NO174604B - Fremgangsmaate ved fremstilling av relief-former - Google Patents

Fremgangsmaate ved fremstilling av relief-former Download PDF

Info

Publication number
NO174604B
NO174604B NO870012A NO870012A NO174604B NO 174604 B NO174604 B NO 174604B NO 870012 A NO870012 A NO 870012A NO 870012 A NO870012 A NO 870012A NO 174604 B NO174604 B NO 174604B
Authority
NO
Norway
Prior art keywords
layers
relief
linked
cross
procedure
Prior art date
Application number
NO870012A
Other languages
English (en)
Other versions
NO174604C (no
NO870012D0 (no
NO870012L (no
Inventor
Gerhard Hoffmann
Karl-Rudolf Kurtz
Original Assignee
Basf Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6291417&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=NO174604(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Basf Ag filed Critical Basf Ag
Publication of NO870012D0 publication Critical patent/NO870012D0/no
Publication of NO870012L publication Critical patent/NO870012L/no
Publication of NO174604B publication Critical patent/NO174604B/no
Publication of NO174604C publication Critical patent/NO174604C/no

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

Oppfinnelsen vedrører en fremgangsmåte ved fremstilling
av reliefftrykkformer kryssbundet ved fotopolymerisering gjennom billedmessig belysning av sjikt som er kryssbindbare gjennom fotopolymerisasjon med aktinisk lys og utvasking av de ikke-kryssbundede andeler av sjiktene med fremkallingsløs-ninger, hvorunder disse sjikt hovedsakelig inneholder A) ett eller flere bindemidler på basis av elastomere poly-mer isater, B) én eller flere hermed forenelige fotopolymeriserbare monomerer, og
C) én eller flere fotoinitiatorer.
En slik fremgangsmåte er generelt kjent hvis man ser bort fra forbedringen ifølge oppfinnelsen. Normalt anvendes som fremkaller-løsningsmiddel
a) klorete hydrokarboner såsom kloroform, trikloretylen, tetrakloretylen eller trikloretan som sådanne eller som
blandinger med lavere alkoholer, såsom n-butanol;
b) mettede cykliske og acykliske hydrokarboner såsom petroleter, heksan, heptan, oktan, cykloheksan eller
metylcykloheksan; c) aromatiske hydrokarboner såsom benzen, toluen eller xylen; eller d) lavere alifatiske ketoner såsom aceton, metyletylketon eller metylisobutylketon.
Ulempen ved de kjente fremgangsmåter er at man må la fremkallerløsningsmidlene virke inn lenge for å oppnå en tilfredsstillende utvaskingsvirkning. Derved sveller relieff-formene ofte opp eller deler av relieffen blir undervasket og eventuelt mekanisk løst fra. Dessuten er det ved anvendelse av vanlige, mettede eller aromatiske hydrokarboner og ketoner nødvendig med lange tørketider, og ofte kommer det derunder til den fryktede "positive innvendige oppstilling", dvs.
finere bildeelementer rager ut fra fulltoneflåtenes nivå.
Ikke minst har disse løsningsmidler lave flammepunkter på mindre enn 21°C, slik at fremgangsmåten bare kan utføres i spesielle eksplosjonsbeskyttede anlegg. Ved anvendelsen av klorerte hydrokarboner fører deres toksisitet til sunnhets-problemer. Dertil har relieff-former som er blitt fremstilt ved hjelp av disse løsningsmidler en utilfredsstillende flan-ke-oppbygning.
Dertil er det kjent fra US patent nr. 1.751.908, 1.587.272, 1.574.357, 1.587.265, tysk utlegningsskrift 40.724, fransk publikasjon nr. 47.412 og US patent 1.587.273, samt publikasjonen til 0. Kriiger "Die lithographischen Verfahren und der Offsetdruck", 2. utg., 1929, side 86, linje 3 til 23, og publikasjonen "Fortschritte der chemischen Forschung", bind 13/2, 1969, side 229. siste avsnitt 2, å anvende bensin, nafta og terpentin, hvilke hovedsakelig inneholder monoterpener såsom a- og jø-pinen, som fremkallingsløsningsmiddel for fremstilling av relieff-former av fotopolymeriserbare sjikt. Imidlertid dreier det seg ved disse sjikt ikke om slike av den innledningsvis nevnte art, hvilke hovedsakelig inneholder bestanddelene A, B og C.
Oppgaven for foreliggende oppfinnelse var å finne en fremgangsmåte for fremstilling av relieff-former som var kryssbundet ved fotopolymerisering, ved hvilken utvaskningstiden og tørketiden er tydelig kortere i forhold til de kjente fremgangsmåter, relieff-formene hverken blir oppsvullet eller undervasket, og ingen "positiv innvendig oppstilling" inntref-fer, og som kan drives uten komplisert eksplosjonsbeskyttelse, og som gir relieff-former med forbedret relieffdybde og forbedret flankeoppbygning.
Som følge av dette fant man en fremgangsmåte av den innledningsvis nevnte art som er karakterisert ved at man anvender fremkallerløsningsmider bestående av én eller flere monoterpener.
Noen eksempler på monoterpener er
samt blandinger av disse, hvorunder D- og L-limonen eller "diterpen" er særlig foretrukket, og blandingene av isomerer av limonen som utvinnes fra appelsinskall er spesielt foretrukket. De sistnevnte kalles i det følgende for korthets skyld "limonen".
Metodikkmessig byr fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen ikke på noen særtrekk, dvs. man fremkaller de på vanlig måte billedmessig belyste sjikt ved utvasking av de ikke-formettede andeler av sjiktene med fremkallingsløsningsmidlene som skal anvendes ifølge oppfinnelsen i de kjente sprøyte-, børste- og gnivaskere ved temperaturer fra 20 til 60°C, spesielt 25-35°C. Derunder viser det seg at de optimale utvaskingstider for fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er tydelig kortere enn de kjente fremgangsmåter, og at det derunder - i motsetning til de kjente fremgangsmåter - ved overskridelse av de optimale utvaskingstider ikke fører til såkalt undervasking, dvs. utbrekking av materiale fra relieff-formen ved mekanisk inn-virkning (kantutbrudd). Med optimal utvaskingstid menes derunder den tid hvori man ved utvasking får nettopp den maksimale relieffdybde. Samtidig fås relieff-former med sterkt utpreget dybde og meget god flankeoppbygning, hvorunder overflatene at disse relieff-former på overraskende måte er tydelig glattere og jevnere enn overflaten av de relieff-former som er fremstilt etter de kjente fremgangsmåter. Like-ledes er svellingen av bildeelementene tydelig mindre enn ved anvendelsen av vanlige fremkallingsløsningsmidler. En ytterligere overraskende fordel ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er at det - selv ved langtidig drift - ikke blir avsetninger i vaskerne.
Ved utførelsen av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen har man før fremkallingstrinnet en kjent og vanlig billedmessig belysning av sjiktene som kan kryssbindes ved fotopolymerisasjon med aktinisk lys med en bølgelengde X på 230-450, spesielt 3.00-450nm. Egnede lyskilder for dette er for eksempel solstråling, vanlige UV-fluorescensrør, kvikksølvmiddel-, -høy- og lav-trykkstrålere, superaktiniske lysstoffrør, xenon-impulslamper, lamper méd metalljodider eller kullbuelamper.
Etter fremkallingstrinnet følger i det videre forløp av fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen tørking av relieff-formene. Deretter kan relieff-formene også halogeneres i bad som inneholder eller gir halogen, ettervaskes i reduserende bad og tørkes på nytt. Alternativet til eller etter denne behandlin-gen kan relieff-formene belyses over hele overflaten med aktinisk lys.
En videre fordel ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen er at den kan utføres på tallrike kjente sjikt som kan kryssbindes ved fotopolymerisasjon med godt resultat. Slike kjente sjikt inneholder hovedsakelig: a) ett eller flere bindemidler på grunnlag av elastomere polymerisater, b) én eller flere fotopolymeriserbare monomerer som er forenlige med disse, og
c) én eller flere fotoinitiatorer.
De kan imidlertid også inneholde ytterligere kjente
tilsetninger såsom inhibitorer for termisk initiert polymeri-sering, farvestoffer, pigmenter, fotokrome stoffer, Lichthof-beskyttelsesmidler, mykningsmidler, antioksydanter, anti-ozonanter, midler for bedring av relieff-strukturen, kryss-
bindingshjelpemidler, flussmidler, skillemidler, fyllmidler og/eller forsterkerfyllstoffer i virksomme mengder.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen lar seg utføre med meget godt resultat på sjikt hvilke som bindemiddel A inneholder polymerisater av konjugerte alifatiske diener med 4-5 karbonatomer. Fordelaktige bindemidler A er for eksempel * naturgummi, homoplymerisatene av butadien eller isopren, kopolymerisatene av butadien med isopren eller kopolymerisatene av butadien og/eller isopren med andre kopolymeriser-bare monomerer såsom styren, a-metylstyren, vinyltoluen, akrylnitril eller (met)akrylsyrealkylestere med 1-8 C-atomer i alkylgruppen, for eksempel nitrilgummier ifølge EP-A-64 564, statistiske styren/butadien-, -/isopren- og -/isopren/butadien-kopolymerisater med et innhold av innpolymerisert styren på 10-50 vekt% eller blokk-kopolymerisater av styrenmonomerer og butadien og/eller isopren ifølge tysk uti.skrift 22 15 090, tsyk off.skrift 24 56 439 og tysk off.skrift 29 42 183. Blant disse er blokk-kopolymerisatene ifølge tysk off.skrift 29 42 183 spesielt fordelaktig.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen lar seg utføre med ut-merket resultat på sjikt, hvilke som bindemiddel A inneholder elastomere treblokk-kopolymerisater av typen X-Y-Z ifølge tysk off.skrift 29 4 2 183, hvori X er en termoplastisk, ikke elas-tisk styren-polymerisatblokk, Y en elastomer butadien- og/eller isopren-polymerisat-blokk og Z er en fra Y forskjellig elastomer polymerisatblokk av butadien og/eller isopren samt eventuelt styren.
Fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen kan utføres på sjiktene som er kryssbindbare ved fotopolymerisasjon som sådanne eller på kryssbindbare sjikt som foreligger i forbindelse med ytterligere egnede flateformede sjikt. Forbindelser av denne type kalles generelt "flersjiktelementer" (saml. tysk off.skrift 29 42 183, tysk off.skrift 24 44 118).
Reliefformene som kan oppnås ved fremgangsmåten ifølge oppfinnelsen, kan anvendes som dekorative overflater, som foto-resistmønster eller som flat-, høy- og fleksotrykkformer. Spesielt egner de seg for fleksotrykkformer for endeløst trykk.
Eksempler og sammenlignings! orsøk
I de følgende eksempler og sammenligningsforsøk ble tyk-kelsessvelling bestemt i % med gravimetriske målinger. Kvaliteten til flankeoppbygningen av bildeelementene ble bedømt vi-suelt ved hjelp av et mikroskop; kriteriene var steilhet og underhulningsgraden av flankene samt graden av kantenes avrunding .
Eksempel 1
Det ble fremstilt en kommersiell fleksotrykkplate på vanlig måte. Derunder tjente en 125 nm tykk polyetylentereftalatfolie som bærerfolie, som påføring av det fotokryssbindbare sjikt med et 0,3 nm tykt polyuretan-heftelakksjikt. Sjiktet som kunne kryssbindes ved fotopolymerisering hadde en tykkelse på 700 Mm og innholdt A) 90,917 vekt% blokk-kopolymerisat XYZ med et vis-kositetstall på 164,9 ml/g og en totalmolmasse på 190 000, bestående av i forhold til XYZ 10 vekt% polystyren som X-blokk, 70 vekt% polyisopren med en glasstemperatur Tg fra -53°C som Y-blokk og 20 vekt% polyisopren med et innhold på 53 vekt% 3,4-strukturer og en glasstemperatur Tg fra +10°C som Z-blokk, B) 7,268 vekt% heksandiol-1,6-diakrylat, C) 1,350 vekt% benzil-dimetylacetal og som tilsetningsstoffer 0,457 vekt% 2,6-di-tert.-butyl-p-kresol og 0,008 vekt% løsningsmiddel 'Black 3 (CI. 26 150). Som beskyttelsessjikt anvendtes et 2 pro. tykt sjikt av cyklogummi med høy cykliseringsgrad.
Denne fleksotrykkplaten ble først belyst over hele flaten i 2 minutter på baksiden i en rørbelyser, deretter billedmessig belyst gjennom et negativt bilde lagt på beskyttelsessjiktet i 22 minutter og ved 30°C fremkalt i en ikke eksplosjonsbeskyttet gnivasker med limonen. Den optimale utvaskningstiden var 4 minutter. Flankeoppbygningen av bilde-elementene var perfekt ut-formet, og en avrunding av relieffkantene og en underhulning av flankene kunne ikke observeres. TykkeIsessve11ingen var 1,65 %.
Fleksotrykkformen ble tørket i 2 timer ved 80°C, lagret 15 timer ved romtemperatur, fikk gjennomgå en vanlig etterbe-handling med en vandig bromløsning og tørket på nytt.
Den etterbehandlede fleksotrykkformen ble oppspent på
en trykksylinder i et fleksotrykkverk og gav utmerkede trykkre-sultater som ikke hadde noen informasjonstap i forhold til nega-tivbildet.
Eksempel 2
Man gikk frem som i eksempel 1, men benyttet bare i stedet for den ikke eksplosjonsbeskyttede gnidningsvaskeren en ikke eksplosjonsbeskyttet sprøytevasker. Den optimale utvaskningstiden var 4,5 minutter. Kvaliteten av flankeoppbygningen, tykkelsessvellingen og kvaliteten av trykkresultatene var iden-tisk med dem i eksempel 1.
Sammenligningsforsøk 1
Man gikk frem som i eksempel 1, men anvendte bare i stedet for limonen tetrakloretylen. Den optimale utvaskningstiden var 6,5 minutter, tykkelsessvellingen lå på 3 %.
Sammenligningsforsøk 2
Man gikk frem som i eksempel 1, men anvendte i stedet for limonen cykloheksan, og i stedet for den ikke eksplosjonsbeskyttede gnidningsvasker, måtte man nødvendigvis anvende en gnidningsvasker med komplisert eksplosjonsbeskyttelse. Den optimale utvaskningstiden var 6 minutter, tykkelsessvellingen lå på 6 %. Flankeoppbygningen av bildeelementene var utilfredsstillende (underhuling, avrundede kanter).
Eksempel 3
Man gikk frem som i eksempel 1. Vaskeren inneholdt 90 1 limonen, hvormed til sammen 50 billedmessig belyste fleksotrykk-plater med format 200 x 300 mm og en ikke-kryssbundet andel på 78 % ble fremkalt. I vaskeren ble det ikke fastslått noen av-leiringer og tilsmussinger.
Sammenligningsforsøk 3
Man gikk frem som i eksempel 3, bare at man i stedet for limonen anvendte tetrakloretylen. Derved viste det seg i vaskeren på øvre kant av badevæsken og på børstene avsetninger og tilsmussinger.
Eksempel 4
Man gikk frem som i eksempel 1, men vasket 8 minutter len-ger, mens den optimale utvaskningstid tilsvarte 4 minutter. Likevel ble det ingen overvaskning.
Sammenligningsforsøk 4
Man gikk frem som i eksempel 4, men anvendte tetrakloretylen i stedet for limonen. Derved fikk man overvaskning, som fremfor alt viste seg ved kantutbrudd. Videre var flankene av frittstående relieffpunkter underhult.

Claims (2)

1. Fremgangsmåte ved fremstilling av reliefftrykkformer kryssbundet ved fotopolymerisering gjennom billedmessig belysning av sjikt som er kryssbindbare gjennom fotopolymerisasjon med aktinisk lys og utvasking av de ikke-kryssbundede andeler av sjiktene med fremkallingsløsninger, hvorunder disse sjikt hovedsakelig inneholder A) ett eller flere bindemidler på basis av elastomere poly-mer isater, B) én eller flere hermed forenelige fotopolymeriserbare monomerer, og C) én eller flere fotoinitiatorer, karakterisert ved at man for dette anvender fremkallerløsninger bestående av én eller flere monoterpener.
2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det anvendes frem-kallingsløsningsmidler hvilke som den vesentlige bestanddel inneholder limonen.
NO870012A 1986-01-04 1987-01-02 Fremgangsmåte ved fremstilling av relief-former NO174604C (no)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863600116 DE3600116A1 (de) 1986-01-04 1986-01-04 Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen

Publications (4)

Publication Number Publication Date
NO870012D0 NO870012D0 (no) 1987-01-02
NO870012L NO870012L (no) 1987-07-06
NO174604B true NO174604B (no) 1994-02-21
NO174604C NO174604C (no) 1994-06-01

Family

ID=6291417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NO870012A NO174604C (no) 1986-01-04 1987-01-02 Fremgangsmåte ved fremstilling av relief-former

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4806452A (no)
EP (1) EP0228676B2 (no)
JP (1) JPH0769617B2 (no)
DE (2) DE3600116A1 (no)
DK (1) DK1187A (no)
ES (1) ES2021586T5 (no)
FI (1) FI87119C (no)
NO (1) NO174604C (no)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4847182A (en) * 1987-09-03 1989-07-11 W. R. Grace & Co. Method for developing a photopolymer printing plate using a developer comprising terpene hydrocarbons
DE3807929A1 (de) * 1988-03-10 1989-09-28 Basf Ag Verfahren zur herstellung von reliefformen
IL89372A0 (en) * 1988-07-28 1989-09-10 M & T Chemicals Inc Aqueous developer composition for solvent developable photoresist coatings
JP2566326B2 (ja) * 1988-08-23 1996-12-25 イー・アイ・デュポン・ドゥ・ヌムール・アンド・カンパニー フレクソグラフ用印刷レリーフの作成方法
DE3836404A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
DE3836403A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US5204227A (en) * 1990-05-10 1993-04-20 3D Agency, Inc. Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor
DE4020374A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
US5252432A (en) * 1990-06-27 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Production of photopolymeric flexographic relief printing plates
DE4022221A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-23 Basf Magnetics Gmbh Magnetband mit schleifmittel
JP2692716B2 (ja) * 1991-03-14 1997-12-17 東京応化工業株式会社 フレキソ印刷版用現像液
JPH0566570A (ja) * 1991-09-06 1993-03-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> レジスト現像液およびパタン形成方法
JPH05249695A (ja) * 1991-11-15 1993-09-28 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物の現像剤及びそれを用いた製版方法
WO1999035538A1 (en) 1998-01-09 1999-07-15 Nupro Technologies, Inc. Developer solvent for photopolymer printing plates and method
ITMI991378A1 (it) * 1999-06-21 2000-12-21 Chimeko S R L Trade Chimico Ec Solvente di lavaggio per rimuovere da uno strato di fotopolimero esposto alla luce la parte non polimerizzata
US6162593A (en) * 1999-10-26 2000-12-19 Wyatt; Marion F. Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
JP4623452B2 (ja) 2000-02-09 2011-02-02 旭化成イーマテリアルズ株式会社 赤外線感受性層を形成する為の塗工液
US6582886B1 (en) 2001-11-27 2003-06-24 Nupro Technologies, Inc. Developing solvent for photopolymerizable printing plates
US7413849B2 (en) * 2004-09-10 2008-08-19 Nupro Technologies Substituted benzene developing solvent for photopolymerizable printing plates
US7326353B2 (en) * 2001-11-27 2008-02-05 Nupro Technologies Methods for reclaiming developing solvents
US20060040218A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Wyatt Marion F Terpene ether solvents
JP4980038B2 (ja) 2006-09-20 2012-07-18 東京応化工業株式会社 保護膜形成用材料及びホトレジストパターンの形成方法
US20100068651A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-18 Bradford David C Developing solution for flexographic printing plates
US8349185B2 (en) 2010-10-20 2013-01-08 E I Du Pont De Nemours And Company Method for rebalancing a multicomponent solvent solution
US9897921B2 (en) 2014-08-22 2018-02-20 Nsx Operating Co. Llc Compositions comprising mineral spirits and methods related thereto
US11175586B2 (en) 2017-05-26 2021-11-16 Nsx Managemen T Group, Llc Platewash composition

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE62662C (de) * J. NORTH in New-York, V. St. A Herstellung von Photographien mittels Guajaretinsäure als lichtempfindlicher Substanz
FR474142A (fr) * 1913-11-05 1915-02-09 Francisque Marius Rambaud Procédé photolithographique, sans négatif, pour reports directs
DE40774C (de) * UniVERSAL-FARBEN-COMPAGNIE in New-York Verfahren zur Herstellung von Photögraphie- und Lichtbildern
US1574357A (en) * 1922-03-08 1926-02-23 Wadsworth Watch Case Co Photographic media and process
BE332468A (no) * 1922-11-18
US1575143A (en) * 1922-11-18 1926-03-02 Wadsworth Watch Case Co Photographic sensitizer
US1587273A (en) * 1923-01-19 1926-06-01 Wadsworth Watch Case Co Synthetic resins photographic process, media, and process of preparing same
US1587272A (en) * 1923-01-19 1926-06-01 Wadsworth Watch Case Co Synthetic resins, photographic process, photographic media, and method of preparing same
US1751908A (en) * 1926-12-16 1930-03-25 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
US1797210A (en) * 1926-12-16 1931-03-17 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
US1797211A (en) * 1926-12-16 1931-03-17 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
NL101499C (no) * 1951-08-20
JPS5151939A (ja) * 1974-10-31 1976-05-07 Canon Kk Saisenpataanyohotorejisutogenzoeki
JPS5182617A (ja) * 1975-01-17 1976-07-20 Canon Kk Saisenpataanyohotorejisutogenzohoho
JPS6021378B2 (ja) * 1978-04-24 1985-05-27 ジェイエスアール株式会社 現像液
DE2941960A1 (de) * 1979-10-17 1981-04-30 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten
JPS57164736A (en) * 1981-04-03 1982-10-09 Canon Inc Formation of pattern
DE3246403A1 (de) * 1982-12-15 1984-06-20 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verfahren zur entwicklung von reliefstrukturen auf der basis von strahlungsvernetzten polymervorstufen hochwaermebestaendiger polymere
SU1113774A1 (ru) * 1982-12-30 1984-09-15 МГУ им.М.В.Ломоносова Репрографический светочувствительный материал
US4535054A (en) * 1983-05-05 1985-08-13 Hughes Aircraft Company Wet process for developing styrene polymer resists for submicron lithography
US4665009A (en) * 1984-07-10 1987-05-12 Hughes Aircraft Company Method of developing radiation sensitive negative resists

Also Published As

Publication number Publication date
ES2021586T5 (es) 1995-08-16
NO174604C (no) 1994-06-01
FI870010A0 (fi) 1987-01-02
DK1187A (da) 1987-07-05
EP0228676A2 (de) 1987-07-15
US4806452A (en) 1989-02-21
EP0228676A3 (en) 1987-08-26
EP0228676B2 (de) 1995-05-10
NO870012D0 (no) 1987-01-02
DE3678127D1 (de) 1991-04-18
FI87119B (fi) 1992-08-14
JPH0769617B2 (ja) 1995-07-31
FI87119C (fi) 1992-11-25
NO870012L (no) 1987-07-06
DE3600116A1 (de) 1987-07-09
DK1187D0 (da) 1987-01-02
EP0228676B1 (de) 1991-03-13
JPS62160446A (ja) 1987-07-16
FI870010A (fi) 1987-07-05
ES2021586B3 (es) 1991-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO174604B (no) Fremgangsmaate ved fremstilling av relief-former
US4430417A (en) Photopolymerizable mixtures containing elastomeric block polymers and photocurable elements produced therefrom
JPH0237922B2 (no)
US4162919A (en) Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers
NO179959B (no) Fremgangsmåte for fremstilling av en fleksografisk reliefftrykkeplate
US6037101A (en) Photosensitive mixture and recording material produced therefrom
NO884068L (no) Fremgangsmaate for aa uklebriggjoere fleksografiske fotopolymertrykkplater.
US4847182A (en) Method for developing a photopolymer printing plate using a developer comprising terpene hydrocarbons
JPS55135838A (en) Surface treating method for photosensitive elastomer printing plate
US5135837A (en) Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance
US4933261A (en) Element having a layer containing a mixture which can be crosslinked by photopolymerization
CN102483589A (zh) 用于柔性版印刷版的显影溶液以及使用方法
DK144344B (da) Laminatplade til fremstilling af relieftrykkeforme
US7785765B2 (en) Photosensitive resin composition
JP2000206676A (ja) Uv硬化性印刷インキで印刷する凸版印刷版を製造するための光重合性印刷板
US4845013A (en) Aftertreatment of relief plates using solution comprising a carboxylic acid and a bromide
US6040116A (en) Photosensitive recording element having a recording layer and a top layer possessing different solubility properties, and its development in one operation
JPH02213844A (ja) 耐オゾン性フレキソ印刷版の製法
JP3049863B2 (ja) 感光性エラストマ―組成物の現像方法
CA2018954C (en) Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor
JP2772081B2 (ja) 耐オゾン性フレキソ印刷版を製版するための光重合性エラストマー混合物およびこの混合物を含有する記録材料
JPH0541979B2 (no)
CA2067608A1 (en) Solvent mixture for use in the development of negative-working recording layers
JP2001188356A (ja) 感光性エラストマー組成物の現像剤及びそれを用いた製版方法
JPH01296252A (ja) フレキソ印刷用版材及びその製版方法

Legal Events

Date Code Title Description
MM1K Lapsed by not paying the annual fees

Free format text: LAPSED IN JULY 2002