JPH02179646A - 光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法 - Google Patents
光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光重合によって架橋でき且つエラストマー重
合体をベースとする結合剤、それと相容性の光重合性単
量体および光開始剤を含む層用現像溶剤に関する。
合体をベースとする結合剤、それと相容性の光重合性単
量体および光開始剤を含む層用現像溶剤に関する。
造像的に露光した後、現像し、洗い落とす光重合架橋性
層によってレリーフフオーム(rel IefforI
ls)、特にフレキソ印刷版を製造することは以前から
既知である。
層によってレリーフフオーム(rel IefforI
ls)、特にフレキソ印刷版を製造することは以前から
既知である。
これらのフオームの製造のためには、光重合体層は、化
学線に造像的に露光している。次いで、レリーフは、現
像溶剤(developlng 5olvent)を使
用して、層の未露光部、従って、未架橋部を洗い落とす
ことによって形成できる。現像溶剤は、層の未架橋部を
できるだけ迅速に溶解すべきであり、一方、溶剤は、版
が迅速に乾燥するように、層の架橋部からできる限り最
大限容易に除去できなければならない。
学線に造像的に露光している。次いで、レリーフは、現
像溶剤(developlng 5olvent)を使
用して、層の未露光部、従って、未架橋部を洗い落とす
ことによって形成できる。現像溶剤は、層の未架橋部を
できるだけ迅速に溶解すべきであり、一方、溶剤は、版
が迅速に乾燥するように、層の架橋部からできる限り最
大限容易に除去できなければならない。
この理由で、低沸点現像溶剤が、現在一般に使用されて
いる。
いる。
DE−A第22 15 090号明細書に記載の好適な
溶剤の例としては、メチルエチルケトン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、メチルクロロホルムおよびテトラク
ロロエタン、およびこれらの混合物が挙げられている。
溶剤の例としては、メチルエチルケトン、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、四塩化炭素、トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン、メチルクロロホルムおよびテトラク
ロロエタン、およびこれらの混合物が挙げられている。
毒性であり且つ処分上の問題を生ずることが、前記塩素
化炭化水素の不利な点である。塩素化炭化水素を現像溶
剤として使用するならば、除去すべき層の部分は、プレ
ート上に依然としてありながら、非常に強く膨潤し、そ
して未架橋層部分の溶解成分の濃度が現像溶剤中で増大
するにつれて、溶剤の粘度は急激に上がる。その結果、
現像溶剤の容量は、非常に限定され且つ溶剤は、既に固
形分5%で役に立たな(される。粘度の激増の更に他の
結果は、プレートが固形分5%未満においてさえ非常に
遅く現像することである。
化炭化水素の不利な点である。塩素化炭化水素を現像溶
剤として使用するならば、除去すべき層の部分は、プレ
ート上に依然としてありながら、非常に強く膨潤し、そ
して未架橋層部分の溶解成分の濃度が現像溶剤中で増大
するにつれて、溶剤の粘度は急激に上がる。その結果、
現像溶剤の容量は、非常に限定され且つ溶剤は、既に固
形分5%で役に立たな(される。粘度の激増の更に他の
結果は、プレートが固形分5%未満においてさえ非常に
遅く現像することである。
DE−A第22 15 090号明細書に明記の非塩素
化炭化水素のうちには、ベンゼン、トルエンおよびキシ
レンが記載されている。これらの溶剤は、易燃性である
という不利を有し、更に層の苛酷な膨潤をもたらし、従
って、プレートの遅い現像および遅い乾燥をもたらす。
化炭化水素のうちには、ベンゼン、トルエンおよびキシ
レンが記載されている。これらの溶剤は、易燃性である
という不利を有し、更に層の苛酷な膨潤をもたらし、従
って、プレートの遅い現像および遅い乾燥をもたらす。
低い引火点のため、これらの溶剤は、更に防爆ではない
現像装置で使用することができない。
現像装置で使用することができない。
DE−A第36 00 116号明細書は、必須成分と
して、分枝であるか1個または3個のオレフィン二重結
合を有する環式であるか飽和であるか1〜3個のオレフ
ィン二重結合を有する脂環式である炭化水素、アルコー
ルまたはケトンを含有する比較的高沸点の現像溶剤を記
載している。
して、分枝であるか1個または3個のオレフィン二重結
合を有する環式であるか飽和であるか1〜3個のオレフ
ィン二重結合を有する脂環式である炭化水素、アルコー
ルまたはケトンを含有する比較的高沸点の現像溶剤を記
載している。
モノテルペンが、特に挙げられている。例で使用されて
いるリモネンは、良好な現像特性を有することがあるが
、酸素に感受性であり且つ皮膚を刺激し、これらの性質
は現像溶剤では存在すべきではない。また、非常に遅い
現像のみを可能にし且つ層から除去することが困難であ
ることが、リモネンの不利な点である。また、エラスト
マーとしてニトリルゴムを含有するプレートを現像する
ことは不可能である。
いるリモネンは、良好な現像特性を有することがあるが
、酸素に感受性であり且つ皮膚を刺激し、これらの性質
は現像溶剤では存在すべきではない。また、非常に遅い
現像のみを可能にし且つ層から除去することが困難であ
ることが、リモネンの不利な点である。また、エラスト
マーとしてニトリルゴムを含有するプレートを現像する
ことは不可能である。
それゆえ、本発明の目的は、
(a)毒性ではなく、
(b)高い引火点を有し、
(C)層の膨潤を生じずに、できるだけ完全且つ迅速に
層から除去でき、 (d)層の成分を取り上げる時に粘度のできる限り最小
限の増大を示し、それゆえ、高い容量要件に無関係に、
迅速且つ過失なしに現像することが可能であり、さらに (e)エラストマーとしてニトリルゴムを含有するプレ
ートを現像すること売可能にする光重合体層用現像溶剤
を提供することにある。
層から除去でき、 (d)層の成分を取り上げる時に粘度のできる限り最小
限の増大を示し、それゆえ、高い容量要件に無関係に、
迅速且つ過失なしに現像することが可能であり、さらに (e)エラストマーとしてニトリルゴムを含有するプレ
ートを現像すること売可能にする光重合体層用現像溶剤
を提供することにある。
本発明の目的は、必須成分として、フェノールエーテル
を含有することを特徴とする前記種類の現像溶剤を提供
することによって達成される。
を含有することを特徴とする前記種類の現像溶剤を提供
することによって達成される。
一般式!
〔式中、R1は(C−C)n−アルキルまたはイソアル
キル、シクロアルキルまたは(06〜Cl2)アリール
を表わし、 Rは水素、(01〜C6)n−アルキルまたはイソアル
キルまたは−OR1を表わす)のフェノールエーテルを
含有する現像溶剤が、好ましい。
キル、シクロアルキルまたは(06〜Cl2)アリール
を表わし、 Rは水素、(01〜C6)n−アルキルまたはイソアル
キルまたは−OR1を表わす)のフェノールエーテルを
含有する現像溶剤が、好ましい。
Rが(C1〜C4) n−アルキルまたはイソアルキル
を表わし、 Rが水素、(C1〜C3) n−アルキルまたは−OR
’を表わす 現像溶剤が、特に好ましい。
を表わし、 Rが水素、(C1〜C3) n−アルキルまたは−OR
’を表わす 現像溶剤が、特に好ましい。
R1はR2が水素であるならば(C−C)n−アルキル
またはイソアルキル、R2が(C〜C)n−アルキルで
あるならば(01〜C2)n−アルキル、R2が一0R
1(式中、R1は(01〜C3) n−アルキル)であ
るならばメチルを表わす 式Iの化合物が、特に好ましい。
またはイソアルキル、R2が(C〜C)n−アルキルで
あるならば(01〜C2)n−アルキル、R2が一0R
1(式中、R1は(01〜C3) n−アルキル)であ
るならばメチルを表わす 式Iの化合物が、特に好ましい。
Rが水素以外であり且つR2が一0R1を表わすならば
、0位およびm位が好ましく、R2が(C1〜C3)ア
ルキルを表わすならば、0位、m位およびp位が好まし
い。
、0位およびm位が好ましく、R2が(C1〜C3)ア
ルキルを表わすならば、0位、m位およびp位が好まし
い。
下記のものは、特に好ましい化合物である:メチルフェ
ニルエーテル、エチルフェニルエーテル、イソプロピル
フェニルエーテル、プロピルフェニルエーテル、0−ク
レシルメチルエーテル、m−クレシルメチルエーテル、
p−クレシルメチルエーテル、レゾルシノールジメチル
エーテルおよびピロカテコールエチレンエーテル。
ニルエーテル、エチルフェニルエーテル、イソプロピル
フェニルエーテル、プロピルフェニルエーテル、0−ク
レシルメチルエーテル、m−クレシルメチルエーテル、
p−クレシルメチルエーテル、レゾルシノールジメチル
エーテルおよびピロカテコールエチレンエーテル。
本発明の現像溶剤は、単一のフェノールエーテルまたは
フェノールエーテルの混合物を含有していてもよい。
フェノールエーテルの混合物を含有していてもよい。
本発明に係る現像溶剤は、フェノールエーテル55〜1
00重量%、特に55〜90重量%を含む。
00重量%、特に55〜90重量%を含む。
これらの化合物に加えて、本発明の現像溶剤は、特に重
合体層が追加のポリアミド含有保護層を担持するならば
、添加剤として他の溶剤を含んでいてもよい。この場合
には、アルコール、特に比較的高沸点のアルコールが、
追加の溶剤として使用するのに好ましい。
合体層が追加のポリアミド含有保護層を担持するならば
、添加剤として他の溶剤を含んでいてもよい。この場合
には、アルコール、特に比較的高沸点のアルコールが、
追加の溶剤として使用するのに好ましい。
本発明の現像溶剤を使用して現像すべき光重合架橋性層
の主成分は、本質上エラストマー重合体をベースとする
結合剤、この結合剤と相容性である光重合性単量体およ
び光開始剤からなる。この層は、各種の他の結合剤、単
量体または光開始剤を含んでいてもよい。
の主成分は、本質上エラストマー重合体をベースとする
結合剤、この結合剤と相容性である光重合性単量体およ
び光開始剤からなる。この層は、各種の他の結合剤、単
量体または光開始剤を含んでいてもよい。
層に含有してもよい添加剤は、染料、顔料、抗ハレーシ
ョン剤、酸化防止剤、可塑剤、オゾン亀裂防止剤、架橋
剤、調節剤、充填剤、均染剤および層の作用を改良する
他の薬剤からなる。
ョン剤、酸化防止剤、可塑剤、オゾン亀裂防止剤、架橋
剤、調節剤、充填剤、均染剤および層の作用を改良する
他の薬剤からなる。
前記層に加えてもよい更に他の補助剤は、例えば、熱重
合を防止する抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその
誘導体、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニ
トロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−二トロ
ッジフェニルアミン、またはN−ニトロソシクロへキシ
ルヒドロキシルアミンの塩、例えば、それらのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩である。
合を防止する抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその
誘導体、2.6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニ
トロフェノール、ニトロソアミン、例えば、N−二トロ
ッジフェニルアミン、またはN−ニトロソシクロへキシ
ルヒドロキシルアミンの塩、例えば、それらのアルカリ
金属塩またはアルミニウム塩である。
光重合によって架橋できる特に好ましい層は、共役脂肪
族ジエン(その単量体単位は4〜5個の炭素原子を有す
る)の重合体からなる結合剤を含有するものである。こ
れらのうち、下記のものが特に挙げられる;天然ゴム、
ブタジェンおよびイソプレンの単独重合体、ブタジェン
とイソプレンとの共重合体、ブタジェンおよび/または
イソプレンとスチレン、ビニルトルエン、アクリロニト
リル、(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどの他の
単量体との共重合体、例えば、EP−A第064 56
4号明細書に係るニトリルゴム、スチレン/ブタジェン
、スチレン/イソプレン、およびスチレン/イソプレン
/ブタジェンのランダム共重合体、またはスチレン含量
10〜50重量%を有するスチレン単量体とブタジェン
および/またはイソプレンとのブロック重合体。この種
のエラストマーは、DE−B第22 15 090号明
細書、DE−A第24 56 439号明細書、DE−
A第29 42 183号明細書、および−DE−A第
21 38 582号明細書に記載されている。
族ジエン(その単量体単位は4〜5個の炭素原子を有す
る)の重合体からなる結合剤を含有するものである。こ
れらのうち、下記のものが特に挙げられる;天然ゴム、
ブタジェンおよびイソプレンの単独重合体、ブタジェン
とイソプレンとの共重合体、ブタジェンおよび/または
イソプレンとスチレン、ビニルトルエン、アクリロニト
リル、(メタ)アクリル酸アルキルエステルなどの他の
単量体との共重合体、例えば、EP−A第064 56
4号明細書に係るニトリルゴム、スチレン/ブタジェン
、スチレン/イソプレン、およびスチレン/イソプレン
/ブタジェンのランダム共重合体、またはスチレン含量
10〜50重量%を有するスチレン単量体とブタジェン
および/またはイソプレンとのブロック重合体。この種
のエラストマーは、DE−B第22 15 090号明
細書、DE−A第24 56 439号明細書、DE−
A第29 42 183号明細書、および−DE−A第
21 38 582号明細書に記載されている。
光重合によって架橋できる層は、一般に、結合剤20〜
95重量%、好ましくは30〜95重量%を含有する。
95重量%、好ましくは30〜95重量%を含有する。
1以上の重合性オレフィン二重結合を有する好適な単量
体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステルお
よびアミドである。例は、エチレングリコール、ジー、
トリー、テトラ−、ポリエチレングリコール(後者は好
ましくは10〜15個のエチレングリコール単位を有す
る)、1,3−プロパンジオール、ヘキサンジオール、
ドデカンジオール、グリセロール、1,1.1−トリメ
チロールプロパン、 1.2.4−ブタントリオール、
ペンタエリトルトールなどの一価または多価アルコール
の相容性モノおよびジアクリレートおよびモノおよびジ
メタクリレート、例えば、エチレングリコールモノメタ
クリレート、1.3−プロパンジオールモノメタクリレ
ート、グリセロールモノまたはジアクリレート、1,2
.4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペンタエ
リトリトールトリアクリレート、ポリエチレングリコー
ルメチルエーテルアクリレート、テトラデカエチレング
リコールジメタクリレートまたはグリセロールとN−メ
チロールアクリルアミドまたはメタクリルアミド3モル
とのトリエーテル、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、2−エチルへキシ
ルアクリレート、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸
ステアリルである。層に含有される単量体の量は、一般
に、組成物の不揮発性成分の約1〜70mff1%、好
ましくは約250〜約%である。
体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステルお
よびアミドである。例は、エチレングリコール、ジー、
トリー、テトラ−、ポリエチレングリコール(後者は好
ましくは10〜15個のエチレングリコール単位を有す
る)、1,3−プロパンジオール、ヘキサンジオール、
ドデカンジオール、グリセロール、1,1.1−トリメ
チロールプロパン、 1.2.4−ブタントリオール、
ペンタエリトルトールなどの一価または多価アルコール
の相容性モノおよびジアクリレートおよびモノおよびジ
メタクリレート、例えば、エチレングリコールモノメタ
クリレート、1.3−プロパンジオールモノメタクリレ
ート、グリセロールモノまたはジアクリレート、1,2
.4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペンタエ
リトリトールトリアクリレート、ポリエチレングリコー
ルメチルエーテルアクリレート、テトラデカエチレング
リコールジメタクリレートまたはグリセロールとN−メ
チロールアクリルアミドまたはメタクリルアミド3モル
とのトリエーテル、ヘキサンジオールジアクリレート、
ヘキサンジオールジメタクリレート、2−エチルへキシ
ルアクリレート、メタクリル酸ラウリル、メタクリル酸
ステアリルである。層に含有される単量体の量は、一般
に、組成物の不揮発性成分の約1〜70mff1%、好
ましくは約250〜約%である。
使用できる光開始剤は、記録材料の加工において十分な
熱安定性を示し且つ露光時に十分な数の遊離基を形成す
ることによって単量体の重合を開始する既知化合物であ
る。光開始剤は、約250〜約500 nmの波長領域
内の光を吸収してプロセスでラジカルを形成すべきであ
る。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれらの
誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、vi
cジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル、
ベンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケター
ル、フルオレノン、チオキサントン、多核キノン、アク
リジンおよびキノキサリン;およびまたトリクロロメチ
ル−s−トリアジン、2−ハロメチル−4−ビニル−1
,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメチル
基によって置換されたハロゲン含有オキサゾール、DE
−A第33 33 450号明細書に係るトリハロメチ
ル基を含有するカルボニルメチレン複素環式化合物、例
えば、DE−A第 31 33 419号明細書に記載のようなアシルホス
フィンオキシト化合物および他のリン含有光開始剤、例
えば、西独特許出願P第 38 27 735.2号明細書に記載の6−アシル−
(6H)−ジベンズ−Cc、e) (1,2)−オキ
サホスホリン−6−オキシド、特に6−(2,4,6−
トリメチルベンゾイル)−(6H)−ジベンズ(c、e
)(1,2)−オキサホスホリン−6−オキシドである
。光開始剤は、互いの組み合わせで使用でき、または補
助開始剤または活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよび
その誘導体または2−アルキルアントラキノンと併用で
きる。光開始剤の量は、一般に、層の0.01〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%である。
熱安定性を示し且つ露光時に十分な数の遊離基を形成す
ることによって単量体の重合を開始する既知化合物であ
る。光開始剤は、約250〜約500 nmの波長領域
内の光を吸収してプロセスでラジカルを形成すべきであ
る。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれらの
誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエー
テル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、vi
cジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル、
ベンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケター
ル、フルオレノン、チオキサントン、多核キノン、アク
リジンおよびキノキサリン;およびまたトリクロロメチ
ル−s−トリアジン、2−ハロメチル−4−ビニル−1
,3,4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロメチル
基によって置換されたハロゲン含有オキサゾール、DE
−A第33 33 450号明細書に係るトリハロメチ
ル基を含有するカルボニルメチレン複素環式化合物、例
えば、DE−A第 31 33 419号明細書に記載のようなアシルホス
フィンオキシト化合物および他のリン含有光開始剤、例
えば、西独特許出願P第 38 27 735.2号明細書に記載の6−アシル−
(6H)−ジベンズ−Cc、e) (1,2)−オキ
サホスホリン−6−オキシド、特に6−(2,4,6−
トリメチルベンゾイル)−(6H)−ジベンズ(c、e
)(1,2)−オキサホスホリン−6−オキシドである
。光開始剤は、互いの組み合わせで使用でき、または補
助開始剤または活性剤、例えば、ミヒラーケトンおよび
その誘導体または2−アルキルアントラキノンと併用で
きる。光開始剤の量は、一般に、層の0.01〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%である。
光重合によって架橋できる組成物は、厚さ0.02〜1
0+m、好ましくは0 、 2〜6 +amを有する層
を形成するために溶液からの注型または押出およびカレ
ンダー掛けによってレリーフおよびフレキソ印刷版の製
造に使用できる。層は、適当な支持体の表面に積層でき
、または組成物の溶液は層支持体に適用できる。
0+m、好ましくは0 、 2〜6 +amを有する層
を形成するために溶液からの注型または押出およびカレ
ンダー掛けによってレリーフおよびフレキソ印刷版の製
造に使用できる。層は、適当な支持体の表面に積層でき
、または組成物の溶液は層支持体に適用できる。
前記層は、レリーフ印刷版の製造に使用できるだけでは
なく、例えば、平版印刷版、グラビアシリンダー、スク
リーン印刷ステンシル、およびフォトレジストの製造に
も使用できる。
なく、例えば、平版印刷版、グラビアシリンダー、スク
リーン印刷ステンシル、およびフォトレジストの製造に
も使用できる。
所期応用に応じて、好適な支持体は、例えば、ポリエス
テル゛フィルム、鋼またはアルミニウムシート、銅シリ
ンダー、スクリーン印刷ステンシル用支持体、発泡体層
、ゴム弾性支持体、または回路ボードからなる。また、
カバーまたは保護層、例えば、ポリビニルアルコールま
たはポリアミドの薄層、または剥離自在のカバーフィル
ム、例えば、ポリエチレンテレフタレートの剥離自在の
カバーフィルムを感光性記録層に適用することが有利で
あることがある。更に、支持体の予備被覆は、有利であ
ることがある。支持体と感光性層との間の追加の層は、
例えば、抗ハレーション層として、または接若剤層とし
て作用させてもよい。
テル゛フィルム、鋼またはアルミニウムシート、銅シリ
ンダー、スクリーン印刷ステンシル用支持体、発泡体層
、ゴム弾性支持体、または回路ボードからなる。また、
カバーまたは保護層、例えば、ポリビニルアルコールま
たはポリアミドの薄層、または剥離自在のカバーフィル
ム、例えば、ポリエチレンテレフタレートの剥離自在の
カバーフィルムを感光性記録層に適用することが有利で
あることがある。更に、支持体の予備被覆は、有利であ
ることがある。支持体と感光性層との間の追加の層は、
例えば、抗ハレーション層として、または接若剤層とし
て作用させてもよい。
本発明によれば、光重合架橋レリーフフオームの製法が
、更に提供される。水洗においては、光重合によって架
橋できる層は、水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源の化
学線に造像的に露光する(発光される波長は230〜4
5011.好ましくは300〜420nmである)。層
の未露光部、従って未架橋部は、噴霧、洗浄またはブラ
ッシングによって、本発明に係る現像溶剤によって除去
する。現像されたレリーフフオームは、適宜、120℃
までの温度で乾燥し、そして同時または爾後のいずれか
に化学線に後露光してもよい、本発明に係る光重合架橋
レリーフフオームは、印刷フオーム、特に凸版およびレ
リーフ印刷フオーム(フレキソ印刷に特に好適)の製造
に有利に使用される。本発明を下記例によって説明する
。
、更に提供される。水洗においては、光重合によって架
橋できる層は、水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源の化
学線に造像的に露光する(発光される波長は230〜4
5011.好ましくは300〜420nmである)。層
の未露光部、従って未架橋部は、噴霧、洗浄またはブラ
ッシングによって、本発明に係る現像溶剤によって除去
する。現像されたレリーフフオームは、適宜、120℃
までの温度で乾燥し、そして同時または爾後のいずれか
に化学線に後露光してもよい、本発明に係る光重合架橋
レリーフフオームは、印刷フオーム、特に凸版およびレ
リーフ印刷フオーム(フレキソ印刷に特に好適)の製造
に有利に使用される。本発明を下記例によって説明する
。
例1
先ず、市販の蛍光管露光装置を使用して、層厚2.8+
amを有するエラストマーとしてのスチレン−イソプレ
ン−スチレン3ブロック重合体〔[相]シレル(Cyr
el) HL 〕をベースとする市販のフレキソ印刷版
をバックからの全露光に76秒間付した後、それと接触
状態で置かれたネガ透明を通してフロントから12分間
造像的に露光した。次いで、ブタノールff115重量
%を含有するメチルフェニル−チルを使用して、このよ
うにして露光された版をブラシを備えた市販の現像装置
中で現像した。
amを有するエラストマーとしてのスチレン−イソプレ
ン−スチレン3ブロック重合体〔[相]シレル(Cyr
el) HL 〕をベースとする市販のフレキソ印刷版
をバックからの全露光に76秒間付した後、それと接触
状態で置かれたネガ透明を通してフロントから12分間
造像的に露光した。次いで、ブタノールff115重量
%を含有するメチルフェニル−チルを使用して、このよ
うにして露光された版をブラシを備えた市販の現像装置
中で現像した。
最適の結果を達成するための現像時間は、5分であった
。
。
その後、フレキソ印刷フオームを60℃で2時間乾燥し
、室温で15時間貯蔵した。臭素水溶液での通例の後処
理後、優秀な品質のフレキソ印刷フオームが、得られた
。
、室温で15時間貯蔵した。臭素水溶液での通例の後処
理後、優秀な品質のフレキソ印刷フオームが、得られた
。
例2
カバー層を剥離した後、例1に記載のような市販のフレ
キソ印刷版(版の直径30mm)をメチルフェニルエー
テル50m1に入れた。次いで、版を拭き取り、50℃
で1時間乾燥した。乾燥し、18時間貯蔵した後、版の
重量の増大1.3%が、測定できた。このことは、蒸発
しない現像溶剤から生じた。
キソ印刷版(版の直径30mm)をメチルフェニルエー
テル50m1に入れた。次いで、版を拭き取り、50℃
で1時間乾燥した。乾燥し、18時間貯蔵した後、版の
重量の増大1.3%が、測定できた。このことは、蒸発
しない現像溶剤から生じた。
例3
エチルフェニルエーテルを現像溶剤として使用した以外
は、例2の方法に従った。重量の増大は、165%であ
った。
は、例2の方法に従った。重量の増大は、165%であ
った。
例4(比較例)
キシレンを現像溶剤として使用した以外は、例2の方法
に従った。重量の増大は、1.92%であった。
に従った。重量の増大は、1.92%であった。
例5(比較例)
フレキソ印刷版を例2に従って露光し、現像したが、こ
の場合には、リモネンを現像溶剤とじて使用した。重量
の増大は、1.92%であった。
の場合には、リモネンを現像溶剤とじて使用した。重量
の増大は、1.92%であった。
例6
成分をフレキソ印刷版(■シレルHL)の未架橋部から
取り上げる現像溶剤の能力(容量)を測定するために、
異なる現像溶剤の粘度は、エラストマーとしてスチレン
−イソプレン−スチレンの3ブロック重合体を含むプレ
ートの現像後の層からの成分によって生ずる異なる固形
分で測定した。
取り上げる現像溶剤の能力(容量)を測定するために、
異なる現像溶剤の粘度は、エラストマーとしてスチレン
−イソプレン−スチレンの3ブロック重合体を含むプレ
ートの現像後の層からの成分によって生ずる異なる固形
分で測定した。
表1は、固形分5.7.5および10重量%に関してウ
ッペローデ粘度計中で25℃において測定された粘度値
を示す。本発明の現像溶剤は、固形分7.5重量%にお
いてさえ非常に高い現像速度を可能にする粘度を依然と
して示すが、現像溶剤中の固形分5重量%のみでのベル
クロロエチレンの粘度は、既に余りに高いので、迅速な
現像をもはや保証されない。
ッペローデ粘度計中で25℃において測定された粘度値
を示す。本発明の現像溶剤は、固形分7.5重量%にお
いてさえ非常に高い現像速度を可能にする粘度を依然と
して示すが、現像溶剤中の固形分5重量%のみでのベル
クロロエチレンの粘度は、既に余りに高いので、迅速な
現像をもはや保証されない。
表1
例7
ベンジンインキでの印刷に好適であるニトリルゴム(■
シレルLP)をベースとする市販のフレキソ印刷版を例
1と同様に現像した。最適の結果を得るための現像時間
は、15分であった。乾燥後、優秀な品質のフレキソ印
刷版が、生じた。
シレルLP)をベースとする市販のフレキソ印刷版を例
1と同様に現像した。最適の結果を得るための現像時間
は、15分であった。乾燥後、優秀な品質のフレキソ印
刷版が、生じた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光重合によって架橋でき且つエラストマー重合体を
ベースとする結合剤、これと相容性の光重合性単量体お
よび光開始剤を含む層用現像溶剤であって、必須成分と
して、フェノールエーテルを含有することを特徴とする
現像溶剤。 2、フェノールエーテルが、一般式 I ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、R^1は(C_1〜C_6)n−アルキルまた
はイソアルキル、シクロアルキルまたは(C_6〜C_
1_2)アリールを表わし、 R^2は水素、(C_1〜C_6)n−アルキルまたは
イソアルキルまたは−OR^1を表わす) に対応する、請求項1に記載の現像溶剤。 3、フェノールエーテル55〜100重量%、特に55
〜90重量%を含む、請求項1または2に記載の現像溶
剤。 4、特に添加剤として比較的高沸点のアルコールを含有
する、請求項1、2および3のいずれか1項に記載の現
像溶剤。 5、光重合によって架橋できる層を化学線により造像的
に露光し、層の未架橋部を現像溶剤(現像溶剤は請求項
1ないし4のいずれか1項に記載のフェノールエーテル
を含有する)によって洗い落とすことを特徴とする光重
合架橋レリーフフォームの製法。 6、洗い落とした後、レリーフフォームを 120℃までの温度で乾燥し、そして同時または爾後の
いずれかに化学線に後露光する、請求項5に記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3836404A DE3836404A1 (de) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen |
DE3836404.2 | 1988-10-26 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02179646A true JPH02179646A (ja) | 1990-07-12 |
Family
ID=6365925
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1279619A Pending JPH02179646A (ja) | 1988-10-26 | 1989-10-26 | 光重合によって架橋できる層用現像溶剤およびレリーフフォームの製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0365989A3 (ja) |
JP (1) | JPH02179646A (ja) |
AU (1) | AU615586B2 (ja) |
CA (1) | CA2001491A1 (ja) |
DE (1) | DE3836404A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
US5252432A (en) * | 1990-06-27 | 1993-10-12 | Basf Aktiengesellschaft | Production of photopolymeric flexographic relief printing plates |
DE4020374A1 (de) * | 1990-06-27 | 1992-01-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten |
DE4022221A1 (de) * | 1990-07-12 | 1992-01-23 | Basf Magnetics Gmbh | Magnetband mit schleifmittel |
US6261735B1 (en) * | 1998-11-24 | 2001-07-17 | Silicon Valley Chemlabs, Inc. | Composition and method for removing probing ink and negative photoresist from silicon wafers enclosures |
US6162593A (en) * | 1999-10-26 | 2000-12-19 | Wyatt; Marion F. | Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates |
US20060040218A1 (en) * | 2004-08-18 | 2006-02-23 | Wyatt Marion F | Terpene ether solvents |
US8349185B2 (en) | 2010-10-20 | 2013-01-08 | E I Du Pont De Nemours And Company | Method for rebalancing a multicomponent solvent solution |
US9897921B2 (en) | 2014-08-22 | 2018-02-20 | Nsx Operating Co. Llc | Compositions comprising mineral spirits and methods related thereto |
US11175586B2 (en) | 2017-05-26 | 2021-11-16 | Nsx Managemen T Group, Llc | Platewash composition |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2606935A (en) * | 1951-01-04 | 1952-08-12 | Gen Electric | Alkylene oxide-methylol phenol reaction products |
JPS5344202A (en) * | 1976-10-01 | 1978-04-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | Developer composition and developing method |
DE2941960A1 (de) * | 1979-10-17 | 1981-04-30 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten |
JPS5691232A (en) * | 1979-12-25 | 1981-07-24 | Nec Corp | Manufacture of resist image |
US4423135A (en) * | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
US4451553A (en) * | 1982-06-10 | 1984-05-29 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Halogen finishing of flexographic printing plates containing butadiene/acrylonitrile copolymers |
US4452879A (en) * | 1983-09-13 | 1984-06-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Preparation of ozone resistant printing plates |
US4786580A (en) * | 1983-12-27 | 1988-11-22 | Hoechst Celanese Corporation | Method of developing imaged diazo material with propanol containing developer composition |
DE3439597A1 (de) * | 1984-10-30 | 1986-04-30 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers |
US4623611A (en) * | 1985-01-16 | 1986-11-18 | General Electric Company | Photolithographic stripping method for removing contrast enhancement layer |
US4908298A (en) * | 1985-03-19 | 1990-03-13 | International Business Machines Corporation | Method of creating patterned multilayer films for use in production of semiconductor circuits and systems |
DE3600116A1 (de) * | 1986-01-04 | 1987-07-09 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen |
JPH0638159B2 (ja) * | 1986-07-18 | 1994-05-18 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型ホトレジスト用現像液 |
US4939070A (en) * | 1986-07-28 | 1990-07-03 | Brunsvold William R | Thermally stable photoresists with high sensitivity |
US4886927A (en) * | 1987-10-16 | 1989-12-12 | Uop | Process for isomerization of alkylaromatics |
JPH0727222B2 (ja) * | 1987-10-28 | 1995-03-29 | 日本合成ゴム株式会社 | ホトレジスト用剥離液 |
-
1988
- 1988-10-26 DE DE3836404A patent/DE3836404A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-10-18 EP EP19890119315 patent/EP0365989A3/de not_active Withdrawn
- 1989-10-25 AU AU43748/89A patent/AU615586B2/en not_active Ceased
- 1989-10-25 US US07/426,412 patent/US5116720A/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-10-25 CA CA002001491A patent/CA2001491A1/en not_active Abandoned
- 1989-10-26 JP JP1279619A patent/JPH02179646A/ja active Pending
-
1990
- 1990-05-07 US US07/519,468 patent/US5077177A/en not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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EP0365989A3 (de) | 1990-12-12 |
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DE3836404A1 (de) | 1990-05-03 |
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