JP2015029092A - Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 - Google Patents
Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015029092A JP2015029092A JP2014140047A JP2014140047A JP2015029092A JP 2015029092 A JP2015029092 A JP 2015029092A JP 2014140047 A JP2014140047 A JP 2014140047A JP 2014140047 A JP2014140047 A JP 2014140047A JP 2015029092 A JP2015029092 A JP 2015029092A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical element
- reflective
- reflective coating
- reflective optical
- boron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 51
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 title abstract description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 78
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 238000001900 extreme ultraviolet lithography Methods 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 39
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims description 11
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 7
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N hafnium atom Chemical compound [Hf] VBJZVLUMGGDVMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 39
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 38
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 17
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- LGLOITKZTDVGOE-UHFFFAOYSA-N boranylidynemolybdenum Chemical compound [Mo]#B LGLOITKZTDVGOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- VDZMENNHPJNJPP-UHFFFAOYSA-N boranylidyneniobium Chemical compound [Nb]#B VDZMENNHPJNJPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000001994 activation Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000002186 photoactivation Effects 0.000 description 2
- 238000000678 plasma activation Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010146 3D printing Methods 0.000 description 1
- -1 B y. Here Chemical class 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000002524 organometallic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 239000007790 solid phase Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70316—Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors, extreme ultraviolet [EUV] multilayer or bilayer mirrors or diffractive optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/7095—Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
- G03F7/70958—Optical materials or coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance or anti-reflection properties
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【課題】可能な限り高い反射率を有する極端紫外波長斜入射用反射光学素子を提供する。【解決手段】ＥＵＶリソグラフィー用光学システムのコレクタミラーに使用される反射光学素子において、反射光学素子１００の基板１１０上に、ホウ素を含有し、厚さ５０nm以上である反射コーティング１２０を備える。【選択図】図２
Description
本発明は、EUV波長帯での斜入射用反射光学素子であって、基板上に反射コーティングを有するものに関する。さらに、本発明は、そのような反射光学素子を備えるEUVリソグラフィー用光学システム及びEUVリソグラフィー装置に関するものである。
EUVリソグラフィー装置においては、多層システムに基づくフォトマスクやミラーのような、極端紫外（EUV）波長帯（例えば、約５nm〜２０nmの間の波長）用の反射光学素子が、半導体部品のリソグラフィーに用いられてきた。EUVリソグラフィー装置は、一般的に複数の反射光学素子を備えるので、全体として十分に高い反射率を確保するために、各反射光学素子の反射率は可能な限り高いことが必要であった。
とりわけ、プラズマ源は、放射源として機能することができる。プラズマは放電（DPP源）、又は、好ましくはレーザー励起（LPP源）によって生成することができる。このために、粒子状の材料に対して強いレーザー光を照射して励起させて、特にEUV波長帯の放射を発するプラズマを生成する。EUVリソグラフィーに利用可能な、可能な限り高出力のEUV放射を生成するために、特に、EUV用途では斜入射用のミラーを採用する。一般的に、斜入射用のミラーは、金属製の反射コーティングを施した基板である。例えば、そのようなミラーは、欧州特許出願公開第１８８２９８４号明細書に記載されている。かかる文献では、例えば、モリブデン、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、ニオブ、又はジルコニウムからなる反射コーティングが開示されており、かかるコーティングは、鏡面に対して最大１５°、部分的には最大２０°の入射角について、６０％を上回る反射率を達成している。
本発明は、可能な限り高い反射率を有する、極端紫外波長帯斜入射用反射光学素子を提供することを目的とする。
かかる目的は、厚さが５０nm超であり、且つホウ素を含有する反射コーティングを基板上に有する極端紫外波長帯斜入射用反射光学素子によって達成される。
厚さ５０nm以上であり、且つホウ素を含有する反射コーティングは、EUV放射が斜入射する場合の反射率が比較的高いということが見いだされてきた。
特に、既知のこの種の特定組成の反射コーティングを有する反射光学素子と、この組成に追加のホウ素を含有させた反射コーティングを有する対応する反射光学素子とを比較した場合、比較的高い入射角において同等の反射率を獲得することができ、各反射光学素子の全体的な反射率を高めることができる。
好ましい実施形態において、全体的な反射率を増加させるために、反射コーティングは、任意のストイキオメトリのホウ化物の形態で少なくともホウ素の一部を含有する。例えば、物質Aのホウ化物は、AxBy（x、yは、０〜１の間の値であり、x+y=1である）と表現することができる。有利には、この場合の反射コーティングは、ホウ化物の混合物、特に、任意のストイキオメトリの二元系又は三元系の金属ホウ化物の形態で少なくともホウ素の一部を含有する。例えば、二元系又は三元系の金属ホウ化物は、M1x1M2x2By、又はM1x1M2x2M3x3Byのような２種又は３種の金属の化合物である。ここで、M1、M2、M3は、異なる金属であり、x1、x2、x3、yは、０〜１の間の値であり、且つx1 + x2 + y = 1及びx1 + x2 + x3 + y = 1をそれぞれ満たす。ホウ化物を含有しない反射光学コーティングを備える従来の素子と比較して、本明細書に記載する反射光学素子は、２°〜３°高い入射角において同様の反射率を呈する。その結果、特に金属コーティングの場合に既に高い反射率を、特定の入射角において数パーセント増加させることができる。
好ましくは、反射コーティングは、任意のストイキオメトリの、モリブデン、ルテニウム、ニオブ、ジルコニウム、ロジウム、レニウム、パラジウム、金、プラチナ、ニッケル、タンタル、タングステン、オスミウム、イリジウム、チタン、ハフニウム、マグネシウム、カルシウム、及びストロンチウムを含む金属群の１種又は複数種のホウ化物の形態でホウ素の少なくとも一部を含有する。対応する反射光学素子のホウ化物を含有しない金属コーティングと比較して、上述のホウ化物のいずれか一種を用いることにより、特に、入射角が１５°より大きい場合に、数度大きい入射角において同様の反射率を達成することができる。
好ましい実施形態において、反射コーティングは、当該反射コーティングの厚さ方向で異なるストイキオメトリのホウ化物を含有する。これにより、特に、基板付近のホウ素濃度を基板から遠い側に面する反射コーティングのホウ素濃度と異ならせることで、反射率以外のコーティングの材料特性を対応する基板の特性に適応させることができる。例えば、そのような特性は、接着特性、膨張係数、張力特性などでありうる。
基板は、金属、金属合金、ガラス、ガラスセラミック、セラミック、半導体の単結晶もしくは多結晶、又は複合材料からなることが有利である。例えば、加工性のような反射光学素子に必要とされる要求に応じて、基板の延伸しにくさ、或いは膨張率が可能な限り低いことが、基板材料を選択する際に優先される。
基板と反射コーティングの間の接着を促進するために、接着促進層が基板及び反射コーティングの間に配置されていることが有利である。好ましくは、反射コーティングは、任意のストイキオメトリの金属ホウ化物又は混合金属ホウ化物の形態でホウ素の少なくとも一部を含有し、基板及び反射コーティングの間に配置された、金属ホウ化物の金属又は混合金属ホウ化物のうちの一種の金属を含有する接着促進層を有する。従来のコーティング工程において、多くの支出を伴わずに、接着促進層として金属層を塗布することと、反射コーティングとしてホウ化物層を塗布することとを組み合わせることができる。
好ましい実施形態において、反射コーティングは厚さが１００nm以上、好ましくは１０００nm以上である。ホウ素を含有する反射コーティングが厚くなることに従って、反射率が増加することが見いだされた。具体的には、ホウ素を含有する反射コーティングが厚い場合に、僅かに大きい入射角において、比較的薄いコーティングにおける比較的小さい入射角の場合と同様の反射率を達成できることが見いだされた。
特に好ましい実施形態において、反射コーティングは１つのホウ素含有層からなる。特に、斜入射用反射光学素子については、単層の反射コーティングで十分な反射率を達成することができる。斜入射については、通常の入射に用いる反射光学素子に関するブラッグ反射に基づく複雑な多層システムは不要である。層数が少ないほど、反射コーティングを施すための時間及び労力を節約することができる。
特に好ましい実施形態において、反射光学素子はコレクタミラーとして実装される。EUVリソグラフィーでは、コレクタミラーは、特にプラズア放射源のような放射源のビーム方向の下流における第１ミラーとしてしばしば用いられ、放射源から放射される様々な方向の放射を収束させ、且つ、後続するミラーに対して上述の放射を収束させて反射する。
さらに、本発明の目的は、上述の反射光学素子を備えるEUVリソグラフィー用光学システム又はEUVリソグラフィー装置により達成される。
以下、本発明について、好ましい実施例を参照しつつ、さらに詳細に説明する。
図１は、EUVリソグラフィー装置１の概略図である。主要な構成要素は、ビーム形成システム１０、照明システム１４、フォトマスク１７、及び投影システム２０である。EUVリソグラフィー装置１は、真空状態で操作されるので、その内部におけるEUV放射の吸収は最小限である。
例えば、プラズマ源、あるいはシンクロトロンは、放射源１２として機能することができる。ここに示す実施形態では、放射源１２はプラズマ源である。約５nm〜２０nmの波長帯の放射は、最初にコレクタミラー１３により収束され、次いで、本例ではモノクロメーター１１を用いてスペクトルフィルタリングされる。そして、動作ビームは照明システム１４に導入される。図１に示す実施形態では、照明システム１４は、２つのミラー１５及び１６を備える。ミラー１５及び１６は、ウェーハ２１上に結像されるべき構造を有するフォトマスク１７上にビームを導く。同様に、フォトマスク１７は、EUV波長帯用反射光学素子であり、製造プロセスに応じてその素子を交換される。投影システム２０を用いてフォトマスク１７から反射されてきたビームはウェーハ２１上に投影され、結果的にフォトマスク１７の構造がウェーハ２１上に結像される。本例では、投影システム２０は、２つのミラー１８及び１９を備える。なお、投影システム２０及び照明システム１４は、共に、それぞれ唯１つのミラーを備えてもよく、あるいは、３、４、５、又はそれ以上のミラーを備えても良い。ビーム形成システム及び照明システムを、汎用の光学システムとして実装することも可能である。特に、モノクロメーター１１をいくつかの変形例によって実装することも可能である。
本例では、コレクタミラー１３のみが斜入射用ミラーとして設計されている。基本的には、斜入射用の反射光学素子は、EUVリソグラフィー装置１内の様々なポイントにおいて用いられることが可能である。本例に示すコレクタミラー１３は、極端紫外波長帯における斜入射用反射光学素子であって、厚さが少なくとも５０ｎｍであり、ホウ素を含有する反射コーティングを基板上に有する素子である。
図２及び図３は、ホウ素含有反射コーティング１２０を有する斜入射用反射光学素子１００の２つの実施形態の概略図である。ホウ素含有コーティング１２０は、例えば、金属、合金、ガラス、ガラスセラミック、セラミック、半導体の単結晶もしくは多結晶、又は複合材料からなる基板１１０上に堆積されている。図３に示す例では、接着促進層１３０が、基板１１０と反射コーティング１２０との間に配置されており、これにより、反射コーティング１２０の基板１１０に対する接着が促進されている。図示の例では、少なくとも５０nmの厚さのホウ素含有反射コーティングは、単層１２０として設計されている。他の変形例において、コーティングを２層、３層、又は４層として設計しても良い。しかし、層の数は、普通入射に用いられるような４層の多層システムよりも有意に小さいことが好ましい。
以下に説明する実施形態における反射コーティング１２０は、任意のストイキオメトリのホウ化物であり、特に、金属ホウ化物、又は二元系又は三元系の金属ホウ化物の形態の混合ホウ化物である。また、本明細書に記載の実施形態における反射コーティングは、任意のストイキオメトリの、モリブデン、ルテニウム、ニオブ、ジルコニウム、ロジウム、レニウム、パラジウム、金、プラチナ、ニッケル、タンタル、タングステン、オスミウム、イリジウム、チタン、ハフニウム、マグネシウム、カルシウム、及びストロンチウムを含む金属群の１種又は複数種のホウ化物からなる単一層である。さらなる変形例において、反射コーティングは、様々な物質、特に様々な金属及び金属の組み合わせのホウ化物からなる様々な層を有するシステムとして設計することができる。
本明細書中で例示的に考慮する実施形態の幾つかの変形例において、反射コーティング１２０は、当該反射コーティング１２０の厚さD方向で異なるストイキオメトリのホウ化物の形態でホウ素を含有する。図４〜図６に、ホウ素濃度Cの変動の幾つかの例を概略的に示す。ここで、濃度Cの変化は、基板表面からの距離dの関数として考慮する。純粋に例示的に選択した上述の例において、濃度Cは基板からの距離dが増加することに従って増加する。ここで、図４及び図６に示す例における変化は連続的であるが、図５に示す例では非連続的であり、図５では濃度Cは一定のステップで増加する。図６に示す例では、ホウ素濃度Cは、最初、接着促進層の厚さ方向にわたってゼロである。図６に示す例では、反射コーティングは、任意のストイキオメトリの金属ホウ化物又は混合金属ホウ化物であり、接着促進層は、金属ホウ化物の金属、又は、任意には、反射コーティングの混合金属ホウ化物に含まれる金属のうちの１種である。
本明細書で提案する反射光学素子は、従来の方法により実質的に製造することができる。最初のステップにおいて、金属、金属合金、ガラス、ガラスセラミック、セラミック、半導体の単結晶もしくは多結晶、又は複合材料からなる、マンドレルとも称される形状を製造し、既知の方法により規定の表面粗度まで研磨する。表面粗度が高すぎると、反射率が低下してしまう。任意で、金属、金属合金、ガラス、半導体、又は、例えばパリレンのようなプラスチックからなる分離層を上述の形状の上に堆積させることができる。例えば、スパッタリング（例えば、マグネトロンスパッタリング又は反応性スパッタリング）のような物理蒸着、具体的にはプラズマ活性化、粒子線活性化、光活性化のような化学蒸着又は原子層堆積、或いは、有機金属蒸着により、ホウ素を含有する反射コーティングをその上に堆積させる。任意で、接着促進層として更なる層をその上に堆積させることができる。次いで、機械的強度を向上させるために基板を塗布する。基板の塗布は、例えば、電気めっき、蒸着又は原子層堆積、プラズマめっき、レーザー焼結、高周波焼結、或いは３Dプリント形式の局所的マテリアルビルドアップにより行うことができる。この工程において、例えば、冷却チャネルを導入することも可能である。特に、後にコレクタミラーとして使用するにあたり、コレクタミラーは放射源に近接するため非常に高い熱負荷に晒されるので、冷却チャネルを導入することは非常に有利である。最終工程において、引きちぎるようにしてミラーをマンドレルから分離させる。分離層は、マンドレル又は反射コーティングに接着したまま残ることがあり得る。後者の場合、プラズマ活性化、光活性化、又は粒子活性化、或いは湿式化学法により、分離層を除去することができる。
図７〜図９は、波長１３．５nmでの斜入射に用いるミラーの反射コーティング用の幾つかの例示的な材料について、反射率を入射角（ミラー表面の平面、或いは表面法線に対して直交する平面を基準として測定した）の関数として示す図である。以下に説明する例におけるコーティングは、それぞれ、一層からなる。光学定数は、B.L. Henke、E.M. Gullikson 、及びJ.C. Davisによる、X線相互作用：E=50-30000 eV, Z=1-92 における光吸収、散乱、透過、及び反射、Atomic Data and Nuclear Data Tables第５４巻第２号、１８１〜３４２頁（１９９３年７月）に記載の値に基づき、計算を行った。
図７は、あらゆる基板上に施したホウ化ニオブからなる反射コーティングの反射率を示す図であり、特に、厚さ約１００nmのNbB2層からなる反射コーティングの反射率を示す（実線）。これに対して、反射コーティングとして厚さ約１００nmのニオブ層を有する斜入射用ミラーの反射率を長破線で示す。ニオブ層のみを有する従来のミラーは、約２０°までの入射角について、６０％以上の反射率を達成する一方で、ホウ化ニオブ層を用いると、約２１．５°までそのような反射率を達成することができ、その結果、全ての角度にわたって統合した全体的な反射率を顕著に増加させることができる。
図８は、あらゆる基板上に施したホウ化モリブデンからなる反射コーティングの反射率を示す図であり、特に、厚さ約１００nmのMo2B5層（実線）からなる反射コーティング、及び、厚さ約１０００nm のMo2B5層（短破線）からなる反射コーティングの反射率を示す。これに対して、反射コーティングとして厚さ約１００nmのモリブデン層を有する斜入射用ミラーの反射率も示す（長破線）。モリブデン層のみを有する従来のミラーは、約２１°までの入射角について、６０％以上の反射率を達成する一方で、ホウ化モリブデン層を用いると、約２２．５°までそのような反射率を達成することができ、その結果、全ての角度にわたって統合した全体的な反射率を顕著に増加させることができる。厚いホウ化モリブデン層を考慮した場合、固相特性を呈するように決定することができ、その結果、入射角が比較的大きい場合に見かけ上の干渉に由来する反射率の変化が生じないようにして、全体的な反射率をさらにわずかに増加させることができる。
図９は、あらゆる基板上に施した、Rub2及びRuB12という２つの異なるホウ化ルテニウムからなる反射コーティングの反射率をそれぞれ示す図であり、特に、厚さ約１００nmのホウ化ルテニウム層（実線）からなる反射コーティング、及び、厚さ約１０００nm のホウ化ルテニウム層（破線）からなる反射コーティングの反射率を示す。これに対して、反射コーティングとして厚さ約１００nmのルテニウム層を有する斜入射用ミラーの反射率も示す（長破線）。ルテニウム層のみを有する従来のミラーは、約２３．５°までの入射角について、６０％以上の反射率を達成する一方で、薄いRub2層を用いると、約２４．５°までそのような反射率を達成することができ、さらに、薄いRuB12層を用いれば、約２６．５°までそのような反射率を達成することができる。その結果、全ての角度にわたって統合した全体的な反射率を顕著に増加させることができる。厚さ約１０００nmの層として各ホウ化ルテニウム層を塗布することにより、Rub2については約２５．５°の入射角まで、RuB12については約２７．５°の入射角まで、６０％以上の反射率を獲得することができる。
EUV波長帯における斜入射用ミラーの反射コーティングにホウ素を用いることにより、金属製の反射コーティングを有する従来のミラーと比較して、比較的大きな入射角にて比較的高い反射率を最大２°〜３°でもシフトさせることで、複数の特定の入射角の各入射角における反射率を数パーセント変化させることができる。例えば、コレクタミラーとしての実施形態を考えた場合に、放射が複数回反射されることをさらに考慮すれば、全体的な反射率を約５％向上させることができる。特に、金属ホウ化物又は混合金属ホウ化物は、硬度が非常に高く及び熱耐性に富むという点で顕著であり、一般的に反射率を僅かに低下させる虞がある保護層を反射コーティング上に塗布して提供することを可能にする点で有利である。さらに、その結果、これらの反射光額素子は、プラズマ放射源の直近で使用するコレクタミラーとしての使用に特に良く適している。
１０ EUVリソグラフィー装置
１２ EUV放射源
１３ コレクタミラー
１４ 照明システム
１５ 第１ミラー
１６ 第２ミラー
１７ マスク
１８ 第３ミラー
１９ 第４ミラー
２０ 投影システム
２１ ウェーハ
１００ ミラー
１１０ 基板
１２０ 反射コーティング
１３０ 接着促進層
１２ EUV放射源
１３ コレクタミラー
１４ 照明システム
１５ 第１ミラー
１６ 第２ミラー
１７ マスク
１８ 第３ミラー
１９ 第４ミラー
２０ 投影システム
２１ ウェーハ
１００ ミラー
１１０ 基板
１２０ 反射コーティング
１３０ 接着促進層
Claims (14)
- 基板（１１０）上に反射コーティング（１２０）を備える極端紫外波長帯斜入射用反射光学素子（１００）であって、前記反射コーティング（１２０）は、厚さ（D）が５０nmより大きく、ホウ素を含有することを特徴とする、反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、任意のストイキオメトリのホウ化物の形態で少なくとも前記ホウ素の一部を含有することを特徴とする、請求項１に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、任意のストイキオメトリの金属ホウ化物の形態で少なくとも前記ホウ素の一部を含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、ホウ化物の混合物、特に、任意のストイキオメトリの二元系又は三元系の金属ホウ化物の形態で少なくとも前記ホウ素の一部を含有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、モリブデン、ルテニウム、ニオブ、ジルコニウム、ロジウム、レニウム、パラジウム、金、プラチナ、ニッケル、タンタル、タングステン、オスミウム、イリジウム、チタン、ハフニウム、マグネシウム、カルシウム、及びストロンチウムを含む金属群のうちの１種又は複数種の任意のストイキオメトリのホウ化物の形態で前記ホウ素の少なくとも一部を含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、該反射コーティング（１２０）の厚さ（D）方向で異なるストイキオメトリのホウ化物を含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記基板（１１０）は、金属、金属合金、ガラス、ガラスセラミック、セラミック、半導体の単結晶もしくは多結晶、又は複合材料からなることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 接着促進層（１３０）が前記基板（１１０）及び前記反射コーティング（１２０）の間に配置されていることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、任意のストイキオメトリの金属ホウ化物又は混合金属ホウ化物の形態で少なくとも前記ホウ素の一部を含有し、前記基板（１１０）及び前記反射コーティング（１２０）の間に配置された、前記金属ホウ化物の金属又は前記混合金属ホウ化物のうちの一種の金属を含有する接着促進層（１３０）を有することを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティング（１２０）は、厚さ（D）が１００nm以上、好ましくは１０００nm以上であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 前記反射コーティングは、１つのホウ素含有層（１２０）からなることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- コレクタミラー（１３）として実装されることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の反射光学素子。
- 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の反射光学素子を備えるEUVリソグラフィー用光学システム。
- 請求項１〜１２のいずれか一項に記載の反射光学素子を備える、EUVリソグラフィー装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102013107192.9A DE102013107192A1 (de) | 2013-07-08 | 2013-07-08 | Reflektives optisches Element für streifenden Einfall im EUV-Wellenlängenbereich |
| DE102013107192.9 | 2013-07-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015029092A true JP2015029092A (ja) | 2015-02-12 |
| JP6489769B2 JP6489769B2 (ja) | 2019-03-27 |
Family
ID=50980224
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014140047A Active JP6489769B2 (ja) | 2013-07-08 | 2014-07-07 | Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9703209B2 (ja) |
| EP (1) | EP2824487B1 (ja) |
| JP (1) | JP6489769B2 (ja) |
| DE (1) | DE102013107192A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190102272A (ko) * | 2017-01-17 | 2019-09-03 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 또는 검사 시스템을 위한 거울 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015224238A1 (de) | 2015-12-03 | 2016-12-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element, Projektionssystem und EUV-Lithographiesystem damit und Verfahren zur Korrektur einer Oberflächenform |
| DE102016201850A1 (de) * | 2016-02-08 | 2017-08-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optisches Element |
| US11971605B2 (en) | 2018-05-09 | 2024-04-30 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Mirror support for a composite optical mirror and method for its production |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0862393A (ja) * | 1994-08-24 | 1996-03-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多層膜ｘ線反射鏡 |
| JPH11504615A (ja) * | 1996-03-07 | 1999-04-27 | サン−ゴバン ビトラージュ | ガラス上に反射層を被着する方法及び得られる製品 |
| JP2002093684A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-29 | Canon Inc | Ｘ線露光装置、ｘ線露光方法、半導体製造装置および微細構造体 |
| JP2005347757A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Asml Netherlands Bv | かすめ入射ミラー、かすめ入射ミラーを含むリソグラフィ装置、かすめ入射ミラーを提供する方法、かすめ入射ミラーのｅｕｖ反射を強化する方法、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス |
| JP2011228699A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 反射光学要素、投影系及び投影露光装置 |
| JP2012500468A (ja) * | 2008-08-15 | 2012-01-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | ミラー、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2013515968A (ja) * | 2009-12-24 | 2013-05-09 | コ−オペレイティブ・リサーチ・センター・フォー・アドバンスト・オートモーティブ・テクノロジー・リミテッド | プラスチック製自動車用ミラー |
| US20130170056A1 (en) * | 2010-08-30 | 2013-07-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Substrate for mirrors for euv lithography |
Family Cites Families (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5310603A (en) * | 1986-10-01 | 1994-05-10 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| US5433988A (en) * | 1986-10-01 | 1995-07-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Multi-layer reflection mirror for soft X-ray to vacuum ultraviolet ray |
| US5384817A (en) * | 1993-07-12 | 1995-01-24 | Ovonic Synthetic Materials Company | X-ray optical element and method for its manufacture |
| FR2752235B3 (fr) * | 1996-08-07 | 1998-08-28 | Saint Gobain Vitrage | Substrat verrier muni d'une couche reflechissante |
| US6013399A (en) * | 1998-12-04 | 2000-01-11 | Advanced Micro Devices, Inc. | Reworkable EUV mask materials |
| JP2001110709A (ja) * | 1999-10-08 | 2001-04-20 | Nikon Corp | 多層膜反射鏡及び露光装置ならびに集積回路の製造方法。 |
| US6870896B2 (en) * | 2000-12-28 | 2005-03-22 | Osmic, Inc. | Dark-field phase contrast imaging |
| US7217940B2 (en) | 2003-04-08 | 2007-05-15 | Cymer, Inc. | Collector for EUV light source |
| US7420653B2 (en) * | 2003-10-02 | 2008-09-02 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic projection apparatus, mirror, method of supplying a protective cap layer, device manufacturing method and device manufactured accordingly |
| US7193228B2 (en) | 2004-03-10 | 2007-03-20 | Cymer, Inc. | EUV light source optical elements |
| EP1812935A2 (en) | 2004-11-09 | 2007-08-01 | Carl Zeiss SMT AG | High-precision optical surface prepared by sagging from a masterpiece |
| DE102004062289B4 (de) * | 2004-12-23 | 2007-07-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Thermisch stabiler Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich |
| US7678511B2 (en) * | 2006-01-12 | 2010-03-16 | Asahi Glass Company, Limited | Reflective-type mask blank for EUV lithography |
| DE102006006283B4 (de) | 2006-02-10 | 2015-05-21 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Thermisch stabiler Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich |
| ATE528692T1 (de) | 2006-07-28 | 2011-10-15 | Media Lario Srl | Optische multireflexionssysteme und ihre herstellung |
| CN101522946B (zh) * | 2006-10-06 | 2012-06-13 | 迦南精机株式会社 | 耐腐蚀性构件及其制备方法 |
| US20100033702A1 (en) | 2006-10-13 | 2010-02-11 | Media Lario S.R.L | Coated mirrors and their fabrication |
| DE102007051671A1 (de) | 2007-10-26 | 2009-05-07 | Carl Zeiss Smt Ag | Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik |
| EP2212726A1 (en) * | 2007-10-30 | 2010-08-04 | 3M Innovative Properties Company | Multi-stack optical bandpass film with electro magnetic interference shielding for optical display filters |
| EP2083328B1 (en) | 2008-01-28 | 2013-06-19 | Media Lario s.r.l. | Grazing incidence collector for laser produced plasma sources |
| US20100027273A1 (en) * | 2008-07-29 | 2010-02-04 | Epicrew Corporation | Coatings for reflective surfaces |
| DE102009017095A1 (de) * | 2009-04-15 | 2010-10-28 | Carl Zeiss Smt Ag | Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv |
| DE102009045170A1 (de) * | 2009-09-30 | 2011-04-07 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Reflektives optisches Element und Verfahren zum Betrieb einer EUV-Lithographievorrichtung |
| DE102011002953A1 (de) * | 2011-01-21 | 2012-07-26 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Substrat für Spiegel für die EUV-Lithographie |
| DE102011075579A1 (de) * | 2011-05-10 | 2012-11-15 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel |
| WO2012171674A1 (en) * | 2011-06-15 | 2012-12-20 | Asml Netherlands B.V. | Multilayer mirror, method of producing a multilayer mirror and lithographic apparatus |
-
2013
- 2013-07-08 DE DE102013107192.9A patent/DE102013107192A1/de not_active Ceased
-
2014
- 2014-06-25 EP EP14173867.4A patent/EP2824487B1/de active Active
- 2014-07-01 US US14/321,149 patent/US9703209B2/en active Active
- 2014-07-07 JP JP2014140047A patent/JP6489769B2/ja active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0862393A (ja) * | 1994-08-24 | 1996-03-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 多層膜ｘ線反射鏡 |
| JPH11504615A (ja) * | 1996-03-07 | 1999-04-27 | サン−ゴバン ビトラージュ | ガラス上に反射層を被着する方法及び得られる製品 |
| JP2002093684A (ja) * | 2000-09-18 | 2002-03-29 | Canon Inc | Ｘ線露光装置、ｘ線露光方法、半導体製造装置および微細構造体 |
| JP2005347757A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Asml Netherlands Bv | かすめ入射ミラー、かすめ入射ミラーを含むリソグラフィ装置、かすめ入射ミラーを提供する方法、かすめ入射ミラーのｅｕｖ反射を強化する方法、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス |
| JP2012500468A (ja) * | 2008-08-15 | 2012-01-05 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | ミラー、リソグラフィ装置、およびデバイス製造方法 |
| JP2013515968A (ja) * | 2009-12-24 | 2013-05-09 | コ−オペレイティブ・リサーチ・センター・フォー・アドバンスト・オートモーティブ・テクノロジー・リミテッド | プラスチック製自動車用ミラー |
| JP2011228699A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-11-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | 反射光学要素、投影系及び投影露光装置 |
| US20130170056A1 (en) * | 2010-08-30 | 2013-07-04 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Substrate for mirrors for euv lithography |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20190102272A (ko) * | 2017-01-17 | 2019-09-03 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 또는 검사 시스템을 위한 거울 |
| KR102528150B1 (ko) | 2017-01-17 | 2023-05-03 | 칼 짜이스 에스엠테 게엠베하 | 특히 마이크로리소그래픽 투영 노광 장치 또는 검사 시스템을 위한 거울 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20150009480A1 (en) | 2015-01-08 |
| US9703209B2 (en) | 2017-07-11 |
| JP6489769B2 (ja) | 2019-03-27 |
| DE102013107192A1 (de) | 2015-01-08 |
| EP2824487B1 (de) | 2022-01-19 |
| EP2824487A1 (de) | 2015-01-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI427334B (zh) | Ｅｕｖ蝕刻裝置反射光學元件 | |
| JP2023052147A (ja) | 合金吸収体を有する極紫外線マスクブランク、及びその製造方法 | |
| Chkhalo et al. | Next generation nanolithography based on Ru/Be and Rh/Sr multilayer optics | |
| JP6489769B2 (ja) | Ｅｕｖ波長帯斜入射用反射光学素子 | |
| JP5716038B2 (ja) | Ｅｕｖリソグラフィ用反射光学素子 | |
| JP6005069B2 (ja) | かすめ入射リフレクタ、リソグラフィ装置、かすめ入射リフレクタ製造方法、およびデバイス製造方法 | |
| TWI528117B (zh) | 光譜純度濾光器 | |
| US9329497B2 (en) | Substrate table, lithographic apparatus and device manufacturing method | |
| JP2004532413A (ja) | 極値紫外線リソグラフィー（ｅｕｖｌ）の多層構造 | |
| JP2008101246A (ja) | Ｅｕｖリソグラフィ用反射型マスクブランクを製造する際に使用されるスパッタリングターゲット | |
| CN103930805A (zh) | 在euv反射镜上制造由氧化硅构成的覆盖层的方法、euv反射镜和euv光刻设备 | |
| US20100033702A1 (en) | Coated mirrors and their fabrication | |
| WO2013113537A2 (en) | Optical element, lithographic apparatus incorporating such an element, method of manufacturing an optical element | |
| TWI510821B (zh) | 光譜純度濾光器 | |
| NL2015521A (en) | Radiation source-collector and method for manufacture. | |
| Soufli et al. | Morphology, microstructure, stress and damage properties of thin film coatings for the LCLS x-ray mirrors | |
| CN111868570B (zh) | 在光刻与应用中使用极端紫外线辐射的材料、元件及方法 | |
| Kuznetsov et al. | Blistering behavior in Mo/Si multilayers | |
| WO2017207264A1 (en) | Mirror for the euv wavelength range | |
| CN103827701B (zh) | 包括具有稳定组成的氮氧化物覆盖层的euv反射镜、euv光刻设备和操作方法 | |
| JP2022505688A (ja) | 裏側コーティングを有する極紫外線マスク | |
| TWI724319B (zh) | 在光刻與其他應用中使用極端紫外線輻射的材料、元件及方法 | |
| Chkhalo et al. | Ultrasmooth beryllium substrates for solar astronomy in extreme ultraviolet wavelengths | |
| vd Meer et al. | Materials for soft X-ray and EUV multi-layer mirrors | |
| Soufli et al. | Multilayer Coatings for EUVL |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20170220 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20170419 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170704 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180627 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180703 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180927 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190212 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190226 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6489769 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |