−Ｕること
ができる。
本発明のＸ線反射鏡は分子線エピタキシー法・スパッタ
リング法 真空蒸着法・イオンビーＪ、法などによって
作製される。層の形成範囲ロシャノターを用いるか、ま
たは基板を祠料源に対してｌＪ＋かすことにより制御さ
れる。各層の膜厚は膜の形成が行われている場所（例え
ば７着が行われている場所）でＸ線反射率を測定するか
、または水晶振動子膜厚計を監視すること乙こより制御
される。
リング法 真空蒸着法・イオンビーＪ、法などによって
作製される。層の形成範囲ロシャノターを用いるか、ま
たは基板を祠料源に対してｌＪ＋かすことにより制御さ
れる。各層の膜厚は膜の形成が行われている場所（例え
ば７着が行われている場所）でＸ線反射率を測定するか
、または水晶振動子膜厚計を監視すること乙こより制御
される。
基板にはガラス シリコン グラファイトを用いた。基
板の表面粗さは１０Å以下であった。
板の表面粗さは１０Å以下であった。
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。膜作
成には多源の真空茎着装置を用いた。真空度はできるた
り高いことが望ましいので、クライオポンプを用いて７
Ｘ ］、 Ｏ−’Ｔｏ ｒ ｒＬこ保ち茎着を行った
。加＋１１装置には電子ヒームを用い、窒化ボロンおよ
び金属の茎名源は独立に加熱される。
成には多源の真空茎着装置を用いた。真空度はできるた
り高いことが望ましいので、クライオポンプを用いて７
Ｘ ］、 Ｏ−’Ｔｏ ｒ ｒＬこ保ち茎着を行った
。加＋１１装置には電子ヒームを用い、窒化ボロンおよ
び金属の茎名源は独立に加熱される。
窒化ボロンと金属のそれイれの蒸着層の厚さの制御は２
つのシャッターによって行う。さらにプログラミング機
構をもつ水晶振動子膜厚計を用いて、窒化ポロン層と金
属層の厚さを設定し、シャッターの開閉を自動的に行い
、規則正しい７着を繰り返す。茎着時ｗ仮は水あるいは
ン夜体窒素で冷却さている。また各層の膜厚測定にはＸ
線回折を用いた。
つのシャッターによって行う。さらにプログラミング機
構をもつ水晶振動子膜厚計を用いて、窒化ポロン層と金
属層の厚さを設定し、シャッターの開閉を自動的に行い
、規則正しい７着を繰り返す。茎着時ｗ仮は水あるいは
ン夜体窒素で冷却さている。また各層の膜厚測定にはＸ
線回折を用いた。
第１図において、基板１のトに窒化ポロン層２が蒸着に
より形成され、さらにその上に金属層３が形成され、窒
化ポロン層２と金属層３で１組の面封４を作る。この面
封を同し手順であらがしめ決めた数だけ積層することに
より反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線１１は反射鏡の
各面封で反η・ｊされ、反射光線１２となる。第２図に
、金属層にＮｉを用いたＢＮ−Ｎｉ多層膜Ｘ線反射鏡の
反則率を示す。入射Ｘ線波長が１０人から２００人のと
きに反射率５〜２７％が得られた。
より形成され、さらにその上に金属層３が形成され、窒
化ポロン層２と金属層３で１組の面封４を作る。この面
封を同し手順であらがしめ決めた数だけ積層することに
より反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線１１は反射鏡の
各面封で反η・ｊされ、反射光線１２となる。第２図に
、金属層にＮｉを用いたＢＮ−Ｎｉ多層膜Ｘ線反射鏡の
反則率を示す。入射Ｘ線波長が１０人から２００人のと
きに反射率５〜２７％が得られた。
第３図に窒化ボロンと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ
）の積層膜による本発明のＸ線反射鏡の反射率を示す。
）の積層膜による本発明のＸ線反射鏡の反射率を示す。
第４図に本発明の一例としてＢＮ−Ｎ ｉ ３０層Ｘ線
反射鏡に、波長２３．６人のＸ線を入射したときの入射
角と反射率の関係を示す。
反射鏡に、波長２３．６人のＸ線を入射したときの入射
角と反射率の関係を示す。
以ヒ述べたように本発明によれば種々のＸ線光学系にて
用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長範囲
が１．０人〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得られ
る。また結晶性の拘束を持たないので反射率を制御する
ことかでき、かつ反射率を向干させることができる。さ
らに入射Ｘ線のエネルギーが高い場合にも使用可能な耐
環境性のよいＸ線反射鏡が４（↑られるのである。
用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長範囲
が１．０人〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得られ
る。また結晶性の拘束を持たないので反射率を制御する
ことかでき、かつ反射率を向干させることができる。さ
らに入射Ｘ線のエネルギーが高い場合にも使用可能な耐
環境性のよいＸ線反射鏡が４（↑られるのである。
第１図は本発明のＸ線反射鏡の断面図、第２図は本発明
の実施例のＢＮ−Ｎｉ多層膜反射鏡の反射率を示す閥、
第３Ｉ７１は本発明のＢＮと各金属のＸ線多層膜反射鏡
の反射率を示すし１、第４図は本発明の実施例のＢＮ−
Ｎｉ３０層Ｘ線反射鏡に波長２３．６人のＸ線を入射し
たときの入射角と反射率の関係を示す図である。 １ ガラス、ノリコン、グラフアイＩ・などの基板 ２・・ 窒化ボロン層 ３・・・金属層 ４ ・・層対 １１ 人種光線 １２・反射光線 以■二 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助
の実施例のＢＮ−Ｎｉ多層膜反射鏡の反射率を示す閥、
第３Ｉ７１は本発明のＢＮと各金属のＸ線多層膜反射鏡
の反射率を示すし１、第４図は本発明の実施例のＢＮ−
Ｎｉ３０層Ｘ線反射鏡に波長２３．６人のＸ線を入射し
たときの入射角と反射率の関係を示す図である。 １ ガラス、ノリコン、グラフアイＩ・などの基板 ２・・ 窒化ボロン層 ３・・・金属層 ４ ・・層対 １１ 人種光線 １２・反射光線 以■二 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助
Claims (2)
- （１）複数個の層対が互いの上に形成されており、前記
層対は１０Åから２００ÅのＸ線波長領域で反射特性を
有し、各層対の一層が窒化ボロンであり、また各層対の
第二層は金属材料によって構成されていることを特徴と
するＸ線反射鏡。 - （２）金属材料層がＣｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉの中から少
なくとも一種以上の元素である請求項１記載のＸ線反射
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29105390A JPH04164297A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29105390A JPH04164297A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04164297A true JPH04164297A (ja) | 1992-06-09 |
Family
ID=17763822
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29105390A Pending JPH04164297A (ja) | 1990-10-29 | 1990-10-29 | Ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04164297A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013215541A1 (de) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
-
1990
- 1990-10-29 JP JP29105390A patent/JPH04164297A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102013215541A1 (de) * | 2013-08-07 | 2015-02-12 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage |
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