NO331461B1 - Nanostrukturerte formlegemer og sjikt og fremgangsmate for fremstilling av disse ved anvendelse av stabile, vannloselige forlopere - Google Patents
Nanostrukturerte formlegemer og sjikt og fremgangsmate for fremstilling av disse ved anvendelse av stabile, vannloselige forlopere Download PDFInfo
- Publication number
- NO331461B1 NO331461B1 NO20004877A NO20004877A NO331461B1 NO 331461 B1 NO331461 B1 NO 331461B1 NO 20004877 A NO20004877 A NO 20004877A NO 20004877 A NO20004877 A NO 20004877A NO 331461 B1 NO331461 B1 NO 331461B1
- Authority
- NO
- Norway
- Prior art keywords
- alcohol
- nanostructured
- sol
- hydrolysis
- layers
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 title claims abstract description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 title claims description 6
- 239000002243 precursor Substances 0.000 title description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 55
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 claims abstract description 30
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 7
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims abstract description 6
- 230000001476 alcoholic effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- -1 AIOOH Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 claims description 7
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000006528 (C2-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 18
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 17
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 12
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 12
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 7
- CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N ethoxysilane Chemical compound CCO[SiH3] CWAFVXWRGIEBPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-triethoxysilylpropyl)oxolane-2,5-dione Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCC1CC(=O)OC1=O GXDMUOPCQNLBCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOC(=O)C(C)=C XFCMNSHQOZQILR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 2
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 2
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- UEVVKZOFWMPZAW-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4-octafluorohexane-1,6-diol Chemical compound OCCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(O)(F)F UEVVKZOFWMPZAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 1,4-butanediol Substances OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloroquinoxaline-6-carbonyl chloride Chemical compound N1=C(Cl)C(Cl)=NC2=CC(C(=O)Cl)=CC=C21 NGCRLFIYVFOUMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C LTHJXDSHSVNJKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSXGKVOYAKRLCS-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-olate;tin(4+) Chemical compound CC(C)(C)O[Sn](OC(C)(C)C)(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C OSXGKVOYAKRLCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCYCLJLQWLZQGU-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-prop-2-enoyloxypropyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]oxy-bis(trimethylsilyloxy)silyl]propyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](CCCOC(=O)C=C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C KCYCLJLQWLZQGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 3-[[dimethyl-[3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl]silyl]oxy-dimethylsilyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOC(=O)C(C)=C ZIFLDVXQTMSDJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKQKLPYFUIFAKW-UHFFFAOYSA-N 3a,4,5,5a,6,9b-hexahydrobenzo[e][2]benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC=C2C3C(=O)OC(=O)C3CCC21 IKQKLPYFUIFAKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOGSPLLRMRSADR-UHFFFAOYSA-N 4-(2-aminopropan-2-yl)-1-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC(C)(N)C1CCC(C)(N)CC1 KOGSPLLRMRSADR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUWONIUORPKYPY-UHFFFAOYSA-N 6-ethyl-4-oxatricyclo[5.2.1.02,6]dec-1-ene-3,5-dione Chemical compound C1C2CCC1=C1C2(CC)C(=O)OC1=O HUWONIUORPKYPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N Lauroyl peroxide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)OOC(=O)CCCCCCCCCCC YIVJZNGAASQVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N [2,2-dimethyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(C)COC(=O)C(C)=C ULQMPOIOSDXIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical class 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 125000005018 aryl alkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical class FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;tantalum Chemical compound [Ta].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO PVZMSIQWTGPSHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DINQVNXOZUORJS-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;niobium(5+) Chemical compound [Nb+5].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] DINQVNXOZUORJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCCC1 MEWFSXFFGFDHGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1CCCCC1 SJJCABYOVIHNPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRMPTIHEUZLTDO-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1CCCC1 YRMPTIHEUZLTDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000012933 diacyl peroxide Substances 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)C1=CC=CC=C1 MNFGEHQPOWJJBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(dimethyl)silane Chemical compound CO[Si](C)(C)OC JJQZDUKDJDQPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(C(C)C)C(C)C VHPUZTHRFWIGAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-phenylsilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)C1=CC=CC=C1 CVQVSVBUMVSJES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- FIYYPCHPELXPMO-UHFFFAOYSA-N ethanol tungsten Chemical compound [W].CCO.CCO.CCO.CCO.CCO.CCO FIYYPCHPELXPMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].CCO.CCO.CCO.CCO UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIHCECZPYHVEJO-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethyl-phenylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C1=CC=CC=C1 FIHCECZPYHVEJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N ethyl acetoacetate Chemical compound CCOC(=O)CC(C)=O XYIBRDXRRQCHLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229940083124 ganglion-blocking antiadrenergic secondary and tertiary amines Drugs 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N hexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21 MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000010534 mechanism of action Effects 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N methyl 1,3-benzoxazole-2-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2OC(C(=O)OC)=NC2=C1 YDKNBNOOCSNPNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N n'-(3-triethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNCCN INJVFBCDVXYHGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-(3-trimethoxysilylpropylamino)ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCNCCN NHBRUUFBSBSTHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXXWBTOATXBWDR-UHFFFAOYSA-N n,n,n',n'-tetramethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CN(C)CCCCCCN(C)C TXXWBTOATXBWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIJMMQUAJQEELS-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(ethenyl)ethenamine Chemical compound C=CN(C=C)C=C VIJMMQUAJQEELS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N niobium(v) ethoxide Chemical compound CCO[Nb](OCC)(OCC)(OCC)OCC ZTILUDNICMILKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N pentamethyldiethylenetriamine Chemical compound CN(C)CCN(C)CCN(C)C UKODFQOELJFMII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005634 peroxydicarbonate group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229940057847 polyethylene glycol 600 Drugs 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000002390 rotary evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical compound [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- PKLMYPSYVKAPOX-UHFFFAOYSA-N tetra(propan-2-yloxy)germane Chemical compound CC(C)O[Ge](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C PKLMYPSYVKAPOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N tetraethoxygermane Chemical compound CCO[Ge](OCC)(OCC)OCC GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- VBSUMMHIJNZMRM-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC1=CC=CC=C1 VBSUMMHIJNZMRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F AVYKQOAMZCAHRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-heptadecafluorodecyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F MLXDKRSDUJLNAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical compound C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(2-phenylethyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCC1=CC=CC=C1 UBMUZYGBAGFCDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N trimethyl(methylsilyloxy)silane Chemical compound C[SiH2]O[Si](C)(C)C UHUUYVZLXJHWDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
- B82B3/00—Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
- C03C1/008—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route for the production of films or coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C14/00—Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
- C09D183/04—Polysiloxanes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y20/00—Nanooptics, e.g. quantum optics or photonic crystals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2214/00—Nature of the non-vitreous component
- C03C2214/12—Polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
- Y10T428/2993—Silicic or refractory material containing [e.g., tungsten oxide, glass, cement, etc.]
- Y10T428/2995—Silane, siloxane or silicone coating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31652—Of asbestos
- Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Polysaccharides And Polysaccharide Derivatives (AREA)
- Medicinal Preparation (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Abstract
Det er beskrevet en fremgangsmåte for fremstilling av en blanding for fremstilling av nanostrukturerte former og sjikt innbefattende å føre en vandig og/eller alkoholisk sol av en forbindelse av et element valgt fra silisium og metaller fra hovedgruppene og overgangsgruppene i det periodiske system med forbindelser som innehar hydrolyserbare alkoksygrupper og innbefattende minst et organisk modifisert alkoksysilan eller et prekondensat avledet fra dette, under betingelser som fører til (ytterligere) hydrolyse av forbindelsene, og etterfølgende fjerning av alkoholen som dannes og enhver alkohol som allerede er tilstede opprinnelig. Fremgangsmåten er kjennetegnet ved at alkoholen fjernes i en mengde slik at restalkoholinnholdet i blandingen ikke er mer enn 20 masse-%.
Description
Nanostrukturerte formlegemer og sjikt og fremgangsmåte for fremstilling av disse ved anvendelse av stabile, vannløselige forløpere.
Foreliggende oppfinnelse vedrører nanostrukturerte formlegemer og sjikt, og fremstilling av disse via stabile vannløselige forløpere (precursors), og spesielt nanostrukturerte formlegemer og sjikt passende for optiske anvendelser i henhold til de selvstendige krav's ingress.
I litteraturen har det allerede blitt beskrevet prosesser for fremstilling av materialer innbefattende organiske/uorganiske kompositter, ved bruk av vannholdige forløpere, i belegningsøyemed.
Spesielt beskriver JP-A-53-6339 syntese av en kompositt som starter med et reaktivt organisk modifisert silan og et inert organisk modifisert silan og utføre hydrolyse i nærvær av vandig silikasol og fosforsyre som hydrolysekatalysator. Alkoholen som dannes under kondensasjonsreaksjonen blir ikke fjernet.
JP-A-63-37168 beskriver syntese av en kompositt fra fri-radikal kryssbindende, akrylatbaserte monomerer dispergert i et vandig medium og fra organisk modifiserte silaner, hvor det organiske radikalet til disse silanene på samme måte utgjør et fri-radikal kryssbindende system, i nærvær av kolloidalt silika og ikke-ioniske surfaktanter. Hydrolyse og kondensasjonsreaksjonene utføres i separate prosesstrinn. Her blir alkoholen som dannes i
kondensasjonsreaksjonen heller ikke fjernet.
En lignende beskrivelse er kjent fra JP-A-63-37167 for et system hvor silankomponenten innehar kationiske kryssbindende radikaler.
US-A-5411787 beskriver syntese av en kompositt fra polymere bindemidler dispergert i vann, minst en aminosilankomponent og kolloidale partikler med en størrelse på mindre enn 20 nm. Heller ikke i dette tilfellet blir alkoholen som dannes under hydrolyse av silanet fjernet.
US-A-4799963 beskriver fremstillingen av silan-baserte kompositter i hvilke ytterligere kolloidalt silika eller ceriumoksid i nanoskala er innblandet.
EP 263428 beskriver en organoalkoksysilan/aluminium sol-gel sammensetning og fremgangsmåte for fremstilling av denne.
Den anførte litteraturen inneholder ingen indikasjoner vedrørende virkningsmekanismen og videre liten informasjon om brukstiden til systemene de beskriver. På tilsvarende måte, i majoriteten av tilfellene, er det en mangel på informasjon vedrørende innholdet i restløsemidlene, selv om en matematisk gjennomgang av syntesen antyder et restløsemiddelinnhold på mer enn 10 volum-%.
På grunnlag av den beskrevne teknikkens stand, ble det utført en undersøkelse av i hvilken grad en reduksjon av vannsensibiliteten, dvs. under forløpet av hydrolysen og kondensasjonsreaksjonen, er mulig å oppnå ved hjelp av kontrollert belegning av kolloidale systemer med funksjonelle silaner, og i hvilken grad slike systemer kan anvendes for å fremstille stabile systemer for fremstilling av formlegemer og sjikt som bl.a. er hensiktsmessige for industrielle anvendelser.
Hensikten med foreliggende oppfinnelse var derfor å tilveiebringe en fremgangsmåte for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer og sjikt, fortrinnsvis de som er passende for optiske anvendelser, via stabile, vannløselige intermediater.
I henhold til oppfinnelsen er det funnet at vandige, elektrostatisk stabiliserte (og derved ekstremt konsentrasjonssensitive) kolloidale suspensjoner med reaktive monomerer eller oligomere komponenter (silaner eller prekondensater derav) kan påføres ved belegning og som et resultat ikke utvise, under konsentrasjonsforløpet, effekten beskrevet av Stern (Z. Elektrochem., 508
(1924)) med aggregering av to partikler med lik ladning når de nærmer seg hverandre, og spesielt ikke utviser de kjemiske reaksjoner, som ellers ville skje spontant, mellom reaktive overflategrupper på de to partiklene. Konsentrasjonen og forskyvningen av reaksjonslikevekten mot produktsiden, med dannelse av overflatekondensat, oppnås ved hjelp av fjerning, utført under redusert trykk, av alkoholen som er dannet under kondensasjonsreaksjonen (generelt metanol eller etanol), som resulterer i en kombinasjon av meget høy lagringsstabilitet til kondensatene (> 14 dager) med relativt lavt restinnhold av løsningsmidler (generelt ikke mer enn 20 masse-% og spesielt ikke mer enn 10 masse-%).
På grunn av reversibiliteten til overflatemodifikatoren/partikkelbindingen (f.eks. hydrogenbinding eller metall-oksygen binding (-Al-O-Si-, -Ti-O-Si-, etc, se f.eks. Chem.Mat. 7 (1995), 1050-52)) kan prosessen beskrevet over reverseres når det tilføres varme, slik at partiklene er i stand til kryssbinding, forbundet med størkning. Videre reaksjon kan også skje ved hjelp av passende valgte organiske grupper på overflatemodifikatoren (f.eks. reaksjon av disse gruppene med hverandre).
På denne måten er det mulig å reagere, f.eks. vandige soler, så som boehmitt, Ti02, Zr02eller Si02soler, men også andre vandige soler av forbindelser av metaller fra hovedgruppene er overgangsgruppene i det periodiske system, med organisk modifiserte alkoksysilaner på en slik måte at stripping av løsningsmiddelet og, om ønskelig, etterfølgende dispergering av væskeresten i vann danner klare løsninger som er stabile over en relativt lang tidsperiode. Denne strippingen av løsningsmiddelet (alkohol) er nødvendig for å ta reaksjonen av belegningen av partiklene med de organisk modifiserte alkoksysilanene til et punkt hvor et hydrolyse- og kondensasjonsstabilt væskesystem blir dannet. Ved å anvende vanlige teknikker, kan disse systemene f.eks. anvendes i belegningsøyemed og, avhengig av de funksjonelle gruppene på det organiske modifiserte alkoksysilanet, kan herdes termisk eller fotokjemisk ved hjelp av, om ønskelig, passende katalysatorer. I tilfellet med termisk herding, dannes det organiske nettverk, og dersom det brukes passende organiske grupper dannes det parallelt også organiske bindinger. De resulterende nanokomposittene er kjent for høy transparens. Dersom de brukes som et sjikt, utviser de god adhesjon to et meget stort antall substrater, og ekstremt høy ripemotstand.
Foreliggende oppfinnelse tilveiebringer derved en fremgangsmåte for fremstilling av en sammensetning for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer og sjikt innbefattende å føre en vandig og/eller alkoholisk sol av en forbindelse av et element valgt fra silisium og metaller fra hovedgruppene og overgangsgruppene i det periodiske system, hvor forbindelsene som utgjør solen innbefatter minst et oksid eller oksid hydrat, i kontakt med forbindelser som innehar hydrolyserbare alkoksygrupper og innbefattende minst et organisk modifisert alkoksysilan eller et prekondensat avledet fra dette, under betingelser som fører til (ytterligere) hydrolyse av forbindelsene, og etterfølgende fjerning av den dannede alkoholen og enhver alkohol som allerede er tilstede opprinnelig,
hvilken fremgangsmåte er kjennetegnet ved at alkoholen fjernes i en mengde slik at restalkoholinnholdet i sammensetningen ikke er mer enn 20 masse-%, og hvor det organisk modifiserte alkokysysilanet innbefatter minst en forbindelse med generell formel (1):
hvor radikalene R er usubstituerte eller substituerte hydrokarbongrupper med 1 til 8 karbonatomer, radikalene R' er identiske eller forskjellige fra hverandre og er hver en usubstituert eller substituert hydrokarbongruppe med 1 til 20 karbonatomer og x er 1,2 eller 3, og hvor radikalet R', eller i det minste et av radikalene R', innehar en epoksygruppe som gruppe som er i stand til en addisjonspolymerisasjons- eller
kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon
Foreliggende oppfinnelse tilveiebringer også blandinger som kan erholdes ved fremgangsmåten over og deres anvendelse for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer og substrater tilveiebragt med nanostrukturerte sjikt. Fremgangsmåten i henhold til foreliggende oppfinnelse er forskjellig fra lignende fremgangsmåter beskrevet i teknikkens stand på grunn av det faktum at en betydelig del av løsningsmiddelet (alkohol) som er tilstede i systemet blir fjernet fra system. Dette forskyver hydrolysen og kondensasjonslikevekten mot produktsiden og gir en stabilisering av det korresponderende væskesystemet. Generelt er mengden av alkohol som fjernes den mengden som, i tillegg til den totale mengden av enhver alkohol som allerede er tilstede opprinnelig, tilsvarer minst 30 masse-% og spesielt minst 50 masse-% av alkoholen som kan være dannet teoretisk ved hydrolyse av alle alkoksygruppene som opprinnelig var tilstede. Denne beregningen innbefatter ikke noe alkohol som opprinnelig er tilstede (f.eks. fra solen som brukes som utgangsmateriale; det antas at den tilsvarende mengden alkohol fjernes 100 %), men inkluderer mengden av alkohol som allerede er dannet under fremstillingen av eventuelle prekondensater som brukes. Som et resultat sikres det generelt at 10-80%
(fortrinnsvis 20-50%) av alle tilstedeværende kondenserbare (hydrolyserte) grupper av silanet gjennomgår en kondensasjonsreaksjon.
Alkoholen fjernes fra reaksjonssystemet fortrinnsvis under redusert trykk, slik at det kan unngås en for stor termisk belastning på systemet. Generelt, ved fjerning av alkoholen fra systemet, bør det ikke overskrides en temperatur på 60°, spesielt 50° og spesielt foretrukket 40°.
Etter fjerning av alkoholen, tilsettes vann til sammensetningen i den hensikt å justere en passende viskositet
I teksten under er utgangsmaterialene som brukes i prosessen i henhold til oppfinnelsen beskrevet mer detaljert.
Solen som brukes er fortrinnvis en vandig sol.
Forbindelsene som utgjør solen er fortrinnsvis avledet fra minst et element valgt fra silisium og metallene fra den tredje og fjerde hovedgruppen og den tredje til femte overgangsgruppen i det periodiske system, og spesielt avledet fra Si, Al, Sn, Ti eller Zr.
Solen er fortrinnsvis en Si02, Al203, AIOOH, Ti02og/eller Zr02sol.
Eksempler på radikalene R' i formel (I) over er alkyl, alkenyl, a ryi, alkylaryl, arylalkyl, arylalkenyl og alkenylaryl radikaler (fortrinnsvis de som er hvert tilfelle har 1 til 12 og spesielt 1 til 8 karbonatomer og innbefatter sykliske former) som kan være avbrutt av oksygen, svovel, nitrogenatomer eller gruppen NR" (R" = hydrogen eller c-m alkyl) og kan bære en eller flere substituenter f ra gruppen halogener og usubstituerte eller substituerte amino-, amid-, karboksyl-, merkapto-, isocyanat, hydroksyl-, alkoksy-, alkoksykarbonyl-, akryloyloksy-, metakryloyloksy eller epoksy-grupper.
Blant de ovennevnte alkoksysilaner med generell formel (I), er det spesielt foretrukket et hvor minst et radikal R' innehar en gruppe som er i stand til å gjennomgå en addisjonspolymerisasjons- (innbefattende polyaddisjon) eller kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon.
Denne gruppen som er i stand til addisjonspolymerisasjons- eller kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon innbefatter fortrinnsvis en epoksygruppe eller (fortrinnsvis aktivert) karbon-karbon multiple binder (spesielt dobbeltbindinger), en (met)akrylatgruppe er et spesielt foretrukket eksempel på sistnevnte grupper.
Spesielt foretrukne organisk modifiserte alkoksysilaner med generell formel (I) for bruk i foreliggende oppfinnelse, er derfor de hvor x er 2 eller 3, og spesielt 3, og et radikal (det eneste radikalet) R' er w-glysidyloksy-C2-6alkyl eller w-(met)akryloyloksy-C2-6alkyl.
Spesifikke eksempler på slike silaner er 3-glysidyloksypropyltri(m)etokysilan, 3, 4-epksybutyl-trimetoksysilan og 2-(3,4-epoksysykloheksyl)etyltrimetoksysilan og også 3-(met)akryloyloksypropyltri(m)etoksysilan og 2-
(met)akryloyloksyetyltri(m)etoksysilan. Ytterligere eksempler på passende forbindelser hvor X er 1 eller 2 er 3-glysidyloksypropyldimetyl(m)etoksysilan, 3-glysidyloksypropylmetyldi(m)etoksysilan, 3-(met)akryloyloksypropyldimetyldi(m)etoksysilan og 2-(met)akryloyloksyetylmetyldi(m)etoksysilan.
Eksempler på ytterligere alkoksysilaner som kan brukes som de er om ønskelig, men fortrinnsvis i kombinasjon med alkoksysilaner inneholdende ovennevnte grupper som er i stand til addisjonspolymerisasjons- eller kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon er tetrametoksysilan, tetraetoksysilan, tetra-n-propoksysilan, tetra-n-butoksysilan, sykloheksyltrimetoksysilan, syklopentyltrimetoksysilan, etyltrimetoksysilan, fenyletyltrimetoksysilan, fentyltrimetoksysilan, n-propyltrimetoksysilan, sykloheksylmetyldimetoksysilan, dimetyldimetoksysilan, diisopropyldimetoksysilan, fenylmetyldimetoksysilan, fenyletyltrietoksysilan, fenyltrietoksysilan, fenylmetyldietoksysilan og fenyldimetyletoksysilan.
Spesielt dersom de nanostrukturerte formene og sjiktene i henhold til oppfinnelsen skal gis smuss og vannavstøtende egenskaper og en lav overflateenergi, er det mulig sammen med det organisk modifiserte alkoksysilanet å anvende silaner som innehar direkte silisium-festede fluorerte alkylradikaler med minst fire karbonatomer (og fortrinnsvis minst tre fluoratomer), med karbonatomene plassert a og p til silisiumet som fortrinnsvis ikke bærer noen fluoratomer, hvor eksempler er (tridekafluo-1,1,2,2-tetrahydrooktyl)-metyldietoksysilan, (tridecafluo-1,1,2,2-tatrehydrooktyl)trietoksysilan, (heptadeka-fluor-1,1,2,2-tetrahydrodecyl)metyldietoksysilan og (heptadekafluor-1,1,2,2-tetrahydrodecyl)trietoksysilan.
Selvfølgelig, i tillegg til ovennevnte silaner (spesielt de organisk modifiserte silanene), kan forbindelsene med hydrolyserbare alkoksygrupper videre innbefatte andre forbindelser enn silaner. Eksempler på slike ikke-silan forbindelser er alkoksider (fortrinnsvis med Cm alkoksygrupper) av aluminium, titan, zirkonium, tantal, niob, tinn, sink, wolfram, germanium og bor. Spesifikke eksempler på slike forbindelser er aluminium sek-butylat, titan-isopropoksid, titan-propoksid, titan-butoksid, zirkon-isopropoksid, zirkon-propoksid, zirkon-butoksid, zirkon-etoksid, tantal-etoksid, tantal-butoksid, niob-etoksid, niob-butoksid, tinn-t-butoksid, wolfram(VI)-etoksid, germanium-etoksid, germanium-isopropoksid og di-t-butoksyaluminotrietoksysilan.
Spesielt i tilfelle med de relativt reaktive alkoksider (f.eks. de av Al, Ti, Zr etc), kan det være tilrådelig å anvende dem i kompleksert form, hvor eksempler på passende komplekseringsmidler f.eks. er umettede karboksylsyrer og (3-dikarbonylforbindelser, så som metakrylsyre, acetylaceton og etylacetoacetat, f.eks. Dersom det brukes forbindelser inneholdende hydrolyserbare alkoksygrupper, andre enn de organisk modifiserte alkoksysilanene, er molforholdet mellom de organisk modifiserte alkoksysilanene og de andre forbindelsene fortrinnsvis minst 2:1, spesielt minst 5:1 og spesielt foretrukket minst 10:1.
Dersom det ved fremgangsmåte i henhold til oppfinnelsen gjøres bruk av foretrukne organisk modifiserte alkoksysilaner inneholdende en gruppe som er i stand til addisjonspolymerisasjons- eller kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon, er det foretrukket å innblande i den korresponderende blandingen, i tillegg, en starterkomponent, hvor molforholdet starter til organisk gruppe generelt ikke overstiger 0.15:1.
Der hvor det for eksempel anvendes silaner med generell formel (I) inneholdende epoksygrupper, innbefatter passende startere spesielt imidazoler, aminer, syreanhydrider og Lewis-syrer. Dersom det skal brukes imidazoler, er 1-metylimidazol spesielt foretrukket. Andre foretrukne eksempler på imidazolstartere er 2-metylimidazol og 2-fenylimidazol. Eksempler på starterne fra gruppen av primære, sekundære og tertiære aminer er etylendiamin, dietylentriamin, trietylenamin, 1, 6-diaminoheksan, 1, 6-bis(dimetylamino)heksan, tetrametyletylendiamin, N,N,N',N",N"-pentametyldietylentriamin, 1, 4-diazabisyklo[2.2.2]oktan, sykloheksan-1,2-diamin, 2-(aminoetyl)-3,3,5-trimetylsyklopentylamin, 4, 4'-diaminosykloheksylmetan, 1, 3-bis(aminometyl)sykloheksan, bis(4-amino-3- metyl-sykloheksyl)metan, 1, 8-diamino-p-mentan, 3-(aminoetyl)-3,3,5-trimetylsykloheksylamin (isophorondiamin), piperazin, piperidin, urotropin, bis(4-aminofenyl)metan og bis(4-aminofenyl)sulfon. Aminene som brukes som startere kan også være funksjonalisert med silaner. Eksempler er N-(2-aminoetyl)-3-aminopropyltrietoksysilan, N-(2-aminoetyl)-3-aminopropyltrimetoksysilan, aminopropyltrimetoksysilan og aminopropyltrietoksysilan.
I tillegg kan det anvendes bortrifluoridaddukter av aminer, som f.eks. BF3-etylamin. Videre kan det frembringe organisk kryssbinding ved hjelp av syreanhydrider (fortrinnsvis i kombinasjon med tertiære aminer), så som etylbisyklo[2.2.1]hepten-2,3-dikarboksylsyre anhydrid, heksahydronaftalendikarboksylsyre anhydrid, ftalsyre anhydrid, 1,2-sykloheksandikarboksylsyre anhydrid og også [3-(trietoksysilyl)propyl]succinsyre anhydrid.
Katalysatorer som ytterligere er passende for kryssbinding av epoksygrupper i foreliggende tilfeller er (eventuelt prehydrolysert) alkoksider av aluminium, titan og zirkonium, f.eks. AKC^HUOG^Hgfe, og organiske karboksylsyrer, så som for eksempel propionsyre.
I tilfellet med bruk av silaner med ovennevnte formel (I) som innehar (met)akrylatgrupper, kan det tilsettes en konvensjonell termisk polymerisasjonskatalysator til blandingen. Eksempler på termiske katalysatorer som med fordel kan brukes er azobisisobutyronitril, diacylperoksider (f.eks. dibenzoylperoksid og dilauroylperoksid), peroksydikarbonater, alkyl perestere, perketaler, alkyl eller arylperoksider, ketonperoksider og hydroperoksyder.
Det er selvfølgelig også mulig å innbefatte i blandingen rent organiske komponenter som reagerer med reaktive grupper på silaner med generell formel (I) og som derved er i stand til å medføre en ytterligere kryssbinding under herdeforløpet. For eksempel i tilfellet med bruk av silaner inneholdende (met)akrylatgruppe, er spesifikke eksempler på anvendelige kryssbindingsmidler bisfenol A bisakrylat, bisfenol A bismetakrylat, trimetylolpropan triakrylat, trimetylolpropan trimetakrylat, neopentyl glykol dimetakrylat, neopentyl glykol diakrylat, dietylen glykol diakrylat, dietylen glykol dimetakrylat, trietylen glykol diakrylat, trietylen glykol dimetakrylat, tetraetylen glykol diakrylat, tetraetylen glykol dimetakrylat, polyetylen glykol diakrylat, polyetylen glykol dimetakrylat, 2, 2, 3, 3, -tetrafluo-1,4-butandiol diakrylat og dimetakrylat, 1, 1,5, 5-tetrahydroperfluorpentyl-1,5-diakrylat og dimetakrylat, heksafluoridfenol A diakrylat og dimetakrylat, oktafluor-1,6-heksandiol diakrylat og dimetakrylat, 1,3-bios(3-metakryloyloksypropyl)tetrakis(trimetylsiloksy)-disiloksan, 1,3-bis(3-akryloyloksypropyl)tetrakis(trimetylsiloksy)disiloksan, 1,3-bis(3-metakryloyloksypropyl)tetrametyldisiloksan og 1,3-bis(3-akryloyloksypropyl)tetrametyldisiloksan.
Dersom det ønskes nanostrukturerte formlegemer og sjikt med hydrofile egenskaper, er det f.eks. mulig å innbefatte i blandingen i henhold til oppfinnelsen, komponenter som fører til slike hydrofile egenskaper. I denne hensikt er det mulig å anvende komponenter som kan bindes kovalent til den uorganiske matriksen (f.eks. en komponent med en fri hydroksylgruppe, så som 2-hydroksyetyl(met)akrylat eller en hydrofil komponent som er fritt bevegelig i matriksen (f.eks. en surfaktant) eller en kombinasjon av de to.
Betingelsene som kan brukes i henhold til oppfinnelsen, fører til (ytterligere) hydrolyse av forbindelsene som inneholder hydrolyserbare alkoksygrupper og/eller de korresponderende prekondensatene, inn befatter fortrinnsvis nærvær av minst 0,5 mol H20 per hydrolyserbar alkoksygruppe. Denne vannmengden er generelt allerede tilstede på grunn av vannet i solen. Dersom dette ikke er tilfellet, kan den tilsvarende mengden vann tilsettes separat.
Det er mer foretrukket dersom det er tilstede en katalysator for hydrolyse (og kondensasjon) av alkoksygruppene. Foretrukne katalysatorer i denne hensikt er syrekatalysatorer, f.eks. vandige (mineral) syrer så som f.eks. HCI.
Andelene av utgangsmaterialene som brukes (sol og forbindelser inneholdende hydrolyserbare alkoksygrupper) er fortrinnsvis valgt slik at i den endelige formen eller i det endelige sjiktet (etter herding) utgjør innholdet av fast stoff som stammer fra solen fra 1 til 50 masse-% og spesielt fra 5 til 30 masse-% av henholdsvis formen eller sjiktet.
Fremgangsmåten for å føre den vandige og/eller alkoholiske solen i kontakt med forbindelsene inneholdende hydrolyserbare alkoksygrupper under betingelser som fører til hydrolyse av forbindelsene inneholdende alkoksygrupper er vel kjent for en fagmann og vil bli ytterligere belyst i de etterfølgende eksempler. Etter fjerning av løsningsmiddelet (alkohol) fra blandingen (som generelt betyr at fra 10 til 80% og spesielt fra 20 til 50% av de innledningsvis hydrolyserbare alkoksygruppene har gjennomgått en kondensasjonsreaksjon), kan det av visse hensikter viser seg å være hensiktsmessig å justere den resulterende blandingen til en passende viskositet ved tilsetting av vann. Fortrinnsvis er blandingens viskositet, spesielt for belegningsformål, under 500 mPas, spesielt under 3000 mPas.
For å fremstille nanostrukturerte formlegemer og substrater tilveiebragt med nanostrukturerte sjikt, ved hjelpa av blandingen i henhold til oppfinnelsen, blir denne blandingen enten ført inn i en form eller påført på et substrat og deretter - om ønskelig, etter tørking på forhånd, spesielt i tilfellet med fremstilling av sjikt
- termisk (og i tillegg, om ønskelig, fotokjemisk) utføres herding.
I tilfellet med fremstilling av sjikt, kan alle konvensjonelle belegningsteknikker anvendes, f.eks. dypping, strømningsbelegning, valsing, sprøyting, knivbelegning, spinnbelegning eller skjermtrykking.
Herdetemperaturen er generelt i området fra 90 °C til 300 °C, spesielt fra 110 °C til 200 °C, og er i tilfellet med sjiktproduksjon også avhengig, spesielt, av temperaturstabiliteten til substratet som skal belegges.
Som allerede nevnt innledningsvis, er blandingen i henhold til oppfinnelsen passende for belegning av en lang rekke forskjellige substrater og disse substratene, selv uten overflatebehandling, utviser i mange tilfeller meget god adhesjon og ekstremt høy ripemotstand. Spesielt foretrukne substrater for sjiktfremstilling er glass, transparent og ikke-transparent plast, og metaller. Eksempler på passende plast er polykarbonat, poly(met)akrylater, polystyren, polyvinylklorid, polyetylentereftalat, polypropylen og polyetylen, mens et foretrukket metall er aluminium.
Blandingene som kan erholdes i henhold til oppfinnelsen er derved passende for et stort antall anvendelsesområder. Eksempler på slike anvendelsesområder er spesielt følgende:
Belegning for å øke ripe og slitemotstanden:
- toppbelegg for husholdningsartikler og transportmidler,
- transparente og ikke-transparente polymerkomponenter
- metalliske substrater
- keramiske og glass-substrater
Belegning for å forbedre abrasjons- og korrosjonsmotstanden til edle og uedle metaller: Mg: motorblokker, brillerammer, sportsutstyr, hjulfelger, girkasser Al: chassiser for transportmidler, hjulfelger, fasadeelementer,
møbler, varmevekslere,
Stål: kompresjonsformer for fremstilling av komponenter,
sanitærkoblinger
Zn: takkonstruksjoner, våpen, airbag aksellerometermasser
Cu: dørbeslag, varmevekslere, vaskekummer
Belegg for å forbedre rengjøringsevnen:
Vedrørende eksempler på slike formål, se DE-A-19544763.
Belegg for å forbedre formfjerningsevnen til komponenter og redusere vedheft:
Metall og polymere transportbånd
Valser for polymerisasjonsreaksjoner
Kompresjonsformer for fremstilling av polystyrenkomponenter Anti-grafitti belegg på overflatebelegg og flater
Belegg for anti-kondensasjonseffekt:
Glass for transportmidler
Brillelinser
Speil (f.eks. baderom, kjøretøyspeil og kosmetiske
speil)
Optiske komponenter (f.eks. spektroskopiske speil og
laser prismer)
Elementer for innkapsling (f.eks. hus for meteorologiske instrumenter)
Belegg for anti-reflektive egenskaper:
Polymer eller glassdeksler til fremvisningselementer (f.eks.
dashbord for kjøretøy, utstillingsvindusglass)
Belegg for matvarerelaterte formål:
Diffusjonssperresjikt (forhindrer diffusjon av f.eks. gasser,
acetaldehyd, blyioner eller alkimetallioner, odoranterog luktstoffer)
Belegg for hule glassartikler:
Belegg for drikkevareflasker for å øke bruddtrykket Farging av fargeløst glass ved hjelp av belegg Fremstilling av optiske formlegemer og selvbærende filmer:
Nanokompositt brillelinser
Ripe- og abrasjonsbestandige pakningsfilmer
Eksemplene som følger vil belyse foreliggende oppfinnelse ytterligere. I alle disse eksemplene ble løsningsmiddelet dannet ved hydrolysen (etanol) fjernet i en grad på minst tilnærmet 95%.
Eksempel 1.
27.8 g (0,2 mol) (3-glysidyloksypropyl)trietoksysilan (GLYEO) ble blandet sammen med 27.8 g silikasol (30 masse-% styrke vandig løsning av Si02, Levasil® 200S fra Bayer). Blandingen ble deretter rørt ved romtemperatur i 5 timer. Deretter ble etanol dannet ved hydrolysen fjernet ved destillasjon (rotavapor, maks. badtemp. 40 °C). Resten ble blandet sammen med 1.11 g (0,0005 mol) N-(2-aminoetyl)-3-aminopropyltrimetoksysilan (DIAMO) og rørt ved romtemperatur i en time.
Det resulterende systemet ble brukt til å belegge polykarbonat og aluminiumark og også CR-39 linser. Polykarbonatarkene var blitt forbehandlet med koronautladning. Det belagte polykarbonatet ble lagret i romtemperatur i 30 minutter og deretter herdet ved 130 °C i 4 timer. CR-39 linsene ble lagret ved romtemperatur i 30 minutter og deretter herdet ved 90 °C i 4 timer.
Eksempel 2.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke 3.05 g (0,001 mol) [3-(trietoksysilyl)propyl]succinsyre anhydrid (GF20) istedenfor DIAMO. Det ble foretatt undersøkelser av abrasjonsmotstanden ved hjelp av Taber abrasjonstest (hjulmateriale CS 10F, 1000 sykler, hjulbelastning 500 g) som gav et diffusjonslystap på 7%.
Eksempel 3.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke en boehmitt-suspensjon (2.78 g Disperal® P3 i 25 g destillert vann) istedenfor silikasolen.
Eksempel 4.
Eksempel 3 ble gjentatt ved å bruke 3.78 g (0,01 mol) AI(OEtOBu)3som katalysator istedenfor DIAMO.
Eksempel 5.
57.8 g (0,1 mol) GLYEO ble blandet sammen med 27.8 g av silikasolen beskrevet i eksempel 1. Blandingen ble deretter rørt ved romtemperatur i 5 timer, etterfulgt av fjerning av etanolen som var dannet ved hydrolysen, som beskrevet i eksempel 1. Resten ble blandet sammen med 2.84 g (0,01 mol) Ti02-sol, fremstilt som beskrevet under, og rørt ved romtemperatur i en time.
Ti02-solen ble fremstilt ved å løse opp 28.42 g (0,1 mol) tetraisopropyl ortotitanat (Ti(OiPr)4) i 60 ml isopropanol og tilsette konsentrert saltsyre til løsningen i et molforhold på 1:1. Etter 2 timer røring ved romtemperatur, ble de flyktige bestanddelene fjernet med rotavapor og resten ble tatt opp i 70 ml vann.
Eksempel 6.
139.0 g (0,5 mol) GLYEO ble blandet med 62.4 g (0,3 mol) tetraetoksysilan (TEOS). Reaksjonsblandingen ble blandet med en HCI-sur boehmitt-suspensjon (12.82 g nanoskala boehmitt-pulver i 128.20 g 0,1 N HCI-løsning) og rørt ved romtemperatur i 5 timer. Etanolen som var dannet ved hydrolysen ble fjernet ved destillasjon som beskrevet i eksempel 1. Deretter ble 3.78 g (0,01 mol) AI(OEtBu)3tilsatt til blandingen, etterfulgt av 1 times røring ved romtemperatur.
Polykarbonatplater forbehandlet ved koronautladning og plasma-forbehandlede CR-39 linser ble belagt med blandingen fremstilt på denne måten og termisk herdet ved henholdsvis 130 °C og 90 °C i en time.
Eksempel 7.
29.0 g (0,1 mol) 3-metakryloyloksypropyltrietoksysilan ble blandet med 29.0 g av silikasolen beskrevet i eksempel 1 og rørt ved romtemperatur i 16 timer. Blandingen ble deretter blandet med 13.0 g (0,1 mol) 2-hydroksyetyl metakrylat (som hydrofil komponent) og rørt ved romtemperatur i 30 minutter. Dette ble etterfulgt av destillativ fjerning (som beskrevet i eksempel 1) av alkoholen dannet ved hydrolysen fra reaksjonsblandingen. 0,48 g dibenzoyl peroksid (1 mol-% basert på tilstedeværende dobbeltbindinger) ble tilsatt til den konsentrerte reaksjonsblandingen.
Den fremstilte blandingen ble påført på polymetyl metakrylatark forbehandlet med koronautladning, og ble herdet termisk ved 95 °C i 4 timer.
Eksempel 8.
55.6 g 3-glysidyloksypropyltrietoksysilan ble blandet sammen med 0,51 g tridecafluor-1,1,2,2-tetrahydrooktyl-1-trietoksysilan og rørt. Den resulterende blandingen ble blandet sammen med 10.85 g 0,1 N HCI (tilsvarende den støkiometriske mengden vann for hydrolysen av alkoksysilanene). Etter røring ved romtemperatur i 24 timer, ble 55.6 g av silikasolen beskrevet i eksempel 1
tilsatt og blandingen ble rørt ved romtemperatur i 4 timer. Alkoholen som var dannet ved hydrolysen ble fjernet som beskrevet i eksempel 1 på en rotavapor (mengde fjernet 26.4 g). Deretter ble det tilsatt 2.22 g DIAMO og blandingen ble rørt ved romtemperatur i ytterligere en time.
Eksempel 9.
278.42 g GLYEO ble kohydrolysert med 10 g av et reaksjonsprodukt av 3-isocyanatpropyltrietoksysilan og polyetylenglykol 600, sammen med 54 g 0,1 N HCI, med røring ved romtemperatur i 5 timer. Etanolen som var dannet ved prehydrolysen ble strippet av på en rotavapor (badtemperatur 25 °C, 30-40 mbar). Deretter ble 926 g av silikasolen beskrevet i eksempel 1 innblandet i denne blandingen under røring, hvoretter blandingen ble rørt ved romtemperatur i 16 timer. Deretter ble det tilsatt 11.12 g DIAMO som starter og blandingen ble rørt ved romtemperatur i ytterligere en time. Deretter ble det tilsatt 20 g av en silisiumbasert ikke-ionisk surfaktant under kraftig røring.
Flytglassusbstrater belagt med den resulterende blandingen ble herdet i en tørkeovn ved 130 °C i 4 timer.
Eksempel 10.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke 1.32 g (0,005 mol)
trimetoksysilylpropyldietylentriamin (TRIAMO) istedenfor DIAMO.
Eksempel 11.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke 0,74 g (0,01 mol) propionsyre som starter istedenfor DIAMO.
Eksempel 12.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke 3.87 g (0,01 mol) AI(OEtOBu) som starter istedenfor DIAMO.
Eksempel 13.
Eksempel 1 ble gjentatt ved å bruke 0,41 g (0,005 mol) 1-metylimidazol som starter istedenfor DIAMO.
Eksempel 14.
Eksempel 1 ble gjentatt ed å bruke istedenfor DIAMO, 5.27 g (0,01 mol) av en blanding erholdt ved å rense 3-aminopropyultrietoksysilan (AMEO) med GF20 i molforhold på 1:1 under isavkjøling.
Eksempel 15.
Eksempel 6 ble gjentatt ved å bruke 95.5 g av silikasolen beskrevet i eksempel 1 istedenfor den HCI-sure boehmitt-suspensjonen, og øke mengden av katalysator fem ganger.
Polykarbonatark forbehandlet med koronautladning og plasma-forbehandlede CR-39 linser ble belagt med den resulterende blandingen og herdet termisk ved henholdsvis 130 °C og 90 °C i en time.
Eksempel 16.
27.8 g (0,1 mol) GLYEO ble blandet med 13.5 g 0,1 N HCI og rørt ved romtemperatur i 2 timer. 27.8 g organosol (30-masse-% Si02i isopropanol, Bayer PPL 6454-6456) ble tilsatt til dette prehydrolysatet, og blandingen ble rørt ved romtemperatur i 5 timer. Deretter ble etanolen dannet ved hydrolysen og isopropanol-løsningsmiddelet fjernet ved destillasjon. Resten ble blandet med 18.9 g H20 (pH 3.2). Deretter ble 1.11 g (0,0005 mol) DIAMO tilsatt under kraftig røring og blandingen ble rørt ved romtemperatur i en time.
Den resulterende blandingen ble brukt til å belegge polykarbonat og aluminiumark og også CR-39 linser. Polykarbonatarkene var forbehandlet med koronautladning. De belagte polykarbonat og aluminiumarkene ble lagret ved romtemperatur i 30 minutter og deretter herdet ved 130 °C i 4 timer. CR-39 linsene ble lagret ved romtemperatur i 30 minutter og deretter herdet ved 90 °C i 4 timer.
Eksempel 17.
139.0 g (0,5 mol) GLYEO ble blandet med 62.4 g (0,3 mol) TEOS og blandet sammen støkiometrisk med 0,1 N saltsyre. Reaksjonsblandingen ble rørt ved romtemperatur i 16 timer. Deretter ble etanolen som var dannet ved hydrolysen og kondensasjonen fjernet ved destillasjon. Den konsentrerte reaksjonsblandingen ble deretter blandet med en HCI-sur boehmitt-suspensjon (12.82 g boehmittpulver i 128.8 g 0,1 N HCI løsning) og rørt ved romtemperatur i 3 timer. 3.78 g (0,01 mol) AI(OEtOBu)3ble deretter tilsatt dråpevis til blandingen. Det derved fremstilte belegningsmaterialet ble rørt ved romtemperatur i tilnærmet 4 timer.
Koronaforbehandlede polykarbonatark og plasmaforbehandlede CR-39 linser ble belagt og herdet termisk ved henholdsvis 130 °C og 90 °C i en time.
Eksempel 18.
139.0 g (0,5 mol) GLYEO ble blandet med 62.4 g (0,3 mol) TEOS og blandet sammen støkiometrisk med 0,1 N saltsyre. Reaksjonsblandingen ble rørt ved romtemperatur i 16 timer. Deretter ble etanolen som var dannet ved hydrolysen og kondensasjonen fjernet ved destillasjon. Den konsentrerte reaksjonsblandingen ble deretter blandet med en 30 masse-% surgjort silikasol-løsning (se eksempel 1) og rørt ved romtemperatur i 3 timer. 18.9 g (0,05 mol) AI(OEtOBu)3ble deretter tilsatt dråpevis til blandingen. Det derved fremstilte belegningsmaterialet ble rørt ved romtemperatur i tilnærmet 4 timer.
Koronaforbehandlede polykarbonatark og plasmaforbehandlede CR-39 linser ble belagt og herdet termisk ved henholdsvis 130 °C og 90 °C i en time.
Eksempel 19.
27.8 g (0,1 mol) GLYEO ble blandet med 0,51 g fluorsilan (se eksempel 8; 1 mol-% med hensyn til GLKEO) og blandingen ble rørt. Blandingen ble blandet sammen med 5.46 g 0,1 N HCI, tilsvarende den støkiometriske mengden vann for hydrolysen. Blandingen ble rørt ved romtemperatur i 24 timer. Deretter ble alkoholen som var dannet ved hydrolysen ok kondensasjonen fjernet ved roterende fordampning. Resten ble blandet med 3.78 g (0,01 mol) AI(OEtOBu)3og 27.8 g surgjort silikasol (se eksempel 1) og rørt ved romtemperatur i 3 timer.
Koronaforbehandlede polykarbonatark og plasmaforbehandlede CR-39 linser ble belagt og herdet termisk ved henholdsvis 130 °C og 90 °C i en time.
Eksempel 20.
27.8 g (0,1 mol) GLYEO ble blandet med 0,255 fluorsilan (se eksempel 8; 0,5 mol-% med hensyn til GLYEO) og blandingen ble rørt. Blandingen ble blandet med 5.43 g 0,1 N HCI; tilsvarende den støkiometriske mengden vann for hydrolysen. Deretter ble blandingen rørt ved romtemperatur i 24 timer og etanolen som var dannet ved hydrolysen ble fjernet ved rotavapor. Den fjernede mengden, tilnærmet 13.0 g, tilsvarte tilnærmet 95%. Resten ble dispergert med en boehmitt-suspensjon (2.78 g Dispersal® P3 i 25 ml 0,1 N saltsyreløsning), blandet sammen med 1.89 g (0,005 mol) AI(OEtOBu)3og rørt ved romtemperatur i en time.
Claims (16)
1.
Fremgangsmåte for fremstilling av en sammensetning for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer og sjikt, innbefattende å føre en vandig og/eller alkoholisk sol av en forbindelse av et element valgt fra silisium og metaller fra hovedgruppene og overgangsgruppene i det periodiske system, hvor forbindelsene som utgjør solen innbefatter minst et oksid eller oksid hydrat, i kontakt med forbindelser som innehar hydrolyserbare alkoksygrupper og innbefattende minst et organisk modifisert alkoksysilan eller et prekondensat avledet fra dette, under betingelser som fører til (ytterligere) hydrolyse av forbindelsene, og etterfølgende fjerning av den dannede alkoholen og enhver alkohol som allerede er tilstede opprinnelig,
karakterisert vedat alkoholen fjernes i en mengde slik at restalkoholinnholdet i sammensetningen ikke er mer enn 20 masse-%, og hvor det organisk modifiserte alkokysysilanet innbefatter minst en forbindelse med generell formel (1): RVxSi(OR)x (1) hvor radikalene R er usubstituerte eller substituerte hydrokarbongrupper med 1 til 8 karbonatomer, radikalene R' er identiske eller forskjellige fra hverandre og er hver en usubstituert eller substituert hydrokarbongruppe med 1 til 20 karbonatomer og x er 1,2 eller 3, og hvor radikalet R', eller i det minste et av radikalene R' innehar en epoksygruppe som gruppe som er i stand til en addisjonspolymerisasjons- eller kondensasjonspolymerisasjonsreaksjon
2.
Fremgangsmåte i henhold til krav 1,
karakterisertvedat mengden av alkohol som fjernes er den mengden som, i tillegg til den totale mengden av enhver alkohol som allerede er tilstede opprinnelig, tilsvarer minst 30 masse-% og spesielt minst 50 masse-% av alkoholen som kan være dannet teoretisk ved hydrolyse av alle alkoksygruppene som opprinnelig var tilstede.
3
Fremgangsmåte i henhold til krav 1 eller 2,
karakterisert vedat det etter fjerning av alkoholen, tilsettes vann til sammensetningen i den hensikt å justere en passende viskositet.
4.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 3,karakterisert vedat det anvendes en vandig sol.
5.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 4,karakterisert vedat forbindelsene som utgjør solen er avledet fra minst et element valgt fra silisium og metallene fra den tredje og fjerde hovedgruppen og den tredje til femte overgangsgruppen i det periodiske system, og spesielt avledet fra Si, Al, Sn, Ti eller Zr.
6.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 5,karakterisert veda t solen er en Si02, AI2O3, AIOOH, Ti02 og/eller Zr02sol.
7.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 6,karakterisert vedat radikalene R i formel (1) er C1-4 alkylgrupper, spesielt metyl og etyl, x er 2 eller 3, spesielt 3.
8.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 7,karakterisert vedat radikalet R' eller i det minste et av radikalene R' er en w-glysidyloksy-C2-6alkylgruppe.
9.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 8,karakterisert vedat det tilsettes en katalysator for addisjonspolymerisasjonen eller kondensasjonspolymerisasjonen til sammensetningen.
10.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 9,karakterisert vedat betingelsene som fører til (ytterligere) hydrolyse av forbindelsene som innehar hydrolyserbare alkoksygrupper innbefatter nærværet av (a) minst 0,5 mol H20 per hydrolyserbar alkoksygruppe og (b) fortrinnsvis en sur katalysator for hydrolysreaksjonen.
11.
Fremgangsmåte i henhold til ett eller flere av kravene 1 til 10,karakterisert vedat solen blir tilsatt i en mengde slik at det i det ferdige formlegemet eller i det ferdige sjiktet utgjør solens faststoffinnhold fra 1 til 50 masse-% og spesielt fra 5 til 30 masse-% av henholdsvis formlegemet eller sjiktet.
12.
Sammensetning fremstilt i henhold til fremgangsmåten i henhold til hvilke som helst av kravene 1 til 11 for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer eller sjikt.
13.
Fremgangsmåte for fremstilling av nanostrukturerte formlegemer og substrater tilveiebragt med nanostrukturerte sjikt, ved hvilken en sammensetning fremstilt ved fremgangsmåten i henhold til hvilke som helst av kravene 1 til 11 (a) tilføres i en form, eller (b) påføres til et substrat, og deretter utføre termisk og ytterligere, om ønskelig, fotokjemisk herding.
14.
Fremgangsmåte i henhold til krav 13,
karakterisert vedat substratet er av glass, plast eller metall.
15.
Nanostrukturerte formlegemer og substrater forsynt med nanostrukturerte sjikt, som kan erholdes ved fremgangsmåten i henhold til krav 13 eller 14.
16.
Anvendelse av nanostrukturerte formlegemer og substrater forsynt med nanostrukturerte sjikt, i henhold til krav 15, for optiske formål.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19816136A DE19816136A1 (de) | 1998-04-09 | 1998-04-09 | Nanostrukturierte Formkörper und Schichten und deren Herstellung über stabile wasserlösliche Vorstufen |
PCT/EP1999/002396 WO1999052964A2 (de) | 1998-04-09 | 1999-04-08 | Nanostrukturierte formkörper und schichten und deren herstellung über stabile wasserlösliche vorstufen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NO20004877L NO20004877L (no) | 2000-09-28 |
NO20004877D0 NO20004877D0 (no) | 2000-09-28 |
NO331461B1 true NO331461B1 (no) | 2012-01-09 |
Family
ID=7864255
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NO20004877A NO331461B1 (no) | 1998-04-09 | 2000-09-28 | Nanostrukturerte formlegemer og sjikt og fremgangsmate for fremstilling av disse ved anvendelse av stabile, vannloselige forlopere |
Country Status (17)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6620514B1 (no) |
EP (1) | EP1086162B2 (no) |
JP (1) | JP4597368B2 (no) |
KR (1) | KR20010042528A (no) |
CN (1) | CN1145659C (no) |
AT (1) | ATE282058T1 (no) |
AU (1) | AU3813899A (no) |
BR (1) | BR9909521A (no) |
CA (1) | CA2327312A1 (no) |
CZ (1) | CZ20003683A3 (no) |
DE (2) | DE19816136A1 (no) |
ES (1) | ES2232135T5 (no) |
HU (1) | HUP0101496A3 (no) |
MX (1) | MXPA00009735A (no) |
NO (1) | NO331461B1 (no) |
PL (1) | PL213503B1 (no) |
WO (1) | WO1999052964A2 (no) |
Families Citing this family (82)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19846659C2 (de) | 1998-10-09 | 2001-07-26 | Wkp Wuerttembergische Kunststo | Schichtwerkstoff und Verfahren zum Herstellen eines solchen |
DE19909894A1 (de) | 1999-03-06 | 2000-09-07 | Basf Coatings Ag | Sol-Gel-Überzug für einschichtige oder mehrschichtige Lackierungen |
DE19940858A1 (de) | 1999-08-27 | 2001-03-01 | Basf Coatings Ag | Sol-Gel-Überzug für einschichtige oder mehrschichtige Lackierungen |
DE19958336A1 (de) * | 1999-12-03 | 2001-06-07 | Inst Neue Mat Gemein Gmbh | Selbstvernetzende Beschichtungszusammensetzungen auf Basis anorganischer fluorhaltiger Polykondensate |
DE10018671C2 (de) * | 2000-04-14 | 2002-09-26 | Nanogate Technologies Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer hydrophoben Oberfläche von Gegenständen aus silikatkeramischen Werkstoffen sowie Gegenstand mit einer hydrophoben Oberfläche |
DE10063519A1 (de) * | 2000-12-20 | 2002-07-04 | Nano X Gmbh | Lösungsmittelarme Sol-Gel-Systeme |
EP1236765A1 (de) | 2001-02-28 | 2002-09-04 | hanse chemie GmbH | Siliciumdioxiddispersion |
DE10134473B4 (de) | 2001-07-16 | 2007-11-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Beschichtung passivierter metallischer Oberflächen aus Chrom von Bauteilen sowie derart beschichtetes Bauteil und Verwendung des Verfahrens |
DE10154030A1 (de) * | 2001-11-02 | 2003-05-22 | Basf Coatings Ag | Effektgeber, wässriger Beschichtungsstoff, Verfahren zu seiner Herstellung und seine Verwendung |
DE10200929A1 (de) * | 2002-01-12 | 2003-07-31 | Basf Coatings Ag | Polysiloxan-Sole, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE10221007B4 (de) * | 2002-05-11 | 2016-10-13 | Basf Coatings Gmbh | Wässrige Dispersion von anorganischen Nanopartikeln, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE10221009B4 (de) * | 2002-05-11 | 2016-10-13 | Basf Coatings Gmbh | Beschichtungsstoffe, deren Verwendung, Verfahren zur Herstellung von Beschichtungen und transparente Beschichtungen |
DE10221010A1 (de) | 2002-05-11 | 2003-11-27 | Basf Coatings Ag | Wässrige Dispersion von anorganischen Nanopartikeln, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE10234588A1 (de) * | 2002-07-30 | 2004-02-19 | Robert Bosch Gmbh | Bauteil eines Verbrennungsmotors mit einem tribologisch beanspruchten Bauelement |
DE10253839A1 (de) * | 2002-11-14 | 2004-05-27 | Hansgrohe Ag | Beschichtungsverfahren |
DE10253841A1 (de) * | 2002-11-14 | 2004-05-27 | Hansgrohe Ag | Beschichtungsverfahren |
DE10308949B4 (de) * | 2003-02-28 | 2008-12-11 | BAM Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung | Verfahren zur Herstellung von anorganisch modifizierten cellulosehaltigen Werkstoffen sowie anorganisch modifizierter Werkstoff |
DE10313630A1 (de) * | 2003-03-26 | 2004-10-07 | BSH Bosch und Siemens Hausgeräte GmbH | Glasartige Bedruckung mittels Siebdruck |
WO2004087339A1 (de) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Behr Gmbh & Co. Kg | Wärmetauscher und verfahren zur oberflächenbehandlung eines solchen |
DE10320431A1 (de) | 2003-05-08 | 2004-12-16 | Basf Coatings Ag | Epoxyfunktionelle Silane, Verfahren zur ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
PL1512802T3 (pl) * | 2003-09-03 | 2008-08-29 | Perlen Converting Ag | Folia ognioodporna |
DE10348954B3 (de) * | 2003-10-18 | 2005-01-05 | Clariant Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Beschichtungsformulierungen für wasser- und ölabweisende Beschichtungen |
DE10351251B3 (de) * | 2003-11-03 | 2005-05-19 | Basf Coatings Ag | Strukturviskose, wässrige Dispersionen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE10353507A1 (de) * | 2003-11-17 | 2005-06-30 | Basf Coatings Ag | Hydrolysate und/oder Kondensate von Epoxid- und Silangruppen enthaltenden Oligomeren und Polymeren, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
US20050104338A1 (en) * | 2003-11-19 | 2005-05-19 | Quin Soderquist | Applique film airbag cover |
DE10357116A1 (de) | 2003-12-06 | 2005-07-07 | Solvay Barium Strontium Gmbh | Desagglomeriertes Bariumsulfat |
DE102004008772A1 (de) * | 2004-02-23 | 2005-09-08 | Institut für Neue Materialien Gemeinnützige GmbH | Abriebbeständige und alkalibeständige Beschichtungen oder Formkörper mit Niedrigenergieoberfläche |
DE102004009287A1 (de) * | 2004-02-26 | 2005-09-15 | Institut Für Neue Materialien Gem. Gmbh | Amphiphile Nanopartikel |
MXPA06010676A (es) * | 2004-03-19 | 2007-02-21 | Doerken Ewald Ag | Microrevestimiento comprendiendo siloxanos. |
US20070212534A1 (en) * | 2004-03-31 | 2007-09-13 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Article With Silica-Based Film and Process for Producing the Same |
DE102004022400A1 (de) * | 2004-05-06 | 2005-12-15 | Consortium für elektrochemische Industrie GmbH | Feuchtigkeitsvernetzbare alkoxysilyfunktionelle Partikel enthaltende Zusammensetzung |
DE102004036073A1 (de) * | 2004-07-24 | 2006-02-16 | Degussa Ag | Verfahren zur Versiegelung von Natursteinen |
DE102004037045A1 (de) * | 2004-07-29 | 2006-04-27 | Degussa Ag | Wässrige Silan-Nanokomposite |
WO2006044340A2 (en) * | 2004-10-12 | 2006-04-27 | Sdc Coatings, Inc. | Coating compositions, articles, and methods of coating articles |
JP2008533316A (ja) * | 2005-03-09 | 2008-08-21 | アステンジョンソン・インコーポレーテッド | 耐汚染物質性ナノ粒子コーティングを有する製紙用ファブリックおよび現場塗布の方法 |
DE102005012457B3 (de) | 2005-03-18 | 2006-08-31 | Basf Coatings Ag | Epoxid- und Silangruppen enthaltende Oligomere und Polymere, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE102006006655A1 (de) * | 2005-08-26 | 2007-03-01 | Degussa Ag | Cellulose- bzw. lignocellulosehaltige Verbundwerkstoffe auf der Basis eines auf Silan basierenden Komposits als Bindemittel |
CN101277815A (zh) * | 2005-10-05 | 2008-10-01 | 日本板硝子株式会社 | 形成有有机无机复合膜的物品 |
DE102005052939A1 (de) * | 2005-11-03 | 2007-05-10 | Degussa Gmbh | Herstellung von beschichteten Substraten |
DE102005056620A1 (de) * | 2005-11-25 | 2007-06-06 | Merck Patent Gmbh | Amphiphile Silane |
ATE499419T1 (de) * | 2005-12-23 | 2011-03-15 | Fraunhofer Ges Forschung | Leicht zu reinigende, mechanisch stabile beschichtungsstoffzusammensetzung für metalloberflächen und verfahren zur beschichtung eines substrats mit der genannten zusammensetzung |
DE102006003956A1 (de) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Degussa Gmbh | Korrossionsschutzschicht auf Metalloberflächen |
DE102006003957A1 (de) * | 2006-01-26 | 2007-08-02 | Degussa Gmbh | Wasserverdünnbare Sol-Gel-Zusammensetzung |
KR100745745B1 (ko) * | 2006-02-21 | 2007-08-02 | 삼성전기주식회사 | 나노복합재료 및 그 제조방법 |
EP2013294A1 (de) * | 2006-04-27 | 2009-01-14 | Sachtleben Chemie GmbH | Uv-härtbare grundierung |
DE102006024727A1 (de) | 2006-05-26 | 2007-11-29 | Cht R. Beitlich Gmbh | Mit Wasser verdünnbares Konzentrat zur Beschichtung verschiedener Substrate |
DE102006027480A1 (de) * | 2006-06-14 | 2008-01-10 | Evonik Degussa Gmbh | Kratz- und abriebfeste Beschichtungen auf polymeren Oberflächen |
DE102007020404A1 (de) * | 2006-09-18 | 2008-10-30 | Nano-X Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungsmaterials |
DE102008014717A1 (de) | 2006-09-18 | 2009-09-24 | Nano-X Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines hoch abriebfesten Fahrzeuglackes, Fahrzeuglack und dessen Verwendung |
DE102006044310A1 (de) | 2006-09-18 | 2008-03-27 | Nano-X Gmbh | Silanbeschichtungsmaterial und Verfahren zur Herstellung eines Silanbeschichtungsmaterials |
US8021749B2 (en) * | 2006-12-20 | 2011-09-20 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Article with organic-inorganic composite film |
FR2914631B1 (fr) | 2007-04-06 | 2009-07-03 | Eads Europ Aeronautic Defence | Materiau nanostructure particulier, comme revetement protecteur de surfaces metalliques. |
US8569420B2 (en) * | 2007-06-19 | 2013-10-29 | The University Of Akron | Singly-terminated polyisobutylenes and process for making same |
US20090104438A1 (en) * | 2007-10-17 | 2009-04-23 | Jennifer Hoyt Lalli | Abrasion resistant coatings |
DE102007054627A1 (de) | 2007-11-15 | 2009-05-20 | Cht R. Beitlich Gmbh | Wasserverträgliche Sole zur Beschichtung verschiedener Substrate |
DE102007058712A1 (de) | 2007-12-06 | 2009-06-10 | Evonik Degussa Gmbh | Modulares Sol-Gel-System und Verfahren zum Einstellen der Eigenschaften des Sol-Gel-Systems |
CN101235284B (zh) * | 2008-02-04 | 2011-11-09 | 厦门大学 | 溶胶-凝胶固定水溶性量子点的方法 |
EP2096151A1 (en) | 2008-02-27 | 2009-09-02 | Degussa Novara Technology S.p.A. | Composition |
CN102015934A (zh) * | 2008-03-03 | 2011-04-13 | 佛罗里达大学研究基金公司 | 纳米颗粒溶胶-凝胶复合杂化透明涂层材料 |
DE102008031360A1 (de) | 2008-07-04 | 2010-01-14 | K+S Ag | Verfahren zum Herstellen von aushärtbaren Massen, enthaltend grob- und/oder nanoskalige, gecoatete, desagglomerierte und bevorzugt funktionalisierte Magnesiumhydroxidpartikel, sowie von ausgehärteten thermoplastischen oder duroplastischen Polymeren bzw. Kompositen, enthaltend desagglomerierte und homogen verteilte Magnesiumhydroxidfüllstoffpartikel |
US8728579B2 (en) * | 2008-10-31 | 2014-05-20 | University Of Florida Research Foundation, Inc. | Transparent inorganic-organic hybrid materials via aqueous sol-gel processing |
JP5072820B2 (ja) * | 2008-12-22 | 2012-11-14 | 日東電工株式会社 | シリコーン樹脂組成物 |
CA2754594C (en) * | 2009-03-13 | 2018-05-15 | Akzo Nobel Chemicals International B.V. | Aqueous silanized silica dispersion |
CN101941001B (zh) | 2009-07-03 | 2014-04-02 | 3M创新有限公司 | 亲水涂层、制品、涂料组合物和方法 |
DE102010030111A1 (de) | 2009-08-11 | 2011-02-17 | Evonik Degussa Gmbh | Wässrige Silansysteme für den Blankkorrosionsschutz und Korrosionsschutz von Metallen |
JP5182535B2 (ja) * | 2010-05-28 | 2013-04-17 | 信越化学工業株式会社 | 水性シロキサン塗料組成物及びその製造方法、表面処理剤、表面処理鋼材並びに塗装鋼材 |
WO2012024005A2 (en) * | 2010-07-09 | 2012-02-23 | Luna Innovations Incorporated | Coating systems capable of forming ambiently cured highly durable hydrophobic coatings on substrates |
EP2598254B1 (en) | 2010-07-28 | 2017-04-26 | Basf Se | Use of perlite based effect pigments for finishes with antique, or patina appearance |
DE102011101179A1 (de) | 2011-05-11 | 2012-11-15 | Fachhochschule Kiel | Beschichtungen für Polymere |
US20130034722A1 (en) * | 2011-08-01 | 2013-02-07 | Intermolecular, Inc. | Sol-gel based antireflective coatings using particle-binder approach with high durability, moisture resistance, closed pore structure and controllable pore size |
DE102012111836A1 (de) * | 2012-12-05 | 2014-06-05 | Schott Ag | Beschichtungsmaterial und Substrat mit einer semitransparenten Beschichtung |
EP3510118A4 (en) * | 2016-09-09 | 2019-09-04 | Mirapakon Inc. | HYDROPHOBER XEROGEL FILM AND METHOD FOR USE THEREOF TO REDUCE CONDENSATION |
CN109433174B (zh) * | 2018-10-16 | 2021-11-12 | 上海申得欧有限公司 | 硅酸盐包覆二氧化钛光触媒粉体及其制备方法 |
JP7467866B2 (ja) | 2019-10-02 | 2024-04-16 | 住友ゴム工業株式会社 | 親水性基材及び親水性基材作製方法 |
CN110698679A (zh) * | 2019-11-04 | 2020-01-17 | 哈尔滨工业大学 | 一种主链掺锆的绿色环保耐高温杂化有机硅树脂及其制备方法 |
DE102020125920B4 (de) | 2020-10-04 | 2022-05-19 | Elke Münch | Durch eine Temperaturdifferenz betreibbare, mobile Vorrichtung zur Reinigung und Desinfizierung von Raumluft |
EP3978038A1 (de) | 2020-10-04 | 2022-04-06 | Elke Münch | Durch eine temperaturdifferenz betreibbare, mobile vorrichtung zur reinigung und desinfizierung von raumluft und eine testvorrichtung hierfür |
DE102020125919B4 (de) | 2020-10-04 | 2022-06-23 | Elke Münch | Durch eine Temperaturdifferenz betreibbare, mobile Vorrichtung zur Reinigung und Desinfizierung von Raumluft und eine Testvorrichtung hierfür |
EP3981442A1 (de) | 2020-10-04 | 2022-04-13 | Elke Münch | Durch eine temperaturdifferenz betreibbare, mobile vorrichtung zur reinigung und desinfizierung von raumluft |
DE102020125922B4 (de) | 2020-10-04 | 2022-06-02 | Elke Münch | Mobile Vorrichtung zur Reinigung und Desinfizierung von Raumluft |
DE102020125921B4 (de) | 2020-10-04 | 2022-05-19 | Elke Münch | Durch eine Temperaturdifferenz betreibbare, mobile Vorrichtung zur Reinigung und Desinfizierung von Raumluft |
DE102022001868A1 (de) | 2022-05-29 | 2023-11-30 | Elke Hildegard Münch | Biozid beschichtete, retikulierte Schaumstoffe aus Kunststoff, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1963439A1 (de) * | 1969-12-18 | 1971-06-24 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur Herstellung poroeser Kieselsaeure |
US3707397A (en) * | 1971-02-26 | 1972-12-26 | Owens Illinois Inc | Process for providing uniform organopolysiloxane coatings on polycarbonate and acrylic surfaces |
US3834924A (en) * | 1972-06-08 | 1974-09-10 | Huber Corp J M | Process for manufacturing surface modified inorganic pigments |
US4455205A (en) * | 1981-06-01 | 1984-06-19 | General Electric Company | UV Curable polysiloxane from colloidal silica, methacryloyl silane, diacrylate, resorcinol monobenzoate and photoinitiator |
JPS60177079A (ja) * | 1984-02-23 | 1985-09-11 | Toshiba Silicone Co Ltd | 被覆用組成物 |
JPS62256874A (ja) * | 1986-05-01 | 1987-11-09 | Toshiba Silicone Co Ltd | 紫外線硬化型組成物の製造方法 |
US4799963A (en) * | 1986-10-03 | 1989-01-24 | Ppg Industries, Inc. | Optically transparent UV-protective coatings |
US4814017A (en) * | 1986-10-03 | 1989-03-21 | Ppg Industries, Inc. | Aqueous organoalkoxysilane/metal oxide sol-gel compositions |
EP0486469B2 (en) * | 1986-10-03 | 2000-06-21 | PPG Industries Ohio, Inc. | Organic-inorganic hybrid polymer |
IL84025A0 (en) * | 1986-10-03 | 1988-02-29 | Ppg Industries Inc | Organosiloxane/metal oxide coating compositions and their production |
JPH02175732A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-09 | Central Glass Co Ltd | 被覆用組成物、それを用いたプラスチック成形品およびその製造法 |
US5164003A (en) * | 1990-03-28 | 1992-11-17 | Ceram Tech International, Ltd. | Room temperature curable surface coating and methods of producing and applying same |
AU653825B2 (en) * | 1991-06-25 | 1994-10-13 | Itoh Optical Industrial Co., Ltd. | Coating composition for optical plastic moldings |
JP2520994B2 (ja) * | 1991-09-13 | 1996-07-31 | 松下電工株式会社 | 反射鏡の製造方法 |
JPH05170486A (ja) * | 1991-12-25 | 1993-07-09 | Central Glass Co Ltd | ガラス表面用撥水処理剤およびその撥水処理ガラス |
US5307438A (en) * | 1992-08-13 | 1994-04-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Index matching compositions with improved DNG/DT |
US5873931A (en) * | 1992-10-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Coating composition having anti-reflective and anti-fogging properties |
JP3545439B2 (ja) * | 1993-10-13 | 2004-07-21 | 三菱レイヨン株式会社 | 紫外線硬化性被覆材の製法及びそれを用いた耐摩耗性被覆材組成物 |
JPH07207190A (ja) * | 1994-01-24 | 1995-08-08 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 紫外線硬化性ハードコーティング剤及びプラスチック製光学物品 |
JPH08311401A (ja) * | 1995-03-01 | 1996-11-26 | Seiko Epson Corp | コーティング用組成物およびその製造方法および積層体 |
US5789476A (en) * | 1995-03-03 | 1998-08-04 | Seiko Epson Corporation | Film-forming coating solution and synthetic resin lens |
US5928127A (en) * | 1995-04-03 | 1999-07-27 | Asahi Glass Company Ltd. | Alumina sol and recording sheet |
JPH09194760A (ja) * | 1996-01-23 | 1997-07-29 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 被覆材組成物、それを用いてなる機能性に優れた物品、及びプラスチックレンズ |
JPH1025431A (ja) * | 1996-07-11 | 1998-01-27 | Kawaken Fine Chem Co Ltd | 無機塗料バインダー組成物および無機塗料組成物 |
JPH1025451A (ja) * | 1996-07-12 | 1998-01-27 | Shima Boeki Kk | 紫外線吸収性被覆用組成物 |
US5814137A (en) * | 1996-11-04 | 1998-09-29 | The Boeing Company | Sol for coating metals |
DE19708285C2 (de) * | 1997-02-28 | 2002-04-11 | Excor Korrosionsschutz Technol | Korrosionsinhibierendes Kompositmaterial, Verfahren zu dessen Herstellung und seine Verwendung |
US5789082A (en) * | 1997-03-12 | 1998-08-04 | The Walman Optical Company | Thermosetting coating composition |
DE19737328A1 (de) * | 1997-08-27 | 1999-03-04 | Bayer Ag | Beschichtungszusammensetzungen auf der Basis von Epoxidgruppen enthaltenden Silanen |
US6245833B1 (en) * | 1998-05-04 | 2001-06-12 | 3M Innovative Properties | Ceramer composition incorporating fluoro/silane component and having abrasion and stain resistant characteristics |
JP3982933B2 (ja) * | 1999-01-14 | 2007-09-26 | 触媒化成工業株式会社 | 被膜形成用塗布液および合成樹脂製レンズ |
-
1998
- 1998-04-09 DE DE19816136A patent/DE19816136A1/de not_active Ceased
-
1999
- 1999-04-08 AT AT99920614T patent/ATE282058T1/de active
- 1999-04-08 AU AU38138/99A patent/AU3813899A/en not_active Abandoned
- 1999-04-08 EP EP99920614.7A patent/EP1086162B2/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 CZ CZ20003683A patent/CZ20003683A3/cs unknown
- 1999-04-08 HU HU0101496A patent/HUP0101496A3/hu unknown
- 1999-04-08 ES ES99920614.7T patent/ES2232135T5/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 JP JP2000543519A patent/JP4597368B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 CN CNB998063444A patent/CN1145659C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 DE DE59911048T patent/DE59911048D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 PL PL343590A patent/PL213503B1/pl unknown
- 1999-04-08 CA CA002327312A patent/CA2327312A1/en not_active Abandoned
- 1999-04-08 WO PCT/EP1999/002396 patent/WO1999052964A2/de active IP Right Grant
- 1999-04-08 BR BR9909521-1A patent/BR9909521A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-04-08 MX MXPA00009735A patent/MXPA00009735A/es unknown
- 1999-04-08 US US09/647,971 patent/US6620514B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1999-04-08 KR KR1020007011168A patent/KR20010042528A/ko not_active Application Discontinuation
-
2000
- 2000-09-28 NO NO20004877A patent/NO331461B1/no not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE282058T1 (de) | 2004-11-15 |
CN1145659C (zh) | 2004-04-14 |
NO20004877L (no) | 2000-09-28 |
PL213503B1 (pl) | 2013-03-29 |
CZ20003683A3 (cs) | 2001-01-17 |
CA2327312A1 (en) | 1999-10-21 |
WO1999052964A3 (de) | 2000-01-20 |
EP1086162B1 (de) | 2004-11-10 |
PL343590A1 (en) | 2001-08-27 |
HUP0101496A2 (hu) | 2001-08-28 |
BR9909521A (pt) | 2000-12-12 |
NO20004877D0 (no) | 2000-09-28 |
JP2002511509A (ja) | 2002-04-16 |
AU3813899A (en) | 1999-11-01 |
ES2232135T5 (es) | 2014-02-24 |
WO1999052964A2 (de) | 1999-10-21 |
DE59911048D1 (de) | 2004-12-16 |
EP1086162B2 (de) | 2013-11-20 |
CN1301277A (zh) | 2001-06-27 |
KR20010042528A (ko) | 2001-05-25 |
US6620514B1 (en) | 2003-09-16 |
MXPA00009735A (es) | 2002-04-24 |
DE19816136A1 (de) | 1999-10-14 |
ES2232135T3 (es) | 2005-05-16 |
EP1086162A2 (de) | 2001-03-28 |
HUP0101496A3 (en) | 2002-02-28 |
JP4597368B2 (ja) | 2010-12-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO331461B1 (no) | Nanostrukturerte formlegemer og sjikt og fremgangsmate for fremstilling av disse ved anvendelse av stabile, vannloselige forlopere | |
JP5635402B2 (ja) | コーティング液、硬化膜及び樹脂積層体並びに該硬化膜及び樹脂積層体の製造方法 | |
EP1734016B1 (en) | Silica and silica-like films and method of production | |
JP4955551B2 (ja) | メソポーラス層を被覆した基材の生産方法およびその眼科用光学部品への利用 | |
CN103502333A (zh) | 有机树脂层压板 | |
WO2007099784A1 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
WO2006011605A1 (ja) | 防曇性物品およびその製造方法 | |
CA2435201A1 (en) | Method for producing sol-gel condensates based on polyfunctional organosilanes and use thereof | |
WO2009099106A1 (ja) | コーティング液、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP2001164117A (ja) | 高屈折率組成物および反射防止積層体 | |
JP2009185196A (ja) | コーティング液、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP2510365B2 (ja) | セリア含有耐摩耗性シロキサン被覆及びその製法 | |
JP5337360B2 (ja) | コーティング組成物、硬化膜及び樹脂積層体 | |
JP2007091873A (ja) | 撥水性低屈折率コーティング用組成物 | |
AU2006202314B2 (en) | Silica and silica-like films and method of production | |
JPH08309934A (ja) | 表面を保護されたプラスチック成形体及びその製造方法 | |
JP4919377B2 (ja) | コーティング用組成物 | |
JPH0911405A (ja) | 表面を保護されたプラスチック成形体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MK1K | Patent expired |