JPH04169899A - Ｘ線反射鏡 - Google Patents
Ｘ線反射鏡Info
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- JPH04169899A JPH04169899A JP29820290A JP29820290A JPH04169899A JP H04169899 A JPH04169899 A JP H04169899A JP 29820290 A JP29820290 A JP 29820290A JP 29820290 A JP29820290 A JP 29820290A JP H04169899 A JPH04169899 A JP H04169899A
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- LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N beryllium oxide Inorganic materials O=[Be] LTPBRCUWZOMYOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 2-iodoquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(I)=CC=C21 FRWYFWZENXDZMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims abstract 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 abstract description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001339 C alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 101100264195 Caenorhabditis elegans app-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000001015 X-ray lithography Methods 0.000 description 1
- 238000000560 X-ray reflectometry Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001451 molecular beam epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000003716 rejuvenation Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、対象波長領域が１０人から２００人のＸ線反
射鏡に関する。
射鏡に関する。
本発明は、波長が１０人から２００人の範囲のＸ線の反
射と分散を必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線レーザ
反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範な応用
を有する。
射と分散を必要とするほぼ全ての分野に対して、例えば
モノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望遠鏡、Ｘ線レーザ
反射鏡あるいはＸ線リソグラフィー装置など広範な応用
を有する。
本発明は、例えばモノクロメータ、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線望
遠鏡、ｘｉリソグラフィー装置等に用いるＸ線反射鏡に
おいて、ガラス、シリコンあるいはグラファイトなどの
基板上に酸化ベリリウムと金属Ｊｉ （Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉの中から少なくとも一種以上の元素を含む）を
交互に積層させ形成することにより、Ｘ線の反射率が高
く、使用波長範囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡
を提供できるようにしたものである。
遠鏡、ｘｉリソグラフィー装置等に用いるＸ線反射鏡に
おいて、ガラス、シリコンあるいはグラファイトなどの
基板上に酸化ベリリウムと金属Ｊｉ （Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｎｉの中から少なくとも一種以上の元素を含む）を
交互に積層させ形成することにより、Ｘ線の反射率が高
く、使用波長範囲が広く、耐環境性の優れたＸ線反射鏡
を提供できるようにしたものである。
従来、Ｘ線領域において反射特性や分散特性を有する構
造体は、ＬｉＦ、熱分解グラファイト、ＬＢ膜などから
形成されている（例えば、Ｍ、Ｗ。
造体は、ＬｉＦ、熱分解グラファイト、ＬＢ膜などから
形成されている（例えば、Ｍ、Ｗ。
Ｃｈａｒｌｅｓ著、Ｊ、Ａｐｐ １．Ｐｈｙｓ、。
４２巻、３３２９頁（１９７１）に記載されている）。
またＸ線反射率の向上などの目的で新しい結晶性材料を
考案する試みがなされている。そのような試みの一つと
して、タングステンと炭素、あるいはタングステン合金
と炭素の積層膜があり、それは例えば、石井他、第３３
回春季応用物理学関係連合講演会予稿集、２６８頁（１
９８６）に記載されている。
考案する試みがなされている。そのような試みの一つと
して、タングステンと炭素、あるいはタングステン合金
と炭素の積層膜があり、それは例えば、石井他、第３３
回春季応用物理学関係連合講演会予稿集、２６８頁（１
９８６）に記載されている。
Ｌ ｉ Ｆ、熱分解グラファイト、ＬＢ膜などから形成
された物質は、格子間隔の拘束が大きいため、Ｘ線の使
用波長領域が狭く、使用が限定されてしまい、また反射
率が小さいという欠点を有していた。さらにＬＢ膜は環
境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中で、かつ室温近傍で動
作させる必要があり、入射ビームのエネルギーが高い場
合に分解するおそれがあった。
された物質は、格子間隔の拘束が大きいため、Ｘ線の使
用波長領域が狭く、使用が限定されてしまい、また反射
率が小さいという欠点を有していた。さらにＬＢ膜は環
境の制限が厳しく、乾燥雰囲気中で、かつ室温近傍で動
作させる必要があり、入射ビームのエネルギーが高い場
合に分解するおそれがあった。
一方、タングステンと炭素あるいはタングステン合金と
炭素の積層膜は、使用波長範囲が限定されるという欠点
があった。
炭素の積層膜は、使用波長範囲が限定されるという欠点
があった。
上記問題点を解決するために、本発明においては、酸化
ベリリウムと金属膜（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ。
ベリリウムと金属膜（Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ。
Ｎｉの中から少なくとも一種以上の元素を含む）を交互
に積層し形成した膜により、Ｘ線反射率の向上、使用波
長領域の拡大、耐環境性の向上を達成した。
に積層し形成した膜により、Ｘ線反射率の向上、使用波
長領域の拡大、耐環境性の向上を達成した。
上記のような構成では、積層する２種類の物質の光学定
数が大きく異なり、また境界面で互いに拡散しないため
、Ｘ線の反射率を向上させることができる。さらにこの
Ｘ線反射鏡は結晶性の拘束を受けないので、反射率を制
御することができる。
数が大きく異なり、また境界面で互いに拡散しないため
、Ｘ線の反射率を向上させることができる。さらにこの
Ｘ線反射鏡は結晶性の拘束を受けないので、反射率を制
御することができる。
また入射ビームの工Ｚルギーが窩い場合にも分解されな
い材料を用いているから耐環境性を向上させることがで
きる。
い材料を用いているから耐環境性を向上させることがで
きる。
［実施例］
本発明のＸ線反射鏡は分子線エピタキシー法スパンタリ
ング法・真空蒸着法・イオンビーム法などによって作製
される。層の形成範囲はシャッターを用いるか、または
基板を材料源に対して動かすことにより制御される。各
層の膜厚は膜の形成が行われている場所（例えば茎着が
行われている場所）でＸ線反射率を測定するが、または
水晶振動子膜厚計を監視することにより制御される。
ング法・真空蒸着法・イオンビーム法などによって作製
される。層の形成範囲はシャッターを用いるか、または
基板を材料源に対して動かすことにより制御される。各
層の膜厚は膜の形成が行われている場所（例えば茎着が
行われている場所）でＸ線反射率を測定するが、または
水晶振動子膜厚計を監視することにより制御される。
基板にはガラス・シリコン・グラファイトを用いた。基
板の表面粗さはＩＯＡ以下であった。
板の表面粗さはＩＯＡ以下であった。
以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明する。膜作
製には多源の真空蒸着装置を用いた。真空度はできるだ
け高いことが望ましいので、クライオポンプを用いて７
Ｘ１０−’Ｔｏｒｒに保ち蒸着を行った。加熱装置には
電子ビームを用い、酸化ベリリウムおよび金属の１着源
は独立に加熱される。酸化ベリリウムと金属のそれぞれ
の蒸着層の厚さの制御は２つのシャッターによって行う
。
製には多源の真空蒸着装置を用いた。真空度はできるだ
け高いことが望ましいので、クライオポンプを用いて７
Ｘ１０−’Ｔｏｒｒに保ち蒸着を行った。加熱装置には
電子ビームを用い、酸化ベリリウムおよび金属の１着源
は独立に加熱される。酸化ベリリウムと金属のそれぞれ
の蒸着層の厚さの制御は２つのシャッターによって行う
。
さらにプログラミング機構をもつ水晶振動子膜厚計を用
いて、酸化ベリリウム層と金属層の厚さを設定し、ンヤ
フクーの開閉を自動的に行い、規則正しい蒸着を繰り返
す。蒸着時基板は水あるいは液体窒素で冷却されている
。また各層の膜厚測定にはＸ線回折を用いた。
いて、酸化ベリリウム層と金属層の厚さを設定し、ンヤ
フクーの開閉を自動的に行い、規則正しい蒸着を繰り返
す。蒸着時基板は水あるいは液体窒素で冷却されている
。また各層の膜厚測定にはＸ線回折を用いた。
第１図において、基板１の上に、酸化ベリリウム層２が
蒸着により形成され、さらにその上に金属層３が形成さ
れ、酸化ベリリウム層２と金属層３で１組の開封４を作
る。この開封を同し手順であらカルめ決めた数だけ積層
することにより反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線】１
は反射鏡の各開封で反射され、反射光線１２となる。第
２図に金属層にＮｉを用いたＢ ｅ Ｑ −ｐＪ ｉ多
Ｎ膜Ｘ線反射鏡の反射率を示す。入射ＸＷ￥波長が１０
人から２００人のときに反射率４〜４８％が得られた。
蒸着により形成され、さらにその上に金属層３が形成さ
れ、酸化ベリリウム層２と金属層３で１組の開封４を作
る。この開封を同し手順であらカルめ決めた数だけ積層
することにより反射鏡を構成する。Ｘ線の入射光線】１
は反射鏡の各開封で反射され、反射光線１２となる。第
２図に金属層にＮｉを用いたＢ ｅ Ｑ −ｐＪ ｉ多
Ｎ膜Ｘ線反射鏡の反射率を示す。入射ＸＷ￥波長が１０
人から２００人のときに反射率４〜４８％が得られた。
゛第３図に酸化ベリリウムと金属層（Ｃｒ、Ｆｅ。
Ｃｏ、Ｎｉ）の積層膜による本発明のＸ線反射鏡の反射
率を示す。
率を示す。
第４図に本発明の一例としてＢｅ０−Ｎｉ３０層Ｘ線反
射鏡に、波長２３．６人のＸ線を入射したときの入射角
と反射率の関係を示す。
射鏡に、波長２３．６人のＸ線を入射したときの入射角
と反射率の関係を示す。
以上述べたように本発明によれば種々のＸ″ｆａ光学系
にて用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長
範囲が１０λ〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得ら
れる。また結晶性の拘束を持たないので反射率を制御す
ることができ、かつ反射率を向上させることができる。
にて用いられるＸ線反射鏡において、使用するＸ線波長
範囲が１０λ〜２００人と広い範囲を持つ反射鏡が得ら
れる。また結晶性の拘束を持たないので反射率を制御す
ることができ、かつ反射率を向上させることができる。
さらに入射Ｘ線のエネルギーが高い場合にも使用可能な
耐環境性のよいＸ線反射鏡が得られるのである。
耐環境性のよいＸ線反射鏡が得られるのである。
第１図は本発明のＸ線反射鏡の断面図、第２図は本発明
の実施例のＢｅｄ−Ｎｉ多層膜反射鎖の反射率を示す図
、第３図は本発明のＢｅＯと各金属のＸ線多層膜反射鏡
の反射率を示す図、第４図は本発明の実施例のＢｅ０−
Ｎｉ３０層Ｘ線反射鏡に波長２３，６人のＸ線を入射し
たときの入射角と反射率の関係を示す図である。 １・・・ガラス、シリコン、グラファイトなどの基板 ２・・・酸化ベリリウム層 ３・・・金属層 ４・・・開封 １１・・・入射光線 １２・・・反射光線 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 Ｘ校反射侃のＭｉ石図 第 １ 図 入射Ｘｔｓ波長 ＢｅＯの膜厚 Ｎｉの膜厚
開封数 反射率（人） （人）
（人） （％）８．３４
８ １６ ３０
４２３．６ ２３ ／１
５ ３０ ４８４４．７
／１５ ９０ ３０ ２７
ＩＪ４ １＋０ ２２０
３０ １８ＢｅＯ−ＮｉＸ線反射絞の反射率 賞２囲 金属の種類 反 躬 串 （％）波長
２３．６人のとき 波長１１４人のどきＮｉ
４８ １８Ｃｏ
４０ １８Ｆｅ
２６ １８Ｃｒ
８ ２０第３
圀 入Ｊｒ１角 Ｆ３ｅ Ｏ−Ｎｉ ３０肩服×粕反射杼ｆ反射岸第 ４
図
の実施例のＢｅｄ−Ｎｉ多層膜反射鎖の反射率を示す図
、第３図は本発明のＢｅＯと各金属のＸ線多層膜反射鏡
の反射率を示す図、第４図は本発明の実施例のＢｅ０−
Ｎｉ３０層Ｘ線反射鏡に波長２３，６人のＸ線を入射し
たときの入射角と反射率の関係を示す図である。 １・・・ガラス、シリコン、グラファイトなどの基板 ２・・・酸化ベリリウム層 ３・・・金属層 ４・・・開封 １１・・・入射光線 １２・・・反射光線 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 林 敬 之 助 Ｘ校反射侃のＭｉ石図 第 １ 図 入射Ｘｔｓ波長 ＢｅＯの膜厚 Ｎｉの膜厚
開封数 反射率（人） （人）
（人） （％）８．３４
８ １６ ３０
４２３．６ ２３ ／１
５ ３０ ４８４４．７
／１５ ９０ ３０ ２７
ＩＪ４ １＋０ ２２０
３０ １８ＢｅＯ−ＮｉＸ線反射絞の反射率 賞２囲 金属の種類 反 躬 串 （％）波長
２３．６人のとき 波長１１４人のどきＮｉ
４８ １８Ｃｏ
４０ １８Ｆｅ
２６ １８Ｃｒ
８ ２０第３
圀 入Ｊｒ１角 Ｆ３ｅ Ｏ−Ｎｉ ３０肩服×粕反射杼ｆ反射岸第 ４
図
Claims (2)
- （１）複数個の層対が互いに上に形成されており、前記
層対は１０Åから２００ÅのＸ線波長領域で反射特性を
有し、各層対の一層が酸化ベリリウムであり、また各層
対の第二層は金属材料によって構成されていることを特
徴とするＸ線反射鏡。 - （２）金属材料層がＣｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉの中から少
なくとも一種以上の元素である請求項１記載のＸ線反射
鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29820290A JPH04169899A (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | Ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29820290A JPH04169899A (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | Ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04169899A true JPH04169899A (ja) | 1992-06-17 |
Family
ID=17856538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29820290A Pending JPH04169899A (ja) | 1990-11-02 | 1990-11-02 | Ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04169899A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
-
1990
- 1990-11-02 JP JP29820290A patent/JPH04169899A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08199342A (ja) * | 1995-01-19 | 1996-08-06 | Rikagaku Kenkyusho | 軟ｘ線光学素子用多層膜構造 |
| EP1091360A2 (en) * | 1995-01-19 | 2001-04-11 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
| EP1091360A3 (en) * | 1995-01-19 | 2003-05-07 | Rikagaku Kenkyusho | Multilayer film structure for soft X-ray optical elements |
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