PL187394B1 - Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych - Google Patents

Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych

Info

Publication number
PL187394B1
PL187394B1 PL98340722A PL34072298A PL187394B1 PL 187394 B1 PL187394 B1 PL 187394B1 PL 98340722 A PL98340722 A PL 98340722A PL 34072298 A PL34072298 A PL 34072298A PL 187394 B1 PL187394 B1 PL 187394B1
Authority
PL
Poland
Prior art keywords
chamber
coating
vacuum
bearings
plain bearings
Prior art date
Application number
PL98340722A
Other languages
English (en)
Other versions
PL340722A1 (en
Inventor
Gerd Andler
Wolfgang Wixwat-Ernst
Christoph Metzner
Jens-Peter Heinss
Klaus Goedicke
Siegfried Schiller
Original Assignee
Federal Mogul Wiesbaden Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Federal Mogul Wiesbaden Gmbh filed Critical Federal Mogul Wiesbaden Gmbh
Publication of PL340722A1 publication Critical patent/PL340722A1/xx
Publication of PL187394B1 publication Critical patent/PL187394B1/pl

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/50Substrate holders
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021Cleaning or etching treatments
    • C23C14/022Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/28Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
    • C23C14/30Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/35Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54Controlling or regulating the coating process
    • C23C14/541Heating or cooling of the substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/568Transferring the substrates through a series of coating stations
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16CSHAFTS; FLEXIBLE SHAFTS; ELEMENTS OR CRANKSHAFT MECHANISMS; ROTARY BODIES OTHER THAN GEARING ELEMENTS; BEARINGS
    • F16C33/00Parts of bearings; Special methods for making bearings or parts thereof
    • F16C33/02Parts of sliding-contact bearings
    • F16C33/04Brasses; Bushes; Linings
    • F16C33/06Sliding surface mainly made of metal
    • F16C33/14Special methods of manufacture; Running-in

Abstract

1 U rzadzenie do prózniow ego p o w lekania lozysk slizgow ych co najm niej je d n a w arstw a p osrednia 1 co najm niej je d n a w arstw a slizgow a, z lo zone z szeregu kom ór pró zniow ych, które s a u sy tu - ow ane kolejno i przedzielone zaw oram i prozniow ym i lub sto p - niam i cisnieniow ym i, przy czym co najm niej je d n a kom ora pró zniow a sluzy ja k o kom ora sluzy do w pro w ad zan ia nie pow le- czonych lozysk slizgow ych i/lub w y prow adzania pow leczonych loz ysk slizgow ych w próznie lub z prózn i, a co najm niej je d n a dalsza kom ora prózniow a sluzy do w stepnego obrabiania nie pow leczonych loz ysk slizgow ych za po m o ca procesu z w y k o rzy - staniem strum ienia p lazm y i co najm niej je d n a kom ora prózniow a sluzy do nakladania w arstw y posredniej i w arstw y slizgow ej, pom p pró zniow ych, które sa polaczone z kom oram i p rózniow y- mi, z urzadzen zasilania elektrycznego i z urzadzen sterujacych do przeprow adzania procesów p ow lekania oraz srodków do transportow ania w ielu lozysk slizgow ych na p rzenosniku tasm o - w ym przechodzacym przez urzadzenie, z n a m ie n n e ty m , ze - lozyska slizgow e (3) sa um ieszczone w korpusach w spor- czych (2) bezposlizgow o, na docisk, przy czym s ila dociskajaca je s t regulow ana, - korpusy w sporcze (2) p o siad aja srodki do sterow ania ich tem peratura, - w kierunku transportu um ieszczone s a kolejno kom ora slu - zow a, kom ora obróbki w stepnej (7), pierw sza ko m o ra pow lekania (9), druga kom ora pow lekania (11) i kom ora sluzow a (19). - urzadzenie sterujace posiada znane srodki do regulacji predkosci transportu korpusów w sporczych (2) w roznych kom o- rach prózniow ych, PL PL PL

Description

Wynalazek dotyczy urządzenia do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych.
Łożyska ślizgowe, zwane również panewkami łożyskowymi, mają powierzchnie o krzywiźnie wklęsłej, przy czym wewnętrzna powierzchnia zwrócona do wału ma kilka warstw. Powlekanie odbywa się w próżniowych urządzeniach powlekających. Tego rodzaju łożyska ślizgowe stosowane są głównie w konstrukcji silnie obciążonych maszyn i pojazdów.
Znane są przelotowe urządzenia do próżniowego powlekania podłoży. Podłoża mogą mieć różne wymiary i kształty geometryczne, jak również mogą być wykonane z różnych materiałów, np. są to taśmy, części konstrukcyjne lub podłoża szklane. Na takie podłoża w jednym przejściu nakłada się jedną lub więcej warstw. W tym celu podłoża wprowadza się przez śluzy w urządzenie przelotowe. W zależności od układu warstw, które mają być nałożone, zwykle przeprowadza się obróbkę wstępną w odpowiedniej komorze próżniowej, zanim w jednej lub kilku komorach powlekania nałoży się odpowiedni układ warstw. Po powlekaniu podłoże wychodzi z urządzenia przelotowego przez śluzę. W tego rodzaju urządzeniach przelotowych powietrze-powietrze nakładany jest całkowity układ warstw. Ruch podłoży poprzez urządzenie odbywa się w sposób prawie stały.
Znane jest nakładanie różnych warstw, jeśli chodzi o materiał i grubość, różnymi sposobami powlekania próżniowego, w tego rodzaju urządzeniu przelotowym, gdy powleka się płaskie podłoża, np. taśmy lub szereg płytek szklanych. Znane jest napylanie na taśmy w jed4
187 394 nym przejściu dwóch warstw, a następnie naparowanie jednej warstwy [Surface and Coatings Technology, 93 (1997) s. 51-57].
Urządzenie przelotowe nadaje się do materiału w postaci wstęgi, która jest transportowana poprzez urządzenie, z jednakową prędkością przy różnych procesach powlekania. Takie urządzenie i realizowany za jego pomocą sposób nie sprawdzają się jednak w procesie, w którym powleka się podłoża, wymagające, z uwagi na kształt geometryczny i parametry powlekania oraz materiały powłok, różnej prędkości transportu i zróżnicowanych reżimów transportu.
Znane jest ponadto urządzenie przelotowe specjalnego przeznaczenia do powlekania łopatek turbin (DE 195 37 092 Cl). W tym urządzeniu przelotowym na łopatki turbin nakłada się powłoki odporne na wysoką temperaturę. Nakładanie tych powłok odbywa się przy wysokiej temperaturze przez naparowywanie wiązką elektronów, przy czym łopatki turbin przed powlekaniem trzeba podgrzać do temperatury około 1000°C. Powlekanie przy takich temperaturach wymaga kosztownej aparatury, co jest usprawiedliwione przy specjalnych zastosowaniach tego typu, czyli przy powlekaniu łopat turbin. Powlekanie to przeprowadza się tylko jednym sposobem.
Ponadto istnieją znane sposoby i urządzenia do powlekania łożysk ślizgowych jako urządzenia wsadowe przewaznie złozone z jednej komory próżniowej. W komorze tej umieszcza się, na już wstępnie powleczonym łożysku, końcową warstwę ślizgową przez napylanie. Ta warstwa ślizgowa określa zasadniczo właściwości łożyska ślizgowego. Od jakości nałożonej warstwy ślizgowej zasadniczo zalezy, czy łożysko ślizgowe spełni stawiane wymagania (DE 36 06 529 C2; AT 392 291 B).
Przy nakładaniu warstwy ślizgowej przez napylanie łożyska ślizgowego wymagana jest bardzo duza ilość energii, co jest wadą tego procesu. Warstwa ślizgowa - z reguły materiał zawierający cynę, ze względu na jej niską topliwość - nie może być nakładana przy dowolnie wysokich temperaturach. Z tego powodu w celu nałożenia warstw ślizgowych o wysokiej jakości trzeba wprowadzoną w procesie technologicznym energię zredukować przez chłodzenie, np. chłodzenie olejowe, do wartości możliwej do przyjęcia. Dlatego do każdego korpusu wsporczego, w którym podczas napylania powłoki trzymane są łożyska ślizgowe, doprowadzana jest i odprowadzana ciecz chłodząca. W urządzeniach wsadowych ten rodzaj chłodzenia nie stanowi problemu. Natomiast powlekanie łożysk ślizgowych w urządzeniu przelotowym, w którym nakłada się próżniowo kilka warstw, z jego komorami próżniowymi oddzielonymi śluzami, przy zwykłym chłodzeniu cieczą wymaga bardzo dużych kosztów.
Kolejną wadą urządzeń wsadowych jest ich mniejsza - ze względu na gospodarkę magazynową - wydajność produkcyjna w porównaniu z urządzeniami przelotowymi o pracy ciągłej lub prawie ciągłej. Mniejsza wydajność produkcyjna urządzeń wsadowych wynika z faktu nieciągłości ich pracy i z częstego odpowietrzania i napowietrzania dużych części urządzenia.
Zaproponowano sposób wytwarzania łożysk ślizgowych, przy którym warstwę ślizgową nakłada się przez naparowywanie za pomocą wiązki elektronów. Sposób ten umożliwia nakładanie warstwy ślizgowej łożysk z prędkością większą w porównaniu z napylaniem, przy równoczesnym zmniejszeniu udziału energii w procesie produkcji łożysk ślizgowych (DE 195 14 836 Al).
Sposób ten nie został jednak zrealizowany w warunkach przemysłowych i dotychczas nie jest znane urządzenie do przeprowadzania tego sposobu.
U podstaw wynalazku leży zadanie opracowania urządzenia do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych, za pomocą którego można z duzą wydajnością produkcyjną nakładać kilka warstw z różnego materiału i o różnych ich grubościach. Urządzenie to powinno umożliwiać duzą przepustowość przy małych kosztach oraz zapewniać utrzymanie ważnych parametrów sposobu w wąskich granicach tolerancji. Temperatura powlekanych łożysk ślizgowych powinna być podczas tego procesu utrzymywana w wąskich granicach. Urządzenie powinno nadawać się do przeprowadzania wielu procesów próżniowych koniecznych dla całego procesu.
Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych co najmniej jedną warstwą pośrednią i co najmniej jedną warstwą ślizgową, złozone z szeregu komór próżniowych, które są usytuowane kolejno i przedzielone zaworami próżniowymi lub stopniami ciśnieniowymi, przy czym co najmniej jedna komora próżniowa służy jako komora śluzy do wprowadzania
187 394 nie powleczonych łożysk ślizgowych i/lub wyprowadzania powleczonych łożysk ślizgowych w próżnię lub z próżni, a co najmniej jedna dalsza komora próżniowa służy do wstępnego obrabiania nie powleczonych łożysk ślizgowych za pomocą procesu z wykorzystaniem strumienia plazmy i co najmniej jedna komora próżniowa siuzy do nakładania warstwy pośredniej i warstwy ślizgowej, pomp próżniowych, które są połączone z komorami próżniowymi, z urządzeń zasilania elektrycznego i z urządzeń sterujących do przeprowadzania procesów powlekania oraz środków do transportowania wielu łożysk ślizgowych na przenośniku taśmowym przechodzącym przez urządzenie, charakteryzuje się tym, ze łożyska ślizgowe są umieszczone w korpusach wsporczych bezpoślizgowo, na docisk, przy czym siła dociskająca jest regulowana, a korpusy wsporcze posiadają środki do sterowania ich temperaturą, zaś w kierunku transportu umieszczone są kolejno komora śluzowa, komora obróbki wstępnej, pierwsza komora powlekania, druga komora powlekania i komora śluzowa, przy czym urządzenie sterujące posiada środki do regulacji prędkości transportu korpusów wsporczych w różnych komorach próżniowych, zaś w komorze obróbki wstępnej umieszczone jest urządzenie trawiące do stacjonarnego, wspomaganego polem magnetycznym trawienia strumieniem plazmy, łożysk ślizgowych, a w pierwszej komorze powlekania pod łożyskami ślizgowymi umieszczone jest magnetronowe źródło rozpylania, w którym rozpylana jest co najmniej jedna tarcza, z odstępem dostosowanym do kształtu geometrycznego łożysk ślizgowych, zaś w drugiej komorze powlekania umieszczona jest działająca z wiązką elektronów wyparka z tyglem wyparki w odstępie dostosowanym do kształtu geometrycznego łożysk ślizgowych, przy czym przed i za obszarem, w którym łożyska ślizgowe są powlekane przez naparowywanie przy użyciu wiązki elektronów, umieszczone są obszary buforowe.
Korzystnie, w korpusie wsporczym umieszczonych jest wiele łożysk ślizgowych w co najmniej jednym szeregu bez przerw jeden obok drugiego, tak ze ich wierzchołki tworzą jedną linię. Również korzystnie, szeregi łożysk ślizgowych w jednym korpusie wsporczym są umieszczone wzdłużnie albo poprzecznie względem kierunku transportu.
W jednym korzystnym wykonaniu korpus wsporczy zlozony jest z dwóch części, przy czym jedna część korpusu wsporczego służy do napędu i do połączenia z przenośnikiem taśmowym, zaś druga część korpusu wsporczego służy do trzymania łożysk ślizgowych i do sterowania temperatury.
W innym korzystnym wykonaniu korpus wsporczy złozony jest z dwóch części, przy czym jedna część korpusu wsporczego służy do sterowania temperatury, do napędzania i do połączenia z przenośnikiem taśmowym, zaś druga część korpusu wsporczego siuzy do trzymania łożysk ślizgowych, zaś część korpusu wsporczego, która służy do trzymania łożysk ślizgowych, jest wymiennie połączona z korpusem wsporczym.
Najkorzystniej, część korpusu wsporczego służąca do sterowania temperatury jest wykonana z dobrze przewodzącego ciepło materiału o dużej pojemności cieplnej, korzystnie z miedzi
Wspomniana wyparka z wiązką elektronów, korzystnie złozona jest z tygla wyparki i umieszczonego obok niego osiowego działa elektronowego, zaś najkorzystniej tygiel wyparki ma w dnie otwór do doprowadzania odparowywanego materiału.
Korzystnie, obszary buforowe są umieszczone wewnątrz drugiej komory powlekania, zaś według innego korzystnego rozwiązania każdy obszar buforowy jest usytuowany w oddzielnej komorze próżniowej.
Korzystnie, przed komorą śluzową usytuowana jest komora sterowania temperatury lub stanowisko sterowania temperatury.
Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych korzystnie zawiera urządzenie do zwrotnego transportowania korpusów wsporczych z wyjściowej komory śluzowej do wejściowej komory śluzowej.
Korzystnie, komory próżniowe są usytuowane zasadniczo wzdluz linii prostej jedna przy drugiej, a linia transportowa korpusów wsporczych na odcinku od komory śluzy po stronie wejściowej do komory śluzowej po stronie wyjściowej również jest zasadniczo usytuowana wzdluz linii prostej, zaś w innym korzystnym wykonaniu komory próżniowe sąusytułowane obok siebie w kręgu i tylko jedna komora próżniowa zastosowana jest jako śluza do wprowadzania i wyprowadzania korpusów wsporczych.
187 394
Urządzenie trawiące jest korzystnie wykonane, tak że korpusy wsporcze z łożyskami ślizgowymi mają potencjał ziemi, a pole magnetyczne ma postać tunelu magnetronowego.
Najkorzystniej, urządzenie trawiące ma nieruchome części łukowe, mające potencjał ziemi, które wraz z elementami ślizgowymi, usytuowanymi w ruchomych korpusach wsporczych, tworzą zamknięty obszar pierścieniowy, który ogranicza wyładowanie plazmowe, oraz chłodzoną wodą przeciwelektrodę o potencjale dodatnim względem ziemi, która zawiera, usytuowane z tyłu, urządzenie wytwarzające pole magnetyczne w rodzaju magnetronu.
Komora obróbki wstępnej posiada korzystnie system doprowadzania gazu, przy czym istnieje możliwość przeprowadzenia procesów z wykorzystaniem strumienia plazmy, jak również reaktywnej obróbki wstępnej. Urządzenie trawiące wyposażone jest w pole magnetyczne, albo tez mogą być umieszczone oddzielne źródła plazmy, np. wydrążone katody. Jako źródło rozpylania pierwszej komory powlekania mogą być stosowane wszystkie znane źródła rozpylania z polem magnetycznym i bez niego. Jako wyparkę z wiązką elektronów można również zastosować wszystkie znane źródła wiązek elektronów, korzystnie działa osiowe. Tygiel wyparki jest korzystnie wykonany jako wyparka jednotyglowa lub wielotyglowa, przy czym jest ona dopasowana do kształtu geometrycznego powlekanych łożysk ślizgowych, aby uzyskać równomierną powłokę. Materiał do odparowania może być w postaci drutu, materiału nasypowego lub jako pasmo przez dno tygla wyparki.
Urządzenie jako instalacja przelotowa posiada wiele komór próżniowych umieszczonych obok siebie, przy czym w każdej komorze próżniowej realizowany jest odpowiedni etap procesu. Urządzenie to posiada ponadto przed i za każdą komorą procesu próżniowego komorę śluzy do wprowadzania i wyprowadzania korpusów wsporczych. Korpusy wsporcze, wykonane z możliwością regulacji temperatury, służą do podtrzymywania łożysk ślizgowych i są przemieszczane przez całe urządzenie na przenośniku taśmowym.
Komory próżniowe to: co najmniej jedna komora obróbki wstępnej, z co najmniej jednym urządzeniem trawiącym, pierwsza komora powlekania, z co najmniej jednym źródłem rozpylania i druga komora powlekania z co najmniej jedną wyparką z wiązką elektronów. Komora próżniowa, która posiada wyparkę z wiązką elektronów jest zbudowana, tak ze po obu stronach obszaru naparowywania w komorze powlekania znajduje się po jednym obszarze buforowym.
Istotne dla wynalazku jest wykonanie korpusów wsporczych z możliwością regulacji temperatury, lub możliwość regulacji temperatury łożysk ślizgowych. W tym celu łożyska ślizgowe są dociskane, za pomocą regulowanej siły, w służącej do trzymania części korpusów wsporczych, kształtem dopasowanej do łożysk. Dzięki temu osiąga się dobre przekazywanie ciepła z łożysk ślizgowych na korpusy wsporcze. Tak więc ciepło doprowadzone zgodnie z warunkami procesu do łożysk ślizgowych zostaje odprowadzone do korpusów wsporczych i zapobiega się zbyt silnemu nagrzaniu łożysk ślizgowych. Rozmiary i ukształtowanie służącej do regulacji temperatury części korpusu wsporczego przyczyniają się głównie do tego, ze nie tylko magazynuje się wprowadzone ciepło, ale można regulować w określonym zakresie temperaturę łożysk ślizgowych. Dzięki takiemu wykonaniu korpusu wsporczego, zapewnia się ustawienie temperatury łożysk ślizgowych - podczas procesu powlekania, napylania lub naparowywania - na określoną wartość i utrzymywanie jej w wąskich granicach. To znaczy dobór na podstawie obliczeń i badań - wielkości, kształtu i rodzaju materiału służy regulacji temperatury. Zwłaszcza przy nakładaniu warstw, które zawierają niskotopliwe metale, w celu wytwarzania warstw o wysokiej jakości niezbędne jest utrzymywanie temperatury w wąskim zakresie. Przykładowo przy nakładaniu warstwy ślizgowej AISn przez naparowywanie wiązką elektronów wymagane jest, aby temperatura łożysk ślizgowych była w zakresie 140-160°C.
Wykonanie korpusów wsporczych z możliwością regulacji temperatury odgrywa zasadniczą rolę w łączeniu różnych sposobów powlekania. Korpusy wsporcze z możliwością regulacji temperatury służą nie tylko chłodzeniu - przy trawieniu i powlekaniu w pierwszej komorze pozwalają na przyjmowanie ciepła, jednak w drugiej komorze powlekania spełniają również rolę bufora cieplnego i mogą oddawać ciepło łożyskom ślizgowym. Dzięki temu, w drugiej komorze powlekania, temperatura łożysk ślizgowych jest utrzymywana w zadanym, wąskim zakresie temperatury. Zwłaszcza przy nakładaniu warstw z metalami niskotopliwymi jest
187 394 to istotne dla jakości warstwy, a przez to dla jakości całego łożyska ślizgowego. Ponadto ustawianie różnych temperatur w korpusach wsporczych umożliwia, po raz pierwszy, nakładanie warstw z różnych materiałów przy zachowaniu wystarczającej jakości.
Dalszą istotną cechą wynalazku jest zastosowanie obszarów buforowych. Każdy sposób powlekania ma swój własny czasowy przebieg procesu, który nie nadaje się do przeniesienia na inny sposób powlekania, wymaga zatem innego przemieszczania łożysk ślizgowych przez źródło powlekania. Przy trawieniu i napylaniu operacje trawienia i powlekania przeprowadza się stacjonarnie i nie w sposób ciągły, a zatem wymagany jest tylko skokowy ruch korpusów wsporczych. Naparowywanie za pomocą wiązki elektronów wymaga pracy ciągłej, a więc innego ruchu dopasowanego do tego częściowego procesu. Ruch ten może być ponadto równomierny lub nierównomierny. Ponadto czasy przebywania w poszczególnych komorach powlekania są różne. Przez umieszczenie obszarów buforowych w zalezności od programu sterowania umożliwiono połączenie ze sobą dwóch różnych sposobów powlekania, nieciągłego napylania i ciągłego naparowywania, w jednym urządzeniu i w jednym przejściu. Obszary buforowe lub komory buforowe są zatem ważnymi członami łączącymi, zapewniającymi równowagę różnych przebiegów ruchu i całkowicie różnych zakresów ciśnienia roboczego tych dwóch procesów, umożliwiają więc przechodzenie elementów ślizgowych z atmosfery do atmosfery w sposób ciągły.
Dzięki urządzeniu według wynalazku możliwe jest więc osiągnięcie dużej wydajności w procesie powlekania łożysk ślizgowych w próżni kilkoma warstwami za pomocą różnych procesów w jednym przejściu bez pośredniego wystawiania na działanie atmosfery
Urządzenie do sterowania temperatury jest korzystnie umieszczone przed komorą śluzy po stronie wejściowej. Mozę być ono jednak umieszczone również w dowolnym miejscu urządzenia lub poza nim. Trzeba tylko zapewnić, aby łożyska ślizgowe do chwili nałożenia warstwy ślizgowej miały temperaturę w zadanym zakresie. Regulację temperatury można korzystnie przeprowadzać pod ciśnieniem atmosferycznym za pomocą czynników ciekłych lub gazowych. Doprowadzanie i odprowadzanie czynnika następuje w znany sposób. Możliwe jest również umieszczenie odpowiednich elementów regulacji temperatury w miejscu przeprowadzania procesu w próżni, gdzie przekazywanie ciepła uzyskuje się przez dociskanie lub przykładanie elementów regulacji temperatury. Szczególnie korzystne jest umieszczenie dodatkowego urządzenia sterowania temperatury za stanowiskiem rozładunku w celu chłodzenia korpusów wsporczych. Wszystkie komory próżniowe są opróżniane za pomocą pomp próżniowych. System sterowania i kontroli zapewnia określoną kolejność przebiegu etapów procesu w zalezności od rodzaju przeprowadzanego powlekania
Urządzenie zostanie dokładniej opisane na podstawie przykładu wykonania uwidocznionego na rysunku, na którym fig. 1 przedstawia urządzenie do powlekania elementów ślizgowych w przekroju. W komorze sterowania temperatury 1 umieszczone jest urządzenie do sterowania temperatury korpusów wsporczych 2, w których wpasowane są łożyska ślizgowe
3, przeznaczone do powlekania. Elementy regulacji temperatury są dociskane do korpusów wsporczych 2 Temperatura korpusów wsporczych 2 dochodzi do wartości 90°C Z komorą sterowania temperatury 1 połączona jest, poprzez zawór podciśnieniowy 4, komora śluzowa 5. Wszystkie komory próżniowe są również oddzielone od siebie przez zawory podciśnieniowe
4. Komora śluzowa 5 służy do odcięcia korpusów wsporczych 2 od atmosfery w warunkach podciśnienia. Korpusy wsporcze 2 mogą być umieszczone na przenośniku taśmowym 6, w celu umożliwienia ich transportu przez urządzenie. Napęd jest podłączony do każdego korpusu wsporczego 2. Do komory śluzowej 5 dołączona jest komora obróbki wstępnej 7. Umieszczone jest w niej, wspomagane polem magnetycznym i stosujące silny strumień plazmy, urządzenie trawiące 8 do obróbki wstępnej łożysk ślizgowych 3, umieszczonych na korpusach wsporczych 2. Ten strumień plazmy jest prowadzony za pomocą specjalnie ukształtowanego pola magnetycznego, które działa na zasadzie magnetronu. Urządzenie trawiące 8 jest wykonane tak, ze korpusy wsporcze 2 wraz z łożyskami ślizgowymi 3 i przenośnikiem taśmowym 6 posiadają potencjał ziemi. Sterowane temperaturowo korpusy wsporcze 2 są następnie przemieszczane dalej do pierwszej komory powlekania 9. W tej pierwszej komorze powlekania 9, w odstępie dostosowanym do kształtu geometrycznego łożysk ślizgowych 3,
187 394 umieszczony jest magnetron 10 z rozpylaną tarczą wykonaną ze stopu NiCr. Na łożyska ślizgowe 3 napylana jest warstwa stopu NiCr. Ruch korpusów wsporczych 2 poprzez tę pierwszą komorę powlekania 9 odbywa się w sposób nieciągły.
Następnie korpusy wsporcze 2 przekazywane są do drugiej komory powlekania 11, przy czym najpierw przebywają w pierwszym obszarze buforowym 12. Ten pierwszy obszar buforowy 12 służy do dopasowania różnych reżimów transportowych pierwszej i drugiej komory powlekania 11 oraz do dopasowania różnych ciśnień pracy. Podczas gdy korpusy wsporcze 2 poruszają się nad magnetronem 10 w sposób nieciągły, ruch korpusów wsporczych 2 przez obszar powlekania 13 drugiej komory powlekania 11 odbywa się w sposób ciągły. W obszarze buforowym 12 usytuowanych jest wiele korpusów wsporczych 2. Program sterowania transportem umożliwia uzyskanie z nieciągłego ruchu korpusów wsporczych 2, ciągły ruch korpusów wsporczych 2. Dzięki temu praca wyparki może przebiegać w sposób ciągły, to znaczy w obszarze tym poprzez wyparkę przemieszcza się kolejno kilka szeregów korpusów wsporczych 2. Następnie w obszarze buforowym 18 następuje proces ponownego przejścia do ruchu nieciągłego korpusów wsporczych 2, tak ze mogą one być transportowane i przechodzić przez śluzy powietrzne w sposób nieciągły. W obszarze 13 powlekania umieszczone jest urządzenie naparowujące z wiązką elektronów. Złożone jest ono z osiowego działa elektronowego 14, którego wiązka elektronów 15 jest w znany sposób odchylana przez pole magnetyczne i kierowana na odparowywany materiał 17 usytuowany w tyglu 16 wyparki. Jako materiał odparowywany stosowany jest stop AISn, który jest doprowadzany w postaci materiału pasmowego na dno tygla 16 wyparki z magazynu 17a. Podczas przemieszczania łożysk ślizgowych 3 nad wyparką z wiązką elektronów na łożyskach ślizgowych 3 osadzana jest druga warstwa, czyli warstwa ślizgowa Korpusy wsporcze 2 opuszczają urządzenie poprzez opisany obszar buforowy 18 i dalszą komorę śluzową 19, a powleczone juz łożyska ślizgowe 3 są zdejmowane z korpusów wsporczych 2 w obszarze wyjściowym 20

Claims (17)

1. Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych co najmniej jedną warstwą pośrednią i co najmniej jedną warstwą ślizgową, złozone z szeregu komór próżniowych, które są usytuowane kolejno i przedzielone zaworami próżniowymi lub stopniami ciśnieniowymi, przy czym co najmniej jedna komora próżniowa śluzy jako komora śluzy do wprowadzania me powleczonych łożysk ślizgowych i/lub wyprowadzania powleczonych łożysk ślizgowych w próżnię lub z próżni, a co najmniej jedna dalsza komora próżniowa służy do wstępnego obrabiania nie powleczonych łożysk ślizgowych za pomocą procesu z wykorzystaniem strumienia plazmy i co najmniej jedna komora próżniowa służy do nakładania warstwy pośredniej i warstwy ślizgowej, pomp próżniowych, które są połączone z komorami próżniowymi, z urządzeń zasilania elektrycznego i z urządzeń sterujących do przeprowadzania procesów powlekania oraz środków do transportowania wielu łożysk ślizgowych na przenośniku taśmowym przechodzącym przez urządzenie, znamienne tym, ze
- łożyska ślizgowe (3) są umieszczone w korpusach wsporczych (2) bezpoślizgowo, na docisk, przy czym siła dociskająca jest regulowana,
- korpusy wsporcze (2) posiadają środki do sterowania ich temperaturą,
- w kierunku transportu umieszczone są kolejno komora śluzowa, komora obróbki wstępnej (7), pierwsza komora powlekania (9), druga komora powlekania (11) i komora śluzowa (19).
- urządzenie sterujące posiada znane środki do regulacji prędkości transportu korpusów wsporczych (2) w różnych komorach próżniowych,
- zaś w komorze obróbki wstępnej (7) umieszczone jest urządzenie trawiące (8) do stacjonarnego, wspomaganego polem magnetycznym trawienia strumieniem plazmy łożysk ślizgowych (3),
- w pierwszej komorze powlekania (9) pod łożyskami ślizgowymi (3) umieszczone jest magnetronowe źródło rozpylania (10), w którym rozpylana jest co najmniej jedna tarcza, z odstępem dostosowanym do kształtu geometrycznego łożysk ślizgowych (3),
- w drugiej komorze powlekania (11) umieszczona jest działająca z wiązką elektronów wyparka z tyglem (16) wyparki w odstępie dostosowanym do kształtu geometrycznego łożysk ślizgowych (3),
- przed i za obszarem, w którym łożyska ślizgowe (3) są powlekane przez naparowywanie przy użyciu wiązki elektronów, umieszczone są obszary buforowe (12, 18).
2. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze w korpusie wsporczym (2) umieszczonych jest wiele łożysk ślizgowych (3) w co najmniej jednym szeregu bez przerw jeden obok drugiego, tak ze ich wierzchołki tworzą jedną linię.
3. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze szeregi lozysk ślizgowych (3) w jednym korpusie wsporczym (2) są umieszczone wzdłuznie albo poprzecznie względem kierunku transportu.
4. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze korpus wsporczy (2) złozony jest z dwóch części, przy czym jedna część korpusu wsporczego (2) służy do napędu i do połączenia z przenośnikiem taśmowym (6), zaś druga część korpusu wsporczego (2) służy do trzymania łożysk ślizgowych (3) i do sterowania temperatury.
5. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze korpus wsporczy (2) złozony jest z dwóch części, przy czym jedna część korpusu wsporczego (2) służy do sterowania temperatury, do napędzania i do połączenia z przenośnikiem taśmowym (6), zaś druga część korpusu wsporczego (2) śluzy do trzymania łożysk ślizgowych (3).
6. Urządzenie według zastrz. 5, znamienne tym, ze część korpusu wsporczego (2), która służy do trzymania łożysk ślizgowych (3), jest wymiennie połączona z korpusem wsporczym (2).
187 394
7. Urządzenie według zastrz. 4 albo 5, znamienne tym, ze część korpusu wsporczego (2), służąca do sterowania temperatury, jest wykonana z dobrze przewodzącego ciepło materiału o dużej pojemności cieplnej, korzystnie z miedzi.
8. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że wyparka z wiązką elektronów złozona jest z tygla (16) wyparki i umieszczonego obok niego osiowego działa elektronowego (14).
9. Urządzenie według zastrz. 8, znamienne tym, ze tygiel (16) wyparki ma w dnie otwór do doprowadzania odparowywanego materiału (17).
10. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze obszary buforowe (12, 18) są umieszczone wewnątrz drugiej komory powlekania (11).
11. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że każdy obszar buforowy (12, 18) jest usytuowany w oddzielnej komorze próżniowej.
12. Urządzenie według zastrz. 1 albo 4, albo 5, znamienne tym, ze przed komorą śluzową (5) usytuowana jest komora sterowania (1) temperatury lub stanowisko sterowania temperatury.
13. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze zawiera znane urządzenie do zwrotnego transportowania korpusów wsporczych (2) z wyjściowej komory śluzowej (19) do wejściowej komory śluzowej (5).
14. Urządzenie według zastrz. 1 albo 13, znamienne tym, ze komory próżniowe są usytuowane zasadniczo wzdłuz linii prostej jedna przy drugiej, a linia transportowa korpusów wsporczych (2), na odcinku od komory śluzowej (5) po stronie wejściowej do komory śluzowej (19) po stronie wyjściowej, również jest zasadniczo usytuowana wzdłuz linii prostej.
15. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, że komory próżniowe są usytuowane obok siebie w kręgu i tylko jedna komora próżniowa zastosowana jest jako śluza do wprowadzania i wyprowadzania korpusów wsporczych (2).
16. Urządzenie według zastrz. 1, znamienne tym, ze urządzenie trawiące jest wykonane tak, ze korpusy wsporcze (2) z łożyskami ślizgowymi (3) mają potencjał ziemi, a pole magnetyczne ma postać tunelu magnetronowego.
17. Urządzenie według zastrz. 1 albo 16, znamienne tym, ze urządzenie trawiące (8) ma nieruchome części łukowe, mające potencjał ziemi, które wraz z elementami ślizgowymi (3), usytuowanymi w ruchomych korpusach wsporczych (2), tworzą zamknięty obszar pierścieniowy, który ogranicza wyładowanie plazmowe, oraz chłodzoną wodą przeciwelektrodę o potencjale dodatnim względem ziemi, która zawiera, usytuowane z tyłu, urządzenie wytwarzające pole magnetyczne w rodzaju magnetronu.
PL98340722A 1997-12-03 1998-11-19 Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych PL187394B1 (pl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19753656A DE19753656C1 (de) 1997-12-03 1997-12-03 Einrichtung zur Vakuumbeschichtung von Gleitlagern
PCT/DE1998/003455 WO1999028523A1 (de) 1997-12-03 1998-11-19 Einrichtung zur vakuumbeschichtung von gleitlagern

Publications (2)

Publication Number Publication Date
PL340722A1 PL340722A1 (en) 2001-02-26
PL187394B1 true PL187394B1 (pl) 2004-06-30

Family

ID=7850630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PL98340722A PL187394B1 (pl) 1997-12-03 1998-11-19 Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych

Country Status (16)

Country Link
US (1) US6444086B1 (pl)
EP (1) EP1036212B1 (pl)
JP (1) JP2001525490A (pl)
KR (1) KR100532031B1 (pl)
CN (1) CN1177950C (pl)
AT (2) ATE202160T1 (pl)
BR (1) BR9814771A (pl)
CZ (1) CZ293929B6 (pl)
DE (2) DE19753656C1 (pl)
ES (1) ES2158704T3 (pl)
PL (1) PL187394B1 (pl)
PT (1) PT1036212E (pl)
RU (1) RU2221080C2 (pl)
SK (1) SK285253B6 (pl)
TR (1) TR200001348T2 (pl)
WO (1) WO1999028523A1 (pl)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10065709B4 (de) * 2000-12-29 2005-10-27 Sturm Jun., Wilhelm Beschichtungsanlage
DE10205168A1 (de) * 2002-02-07 2003-08-21 Ardenne Anlagentech Gmbh Verfahren zur Zwischenbehandlung von Substraten in einer In-Line-Vakuumbeschichtungsanlage
DE10324570A1 (de) * 2003-05-30 2004-12-23 Daimlerchrysler Ag Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung einer metallischen Laufbahn einer Maschine mittels Plasmatechnologie
CN1304628C (zh) * 2004-08-31 2007-03-14 成建波 真空线源蒸发镀膜方法及其装置
RU2401881C2 (ru) * 2005-03-18 2010-10-20 Улвак, Инк. Способ и устройство нанесения покрытия, постоянный магнит и способ его изготовления
AT501722B1 (de) 2005-07-12 2006-11-15 Miba Gleitlager Gmbh Beschichtungsverfahren
CN100595320C (zh) * 2005-11-16 2010-03-24 比亚迪股份有限公司 一种真空镀膜方法和系统
CN1970828B (zh) * 2005-11-26 2010-05-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 在模具上形成多层镀膜的方法
CN101144149B (zh) * 2006-09-11 2010-12-22 柏腾科技股份有限公司 无时间延迟的连续式真空制程设备及真空加工方法
JP5069956B2 (ja) * 2007-06-25 2012-11-07 株式会社神戸製鋼所 成膜装置
DE102007049669A1 (de) * 2007-10-17 2009-04-23 Sms Demag Ag Schleusenvorrichtung und Verfahren zum Öffnen der Schleusenvorrichtung
CN101608301B (zh) * 2009-06-24 2011-12-07 江苏常松机械集团有限公司 连续真空等离子蒸发金属复合材料生产线
JP5244723B2 (ja) * 2009-07-10 2013-07-24 株式会社日立ハイテクノロジーズ 成膜装置
CN102703867A (zh) * 2012-01-13 2012-10-03 东莞宏威数码机械有限公司 电子轰击镀膜机
CN103866255B (zh) * 2014-03-10 2016-04-27 江西沃格光电股份有限公司 磁控溅射镀膜系统
US10371244B2 (en) 2015-04-09 2019-08-06 United Technologies Corporation Additive manufactured gear for a geared architecture gas turbine engine
TWM557347U (zh) * 2017-07-21 2018-03-21 Guay Guay Trading Co Ltd 彈匣氣體加熱結構

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4072985A (en) * 1977-05-04 1978-02-07 Rca Corporation Video disc with a dielectric layer formed from styrene and nitrogen
JPH06105742B2 (ja) * 1983-11-28 1994-12-21 株式会社日立製作所 真空処理方法及び装置
JPS60141869A (ja) * 1983-12-29 1985-07-26 Nissin Electric Co Ltd 膜形成方法および膜形成装置
JPS61105853A (ja) * 1984-10-30 1986-05-23 Anelva Corp オ−トロ−ダ−
JPS61106768A (ja) * 1984-10-31 1986-05-24 Anelva Corp 基体処理装置
DE3606529A1 (de) 1986-02-28 1987-09-03 Glyco Metall Werke Verfahren zur herstellung von schichtwerkstoff oder schichtwerkstuecken durch aufdampfen mindestens eines metallischen werkstoffes auf ein metallisches substrat
DE3717712A1 (de) * 1987-05-26 1988-12-15 Leybold Ag Vorrichtung zur halterung von werkstuecken
US4904362A (en) 1987-07-24 1990-02-27 Miba Gleitlager Aktiengesellschaft Bar-shaped magnetron or sputter cathode arrangement
AT392291B (de) * 1987-09-01 1991-02-25 Miba Gleitlager Ag Stabfoermige sowie magnetron- bzw. sputterkathodenanordnung, sputterverfahren, und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
US4911810A (en) * 1988-06-21 1990-03-27 Brown University Modular sputtering apparatus
JPH07110991B2 (ja) * 1989-10-02 1995-11-29 株式会社日立製作所 プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法
SU1751506A1 (ru) * 1990-04-04 1992-07-30 Харьковский авиационный институт им.Н.Е.Жуковского Узел трени скольжени
US5236509A (en) * 1992-02-06 1993-08-17 Spire Corporation Modular ibad apparatus for continuous coating
TW276353B (pl) * 1993-07-15 1996-05-21 Hitachi Seisakusyo Kk
US5377816A (en) * 1993-07-15 1995-01-03 Materials Research Corp. Spiral magnetic linear translating mechanism
JP3732250B2 (ja) * 1995-03-30 2006-01-05 キヤノンアネルバ株式会社 インライン式成膜装置
DE19514836C2 (de) * 1995-04-21 2000-06-08 Fraunhofer Ges Forschung Lagerschale
US5958134A (en) * 1995-06-07 1999-09-28 Tokyo Electron Limited Process equipment with simultaneous or sequential deposition and etching capabilities
DE19537092C1 (de) * 1995-10-05 1996-07-11 Ardenne Anlagentech Gmbh Elektronenstrahl-Bedampfungsanlage im Durchlaufbetrieb für thermisch hoch belastete Substrate

Also Published As

Publication number Publication date
CZ293929B6 (cs) 2004-08-18
SK8302000A3 (en) 2001-01-18
RU2221080C2 (ru) 2004-01-10
WO1999028523A1 (de) 1999-06-10
AT407995B (de) 2001-07-25
DE19753656C1 (de) 1998-12-03
TR200001348T2 (tr) 2000-11-21
EP1036212A1 (de) 2000-09-20
SK285253B6 (sk) 2006-09-07
US6444086B1 (en) 2002-09-03
PT1036212E (pt) 2001-11-30
ATA912298A (de) 2000-12-15
PL340722A1 (en) 2001-02-26
KR20010032666A (ko) 2001-04-25
KR100532031B1 (ko) 2005-11-29
ES2158704T3 (es) 2001-09-01
CN1279728A (zh) 2001-01-10
CZ20001932A3 (cs) 2000-09-13
CN1177950C (zh) 2004-12-01
ATE202160T1 (de) 2001-06-15
JP2001525490A (ja) 2001-12-11
DE59800874D1 (de) 2001-07-19
EP1036212B1 (de) 2001-06-13
BR9814771A (pt) 2000-10-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
PL187394B1 (pl) Urządzenie do próżniowego powlekania łożysk ślizgowych
US10711339B2 (en) Industrial vapor generator for depositing an alloy coating on a metal strip
US5803976A (en) Vacuum web coating
JP5863457B2 (ja) 平坦基板にセレン、硫黄元素処理で半導体層と被覆基板を製造する方法
US20100151129A1 (en) Method and arrangement for providing chalcogens
EP2100485B1 (en) Apparatus and method for plasma arc coating
CN101778963A (zh) 用于连续真空涂布网幅式材料的系统和方法
EP0652302A1 (en) Vacuum web coating
RU2000117466A (ru) Устройство для нанесения вакуумным способом покрытия на подшипники скольжения
US6923868B2 (en) Installation for electron-ray coatication of coatings
EP0652303B1 (en) Evaporator for vacuum web coating
CN115698370A (zh) 用于蒸发源的温度控制遮蔽件、用于在基板上沉积材料的材料沉积设备及方法
US6206975B1 (en) Vacuum treatment system for application of thin, hard layers
US11618950B2 (en) Coating processes for vacuum chamber arrangements and apparatus thereof
JP2016008321A (ja) コーティング膜付き切削工具の成膜装置、切削工具用コーティング膜の成膜方法
US20010022992A1 (en) Evaporation apparatus, particularly adapted to an evaporation plant for forming thin layers on a substrate
TW202225427A (zh) 具有至少一個加熱組件的材料沉積設備及用於對基板進行預加熱及/或後期加熱的方法
JPH05263228A (ja) スパッタリング装置
JPH06235061A (ja) 連続真空蒸着装置
CN116334574A (zh) 一种磁控溅射蒸发双面镀膜装置及方法
CN112840443A (zh) 辐射装置、用于在基板上沉积材料的沉积设备和用于在基板上沉积材料的方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Decisions on the lapse of the protection rights

Effective date: 20071119