NO884068L

NO884068L - Fremgangsmaate for aa uklebriggjoere fleksografiske fotopolymertrykkplater.

Info

Publication number: NO884068L
Application number: NO88884068A
Authority: NO
Inventors: Joseph Whitton Gibson Jr
Original assignee: Du Pont
Priority date: 1987-09-14
Filing date: 1988-09-13
Publication date: 1989-03-15
Also published as: AR243027A1; JPH0524496B2; DK509188D0; AU606455B2; JPH01121858A; CA1334804C; DK509188A; US4806506A; EP0307835A2; AU2216488A; ES2032319T3; EP0307835B1; EP0307835A3; DE3868466D1; NO884068D0

Description

Oppfinnelsens område

Den foreliggende oppfinnelse angår lysømfintlige, fleksografiske, elastomere reliefftrykkplater og mer spesielt en fremgangsmåte for å redusere klebrigheten til slike plater når de utsettes for bestråling.

Oppfinnelsens bakgrunn

Relieffer, spesielt fleksografiske reliefftrykkplater som er nyttige for boktrykk, kan fremstilles fra fotopolymeriserbare elementer som omfatter 1) et lag av en oppløs-ningsmiddeloppløselig, lysfølsom, elastomer blanding som inneholder a) et termoplastisk, elastomert, polymert bindemiddel som omfatter polymeriserte konjugerte dienmonomerer, b) en tilsetningspolymeriserbar, ikke-gassformig, ethylenisk umettet forbindelse og c) en tilsetningpolymerisasjons-initiator eller -initiatorsystem som lar seg aktivere ved aktinisk stråling(2) en permanent festet understøttelse og, som regel, 3) et fjernbart dekkark.

Slike elementer og fremgangsmåte for anvendelse av

disse for fremstiling av reliefftrykkplater er velkjente innen den angjeldende teknikkens stand, se f.eks. Plambeck, U.S. patent- 2760863, Suzuki og medarbeidere U.S. patent 3556791, Varga og medarbeidere, U.S. patent 3798035,Kurka, U.S. patent 3825430, Recchia og medarbeidere, U.S. patent 3951657 . Det er ofte ønskelig å innføre en fle.ksibel, gjennomsikt polymerfilm mellom dekkarket og overflaten av den lysfølsomme lag for å beskytte diapositivet som anvendes for bildepåføring på elementet. Tykkelsen for det lys-ømf intlige lag som anvendes, er avhengig av tykkelsen som er ønsket for relieffbiidet. Tykkelsen for det fotopolymeriserbare lag vil i alminnelighet variere fra 0,127 til 6,35 mm eller derover, og lag innenfor dette tykkelsesområde vil bli anvendt for de fleste trykkplateanvendelser.

Fremgangsmåten for fremstilling av en fleksografisk trykkplate fra et fotopolymerelement innbefatter i alminnelighet trinnene med "tilbakeflashing", hovedbilde-eksponering, fremkalling eller "utvasking", tørking, uklebriggjørelse og eftereksponering.

"Tilbakerlashings"-eksponeringen kan anvendes for elementer med en gjennomsiktig understøttelse. For tilbakeflashing anvendes vanligvis en strålingskilde som avgir en hovedbølgelengde på ca. 360 nm. Den tjener til å sensitisere platen og fastslår dybden for platerelieffet. Tilbakeflashingseksponeringen gir fotopolymerfilmen en jevn og forholdsvis kortvarig eksponering gjennom understøttelsen, hvorved bindemidlet og monomeren blir lystverrbundet i det nedre område.

Dekkarket blir derefter fjernet, og et bildebærende diapositiv blir anbragt på fotopolymeroverflaten eller, fortrinnsvis, på en gjennomsiktig, fleksibel, beskyttende polymerfilm som ligger over fotopolymerlaget. For den hovedbildevise eksponering anvendes også generelt en kilde som er sterkt avgivende ved ca. 360 nm (340-400 nm) som lystverrbinder bindemiddel og monomer under dannelse av uoppløseliggjorte områder som strekker seg fra plateoverflaten til gulvet dannet ved tilbakeflashingseksponeringen.

Efter eksponeringene blir den fotopolymeriserbare blanding fjernet innen de ueksponerte områder ved behandling med et egnet oppløsningsmiddel som vil oppløse de ueksponerte områder av laget, men ikke de eksponerte, polymeriserte områder. Dette trinn er kjent som fremkalling eller "utvasking". Oppløsningsmiddelfremkalling kan utføres ved ca. 25°C, men de beste resultater blir av og til oppnådd når oppløs-ningsmidlet er varmt, f.eks. 30-60°C. Fremkallingstiden

kan varieres, men er fortrinnsvis innen området 5-25 minutter. Fremkalleren kan tilføres på en hvilken som helst bekvem måte, innbefattende neddykking, påsprøyting eller kost- eller rull-påføring. Kosting hjelper til med å fjerne de upolymeriserte eller ikke-tverrbundne porsjoner av blandingen. Utvasking blir ofte utført i en automatisk behandlingsenhet under anvendelse av oppløsningsmiddel og mekanisk børsting for å fjerne de ueksponerte deler av platen slik at et relieff blir tilbake som utgjør det eksponerte bilde og gulv.

Efter oppløsningsmiddelfremkallingen blir relieff-trykkplatene i alminnelighet tørket med trekkpapir eller ved stryking, og de blir derefter tørket i en ovn med tvungen luftsirkulasjon eller i en infrarød ovn. Tørketidene og temperaturene varierer, men tørking i 60-120 minutter ved 60°C er typisk. Høye temperaturer anbefales ikke da krymp-ning av underlaget kan forårsake registreringsproblemer. Ytterligere tørking i luft over natten (16 timer eller lengre) er vanlig. Oppløsningsmiddel vil fortsette å for-dampe fra trykkrelieffet under tørking ved omgivelsesbe-tingelser.

Selv efter tørking bibeholder imidlertid de fleksografiske fotopolymertrykkplater i alminnelighet i det minste en viss grad av overflateklebrighet, spesielt på relieffets "skuldre" og andre områder uten bilde. Denne overflateklebrighet er uønsket for et trykkrelieff. Ikke bare er det vanskelig å håndtere et klebrig trykkrelie ff, men slike plater har en tilbøyelighet til å klebe seg sammen når de forbigående stables på hverandre for lagring. Dessuten tar klebrige plater opp vanlig støv og smuss såvel som papir-støv når de anvendes for trykking på papir. Det er derfor vanlig praksis å anvende én eller flere for tiden kjente uklebriggjørende eller "finishing"-forholdsregler. For eksempel er det velkjent innen den angjeldende teknikk at kjemisk behandling med fortynnet vandig klor eller brom eller eksponering for stråling med kort bølgelengde kan redusere denne overflateklebrighet. Alle disse forholdsregler er imidlertid beheftet med forskjellige begrensninger eller mangler.

Foruten "finishing" for å fjerne overflateklebrighet blir de fleste fleksografiske trykkplater jevnt eftereksponert for å sikre at fototverrbindingsprosessen blir fullstendig og at platen vil holde seg stabil under trykking og lagring. For denne "eftereksponering" anvendes den samme ultrafiolette strålingskilde som for hovedeksponeringen (som regel bølgelengde av 300-420 nm) . Eftereskponering anvendes for å avslutte polymerisasjon og maksimalisere platehårdhet og -varighet, men den fjerner ikke klebrighet. Både uklebriggjørings- og eftereksponeringsmetoder blir derfor rutinemessig utført.

For flere forskjellige uklebriggjøringsprosesser anvendes en form av klor eller brom. Se f.eks. US patent 4400460 og vest-tysk patent 2823300. I US patent 4400459 beskrives en prosess for uklebriggjøring av lys følsomme, elastomere, fleksografiske trykkplater, hvor de fremkalte, tørkede overflater blir (1) eftereksponert for aktinisk stråling og (2) behandlet med en oppløsning av et alkalium-monopersulfat og et bromidsalt, idet (1) og (2) kan utføres i omvendt rekkefølge.

I USSR patent nr. 542167, oppfinnere Shur et al., beskrives en metode for å fremstille fotopolymertrykkplater, hvor trykkplaten efter fremkalling på ny eksponeres under et lag av beskyttende fluid for derved å eliminere klebrighet. Fluider som ikke reagerer med eller beskadiger det polymeriserte materiale kan anvendes, innbefattende vann. Når strålingskilder anvendes som gir kortbølget UV-stråling (under 250 nm), kan oppløsninger av mineral-salter (KNO^CuSO^etc.) såvel som farvestoffer anvendes som det beskyttende fluid for å skille de aktiniske soner fra andre soner av strålingen.

US patent 4202696 til Takahashi et al. beskriver en metode for å fjerne overflateklebrighet fra fotopolymertrykkplater ved å impregnere overflatelaget med en organisk carbonylforbindelse som er istand til å trekke bort et hydrogenatom, for derefter å bestråle platen med aktinisk stråling med bølgelengder av 200-300 nm for å eks sitere den organiske carbonylforbindelse. Betydelige mengder av denne bølgelengdebestråling kan oppnås fra kimdrepende lampervhøytrykkskvikksølvlamper, lavtrykkskvikksøllamper tungt hydrogenlamper.

I US patent 3506440 til Sugimoto beskrives en metode for å forsterke eksponerte og fremkalte lysfølsomme belegg som hovedsakelig inneholder polyvinylcinnamat, ved eftereksponering for ultrafiolett stråling med et bølgelengde-område av 2200-3400 A (220-340 nm). En steriliserende lampe som gir et sterkt lysspektrum med bølgelengden 2537Å hevdes å være spesielt foretrukken.

I europeisk publisert patentsøknad 0017927 til Nakamura et al. beskrives en fremgangsmåte for uklebrig-gjøring av lysfølsomme, elastomere trykkplater ved eksponer ing for lys med en bølgelengde som ikke er lengre enn 300 nm, f.eks. med "kimdrepende" lamper. Selv om den beskrevne fremgangsmåte gir et effektivt og bekevmt middel for uklebrig-gjøring av en fotopolymertrykkplate. som er blitt fremkalt eller "vasket ut" med et organisk oppløsningsmiddel eller en blanding av oppløsningsmidler, f.eks. perklorethylen/n-butanol eller triklorethylen, har det vist seg at denne fremgangsmåte ikke gir tilfredsstillende uklebriggjøring av en fotopolymerplate som er blitt fremkalt i en vandig eller halvvandig oppløsning. Det har imidlertid vist seg at endel gjenværende aprotisk organisk oppløsningsmiddel må være tilstede for å oppnå en tilfredsstillende uklebrig-gjøring, dvs. at overtørking av fotopolymerrelieffplater fremkalt i oppløsninger, som perklorethylen/n-butanol,

fører til uforutsibar og utilfredsstillende uklebriggjøring ved kort bølgelengdebestråling, som den som avgis av "kimdrepende lamper".

Den foreliggende oppfinnelse angår derfor en forbedret fremgangsmåte for uklebriggjøring av fotopolymertrykkrelieffer som er blitt bearbeidet i en vandig eller halvvandig fremkaller. Ved den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes også en fremgangsmåte ved hjelp av hvilken fotopolymertrykkrelieffer som er blitt bearbeidet i organisk oppløsningsmiddel, kan uklebriggjøres med større forutsibarhst og jevnhet under anvendelse av kimdrepende bestråling, og ved hjelp av hvilken en slik fremgangsmåte kan anvendes for overtørkede trykkrelieffer som er blitt bearbeidet med organisk oppløsningsmiddel.

Kortfattet oppsummering av oppfinnelsen

Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte

for uklebriggjøring av en bildevis eksponert og oppløsnings-middelfremkalt fleksografisk fotopolymerreliefftrykkplate fremstilt fra en lysfølsom elastomer blanding som inneholder en ethylenisk umettet, fotopolymeriserbar monomer eller oligomer med minst én ethylenisk umettet endegruppe,

en fotoinitiator eller et fotoinitiatorsystem og et opp-løsningsmiddeloppløselig elastomert bindemiddel som omfatter

polymeriserte konjugerte dienmonomerer, omfattende de trinn at

a) platen tørkes efter fremkalling

b) trykkoverflaten eksponeres for bestråling med bølge-lengder innen området 200-300 nm, og c) efter, samtidig med og/eller før eksponeringstrinnet b) eksponeres trykkoverflaten for aktinisk bestråling med

en bølgelengde som er lengre enn 300 nm, og fremgangsmåten er særpreget ved at den omfatter påføring av et aprotisk organisk oppløsningsmiddel på platens overflate efter det ovennevnte trinn a) og før det ovennevnte trinn b).

Detaljert beskrivelse av oppfinnelsen

Det finnes et stort antall forskjellige fotopolymeriserbare blandinger som er egnede for anvendelse for fleksografiske trykkplater. Disse blandinger kan generelt kate-goriseres som enten oppløselige i organiske oppløsnings-midler eller oppløselige i vann. Blandingene som er opp-løselige i organiske oppløsningsmidler, er oppløselige bare i organiske oppløsningsmidler eller i organiske oppløsnings-middelsystemer, mens blandingene som kan bearbeides vandig eller halvvandig kan fremkalles i vandige, halvvandige eller organiske oppløsningsmidler.

Fotopolymeriserbare lag av den type som er beskrevet

i Plambeck, US patent 2760863, Chen og Brennan, US patent 4323636, Toda et al. US patent 4045231, Heinz et al., US patent 4320188, fremstilles fra polymere komponenter som er oppløselige bare i organiske oppløsningsmidler. For eksempel beskrives i US patent 4323636 en lysfølsom blanding som inneholder en oppløsningsmiddeloppløselig, termoplastisk, elastomer blokkopolymer med minst to termoplastiske, ikke-elastomere polymerblokker med en glasstemperatur over 25°C og mellom de nevnte termoplastiske, ikke-elastomere blokker en elastomer polymerblokk med en glasstemperatur under 10°C. Andre fotopolymeriserbare blandinger som inneholder elastomere blokkopolymerer som kan anvendes for fremstilling av fleksografiske reliefftrykkplater, er beskrevet

i US patenter 4430417 og 4045231. Egnede fremkallingsopp-løsningsmidler for disse blandinger innbefatter aromatiske hydrocarbon- og alifatiske halogenhydrocarbonoppløsnings-midler, for eksempel perklorethylen, 1,1,1-triklorethan, tetraklorethan, triklorethylen, benzen, toluen, xylen, hexan, methylisobutylketon eller blandinger av slike opp-løsningsmidler med lavere alkoholer. En 75/25 (volum/volum) blanding av perklorethylen og n-butanol blir ofte anvendt kommersielt for denne type av fotopolymeriserbar blanding, n-butanolkomponenten i denne blanding vasker ikke ut den fotopolymeriserbare blanding, men er innbefattet fordi den oppløser det fleksible polymere slipplag som tjener til å beskytte diapositivet under den bildevise eksponering.

Fotopolymertrykkrelieffer bearbeidet i disse organiske oppløsningsmidler kan effektivt og bekvemt uklebrig-gjøres ved eksponering for kimdrepende stråling, dvs. avgitte bølgelengder innen området 200-300 nm, så lenge vanlige tørkemetoder følges, f.eks. 60 minutter i en 60°C ovn. Dersom disse plater tørkes i lengre tid eller lagres før den kimdrepende eksponering, oppfører de seg imidlertid i beste fall.uforutsibart og i verste fall slik at de ikke oppviser tilfredsstillende uklebriggjøring.

Forsøk på å unngå den høye pris, brennbarheten og risikoene for omgivelsene som er forbundet med organiske oppløsningsmidler, har ført til utvikling av en rekke fotopolymeriserbare blandinger som er oppløselige i vann eller vandige alkalioppløsninger, eller blandinger av vann og organiske oppløsningsmidler som er i det vesentlige vandige. Vandig eller halvandig oppløselighet blir ofte bibragt ved å innføre carboxylgrupper i den polymere binde-middelkomponent for den lysfølsomme blanding. Carboxylgrupper kan være innarbeidet i polymeren med høy molekyl-vekt ved til polymerisasjonsprosessen å tilsette en carboxylholdig monomer, f.eks. acryl- elller methacryl-syre eller en monomer som kan omvandles til en carboxylholdig gruppe, f.eks. maleinsyreanhydrid eller methyl-methacrylat.

I US patent 3458311 til Alles beskrives en rekke foto polymerblandinger som kan fremkalles i vandige eller halvvandige media, dvs. at vann er hovedbestanddelen for fremkalleren. Andre publikasjoner hvori fotopolymerblandinger er beskrevet som kan fremkalles i vann eller vandig eller halvvandig alkali, innbefatter Pohl, US patent 4442302, Pine US patent 4361640, Kai et al. US patent 3794494, Proskow, US patenter 4177074 og 4431723, og Worns, US patent 4517279.

Foretrukne vandige fremkallere inneholder også som regel et med vann blandbart organisk oppløsningsmiddel og et alkalisk materiale. Egnede organiske oppløsningsmidler som er blandbare med vann, innbefatter isopropanol, butanol, diacetonalkohol, 1-methoxy-ethano, 2-ethoxyethanol og 2-n-butoxyethanol. Egnede alkaliske materialer innbefatter alkalimetallhydroxy der. En foretrukken fremkaller er en vann/isopropanoloppløsning (90/10 v/v) som inneholder 0,1-0,3 vekt% natriumhydroxyd. Den halvvandige fremkaller som ble anvendt i de nedenstående eksempler, var vann/butylcarbitol (83/17 v/v) med 0,44% natriumhydroxyd. Andre vandige fremkallerkombinasjoner som kan anvendes, er beskrevet i US patent 3796602. Fotopolymertrykkrelieffer bearbeidet i slike vandige eller halvvandige oppløsningsmidler blir ikke tilstrekkelig uklebriggjort ved ekponering for strålingskilder som avgir bølgelengder innen området 200-300 nm med mindre et aprotisk organisk oppløsningsmiddel først påføres på platen.

Som tidligere omtalt innbefatter tilberedelse av en fotopolymerreliefftrykkplate flere eksponeringer: "tilbake-flashingen", den bildevise hovedeksponering og den samlede "eftereksponering". Hovedformålet med hver av disse eksponeringer er å bevirke polymerisasjon, og aktinisk stråling fra flere forskjellige kilder kan anvendes, innbefattende kommersielle ultrafiolette fluorescerende rør, middel-, høy- og lavtrykkskvikksølvdamplamper, argongløde-lamper, elektroniske flashenheter, fotografiske flomlamper, pulserte xenonlamper eller carbonbuelamper etc. Strålings-kilden må avgi en effektiv mengde stråling med en bølge-lengde innen området 230-450 nm, fortrinnsvis 300-420 nm,

og mer foretrukket 340-400 nm. For å oppnå effektiv foto-

'polymerisasjon avpasses bølgelengden til absorpsjons-karakteristikaene for fotoinitiatoren som er tilstede i det fotopolymeriserbare lag. En standard strålingskilde er "Sylvania 350 Blacklight" fluorescerende lampe (FR 48T12/350 VL/VHO/180, 115w) som avgir aktinisk stråling med en sentral bølgelengde på ca. 354 nm. Eksponeringstidene varierer fra neon få sekunder til noen få minutter i avhengighet av lampenes utgangseffekt, avstanden fra lampene, den ønskede relieffdybde og platens tykkelse.

oStrålingen som anvendes for uklebriggjøring av de eksponerte og fremkalte fotopolymertrykkrelieffer i henhold til oppfinnelsen bør ha bølgelengder innen området 200-300 nm. Kimdrepende lamper med en sentral bølgelengde på ca. 254 nm er en foretrukken lyskilde. Bølgelengder under 200 nm bør

5

unngås fordi disse er tilbøyelige til a danne ozon som for-årsaker sprekkdannelse og andre uheldige virkninger på fotopolymertrykkplater. Som omtalt ovenfor elimineres ikke klebrighet ved "eftereksponering" med de vanlige kilder for polymeriserende bestråling, som "Sylvania 350 Blacklight"-pærene som avgir aktinisk stråling med en sentral bølge-lengde på ca. 354 nm. Det er i virkeligheten rapportert i den publiserte europeiske patentsøknad 0017927 at eftereksponering med disse bølgelengder av og til forårsaket øket klebrighet på grunn av dannelsen av klebrige spaltningsprodukter.

j

Den foreliggende oppfinnelse angår en fremgangsmåte for uklebriggjøring av en bildevis eksponert og i oppløsnings-middel fremkalt fleksografisk fotopolymerreliefftrykkplate fremstilt fra en lysømfintlig elastomer blanding som inneholder en ethylenisk umettet fotopolymeriserbar monomer eller )

oligomer med minst én ethylenisk umettet endegruppe, en fotoinitiator eller et fotoinitiatorsystem og et i oppløsnings-middel oppløselig elastomert bindemiddel som omfatter polymeriserte konjugerte dienmonomerer, omfattende de trinn at

a) platen tørkes efter fremkalling,

b) trykkoverflaten utsettes for stråling med bølgelengder innen området 200-300 nm, ogc) trykkoverflaten eksponeres for aktinisk stråling med en bølgelengde som er lengre enn 300 nm,efter, samtidig med og/eller før eksponeringstrinnet b), og fremgangsmåten er særpreget ved at et aprotisk organisk oppløsningsmiddel påføres på platens overflate efter det ovennevnte trinn

a) og før det ovennevnte trinn b).

Ved den foreliggende oppfinnelse tilveiebringes en

forbedret fremgangsmåte for uklebriggjøring av en fremkalt og tørket fleksografisk fotopolymerreliefftrykkplate, omfattende påføring på platen av et organisk oppløsningsmiddel som er perklorethylen, 1,1,1-triklorethan, hexan, toluen, N-methylpyrrolidon eller et annet aprotisk organisk oppløs-ningsmiddel eller blandinger derav, og eksponering for stråling med en bølgelengde innen området 200-300nm.

Protiske oppløsningsmidler, som ethanol, propanol, butanol eller butylcarbitol etc, funksjonerer ikke på lignende måte. Selv om det ikke vites med sikkerhet, antas det at funksjonen til det organiske oppløsningsmiddel er å solvatisere den fotopolymeriserte struktur av platen for å lette lys-finishing.

Perklorethylen og 1,1,1-triklorethan er foretrukne organiske oppløsningsmidler i henhold til oppfinnelsen.

Også foretrukket på grunn av at den er bekvem er den 3:1-perklorethylen-n-butanolfremkalleroppløsning som er vanlig anvendt for å vaske ut fleksografiske fotopolymertrykk-

plater som kan fremkalles i organiske oppløsningsmidler.

Selv om n-butanolkomponenten i denne oppløsning er et

protisk organisk oppløsningsmiddel og ikke fremmer lys-finishing, innvirker nærværet av slikt protisk oppløsnings-middel ikke uheldig på virkningen av de aprotiske organiske oppløsningsmiddel. Det tas derfor sikte på at forskjellige organiske oppløsningsmiddelblandinger kan anvendes ved ut-førelsen av den foreliggende fremgangsmåte så lenge blandingene inneholder en vesentlig mengde av et aprotisk organisk oppløsningsmiddel.

Eksempler

De følgende eksempler tjener til å illustrere ut-førelsen av den foreliggende oppfinnelse i praksis, og av disse representerer eksempel 1 en beste utførelsesform.

Eksempel 1

E t fotopolymeriserbart element som omfatter et ark

av en lysømfintlig elastomer blanding som kan fremkalles halvvandig og som inneholder et acrylnitril/butadien/ acrylsyrecopolymerbindemiddel, en polyethylenterefthalat-understøttelse og et dekkark av med polyamid belagt poly-ethylenteref thalat , ble fremstilt i det vesentlige som beskrevet i eksempel 8 i US patent 4415649. Elementet ble eksponert for aktinisk stråling gjennom understøttelsen i 5 minutter ved en intensitet på 7 mW/cm 2 under anvendelse av U.V. fluorescerende lamper (du Pont "Photoproducts Exposure Lamp", Part No. 276208-001, Wilmington, DE) med en sentral bølgelengde på ca»368 nm for å danne et jevnt, polymerisert gulv. Polyesterdekkarket ble derefter fjernet, og den ueksponerte toppoverflate ble eksponert gjennom et bildebærende filmnegativ i 11 minutter under anvendelse av de samme UV fluorescerende lamper for å danne et herdet polymerisert bilde. Uherdede områder ble vasket ut ved børsting av overflaten med et oppvarmet (60°C) halvvandig oppløsningsmiddel (17% butylcarbitol, 0,44% natriumhydroxyd). Platen ble derefter tørket ved 60°C i 60 minutter. Bilde-overflåtene og overflatene uten bilde var klebrige. Platens overflate ble derefter skylt med en 3:1 oppløsning av perklorethylen : n-butanol og fuktighetsavtrukket med et uvevet kniplingsmønstret spunnet håndkle. Platen ble derefter eksponert for en strålingskilde som besto av 9 40 W kimdrepende lamper (sentral bølgelengde på 254 nm) i 8 minutter ved en intensitet på 4 mW/cm 2 og med en avstand på 7,6 cm. Efter denne behandling hadde den halvvandigefremkalte plate ingen klebrige overflater. Platen ble ytterligere eftereksponert i 10 minutter under anvendelse av de samme U.V. fluorescerende lamper som ble anvendt for å danne plate-gulvet og bildet. Platen holdt seg uklebrig.

Sammenligningseksempel A

Et fotopolymeriserbart element som beskrevet i

Eksempel 1 ble eksponert, fremkalt i et halvvandig oppløs-ningsmiddel og tørket ved 60°C i 60 minutter, i henhold til metoden ifølge Eksempel 1, bortsett fra at intet aprotisk organisk oppløsningsmiddel ble påført efter tørking og før eksponering for de kimdrepende lamper. Platen holdt seg klebrig og var uakseptabel for trykking. Platen holdt seg klebrig selv når eksponeringen for kimdrepende lamper ble øket til 35 minutter.

Sammenligningseksempel B

Et fotopolymeriserbart element som beskrevet i

Eksempel 1 ble eksponert, fremkalt i et halvvandig oppløs-ningsmiddel og tørket ved 60°C i 60 minutter, i henhold til metoden ifølge Eksempel 1, bortsett fra at n-propanol ble påført efter tørking og før eksponering for de kimdrepende lamper. Platen holdt seg klebrig og var uakseptabel for trykking. Platen holdt seg klebrig selv når eksponeringen med kimdrepende lamper bleøket til 35 minutter.

Den ovenstående metode ble gjentatt med et annet fotopolymeriserbart element med den samme sammensetning, bortsett fra at n-butanol ble påført før den kimdrepende bestråling. Igjen kunne ingen uklebriggjøring iakttas.

Eksempel 2

Et fotopolymeriserbart element som omfatter et ark av fotopolymer elastomer blanding som lar seg fremkalle i organiske oppløsningsmidler og som inneholdt et styren-isopren-styrenblokkopolymerbindemiddel, en polyethylen-terefthalatunderstøttelse og et med polyamid belagt polyesterdekkark, ble fremstilt i det vesentlige som beskrevet i Eksempel XXXVI i US patent 4323637. Elementet ble eksponert på baksiden og bildevis for UV-lys som i Eksempel 1. De uherdede områder ble vasket ut med børsting av overflaten med en blanding av 3 :1 per klorethylen:n-butanol. Den oppnådde trykkplate ble tørket ved 60°C i 60 minutter og fikk derefter avkjøle og henstå over natten (16 timer),

og dette førte til tap av ytterligere organisk oppløsnings-middel fra trykkplaten. Overflatene med bilde og uten bilde holdt seg klebrige. Platens overflate ble derefter skylt med utvaskingsoppløsningsmidlet (3:1 perklorethylen: n-butanol) og fuktighetsavtrukket med et uvevet med kniplings-mønster spunnet håndkle. Platen ble derefter eksponert for de samme kimdrepende lamper som i Eksempel 1 i 7 minutter. Efter denne behandling hadde platen ingen klebrige overflater. Platen ble ytterligere eftereksponert for UV-lys som i Eksempel 1 i 10 minutter. Platen holdt seg uklebrig.

Da den ble anvendt for fleksografisk trykking, ga

den på denne måte fremstilte plate utmerket, jevn trykkbar-het og forårsaket ikke problemer som var forbundet med overflateklebrighet.

På lignende måte kan en fleksografisk reliefftrykkplate som omfatter et lag av fotopolymer, elastomer blanding som inneholder et styren-butadien-styrenblokkopolymerbindemiddel, i det vesentlige som beskrevet i Eksempel I i US patent 4323637, fremstilles, behandles med et aprotisk organisk oppløsningsmiddel og bli "finished" ved eksponering for kimdrepende stråling.

Sammenligningseksempel C

Et fotopolymerelement som beskrevet i Eksempel 2 ble eksponert, fremkalt i 3:1 perklorethylen:n-butanol og tørket som i Eksempel 2, men intet aprotisk, organisk oppløsnings-middel ble påført før platen ble eksponert for kimdrepende bølgelengdebestråling (254 nm) i 7 minutter. Trykkplaten holdt seg klebrig efter den kimdrepende eksponering og kunne ikke anvendes for trykking.

Sammenligningseksempel D

Et fotopolymerelement som beskrevet i Eksempel 2 ble baksideeksponert og bildevis eksponert og fremkalt i 3:1 perklorethylen:n-butanol, som i Eksempel 2. Platen ble imidlertid tørket ved 60°C i lang tid (16 timer) for å

fjerne praktisk talt alt oppløsningsmiddel fra platen og ble derefter eksponert for de samme kimdrepende lamper som i eksempel 1 i 60 minutter. Platen var uakseptabel for trykking da klebrighet ikke var blitt fjernet fra plateoverflaten og sprekker var blitt dannet på plateoverflaten.

Sammenligningseksempel E

Et fotopolymeriserbart element som beskrevet i Eksempel 2 b le eksponert og fremkalt som i Eksempel 2 og derefter tørket ved 60°C i minst 6 timer for å fjerne praktisk talt all fremkaller. Den tørkede plate ble skylt med n-propanol, fuktighetsavtrukket inntil den var tørr, og eksponert for kimdrepende bestråling i 7 minutter, som i Eksempel 2. Platen holdt seg klebrig og var uakseptabel for trykking. Platen holdt seg klebrig selv når den kimdrepende eksponering ble øket til 30 minutter.

Den ovenstående metode ble gjentatt med et annet foto-polymerisert element med den samme sammensetning bortsett fra at n-butanol ble påført før den kimdrepende bestråling. Igjen ble ingen uklebriggjøring iakttatt.

Eksempel 3

Som .i Eksempel 2 ble et f otopolymeriserbart element som omfattet et ark av i organisk oppløsningsmiddel fremkallingsbar fotopolymer elastomer blanding inneholdende et styren-isopren-styrenblokkopolymerbindemiddel, en poly-ethylenterefthalatunderstøttelse og et med polyamid belagt polyesterdekkark, fremstilt i det vesentlige som beskrevet i Eksempel XXXVI i US patent 4323637. Elementet ble baksidemessig og bildemessig eksponert for UV-lys som i eksempel 1. De uherdede områder ble derefter vasket ut ved børsting av overflaten med en blanding av 3:1 pr. klor-ethylen:n-butanol i 5 minutter. Den oppnådde trykkplate ble tørket ved 60°C i 60 minutter. Ved avkjøling til værelsetemperatur holdt overflatene med bilde og uten bilde seg klebrige. Platen ble derefter eksponert for kimdrepende bestråling i 20 minutter ved en intensitet på

4 mW/cm 2 og i en avstand av 7,6 cm fra bestrålingskilden som besto av 9 40 W kimdrepende lamper (sentral bølgelengde 254 nm). Efter denne behandling hadde platen ingen klebrige overflater. Platen ble ytterligere eftereksponert for UV-lys i 10 minutter under anvendelse av den samme lampe som ble anvendt for de baksidemessige og bildemessige eksponeringer. Platen holdt seg uklebrig. Ytterligere plater ble fremstilt på samme måte bortsett fra de følgende variasjoner i tørketidene og i de tider som var nødvendige for uklebrig-gjøring :

Efterhvert som tørketidenøkte, avtok konsentrasjonen av aprotisk organisk restoppløsningsmiddel (f.eks. perklorethylen) i platen. Dette nødvendiggjorde eksponerings-tider for kimdrepende bølgelengder for å fjerne plateklebrig-het.

Eksempel 4

Et lysfølsomt element som lar seg fremkalle vandig,

som beskrevet i Eksempel 1, ble utsatt for baksidemessige og bildemessige eksponeringer med UV-lys, fremkalt med halvvandig oppløsning (17% butylcarbitol, 0,44% natriumhydroxyd) og tørket i 60 minutter ved 60°C som i Eksempel 1. Både overflater med bilde og uten bilde var klebrige. Den klebrige plates overflate ble derefter besprøytet med en aerosol dispersjon av fluorcarbonpolymer- og organiske bindemiddelharpikser i 1,1,1-diklorethan (63%), isopropylalkohol (1%), l,l,2-triklor-l,2,2-trifluorethan (5%) med diklordifluor-methandrivmiddel (30%) (Detac<®>, produsert av Anderson and Vreeland, Bryan, Ohio). Platen hadde ingen klebrige overflater. Platen ble derefter eksponert for de samme kimdrepende lamper som i Eksempel 1 i 4 minutter. Platen ble børstet med n-propylalkohol og holdt seg uklebrig. Platen ble ytterligere eftereksponert for UV-lys i 10 minutter som i Eksempel 1, og uklebrigheten holdt seg.

Eksempel 5

Et fotopolymerelement som beskrevet i Eksempel 2 ble baksidemessig og bildemessig eksponert og fremkalt i 3:1 perklorethylen:n-butanol som i Eksempel 2. Platen ble der efter tørket i 60 minutter ved 60°C. Platens overflater med bilde og uten bilde var klebrige.Platens overflate ble derefter besprøytet med et halogenert aprotisk organisk oppløsningsmiddel (1,1,1-triklorethan) og eksponert for de samme kimdrepende lamper som i Eksempel 1 12 minutter. Efter denne behandling hadde platen ingen klebrige overflater. Platen ble ytterligere eftereksponert for UV-lys som i Eksempel 1 i 10 minutter. Platen holdt seg uklebrig.

Eksempel 6

Et fotopolymeriserbart element som omfattet et lag av en i organisk oppløsningsmiddel fremkallingsbar lysfølsom elastomer blanding som inneholdt et styren-butadien-styrenblokkopolymerbindemiddel, en ethylenisk umettet monomer og et fotoinitiatorsystem, en polyethylenterefthalatunder-støttelse og et med polyamid belagt polyesterdekkark, ble fremstilt i det vesentlige som beskrevet i US patent 4323637. Efter eksponering og fremkalling med 3:1 perklorethylen: n-butanol som beskrevet i Eksempel 2 ble platen tørket i 30 minutter ved 60°C. Platens overflate var klebrig. Platens overflate ble derefter besprøytet med en aerosol dispersjon av fluorcarbonpolymer- og organisk bindemiddelharpikser i 1,1,1-triklorethan (63%), isopropylalkohol (1%), 1,1,2-tri-klor, 1,2,2-trifluorethan (5%) med diklordifluormethandriv-middel (30%), (Detac<®>, produsert av Anderson og Vreeland, Bryan, Ohio) og fikk tørke i luft. Platen hadde ingen klebrige overflater. Platen ble eksponert for de samme kimdrepende lamper som i Eksempel 1 i 2 minutter. Platen ble børstet med isopropylalkohol, og uklebrigheten holdt seg.

Sammenligningseksempel F

Et fotopolymeriserbart element som i Eksempel 6 ble utsatt for bestråling, utvasking av uherdede områder med 3:1 perklorethylen:n-butanol, tørking i 30 minutter ved 60°C og besprøytning med den samme fluorcarbonpolymer- og organisk bindemiddelaerosolblanding, som i Eksempel 6. Eksponering med kimdrepende lamper ble imidlertid sløyfet. Efter aerosolpåføring av blandingen ble platen uklebrig.

Efter at den var blitt børstet med isopropylalkohol ble imidlertid platens overflate igjen klebrig.

Sammenligningseksempel G

Et fotopolymeriserbart element som i Eksempel 6 ble utsatt for bestråling, utvasking av uherdede områder med 3:1 perklorethylen:n-butanol og tørking i 30 minutter ved 60°C

som i Eksempel 6. Den klebrige plate ble eksponert for kimdrepende lamper i 2 minutter som i Eksempel 6, men i motsetning til platen som ble besprøytet med aerosolblandingen som inneholdt aprotisk organisk oppløsningsmiddel, ble klebrigheten ikke fjernet.

Eksempel 7

Et fotopolymeriserbart element som omfattet et ark av

i organisk oppløsningsmiddel fremkallingsbar fotopolymer elastomer blanding inneholdende et styren-isopren-styrenblokkopolymerbindemiddel, en polyethylenterefthalatunder-støttelse og et med polyamid belagt polyesterdekkark, ble fremstilt i det vesentlige som beskrevet i eksempel XXXVI i US patent 4323637. Elementet ble baksidemessig eksponert

i 2 minutter og bildemessig eksponert i 15 minutter for UV-lys i henhold til metodene ifølge Eksempel 1. De uherdede områder ble derefter vasket utved børsting av overflaten med 100% hexan i 8 minutter. Platen ble tørket i 30 minutter

ved 60°C. Platen ble derefter eksponert for den samme kimdrepende bølgelengdebestråling som er beskrevet i Eksempel 1,

i 8 minutter. Efter denne behandling hadde platen ingen klebrige overflater. Platen ble ytterligere eftereksponert for UV fluorescerende lamper med en sentral bølgelengde på

365 nm. Platen holdt seg uklebrig.

Dette illustrerer at ikke-halogenerte aprotiske organiske oppløsningsmidler kan anvendes for å lette uklebrig-gjøring med kimdrepende bølgelengdebestråling. Andre ikke-halogenerte aprotiske oppløsningsmidler som kan anvendes

ved utførelsen av den foreliggende fremgangsmåte, innbefatter toluen og n-methy1-2-pyrrolidon.

Eksempel 8

Ark av kommersielt tilgjengelige lysfølsomme elastomere blandinger ble bearbeidet ved trinnene med baksidemessig og bildemessig bestråling og utvasking av uherdede områder, som i Eksemplene 1 og 2. Efter bear-beidingen ble arkene tørket i 60 minutter ved 60°C og lysfinished i de angitte tider i et kommersielt tilgjengelig lysfinishingapparat (35X47 enhet, produsert av Rebo Denshi Co., Japan, 254 nm kimdrepende pærer, type GL40W). Tabell 1 inneholder sammenligningsresultatet som viser at den foreliggende oppfinnelse er anvendbar for kommersielt tilgjengelige plater som lar sea fremkalle vandig eller i opp-løsningsmiddel. Tidene i minutter i tabellen er eksponeringstidene med en kimdrepende lampe anvendt for uklebrig-gjøring eller for den maksimalt gitte eksponering, dvs. at den vandig fremkalte du Pont Cyrel<®>107LP plate som ikke ble skylt med perklorethylen/n-butanol, holdt seg klebrig efter kimdrepende lampeeksponering i 60 minutter.

Claims

1. Fremgangsmåte for uklebriggjøring av en bildemessig eksponert og i oppløsningsmiddel fremkalt fotopolymer fleksografisk reliefftrykkplate fremstilt fra en lysfølsom elastomer blanding som inneholder en ethylenisk umettet fotopolymeriserbar monomer eller oligomer med minst én ethylenisk umettet endegruppe, en fotoinitiator eller et fotoinitiatorsystem og et i oppløsningsmiddel oppløselig elastomert bindemiddel som omfatter polymeriserte konjugerte dienmonomerer, omfattende de trinn at a) platen tørkes efter fremkalling, b) trykkingsoverflaten eksponeres for stråling med bølgelengder innen området200-300 nm, og c) trykkingsoverflaten eksponeres for aktinisk stråling med en bølgelengde som er lengre enn 300 nm, efter, samtidig med og/eller før eksponeringstrinn b), karakterisert ved påføring av et aprotisk organisk oppløsningsmiddel på platens overflate efter det ovenstående trinn a) og før det ovenstående trinn b).

2. Fremgangsmåte ifølge krav 1, karakterisert ved at det som det aprotiske organiske oppløsningsmiddel anvendes perklorethylen, 1,1,1-triklorethan, hexan, toluen eller n-methylpyrrolidon.

3. Fremgangsmåte ifølge krav 1 eller 2, karakterisert ved at den fleksografiske trykkplate fremkalles med en vandig eller halvvandig frem-kal ler opp lø sn ing.

4. Fremgangsmåte ifølge krav 2 eller 3, karakterisert ved at det som det aprotiske organiske oppløsningsmiddel anvendes 1,1,1-triklorethan.

5. Fremgangsmåte ifølge krav 4, karakterisert ved at 1,1,1-triklorethanet sprøytes på trykkingsoverflaten.

6. Fremgangsmåte ifølge krav 2 eller 3, karakterisert ved at det som det aprotiske organiske oppløsningsmiddel anvendes perklorethylen.

7. Fremgangsmåte ifølge krav 1-6, karakterisert ved at platen efter på-føringen av det aprotiske organiske oppløsningsmiddel tørkes med et fuktighetsopptrekkende materiale.