JP2022136102A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. フィルム状透明基材と、ハードコート層と、密着層と、光学機能層と、防汚層とが順に積層されてなる光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、バインダ樹脂と、平均粒子径１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
   前記防汚層は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を蒸着させた蒸着膜からなり、
   前記密着層の厚みが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
   前記光学機能層は、少なくとも低屈折率層を有し、
   前記低屈折率層の厚みは、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
   前記防汚層は、厚み３ｎｍ以上１０ｎｍ以下かつ表面粗さＲａが５．５ｎｍ以上８．２ｎｍ以下であり、
   水蒸気透過率が１．５ｇ／（ｍ^２・１ｄａｙ）以下であり、
   液温５５℃、濃度０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に４時間接触させた後の正反射光を考慮に入れた（ＳＣＩ）反射色の色相変化△Ｅ値が１０未満であって、ヘイズが２．０％以下である、光学積層体。
2. フィルム状透明基材と、ハードコート層と、密着層と、光学機能層と、防汚層とが順に積層されてなる光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、バインダ樹脂と、平均粒子径０．５μｍ以上１０μｍ以下の有機微粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
   前記防汚層は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を蒸着させた蒸着膜からなり、
   前記密着層の厚みが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
   前記光学機能層は、少なくとも低屈折率層を有し、
   前記低屈折率層の厚みは、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
   前記防汚層は、厚み４ｎｍ以上１０ｎｍ以下かつ要素の平均長さ（ＲＳｍ）が５９．２ｎｍ以上８６．２ｎｍ以下であり、
   水蒸気透過率が１．５ｇ／（ｍ ^２ ・１ｄａｙ）以下であり、
   液温５５℃、濃度０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に４時間接触させた後の正反射光を考慮に入れた（ＳＣＩ）反射色の色相変化△Ｅ値が１０未満であり、ヘイズが２．０％超である、光学積層体。
3. フィルム状透明基材と、ハードコート層と、密着層と、光学機能層と、防汚層とが順に積層されてなる光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、バインダ樹脂と、平均粒子径１００ｎｍ以下のシリカ粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
   前記防汚層は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を蒸着させた蒸着膜からなり、
   前記密着層の厚みが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
   前記光学機能層は、少なくとも低屈折率層を有し、
   前記低屈折率層の厚みは、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
   前記防汚層は、厚み３ｎｍ以上１０ｎｍ以下かつ表面粗さＲａが５．５ｎｍ以上８．２ｎｍ以下であり、
   水蒸気透過率が１．５ｇ／（ｍ^２・１ｄａｙ）以下であり、
   液温５５℃、濃度０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に４時間接触させた後に、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）を用いて測定されたフッ素の残存率が８５％以上であって、ヘイズが２．０％以下である、光学積層体。
4. フィルム状透明基材と、ハードコート層と、密着層と、光学機能層と、防汚層とが順に積層されてなる光学積層体であって、
   前記ハードコート層は、バインダ樹脂と、平均粒子径０．５μｍ以上１０μｍ以下の有機微粒子を含有する硬化性樹脂組成物の硬化物からなり、
   前記防汚層は、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物を蒸着させた蒸着膜からなり、
   前記密着層の厚みが１ｎｍ以上１０ｎｍ以下であり、
   前記光学機能層は、少なくとも低屈折率層を有し、
   前記低屈折率層の厚みは、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下であり、
   前記防汚層は、厚み４ｎｍ以上１０ｎｍ以下かつ要素の平均長さ（ＲＳｍ）が５９．２ｎｍ以上８６．２ｎｍ以下であり、
   水蒸気透過率が１．５ｇ／（ｍ ^２ ・１ｄａｙ）以下であり、
   液温５５℃、濃度０．１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に４時間接触させた後に、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）を用いて測定されたフッ素の残存率が８５％以上であって、ヘイズが２．０％超である、光学積層体。
5. ウェスを４０００回往復させる擦傷性試験前後の水に対する接触角差が１２°以下である、請求項１又は３に記載の光学積層体。
6. ＪＩＳ Ｌ０８４９に準拠したスチールウールを用いた摩擦試験機を用い、摩擦前とスチールウールを５００回水平往復運動させた摩擦後の水に対する接触角差が１２°以下である、請求項１、３又は５のいずれか一項に記載の光学積層体。
7. 摩擦前とスチールウールを５００回水平往復運動させた摩擦後の正反射光を考慮に入れた（ＳＣＩ）反射色の変化量（ΔＥ値）が３．０以下である、請求項１、３、５又は６のいずれか一項に記載の光学積層体。
8. フッ素系溶剤中に於いて４０ＫＨｚ、２４０Ｗの超音波を１０分照射し洗浄した後のＸＲＦによる防汚層中のフッ素原子の残存量が７０％以上である、請求項１、３、又は５～７のいずれか一項に記載の光学積層体。
9. ウェスを４０００回往復させる擦傷性試験前後の水に対する接触角差が７°以下である、請求項２又は４に記載の光学積層体。
10. 前記防汚層が厚み３．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下かつ表面粗さＲａが５．５ｎｍ以上８．２ｎｍ以下であって、ヘイズが０．４％である、請求項１、３又は５～８のいずれか一項に記載の光学積層体。
11. 前記防汚層が厚み４．０ｎｍ以上５．０ｎｍ以下かつ要素の平均長さ（ＲＳｍ）が５９．２ｎｍ以上８６．２ｎｍ以下であって、ヘイズが４％又は１０％である、請求項２、４又は９のいずれか一項に記載の光学積層体。
12. 蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）を用いて測定されたフッ素の初期量が、０．０３以上である、請求項１～１１のいずれか一項に記載の光学積層体。
13. 前記光学機能層は、反射防止層及び選択反射層から選ばれるいずれか１種を含む、請求項１～１２のいずれか一項に記載の光学積層体。
14. 前記防汚層が、前記低屈折率層に接して設けられている、請求項１～１３のいずれか一項に記載の光学積層体。
15. 前記密着層が、金属または金属の酸化物を含む、請求項１～１４のいずれか一項に記載の光学積層体。
16. 前記密着層および前記光学機能層がスパッタリングによって形成されたものである、請求項１～１５のいずれか一項に記載の光学積層体。
17. 前記防汚性材料が、フッ素系有機化合物を含む、請求項１～１６のいずれか一項に記載の光学積層体。
18. 請求項１～１７のいずれか一項に記載の光学積層体を備える、物品。
19. 請求項１～１７のいずれか一項に記載の光学積層体の製造方法であって、
    ０．５Ｐａ未満の真空度で低屈折率層を成膜する工程と、１．０Ｐａ未満の真空度で高屈折率層を成膜する工程と、を交互に有する光学機能層の成膜工程と、
    前記光学機能層の表面をグロー放電で表面処理するグロー放電処理工程と、
    前記光学機能層の一面側に、真空蒸着によって防汚性材料を蒸着させた蒸着膜からなる前記防汚層を形成する防汚層形成工程を有する、光学積層体の製造方法。
20. スパッタリングによって前記光学機能層を形成する光学機能層形成工程を有し、
    前記光学機能層形成工程と前記防汚層形成工程とを、減圧下で連続して行うことを特徴とする請求項１９に記載の光学積層体の製造方法。