JPH0862393A - 多層膜ｘ線反射鏡 - Google Patents
多層膜ｘ線反射鏡Info
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- JPH0862393A JPH0862393A JP22249694A JP22249694A JPH0862393A JP H0862393 A JPH0862393 A JP H0862393A JP 22249694 A JP22249694 A JP 22249694A JP 22249694 A JP22249694 A JP 22249694A JP H0862393 A JPH0862393 A JP H0862393A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 熱負荷のかかる環境で使用しても、多層膜の
構造の乱れが少ない多層膜Ｘ線反射鏡を提供すること。 【構成】 異なる物質層が対になって複数層積層された
構造の多層膜Ｘ線反射鏡において、層対を構成する物質
層の少なくとも片側の層に、もう一方の層の物質を含有
させる。これによって層対間の元素の拡散を押さえる。
構造の乱れが少ない多層膜Ｘ線反射鏡を提供すること。 【構成】 異なる物質層が対になって複数層積層された
構造の多層膜Ｘ線反射鏡において、層対を構成する物質
層の少なくとも片側の層に、もう一方の層の物質を含有
させる。これによって層対間の元素の拡散を押さえる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体材料など各種の材
料の化学状態、化学組成、不純物濃度なかでも軽元素を
高感度で分析する装置に必要な軟Ｘ線を選択する分光素
子や微細加工・Ｘ線顕微鏡・Ｘ線望遠鏡などに必要なＸ
線反射鏡に関するものである。
料の化学状態、化学組成、不純物濃度なかでも軽元素を
高感度で分析する装置に必要な軟Ｘ線を選択する分光素
子や微細加工・Ｘ線顕微鏡・Ｘ線望遠鏡などに必要なＸ
線反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】単色・準単色の軟Ｘ線やＸ線を選択する
ために、多層膜Ｘ線反射鏡が使用されるようになってき
た。多層膜Ｘ線反射鏡はシリコンや石英などの基板の上
に一般には軽元素層と重元素層をそれぞれ一定の厚みで
規則正しく積層させて形成されていた。図１２は多層膜
Ｘ線反射鏡の構造を示すもので、Ｌ層は軽元素層、Ｈ層
は重元素層を示す。このような多層膜Ｘ線反射鏡は特に
軟Ｘ線波長領域で回折格子や結晶に比べて反射率が高い
という利点を有している。
ために、多層膜Ｘ線反射鏡が使用されるようになってき
た。多層膜Ｘ線反射鏡はシリコンや石英などの基板の上
に一般には軽元素層と重元素層をそれぞれ一定の厚みで
規則正しく積層させて形成されていた。図１２は多層膜
Ｘ線反射鏡の構造を示すもので、Ｌ層は軽元素層、Ｈ層
は重元素層を示す。このような多層膜Ｘ線反射鏡は特に
軟Ｘ線波長領域で回折格子や結晶に比べて反射率が高い
という利点を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、例えば
Ｒｅ／Ｓｉ多層膜においては３００℃〜４００℃で保持
するだけでＲｅ／Ｓｉ多層膜の構造が乱れ始める。例え
ばＲｅ／Ｓｉ多層膜をＡｒ雰囲気中で１時間熱処理した
場合のＸ線反射率は、２００℃，１時間の熱処理ではほ
とんど変化がないが、４００℃程度以上の温度では多層
膜の積層構造が原子の拡散などによって乱れ、この影響
でＸ線反射率は急激に低下する。この事実を反映して、
高強度のＸ線や軟Ｘ線がこの多層膜に照射されると照射
部の温度が上昇し、この部分の積層構造が乱れ、この影
響で反射率が低下していくことが知られている。反射率
が低下すると分析応用の場合は変化しただけ精度や確度
が悪くなり、また、Ｘ線リソグラフィーなどに適用して
いた場合、レジストを適性時間露光することが困難にな
る、更には、多層膜そのものの寿命が短いなど様々な問
題が生じていた。本発明は前述の問題点を解決するため
に提案されたもので、その目的は耐熱性を向上させた多
層膜Ｘ線反射鏡を提供することにある。
Ｒｅ／Ｓｉ多層膜においては３００℃〜４００℃で保持
するだけでＲｅ／Ｓｉ多層膜の構造が乱れ始める。例え
ばＲｅ／Ｓｉ多層膜をＡｒ雰囲気中で１時間熱処理した
場合のＸ線反射率は、２００℃，１時間の熱処理ではほ
とんど変化がないが、４００℃程度以上の温度では多層
膜の積層構造が原子の拡散などによって乱れ、この影響
でＸ線反射率は急激に低下する。この事実を反映して、
高強度のＸ線や軟Ｘ線がこの多層膜に照射されると照射
部の温度が上昇し、この部分の積層構造が乱れ、この影
響で反射率が低下していくことが知られている。反射率
が低下すると分析応用の場合は変化しただけ精度や確度
が悪くなり、また、Ｘ線リソグラフィーなどに適用して
いた場合、レジストを適性時間露光することが困難にな
る、更には、多層膜そのものの寿命が短いなど様々な問
題が生じていた。本発明は前述の問題点を解決するため
に提案されたもので、その目的は耐熱性を向上させた多
層膜Ｘ線反射鏡を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は （１）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させた多層膜Ｘ線反射鏡を
発明の特徴とする。 （２）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記軽元素層に重元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させた多層膜Ｘ線反射鏡を
発明の特徴とする。 （３）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させ、かつ前記軽元素層に
前記重元素層に含まれる物質を少なくとも１種含有させ
た多層膜Ｘ線反射鏡を発明の特徴とする。 換言すれば、本発明は異なる物質層が対になって複数層
積層された構造の多層膜Ｘ線反射鏡において、層対を構
成する物質層の少なくとも片側の層に、もう一方の層の
物質を含有させ、層対間の元素の拡散を押さえたことを
特徴とする。
め、本発明は （１）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させた多層膜Ｘ線反射鏡を
発明の特徴とする。 （２）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記軽元素層に重元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させた多層膜Ｘ線反射鏡を
発明の特徴とする。 （３）重元素層と軽元素層とを交互に積層させた多層膜
Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層に含まれ
る物質を少なくとも１種含有させ、かつ前記軽元素層に
前記重元素層に含まれる物質を少なくとも１種含有させ
た多層膜Ｘ線反射鏡を発明の特徴とする。 換言すれば、本発明は異なる物質層が対になって複数層
積層された構造の多層膜Ｘ線反射鏡において、層対を構
成する物質層の少なくとも片側の層に、もう一方の層の
物質を含有させ、層対間の元素の拡散を押さえたことを
特徴とする。
【０００５】
【作用】前述のように多層膜Ｘ線反射鏡を高温保持する
と多層膜の積層構造が原子の拡散などによって乱れ、こ
の影響でＸ線反射率は急激に低下する。しかし、一方の
層に対になる、他方の層の元素を含ませておくと、すで
にその元素が含まれていることによって元素の拡散量が
抑制される。このため、多層膜の構造の乱れが少なくな
り、その分、耐熱性が向上することになる。即ち、この
ような多層膜では、一方の層に、他方の層の元素が含ま
れている場合、あるいは両方の層にそれぞれ対になって
いる一方の層の元素が含まれている場合の方が、両方の
層の元素が全く異なる場合よりも経時変化が少なくな
る。このような多層膜を、（ａ）Ｘ線・軟Ｘ線を利用し
た各種分析に適用した場合、Ｘ線反射率の変化が少なく
なり、精度や確度が向上する、（ｂ）Ｘ線リソグラフィ
ーに適用した場合、適性露光時間を正確に決められる、
更に、多層膜自身の（ｃ）寿命が延びるなどの作用を有
することになる。
と多層膜の積層構造が原子の拡散などによって乱れ、こ
の影響でＸ線反射率は急激に低下する。しかし、一方の
層に対になる、他方の層の元素を含ませておくと、すで
にその元素が含まれていることによって元素の拡散量が
抑制される。このため、多層膜の構造の乱れが少なくな
り、その分、耐熱性が向上することになる。即ち、この
ような多層膜では、一方の層に、他方の層の元素が含ま
れている場合、あるいは両方の層にそれぞれ対になって
いる一方の層の元素が含まれている場合の方が、両方の
層の元素が全く異なる場合よりも経時変化が少なくな
る。このような多層膜を、（ａ）Ｘ線・軟Ｘ線を利用し
た各種分析に適用した場合、Ｘ線反射率の変化が少なく
なり、精度や確度が向上する、（ｂ）Ｘ線リソグラフィ
ーに適用した場合、適性露光時間を正確に決められる、
更に、多層膜自身の（ｃ）寿命が延びるなどの作用を有
することになる。
【０００６】
【実施例】次に本発明の代表的な実施例について説明す
る。 （実施例１）ｒｆスパッタリング法により重元素層にＲ
ｈやＲｈＳｉを用い、軽元素層にＳｉ，ＳｉＯ2 ，Ｓｉ
3 Ｎ4 を使用して、Ｒｈ／Ｓｉ多層膜、ＲｈＳｉ／Ｓｉ
多層膜およびＲｈＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜を作製した。
それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３
０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間
熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化
を測定した。図１に熱処理後の反射率／熱処理前の反射
率の比（Ｒ／Ｒ0 ）と熱処理温度との関係を示す。反射
率の変化が少ないほど耐熱性に優れていることを示す。
高温での熱処理においてもＲｈＳｉ／Ｓｉ多層膜とＲｈ
Ｓｉ／Ｓｉ化合物多層膜はＲｈ／Ｓｉ多層膜に比べ反射
率の低下が少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
る。 （実施例１）ｒｆスパッタリング法により重元素層にＲ
ｈやＲｈＳｉを用い、軽元素層にＳｉ，ＳｉＯ2 ，Ｓｉ
3 Ｎ4 を使用して、Ｒｈ／Ｓｉ多層膜、ＲｈＳｉ／Ｓｉ
多層膜およびＲｈＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜を作製した。
それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層
厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３
０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間
熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化
を測定した。図１に熱処理後の反射率／熱処理前の反射
率の比（Ｒ／Ｒ0 ）と熱処理温度との関係を示す。反射
率の変化が少ないほど耐熱性に優れていることを示す。
高温での熱処理においてもＲｈＳｉ／Ｓｉ多層膜とＲｈ
Ｓｉ／Ｓｉ化合物多層膜はＲｈ／Ｓｉ多層膜に比べ反射
率の低下が少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
【０００７】（実施例２）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＲｈあるいはＲｈ7 Ｂ3 を用い、軽元素層に
Ｂ，Ｂ6 Ｓｉ, ＢＮ，Ｂ4 Ｃを使用して、Ｒｈ／Ｂ多層
膜、Ｒｈ7 Ｂ3 ／Ｂ多層膜およびＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ化合物
多層膜を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元
素層と軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元
素層のペアの数を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、
種々の温度で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５
４Å）反射率の変化を測定した。図２に熱処理後の反射
率／熱処理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示
す。反射率の変化が少ないほど耐熱性に優れていること
を示す。高温での熱処理においてもＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ多層
膜およびＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ化合物多層膜はＲｈ／Ｂ多層膜
に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に優れていることが
確認された。
重元素層にＲｈあるいはＲｈ7 Ｂ3 を用い、軽元素層に
Ｂ，Ｂ6 Ｓｉ, ＢＮ，Ｂ4 Ｃを使用して、Ｒｈ／Ｂ多層
膜、Ｒｈ7 Ｂ3 ／Ｂ多層膜およびＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ化合物
多層膜を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元
素層と軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元
素層のペアの数を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、
種々の温度で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５
４Å）反射率の変化を測定した。図２に熱処理後の反射
率／熱処理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示
す。反射率の変化が少ないほど耐熱性に優れていること
を示す。高温での熱処理においてもＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ多層
膜およびＲｈ7 Ｂ3 ／Ｂ化合物多層膜はＲｈ／Ｂ多層膜
に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に優れていることが
確認された。
【０００８】（実施例３）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＲｕやＲｕＳｉを用い、軽元素層にＳｉ，Ｓ
ｉＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 を使用して、Ｒｕ／Ｓｉ多層膜、Ｒ
ｕＳｉ／Ｓｉ多層膜およびＲｕＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜
を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と
軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層の
ペアの数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の
温度で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）
反射率の変化を測定した。図３に熱処理後の反射率／熱
処理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。反射
率の変化が少ないほど耐熱性に優れていることを示す。
高温での熱処理においてもＲｕＳｉ／Ｓｉ多層膜とおよ
びＲｕＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜はＲｕ／Ｓｉ多層膜に比
べ反射率の低下は少なく耐熱性に優れていることが確認
された。
重元素層にＲｕやＲｕＳｉを用い、軽元素層にＳｉ，Ｓ
ｉＯ2 ，Ｓｉ3 Ｎ4 を使用して、Ｒｕ／Ｓｉ多層膜、Ｒ
ｕＳｉ／Ｓｉ多層膜およびＲｕＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜
を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と
軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層の
ペアの数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の
温度で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）
反射率の変化を測定した。図３に熱処理後の反射率／熱
処理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。反射
率の変化が少ないほど耐熱性に優れていることを示す。
高温での熱処理においてもＲｕＳｉ／Ｓｉ多層膜とおよ
びＲｕＳｉ／Ｓｉ化合物多層膜はＲｕ／Ｓｉ多層膜に比
べ反射率の低下は少なく耐熱性に優れていることが確認
された。
【０００９】（実施例４）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＲｕおよびＲｕＢを用い、軽元素層にＢ，Ｂ
6 Ｓｉ, ＢＮ，Ｂ4 Ｃを使用して、Ｒｕ／Ｂ多層膜、Ｒ
ｕＢ／Ｂ多層膜およびＲｕＢ／Ｂ化合物多層膜を作製し
た。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層
の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数
を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１
時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。図４に熱処理後の反射率／熱処理前の
反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処
理においてもＲｕＢ／ＢおよびＲｕＢ／Ｂ化合物多層膜
はＲｕ／Ｂ多層膜に比べ反射率の低下は少なく、耐熱性
に優れていることが確認された。
重元素層にＲｕおよびＲｕＢを用い、軽元素層にＢ，Ｂ
6 Ｓｉ, ＢＮ，Ｂ4 Ｃを使用して、Ｒｕ／Ｂ多層膜、Ｒ
ｕＢ／Ｂ多層膜およびＲｕＢ／Ｂ化合物多層膜を作製し
た。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層
の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数
を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１
時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。図４に熱処理後の反射率／熱処理前の
反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処
理においてもＲｕＢ／ＢおよびＲｕＢ／Ｂ化合物多層膜
はＲｕ／Ｂ多層膜に比べ反射率の低下は少なく、耐熱性
に優れていることが確認された。
【００１０】（実施例５）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＮｂやＮｂＣを用い、軽元素層にＣ，Ｂ
4 Ｃ，ＳｉＣを使用して、Ｎｂ／Ｃ多層膜、ＮｂＣ／
Ｃ，ＮｂＣ／Ｂ4 Ｃ，ＮｂＣ／ＳｉＣ多層膜を作製し
た。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層
の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数
を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１
時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。図５に熱処理後の反射率／熱処理前の
反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処
理においてもＮｂＣ／Ｃ，ＮｂＣ／Ｂ4 Ｃ，ＮｂＣ／Ｓ
ｉＣ多層膜はＮｂ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下が少な
く耐熱性に優れていることが確認された。
重元素層にＮｂやＮｂＣを用い、軽元素層にＣ，Ｂ
4 Ｃ，ＳｉＣを使用して、Ｎｂ／Ｃ多層膜、ＮｂＣ／
Ｃ，ＮｂＣ／Ｂ4 Ｃ，ＮｂＣ／ＳｉＣ多層膜を作製し
た。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層
の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数
を３０とした。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１
時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の
変化を測定した。図５に熱処理後の反射率／熱処理前の
反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処
理においてもＮｂＣ／Ｃ，ＮｂＣ／Ｂ4 Ｃ，ＮｂＣ／Ｓ
ｉＣ多層膜はＮｂ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下が少な
く耐熱性に優れていることが確認された。
【００１１】（実施例６）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＭｏやＭｏＣを用い、軽元素層にＣ，ＳｉＣ
を使用して、Ｍｏ／Ｃ多層膜とＭｏＣ／Ｃ，ＭｏＣ／Ｓ
ｉＣ多層膜を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、
重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と
軽元素層のペアの数を３０とした。これらをＡｒ雰囲気
中、種々の温度で１時間熱処理した。その時のＸ線
（１．５４Å）反射率の変化を測定した。図６に熱処理
後の反射率／熱処理前の反射率の比と熱処理温度との関
係を示す。高温での熱処理においてもＭｏＣ／Ｃ，Ｍｏ
Ｃ／ＳｉＣ多層膜はＭｏ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下
が少なく耐熱性に優れていることが確認された。
重元素層にＭｏやＭｏＣを用い、軽元素層にＣ，ＳｉＣ
を使用して、Ｍｏ／Ｃ多層膜とＭｏＣ／Ｃ，ＭｏＣ／Ｓ
ｉＣ多層膜を作製した。それぞれの周期長は約７０Å、
重元素層と軽元素層の層厚の比率は１：２、重元素層と
軽元素層のペアの数を３０とした。これらをＡｒ雰囲気
中、種々の温度で１時間熱処理した。その時のＸ線
（１．５４Å）反射率の変化を測定した。図６に熱処理
後の反射率／熱処理前の反射率の比と熱処理温度との関
係を示す。高温での熱処理においてもＭｏＣ／Ｃ，Ｍｏ
Ｃ／ＳｉＣ多層膜はＭｏ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下
が少なく耐熱性に優れていることが確認された。
【００１２】（実施例７）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＰｄあるいはＰｄ2 Ｓｉを用い、軽元素層に
Ｓｉ，ＳｉＣを使用して、Ｐｄ／Ｓｉ多層膜，Ｐｄ2 Ｓ
ｉ／Ｓｉ多層膜およびＰｄ2 Ｓｉ／ＳｉＣ多層膜を作製
した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素
層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの
数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で
１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した。図７に熱処理後の反射率／熱処理前
の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱
処理においてもＰｄ2 Ｓｉ／Ｓｉ多層膜およびＰｄ2 Ｓ
ｉ／ＳｉＣ多層膜はＰｄ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の低
下は少なく耐熱性に優れていることが確認された。
重元素層にＰｄあるいはＰｄ2 Ｓｉを用い、軽元素層に
Ｓｉ，ＳｉＣを使用して、Ｐｄ／Ｓｉ多層膜，Ｐｄ2 Ｓ
ｉ／Ｓｉ多層膜およびＰｄ2 Ｓｉ／ＳｉＣ多層膜を作製
した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素
層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの
数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で
１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した。図７に熱処理後の反射率／熱処理前
の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱
処理においてもＰｄ2 Ｓｉ／Ｓｉ多層膜およびＰｄ2 Ｓ
ｉ／ＳｉＣ多層膜はＰｄ／Ｓｉ多層膜に比べ反射率の低
下は少なく耐熱性に優れていることが確認された。
【００１３】（実施例８）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＰｄあるいはＰｄ3 Ｂｅ2 ，Ｐｄ3 Ｂｅを用
い、軽元素層にＢｅ，Ｂｅ12Ｐｄを使用して、Ｐｄ／Ｂ
ｅ多層膜，Ｐｄ3Ｂｅ2 ／Ｂｅ多層膜，Ｐｄ／Ｂｅ12Ｐ
ｄ，Ｐｄ3 Ｂｅ／Ｂｅ12Ｐｄ多層膜を作製した。それぞ
れの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比
率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間熱処理
した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測定
した。図８に熱処理後の反射率／熱処理前の反射率の比
と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処理において
もＰｄ3 Ｂｅ2 ／Ｂｅ多層膜，Ｐｄ／Ｂｅ12Ｐｄ，Ｐｄ
3 Ｂｅ／Ｂｅ12Ｐｄ多層膜はＰｄ／Ｓｉ多層膜に比べ反
射率の低下は少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
重元素層にＰｄあるいはＰｄ3 Ｂｅ2 ，Ｐｄ3 Ｂｅを用
い、軽元素層にＢｅ，Ｂｅ12Ｐｄを使用して、Ｐｄ／Ｂ
ｅ多層膜，Ｐｄ3Ｂｅ2 ／Ｂｅ多層膜，Ｐｄ／Ｂｅ12Ｐ
ｄ，Ｐｄ3 Ｂｅ／Ｂｅ12Ｐｄ多層膜を作製した。それぞ
れの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚の比
率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３０であ
る。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間熱処理
した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を測定
した。図８に熱処理後の反射率／熱処理前の反射率の比
と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処理において
もＰｄ3 Ｂｅ2 ／Ｂｅ多層膜，Ｐｄ／Ｂｅ12Ｐｄ，Ｐｄ
3 Ｂｅ／Ｂｅ12Ｐｄ多層膜はＰｄ／Ｓｉ多層膜に比べ反
射率の低下は少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
【００１４】（実施例９）ｒｆスパッタリング法により
重元素層にＰｔあるいはＰｔＢｅを用い、軽元素層にＢ
ｅ，Ｂｅ5 Ｐｔを使用して、Ｐｔ／Ｂｅ多層膜，ＰｔＢ
ｅ／Ｂｅ多層膜，Ｐｔ／ＢｅＰｔ多層膜を作製した。そ
れぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚
の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３０
である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間熱
処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を
測定した。図９に熱処理後の反射率／熱処理前の反射率
の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処理にお
いてもＰｔＢｅ／Ｂｅ多層膜，Ｐｔ／ＢｅＰｔ多層膜は
Ｐｔ／Ｂｅ多層膜に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に
優れていることが確認された。
重元素層にＰｔあるいはＰｔＢｅを用い、軽元素層にＢ
ｅ，Ｂｅ5 Ｐｔを使用して、Ｐｔ／Ｂｅ多層膜，ＰｔＢ
ｅ／Ｂｅ多層膜，Ｐｔ／ＢｅＰｔ多層膜を作製した。そ
れぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素層の層厚
の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの数は３０
である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で１時間熱
処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率の変化を
測定した。図９に熱処理後の反射率／熱処理前の反射率
の比と熱処理温度との関係を示す。高温での熱処理にお
いてもＰｔＢｅ／Ｂｅ多層膜，Ｐｔ／ＢｅＰｔ多層膜は
Ｐｔ／Ｂｅ多層膜に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に
優れていることが確認された。
【００１５】（実施例１０）ｒｆスパッタリング法によ
り重元素層にＮｉ，Ｎｉ3 ＣａおよびＮｉ5 Ｃａを用
い、軽元素層にＣａおよびＣａＮｉ2 を使用して、Ｎｉ
／Ｃａ多層膜，Ｎｉ3Ｃａ／Ｃａ多層膜，Ｎｉ5 Ｃａ／
Ｃａ多層膜およびＮｉ3 Ｃａ／ＣａＮｉ2 多層膜を作製
した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素
層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの
数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で
１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した。図１０に熱処理後の反射率／熱処理
前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での
熱処理においてもＮｉ3 Ｃａ／Ｃａ多層膜，Ｎｉ5 Ｃａ
／Ｃａ多層膜およびＮｉ3 Ｃａ／ＣａＮｉ2 多層膜はＮ
ｉ／Ｃａ多層膜に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に優
れていることが確認された。
り重元素層にＮｉ，Ｎｉ3 ＣａおよびＮｉ5 Ｃａを用
い、軽元素層にＣａおよびＣａＮｉ2 を使用して、Ｎｉ
／Ｃａ多層膜，Ｎｉ3Ｃａ／Ｃａ多層膜，Ｎｉ5 Ｃａ／
Ｃａ多層膜およびＮｉ3 Ｃａ／ＣａＮｉ2 多層膜を作製
した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元素
層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペアの
数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度で
１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射率
の変化を測定した。図１０に熱処理後の反射率／熱処理
前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。高温での
熱処理においてもＮｉ3 Ｃａ／Ｃａ多層膜，Ｎｉ5 Ｃａ
／Ｃａ多層膜およびＮｉ3 Ｃａ／ＣａＮｉ2 多層膜はＮ
ｉ／Ｃａ多層膜に比べ反射率の低下が少なく耐熱性に優
れていることが確認された。
【００１６】（実施例１１）ｒｆスパッタリング法によ
り重元素層にＮｉおよびＮｉＣを用い、軽元素層にＣを
使用して、Ｎｉ／Ｃ多層膜およびＮｉＣ／Ｃ多層膜を作
製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元
素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペア
の数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度
で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射
率の変化を測定した。図１１に熱処理後の反射率／熱処
理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。ＮｉＣ
／Ｃ多層膜はＮｉ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下が高温
においても少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
り重元素層にＮｉおよびＮｉＣを用い、軽元素層にＣを
使用して、Ｎｉ／Ｃ多層膜およびＮｉＣ／Ｃ多層膜を作
製した。それぞれの周期長は約７０Å、重元素層と軽元
素層の層厚の比率は１：２、重元素層と軽元素層のペア
の数は３０である。これらをＡｒ雰囲気中、種々の温度
で１時間熱処理した。その時のＸ線（１．５４Å）反射
率の変化を測定した。図１１に熱処理後の反射率／熱処
理前の反射率の比と熱処理温度との関係を示す。ＮｉＣ
／Ｃ多層膜はＮｉ／Ｃ多層膜に比べ反射率の低下が高温
においても少なく耐熱性に優れていることが確認され
た。
【００１７】
【発明の効果】以上述べたように本発明の多層膜Ｘ線反
射鏡は、一方の層に、対になる他方の層の元素が含まれ
ているので、熱負荷のかかる環境で使用しても、すでに
その元素が含まれていることによって各層相互間の元素
の拡散量が抑制される。このため、多層膜の構造の乱れ
が少なくなり、その分、耐熱性が向上することになる。
このため、経時変化が少なくなる。このような多層膜Ｘ
線反射鏡を、（ａ）Ｘ線・軟Ｘ線を利用した各種分析に
適用した場合、Ｘ線反射率の変化が少なくなり、精度や
確度が向上する。（ｂ）Ｘ線リソグラフィーに適用した
場合、適性露光時間を正確に決められる。更に、多層膜
自身の（ｃ）寿命が延びるなどの効果を有することにな
る。
射鏡は、一方の層に、対になる他方の層の元素が含まれ
ているので、熱負荷のかかる環境で使用しても、すでに
その元素が含まれていることによって各層相互間の元素
の拡散量が抑制される。このため、多層膜の構造の乱れ
が少なくなり、その分、耐熱性が向上することになる。
このため、経時変化が少なくなる。このような多層膜Ｘ
線反射鏡を、（ａ）Ｘ線・軟Ｘ線を利用した各種分析に
適用した場合、Ｘ線反射率の変化が少なくなり、精度や
確度が向上する。（ｂ）Ｘ線リソグラフィーに適用した
場合、適性露光時間を正確に決められる。更に、多層膜
自身の（ｃ）寿命が延びるなどの効果を有することにな
る。
【図１】Ｒｈ／Ｓｉ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図２】Ｒｈ／Ｂ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図３】Ｒｕ／Ｓｉ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図４】Ｒｕ／Ｂ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図５】Ｎｂ／Ｃ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図６】Ｍｏ／Ｃ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度の
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間保
持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図７】Ｐｄ／Ｓｉ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図８】Ｐｄ／Ｂｅ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図９】Ｐｔ／Ｂｅ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図１０】Ｎｉ／Ｃａ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温
度の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時
間保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
度の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時
間保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図１１】Ｎｉ／Ｃ系多層膜のＸ線反射率と熱処理温度
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
の関係を示した図である。熱処理条件はＡｒ中、１時間
保持。 Ｒ・・・熱処理後の反射率、Ｒ0 ・・・熱処理前の反射
率。
【図１２】一般的な多層膜Ｘ線反射鏡の構造を示した図
である。Ｓｉなどの基板の上に一定の厚みの重元素層
（Ｈ層）と軽元素層（Ｌ層）を交互に規則正しく積み重
ねた構造をしている。
である。Ｓｉなどの基板の上に一定の厚みの重元素層
（Ｈ層）と軽元素層（Ｌ層）を交互に規則正しく積み重
ねた構造をしている。
Ｌ層 軽元素層 Ｈ層 重元素層
Claims (3)
- 【請求項１】 重元素層と軽元素層とを交互に積層させ
た多層膜Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層
に含まれる物質を少なくとも１種含有させたことを特徴
とする多層膜Ｘ線反射鏡。 - 【請求項２】 重元素層と軽元素層とを交互に積層させ
た多層膜Ｘ線反射鏡において、前記軽元素層に重元素層
に含まれる物質を少なくとも１種含有させたことを特徴
とする多層膜Ｘ線反射鏡。 - 【請求項３】 重元素層と軽元素層とを交互に積層させ
た多層膜Ｘ線反射鏡において、前記重元素層に軽元素層
に含まれる物質を少なくとも１種含有させ、かつ前記軽
元素層に前記重元素層に含まれる物質を少なくとも１種
含有させたことを特徴とする多層膜Ｘ線反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22249694A JPH0862393A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22249694A JPH0862393A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0862393A true JPH0862393A (ja) | 1996-03-08 |
Family
ID=16783346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22249694A Pending JPH0862393A (ja) | 1994-08-24 | 1994-08-24 | 多層膜ｘ線反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0862393A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8349514B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electrode catalyst for fuel cells, method of preparing the electrode catalyst, and fuel cell including electrode containing the electrode catalyst |
| JP2015029092A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-02-12 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 |
| JP2017525999A (ja) * | 2014-07-11 | 2017-09-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 多層スタックを有する極紫外線反射素子、及び極紫外線反射素子を製造する方法 |
-
1994
- 1994-08-24 JP JP22249694A patent/JPH0862393A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8349514B2 (en) | 2009-03-27 | 2013-01-08 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Electrode catalyst for fuel cells, method of preparing the electrode catalyst, and fuel cell including electrode containing the electrode catalyst |
| JP2015029092A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-02-12 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 |
| JP2017525999A (ja) * | 2014-07-11 | 2017-09-07 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 多層スタックを有する極紫外線反射素子、及び極紫外線反射素子を製造する方法 |
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