JP2013515968A - プラスチック製自動車用ミラー - Google Patents
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- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 97
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 102
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 94
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 78
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052752 metalloid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 150000002738 metalloids Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 28
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 28
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical group [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 24
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 18
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 12
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 11
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 6
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 4
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 claims description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims description 3
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 claims description 3
- CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N azanylidynechromium Chemical compound [Cr]#N CXOWYMLTGOFURZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCC=C JKJWYKGYGWOAHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- BLXLRFSAHIXJBX-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;6-propylcyclohexa-2,4-diene-1,1-diol Chemical compound OC(O)=O.CCCC1C=CC=CC1(O)O BLXLRFSAHIXJBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 claims description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 3
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 3
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 3
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 3
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 3
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 claims description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 238000000313 electron-beam-induced deposition Methods 0.000 claims description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 2
- 238000000935 solvent evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims 2
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 claims 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 2
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 134
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 96
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 19
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 16
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 15
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enoyloxysilicon Chemical compound CC(=C)C(=O)O[Si] NLSFWPFWEPGCJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 3-[3-aminopropyl(dimethoxy)silyl]oxypropan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](OC)(OC)OCCCN ZDZYGYFHTPFREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCN ZYAASQNKCWTPKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCCl KSCAZPYHLGGNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCCl OXYZDRAJMHGSMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 3-chloropropyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCCl KNTKCYKJRSMRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAAQEISEHDUIFO-UHFFFAOYSA-N C=CC#N.OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound C=CC#N.OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 YAAQEISEHDUIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N COC(OC)(OC)CO[SiH2]C Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C OTCOSAMIXUWQOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(dimethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(C)OC(C)=O RQVFGTYFBUVGOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical class [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 229920002877 acrylic styrene acrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003466 anti-cipated effect Effects 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- MZZUATUOLXMCEY-UHFFFAOYSA-N cobalt manganese Chemical compound [Mn].[Co] MZZUATUOLXMCEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 239000002283 diesel fuel Substances 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N ethenyl(2,2,2-trimethoxyethoxy)silane Chemical compound COC(OC)(OC)CO[SiH2]C=C GYLXWHLPLTVIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C=C ZLNAFSPCNATQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N methyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](C)(OCCC)OCCC RJMRIDVWCWSWFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229910052699 polonium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 1
- 239000012266 salt solution Substances 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 238000007655 standard test method Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N tributoxy(methyl)silane Chemical compound CCCCO[Si](C)(OCCCC)OCCCC GYZQBXUDWTVJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(3,3,3-trifluoropropyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC(F)(F)F JLGNHOJUQFHYEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
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Abstract
【選択図】図2
Description
4軸にわたりミクロン分解能を有するレーザー距離計によりウェハ(直径50〜100mmのシリコン)を最初に測定して初期曲率半径を確定した後、これを平均化してベースライン測定値を得る。その後、ウェハを、応力を測定する皮膜でコーティングする。付着後、4軸にわたる曲率についてウェハを再び測定し、半径を計算する。曲率のベースラインと測定値の差は、皮膜内の応力により引き起こされる撓みを表し、これを式(1)に用いて応力を計算する。
σ皮膜=σ熱+σ固有+σ外部 式(2)
外部応力(σ外部)は、環境(機械的、化学的または物理的)とのすべての相互作用を包含する。固有応力(σ固有)は皮膜の欠陥に関連し、付着状態に依存する。
σ熱=(αf−αs)ΔTEf/(1−νf) 式(3)
熱応力は、(αf−αs)、Ef/(1−νf)は公知であり、ΔTは付着中に測定すると仮定して、計算することができる。シリコンウェハの場合、熱応力成分は非常に小さい。ポリカーボネートウェハでの測定により、熱的事象が系の応力に対し有する大きな影響を測定することができる。これらの応力のいずれか一つまたはすべてを改変して、望ましいレベルの応力を達成することができる。
トリアルコキシシランまたはトリアシルオキシシラン、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリアセトキシシラン、ガンマ−クロロプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−クロロプロピルトリエトキシシラン、ガンマ−クロロプロピルトリプロポキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ガンマ−(ベータ−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、ベータ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ベータ−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、ガンマ−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−アミノプロピルトリエトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、N−ベータ(アミノエチル)−ガンマ−アミノプロピルトリメトキシシラン、ベータ−シアノエチルトリエトキシシランなど;ならびに、ジアルコキシシランまたはジアシルオキシシラン、例えば、ジメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルフェニルジメトキシシラン、ガンマ−グリシドキシプロピルフェニルジエトキシシラン、ガンマ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ガンマ−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−メタクリルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、ガンマ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、ガンマ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシランなど。
a)前面を有するプラスチック基材を形成する段階;
b)プラスチック基材の前面上に1以上の耐磨耗性層をコーティングして硬質コーティングを形成する段階;
c)硬質コーティング上に中間帯を形成する段階、これに関し、該段階は、硬質コーティング上に、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料の層を少なくとも1つコーティングすることを包含する;ならびに
d)中間帯の上に反射層をコーティングして、プラスチックミラーを形成する段階、
を包含する、前記製造方法も提供することも、理解すべきである。
図1は、本発明に従ったプラスチックミラーの一態様の横断面の略図である。この態様において、プラスチック基材(1)はポリカーボネートであり、その上に、厚さ約5〜約7ミクロンの耐磨耗性単層の形にある硬質コーティング(2)がコーティングされている。SiO2の単層(3)の形にある中間帯が、約140nmの厚さで硬質コート(2)上にコーティングされている。SiO2の単層(3)上には、厚さ約40nmのクロムの反射層(4)がコーティングされている。
最初に、射出成形したポリカーボネート基材を、洗浄剤を用いて工業用超音波洗浄システムにより洗浄する。清浄な(無塵の)環境では、蒸留水中での最終すすぎが必要である。その後、基材を、Momentive PHC−587Bにおいて10mm/sの引き出し速度で浸漬コーティングする。10分間の蒸発分離時間により、溶媒が徐々に蒸発して、該部品がほぼ不粘着性になることが可能になる。その後、基材を130℃の硬化オーブンに45分間移す。硬質コーティングの老化/汚染を回避するために、次のコーティングは48時間以内に実施する。
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@32sccm
酸素@16sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.4kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着時間=9分
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@120sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表1および2に示す。
最初に、射出成形したポリカーボネート基材を、洗浄剤を用いて工業用超音波洗浄システムにより洗浄する。清浄な(無塵の)環境では、蒸留水中での最終すすぎが必要である。その後、基材を、SDC TSR 2626Bにおいて10mm/sの引き出し速度で浸漬コーティングする。10分間の蒸発分離時間により、溶媒が徐々に蒸発して、該部品がほぼ不粘着性になることが可能になる。その後、基材を130℃の硬化オーブンに90分間移す。硬質コーティングの老化/汚染を回避するために、次のコーティングは48時間以内に実施する。
基材をインラインタイプ真空チャンバーに入れた。該チャンバーは、複数のコーティングチャンバーからなる。試料をエアロックに入れ、その中で赤外線ヒーターにより試料を約60℃に加熱し、5×10−5mbar未満の圧力まで排気した。以下は、付着条件であった:
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@30sccm
酸素@15sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.0kW
ターゲットと基材の距離=100mm
付着速度=4mm/s
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@30sccm
窒素@2sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=100mm
時間=8mm/s
厚さ=40nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表3および4に示す。
本発明に従った他のプラスチックミラーであって、SiO2の形にあるキャップ層を包含するものを、バッチタイプ真空チャンバーを用いて製造した。ミラーの耐磨耗性のさらなる改善は、SiO2の形にあるキャップ層を付着させることにより得ることができることが見いだされた。
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@32sccm
酸素@16sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.4kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着速度=9分
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@120sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
キャップ層:
ケイ素ターゲット
アルゴン@120sccm
酸素@40sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着時間=90秒
厚さ=10nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表5および6に示す。
本発明に従った他のプラスチックミラーであって、今度はCrNの形にあるキャップ層を包含するものを、バッチタイプ真空チャンバーを用いて製造した。ミラーの耐磨耗性のさらなる改善は、CrNの形にあるキャップ層を付着させることにより得ることができることが見いだされた。この実施例において、付着条件は以下のとおりであった:
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@32sccm
酸素@16sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.4kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着速度=9分
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@130sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
キャップ層:
クロムターゲット
アルゴン@130sccm
窒素@40sccm
圧力=4e−3mbar
電力@1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=45秒
厚さ=10nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表7および8に示す。
本発明に従ったプラスチックミラーであって、硬質コーティングの耐磨耗性層を、マイクロ波プラズマ化学気相成長法(PECVD)を用いてインラインタイプ真空チャンバーにおいて減圧下で形成したものを製造した。コーティングは、非晶質SiOxCyHzと記載することができる。液状硬質コーティングを、マイクロ波プラズマ化学気相成長法(PECVD)を用いて減圧下で形成されるものに置き換えることにより、プロセスをさらに改善することができることが見いだされた。この実施例において、付着条件は以下のとおりであった:
耐磨耗性層(硬質コーティング):
プラズマ前処理条件
電力=2kW
圧力=2e−1mbar
モノマー=なし
反応体ガス=プロパノール@100sccm
時間=120秒
付着条件
プラズマ前処理
電力=2kW
圧力=5e−1mbar
モノマー=テトラメチルジシロキサン@133sccm
反応体ガス=酸素、段階的に200〜400sccm
時間=70秒
厚さ=4ミクロン
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@30sccm
酸素@15sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2kW
ターゲットと基材の距離=100mm
付着速度=4mm/s
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@32sccm
窒素@2sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=100mm
時間=8mm/s
厚さ=40nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表9および10に示す。
本発明に従った他のプラスチックミラーであって、今度はAl2O3の形にある中間層を包含するものを、バッチタイプ真空チャンバーで製造した。
中間帯(単層):
アルミニウムターゲット
アルゴン@32sccm
酸素@16sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.4kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着速度=9分
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@130sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
キャップ層:
クロムターゲット
アルゴン@130sccm
窒素@40sccm
圧力=4e−3mbar
電力@1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=45秒
厚さ=10nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表11および12に示す。
本発明に従った他のプラスチックミラーを、分割法で製造した。該方法では、中間帯を付着させた後、反射層を付着させる前に、試料を1つの付着チャンバー(インラインタイプ真空チャンバー)から他のチャンバー(バッチタイプ真空チャンバー)に移動させる。良好な性能に必要な応力が変わったことが見いだされた。この実施例での付着条件は以下のとおりであった:
中間帯(単層):
ケイ素ターゲット
アルゴン@30sccm
酸素@15sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2.0kW
ターゲットと基材の距離=100mm
付着速度=4mm/s
厚さ=130nm
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@120sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
キャップ層:
ケイ素ターゲット
アルゴン@120sccm
酸素@40sccm
圧力=2.3e−3mbar
電力@2kW
ターゲットと基材の距離=110mm
付着時間=90秒
厚さ=10nm
個々の層の応力を測定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表13および14に示す。
他のプラスチックミラーを、中間帯を省いて、バッチタイプ真空チャンバーを用いて製造した。大気への通気により反射層のひび割れが生じ、熱衝撃性能が低いことが見いだされた。
反射層:
クロムターゲット
アルゴン@120sccm
窒素@11sccm
圧力=4e−3mbar
電力=1kW
ターゲットと基材の距離=110mm
時間=2分
厚さ=40nm
層の測定残留応力を決定し、耐久性能を試験した。結果を、それぞれ表15および16に示す。
(2) 硬質コーティング
(3) 中間帯
(4) 反射層
(5) キャップ層
Claims (41)
- 前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも1つの層を包含する、前記プラスチックミラー。
- プラスチック基材が、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、フェノール基材、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、アセチル材料、ポリ(2,2’−ジヒドロキシフェニルプロパン)カーボネート、ポリジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンポリカーボネート、またはこれらのブレンドからなる群より選択される材料から形成される、請求項1に記載のプラスチックミラー。
- 硬質コーティングが1以上の耐磨耗性層から形成され、該耐磨耗性層が、有機ケイ素、アクリル系誘導体、ウレタン、メラミンおよびSiOxCyHzからなる群より選択される材料から形成される、請求項1または請求項2に記載のプラスチックミラー。
- 硬質コーティングが約3ミクロン〜約15ミクロンの範囲の厚さを有する、請求項3に記載のプラスチックミラー。
- 中間帯が、金属、半金属、または金属もしくは半金属の酸化物もしくは窒化物から形成される少なくとも1つの層を包含し、該金属もしくは半金属が、Si、Nb、Zr、Sn、Ta、Al、CrおよびTiからなる群より選択される、請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- 中間帯が、SiO2、Si、Al2O3およびTiO2からなる群より選択される材料から形成される少なくとも1つの層を包含する、請求項5に記載のプラスチックミラー。
- 中間帯が、約100nm〜約200nmの範囲、または好ましくは約120nm〜約160nmの範囲、または好ましくは約140nmの厚さを有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- 反射層が、クロム、アルミニウム、チタン、ニッケル、モリブデン、ジルコニウム、タングステン、ケイ素、ニオブ、タンタル、バナジウム、コバルト、マンガン、銀、亜鉛、およびそれらの混合物;ならびに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物または炭化物、およびそれらの混合物からなる群より選択される材料である、請求項1〜7のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- 反射層が、クロム、またはCr−NiもしくはCr−Moなどのクロム混合物、またはそれらの炭化物もしくは窒化物から形成される、請求項8に記載のプラスチックミラー。
- 反射層が、約20nm〜約80nmの範囲、または好ましくは約20nm〜約80nmの範囲、または好ましくは約40nmの厚さを有する、請求項1〜9のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- さらに、反射層の上にキャップ層を包含する、請求項1〜10のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- キャップ層が、ケイ素、チタン、アルミニウム、クロム、またはそれらの酸化物もしくは窒化物、またはそれらの混合物からなり、窒化クロムを包含する群より選択される材料から形成される、請求項11に記載のプラスチックミラー。
- キャップ層が、約5nm〜約40nmの範囲、または好ましくは約5nm〜約25nmの範囲、または好ましくは約5nmの厚さを有する、請求項11または請求項12に記載のプラスチックミラー。
- ミラーが圧縮性の残留応力を有する、請求項1〜13のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- ミラーが、約−350〜約−600MPa、または好ましくは約−400MPaの測定残留応力を有する、請求項14に記載のプラスチックミラー。
- ミラーが、約730〜約930MPa、または好ましくは約830MPaの応力差を有する、請求項1〜15のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- 自動車用ミラーとして使用されるときの、請求項1〜16のいずれか1項に記載のプラスチックミラー。
- プラスチックミラーの製造方法であって、該方法が、
a)前面を有するプラスチック基材を形成する段階;
b)プラスチック基材の前面上に1以上の耐磨耗性層をコーティングして硬質コーティングを形成する段階;
c)硬質コーティング上に中間帯を形成する段階であり、該段階は、硬質コーティング上に、金属、金属酸化物および金属窒化物からなる群より選択される材料の層を少なくとも1つコーティングすることを包含する;ならびに
d)中間帯の上に反射層をコーティングして、プラスチックミラーを形成する段階、
を包含する、前記製造方法。 - プラスチック基材が、ポリアクリレート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、エポキシ、フェノール基材、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン、アセチル材料、ポリ(2,2’−ジヒドロキシフェニルプロパン)カーボネート、ポリジエチレングリコールビス(アリルカーボネート)、ポリメチルメタクリレートおよびポリスチレンポリカーボネートからなる群より選択される材料から形成される、請求項18に記載の方法。
- 硬質コーティングが1以上の耐磨耗性層から形成され、該耐磨耗性層が、有機ケイ素、アクリル系誘導体、ウレタン、メラミンまたはSiOxCyHzからなる群より選択される材料から形成される、請求項18または請求項19に記載の方法。
- 硬質コーティングが約3ミクロン〜約15ミクロンの範囲の厚さを有する、請求項18〜20のいずれか1項に記載の方法。
- 中間帯が、金属、半金属、または金属もしくは半金属の酸化物もしくは窒化物から形成される少なくとも1つの層を包含し、該金属もしくは半金属が、Si、Nb、Zr、Sn、Ta、Al、CrおよびTiからなる群より選択される、請求項18〜21のいずれか1項に記載の方法。
- 中間帯が、SiO2、Si、Al2O3およびTiO2からなる群より選択される材料から形成される少なくとも1つの層を包含する、請求項22に記載の方法。
- 中間帯が、約100nm〜約200nm、または好ましくは約120nm〜約160nmの範囲、または好ましくは約140nmの厚さを有する、請求項18〜23のいずれか1項に記載の方法。
- 反射層が、クロム、アルミニウム、チタン、ニッケル、モリブデン、ジルコニウム、タングステン、ケイ素、ニオブ、タンタル、バナジウム、コバルト、マンガン、銀、亜鉛、およびそれらの混合物;ならびに、それらの酸化物、窒化物、ホウ化物または炭化物、およびそれらの混合物からなる群より選択される材料である、請求項35〜46のいずれか1項に記載の方法。
- 反射層が、クロム、またはCr−NiもしくはCr−Moなどのクロム混合物、またはそれらの炭化物もしくは窒化物から形成される、請求項47に記載の方法。
- 反射層が、約20nm〜約80nm、または好ましくは約35nm〜約50nmの範囲、または好ましくは約40nmの厚さを有する、請求項18〜26のいずれか1項に記載の方法。
- さらに、反射層の上にキャップ層を包含する、請求項18〜27のいずれか1項に記載の方法。
- キャップ層が、ケイ素、チタン、アルミニウム、クロム、またはそれらの酸化物もしくは窒化物、またはそれらの混合物からなる群より選択される材料から形成される、請求項28に記載の方法。
- キャップ層が、約5nm〜約40nmの範囲、または好ましくは約5nm〜約25nmの範囲、または好ましくは約5nmの厚さを有する、請求項28または請求項29に記載の方法。
- ミラーが圧縮性の残留応力を有する、請求項18〜30のいずれか1項に記載の方法。
- ミラーが、約−350MPa〜約−600MPa、または好ましくは約−400MPaの測定残留応力を有する、請求項18〜31のいずれか1項に記載の方法。
- ミラーが、約730MPa〜約930MPa、または好ましくは約830MPaの応力差を有する、請求項18〜32のいずれか1項に記載の方法。
- プラスチック基材を、射出圧縮成形、圧縮成形、ブロー成形、反応成形またはシート鋳造射出成形により形成する、請求項18〜33のいずれか1項に記載の方法。
- 硬質コーティングを、液体中での浸漬コーティングし、これに続く溶媒蒸発、プラズマ化学気相成長法(PECVD)、フローコーティング、またはスプレーコーティングにより、プラスチック基材上にコーティングする、請求項18〜34のいずれか1項に記載の方法。
- 中間帯、反射層および任意のキャップ層を、真空蒸着、例えば、熱蒸着、電子ビーム蒸着(イオンビームの補助の有無にかかわらない)、またはスパッタ付着により形成する、請求項18〜35のいずれか1項に記載の方法。
- 中間帯、反射層および任意のキャップ層をスパッタ付着により形成する、請求項18〜35のいずれか1項に記載の方法。
- 中間帯、反射層および任意のキャップ層の応力レベルを、スパッタ電力、圧力、温度、付着速度、基材バイアスおよび/またはターゲットと基材の距離を変動させることにより制御する、請求項37に記載の方法。
- 反射層の応力レベルを、スパッタリング中の供給ガスに約5%の窒素を加えることにより低下させる、請求項37または請求項38に記載の方法。
- 中間帯の応力レベルを、スパッタ電力を低下させることにより低下させる、請求項37または請求項38に記載の方法。
- 硬質コーティングの表面を最初に表面処理に付して、中間帯と硬質コーティングの密着性を向上させる、請求項37〜40のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
AU2009906281 | 2009-12-24 | ||
AU2009906281A AU2009906281A0 (en) | 2009-12-24 | Plastic Automotive Mirror | |
AU2010904732 | 2010-10-22 | ||
AU2010904732A AU2010904732A0 (en) | 2010-10-22 | Plastic Automotive Mirrors | |
PCT/AU2010/001749 WO2011075796A1 (en) | 2009-12-24 | 2010-12-24 | Plastic automotive mirrors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013515968A true JP2013515968A (ja) | 2013-05-09 |
JP5841063B2 JP5841063B2 (ja) | 2016-01-06 |
Family
ID=44194843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012545023A Active JP5841063B2 (ja) | 2009-12-24 | 2010-12-24 | プラスチック製自動車用ミラー |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9176256B2 (ja) |
EP (1) | EP2517055B1 (ja) |
JP (1) | JP5841063B2 (ja) |
KR (1) | KR101753226B1 (ja) |
WO (1) | WO2011075796A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015029092A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-02-12 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | Euv波長帯斜入射用反射光学素子 |
JP2017508648A (ja) * | 2014-03-07 | 2017-03-30 | ユニヴァーシティ・オブ・サウス・オーストラリア | プラスチック基板のための装飾コーティング |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9181616B2 (en) * | 2012-01-24 | 2015-11-10 | Smr Patents S.A.R.L. | Chromium-based reflective coating |
US10969080B2 (en) * | 2012-01-24 | 2021-04-06 | SMR Patent S.à.r.l. | Light efficiency methods for vehicular HTL systems |
FR2991786B1 (fr) | 2012-06-08 | 2014-06-20 | Saint Gobain | Ecran de projection fonctionnant en reflexion comprenant un systeme a diffusion lumineuse variable |
US9580817B2 (en) | 2012-12-04 | 2017-02-28 | Vergason Technology, Inc. | Bilayer chromium nitride coated articles and related methods |
JP6653157B2 (ja) * | 2015-10-30 | 2020-02-26 | 三菱重工サーマルシステムズ株式会社 | 遠心圧縮機械の戻り流路形成部、遠心圧縮機械 |
CN106324731A (zh) * | 2016-10-28 | 2017-01-11 | 宜昌南玻显示器件有限公司 | 车载外视镜多功能反射膜及其制备方法 |
US11346523B2 (en) | 2018-03-13 | 2022-05-31 | Motherson Innovations Company Limited | Light emitting system, a design element, a rear view device, a covering device, and a body component of a vehicle |
US10443808B1 (en) | 2018-03-13 | 2019-10-15 | Motherson Innovations Company Ltd. | Vehicular components having chromium-based reflective coating at least partially permeable to light |
US11635186B2 (en) | 2018-03-13 | 2023-04-25 | Motherson Innovations Company Limited | Polymeric substrate and a method of providing same |
US10443807B2 (en) | 2018-03-13 | 2019-10-15 | Motherson Innovations Company Ltd. | Vehicular components having chromium-based reflective coating at least partially permeable to light |
US20220065422A1 (en) * | 2018-03-13 | 2022-03-03 | Motherson Innovations Company Limited | Decorative pvd coated items and radomes and methods of making same |
WO2019197662A1 (en) | 2018-04-12 | 2019-10-17 | Motherson Innovations Company Ltd. | Lighting module for fluid delivery apparatus and fluid delivery apparatus |
WO2020078916A2 (en) | 2018-10-15 | 2020-04-23 | Motherson Innovations Company Ltd. | Decorative radome and method of producing the same |
DE102019100669A1 (de) | 2019-01-11 | 2020-07-16 | Motherson Innovations Company Limited | Elektromagnetischer Störschutz für Radome |
WO2020236463A1 (en) * | 2019-05-22 | 2020-11-26 | Nanogate Technologies, Inc. | Coating process, and associated system and parts |
EP4005022A1 (en) * | 2019-07-29 | 2022-06-01 | Motherson Innovations Company Limited | First surface or second surface decorative radome |
JP2022545906A (ja) | 2019-08-30 | 2022-11-01 | マザーソン・イノベーションズ・カンパニー・リミテッド | ライト組立体、車両デザイン要素、リアビューデバイス、およびドアフィニッシャ |
WO2021074303A1 (en) * | 2019-10-15 | 2021-04-22 | Motherson Innovations Company Limited | First surface decorative element |
WO2021087511A1 (en) * | 2019-11-01 | 2021-05-06 | Nanogate Technologies, Inc. | Direct-to-substrate coating process, and associated system and parts |
EP3848628B1 (en) | 2020-01-09 | 2024-06-19 | Motherson Innovations Company Limited | A light emitting system, a design element, a rear view device, a covering device, and a body component of a vehicle |
ES2950833T3 (es) * | 2020-08-17 | 2023-10-13 | Zanini Auto Grup Sa | Radomo para vehículos |
WO2023031134A1 (en) | 2021-08-30 | 2023-03-09 | Motherson Innovations Company Ltd. | Decorative radome with transparent visual feature |
EP4142048A3 (en) | 2021-08-30 | 2023-05-03 | Motherson Innovations Company Ltd. | Decorative pvd coated items and radomes and methods of making same |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05249306A (ja) * | 1992-03-03 | 1993-09-28 | Seiko Epson Corp | 自動車用ミラー |
JPH05281405A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Asahi Optical Co Ltd | 表面反射鏡 |
JP2004029816A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Vtec Technologies Llc | 透明なプラスチック又はポリマー型ミラー、及びその製造方法 |
JP2007072190A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Konica Minolta Opto Inc | 反射鏡 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH081481B2 (ja) * | 1985-04-10 | 1996-01-10 | ホ−ヤ株式会社 | プラスチツク製ミラ−コ−トレンズ |
JPH081482B2 (ja) * | 1985-04-10 | 1996-01-10 | ホ−ヤ株式会社 | プラスチツク製ミラ−コ−トレンズ |
US6420032B1 (en) | 1999-03-17 | 2002-07-16 | General Electric Company | Adhesion layer for metal oxide UV filters |
KR100360587B1 (ko) * | 2000-02-28 | 2002-11-13 | 아주공업주식회사 | 자동차용 플라스틱 미러와 그 제조방법 |
TWI243095B (en) | 2001-04-24 | 2005-11-11 | Mitsui Chemicals Inc | Lamp reflector and reflector |
JP2005234188A (ja) * | 2004-02-19 | 2005-09-02 | Ito Kogaku Kogyo Kk | 光学無機薄膜を備えた光学要素 |
US20090258221A1 (en) * | 2008-04-15 | 2009-10-15 | Vtec Technologies, Llc | Light-Reflective Articles and Methods for Making Same |
-
2010
- 2010-12-24 KR KR1020127019323A patent/KR101753226B1/ko active IP Right Grant
- 2010-12-24 US US13/515,161 patent/US9176256B2/en active Active
- 2010-12-24 EP EP10838436.3A patent/EP2517055B1/en active Active
- 2010-12-24 WO PCT/AU2010/001749 patent/WO2011075796A1/en active Application Filing
- 2010-12-24 JP JP2012545023A patent/JP5841063B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05249306A (ja) * | 1992-03-03 | 1993-09-28 | Seiko Epson Corp | 自動車用ミラー |
JPH05281405A (ja) * | 1992-04-03 | 1993-10-29 | Asahi Optical Co Ltd | 表面反射鏡 |
JP2004029816A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Vtec Technologies Llc | 透明なプラスチック又はポリマー型ミラー、及びその製造方法 |
JP2007072190A (ja) * | 2005-09-07 | 2007-03-22 | Konica Minolta Opto Inc | 反射鏡 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015029092A (ja) * | 2013-07-08 | 2015-02-12 | カール ツァイス レーザー オプティクス ゲーエムベーハー | Euv波長帯斜入射用反射光学素子 |
JP2017508648A (ja) * | 2014-03-07 | 2017-03-30 | ユニヴァーシティ・オブ・サウス・オーストラリア | プラスチック基板のための装飾コーティング |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2517055A1 (en) | 2012-10-31 |
KR101753226B1 (ko) | 2017-07-04 |
EP2517055A4 (en) | 2016-02-24 |
US20130194687A1 (en) | 2013-08-01 |
WO2011075796A1 (en) | 2011-06-30 |
KR20130043604A (ko) | 2013-04-30 |
JP5841063B2 (ja) | 2016-01-06 |
US9176256B2 (en) | 2015-11-03 |
EP2517055B1 (en) | 2018-05-16 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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|
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|
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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