JPH02213844A - 耐オゾン性フレキソ印刷版の製法 - Google Patents
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- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 29
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 24
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 20
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 claims abstract description 13
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 claims abstract description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 claims abstract description 11
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 12
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 11
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 17
- -1 aliphatic dienes Chemical class 0.000 description 11
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OMDCSPXITNMPHV-UHFFFAOYSA-N 2h-oxaphosphinine Chemical compound O1PC=CC=C1 OMDCSPXITNMPHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-2-naphthylamine Chemical compound C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1NC1=CC=CC=C1 KEQFTVQCIQJIQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 2
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCC(O)COC(=O)C=C OWPUOLBODXJOKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-methoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound COC(C)COC(C)COC(C)CO WAEVWDZKMBQDEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010650 Hyssopus officinalis Nutrition 0.000 description 1
- 240000001812 Hyssopus officinalis Species 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N N,N'-dibutylthiourea Chemical compound CCCCNC(=S)NCCCC KFFQABQEJATQAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N N-Methylolacrylamide Chemical compound OCNC(=O)C=C CNCOEDDPFOAUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N N-Nitrosodiphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(N=O)C1=CC=CC=C1 UBUCNCOMADRQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 RTACIUYXLGWTAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 229920003244 diene elastomer Polymers 0.000 description 1
- 125000005594 diketone group Chemical group 0.000 description 1
- GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diol Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)O GTZOYNFRVVHLDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000005021 flexible packaging material Substances 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006261 foam material Substances 0.000 description 1
- 238000007646 gravure printing Methods 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002681 hypalon Polymers 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 1
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N n-(hydroxymethyl)-2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCO DNTMQTKDNSEIFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-n-hydroxynitrous amide Chemical compound O=NN(O)C1CCCCC1 LXCJGJYAOVCKLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 150000004005 nitrosamines Chemical class 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- 238000006385 ozonation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008379 phenol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N phthalic acid di-n-butyl ester Natural products CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC=C FBCQUCJYYPMKRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000007586 terpenes Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- ILLKMACMBHTSHP-UHFFFAOYSA-N tetradecaethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCOCCO ILLKMACMBHTSHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000428 triblock copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- 150000005691 triesters Chemical class 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N3/00—Preparing for use and conserving printing surfaces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、光重合性エラストマー混合物をベースとする
耐オゾン性フレキソ印刷版の製法に関する。
耐オゾン性フレキソ印刷版の製法に関する。
フレキソ印刷版を製版するためのエラストマー特にブタ
ジェンまたはイソプレンをベースとするものは、以前か
ら既知であり且つ、例えば、DE−B第2,215.0
90号明細書(−米国特許節4,423,135号明細
書) 、DE−A第2 138 582号明細書(=英
国特許第1.358 062号明細@)、第 2.223.808号明細書(=英国特許第1 395
822号明細書) 、DE−B第2.815,678
号明細書(=英国特許第1 577 706号明細書)
、DE−A第2 456 439号明細書(=米国特
許第4 162 919号明細書)および第2 942
、 1g3号明細書(−米国特許節4.320,188
号明細書)に記載されている。
ジェンまたはイソプレンをベースとするものは、以前か
ら既知であり且つ、例えば、DE−B第2,215.0
90号明細書(−米国特許節4,423,135号明細
書) 、DE−A第2 138 582号明細書(=英
国特許第1.358 062号明細@)、第 2.223.808号明細書(=英国特許第1 395
822号明細書) 、DE−B第2.815,678
号明細書(=英国特許第1 577 706号明細書)
、DE−A第2 456 439号明細書(=米国特
許第4 162 919号明細書)および第2 942
、 1g3号明細書(−米国特許節4.320,188
号明細書)に記載されている。
しかしながら、これらのエラストマーを含有するフレキ
ソ印刷版は、オゾンの最もわずかの存在にさえ脆化し且
つ亀裂を示すことが見出された。
ソ印刷版は、オゾンの最もわずかの存在にさえ脆化し且
つ亀裂を示すことが見出された。
これらの版にリスクを示すオゾンは、特に紫外線を使用
するならば、光重合性エラストマー層の造像的露光時と
露光現像印刷版の使用時との両方で生成する。正確には
、後者の場合には、特に紙、プラスチックスなどの可撓
性包装材料を印刷すべきである時には、特に高いオゾン
濃度か生ずる。
するならば、光重合性エラストマー層の造像的露光時と
露光現像印刷版の使用時との両方で生成する。正確には
、後者の場合には、特に紙、プラスチックスなどの可撓
性包装材料を印刷すべきである時には、特に高いオゾン
濃度か生ずる。
その理由は、印刷インキの例えばプラスチックフィルム
への十分に強い接着を保証するため、プラスチックフィ
ルムが印刷前にコロナ処理されているという事実かられ
かる筈である。かなりの量のオゾンかコロナ処理時に生
成され且つ処理が印刷工程直前に起こる時にはいっても
最も効率的であるので、印刷版は、このプロセスから生
ずるオゾンとかなりの程度接触する。オゾンに対する現
像印刷版の感受性は、ハロゲン、特に臭素での印刷版の
後処理(粘着性を減少するために必要である)が大抵の
場合に実施されるという事実によって更に増大する。
への十分に強い接着を保証するため、プラスチックフィ
ルムが印刷前にコロナ処理されているという事実かられ
かる筈である。かなりの量のオゾンかコロナ処理時に生
成され且つ処理が印刷工程直前に起こる時にはいっても
最も効率的であるので、印刷版は、このプロセスから生
ずるオゾンとかなりの程度接触する。オゾンに対する現
像印刷版の感受性は、ハロゲン、特に臭素での印刷版の
後処理(粘着性を減少するために必要である)が大抵の
場合に実施されるという事実によって更に増大する。
亀裂を形成し且つ脆化を促進するオゾンに対する印刷版
の抵抗性を改良するために、各種のアプローチが、追跡
されている。
の抵抗性を改良するために、各種のアプローチが、追跡
されている。
DE−A第2,215,090号明細書から、光重合性
混合物への添加によって耐オゾン性を改良することが既
知である。ミクロクリスタリンワックスおよびパラフィ
ンロウ、ジブチルチオ尿素、1、 1. 3. 3−テ
トラメチルチオ尿素、ノルボルネン、N−フェニル−2
−ナフチルアミン、不飽和植物油、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合体、ポリウレタン、塩素化および/またはクロ
ロスルホン化ポリエチレン、塩素化エチレン/メタクリ
ル酸共重合体、ポリペンタジェン、フルフラール誘導樹
脂、エチレン/プロピレン/ジエンゴム、樹脂のジエチ
レングリコールエステルおよびa−メチルスチレンとビ
ニルトルエンとの共重合体が、添加剤として提案されて
いる。
混合物への添加によって耐オゾン性を改良することが既
知である。ミクロクリスタリンワックスおよびパラフィ
ンロウ、ジブチルチオ尿素、1、 1. 3. 3−テ
トラメチルチオ尿素、ノルボルネン、N−フェニル−2
−ナフチルアミン、不飽和植物油、エチレン/酢酸ビニ
ル共重合体、ポリウレタン、塩素化および/またはクロ
ロスルホン化ポリエチレン、塩素化エチレン/メタクリ
ル酸共重合体、ポリペンタジェン、フルフラール誘導樹
脂、エチレン/プロピレン/ジエンゴム、樹脂のジエチ
レングリコールエステルおよびa−メチルスチレンとビ
ニルトルエンとの共重合体が、添加剤として提案されて
いる。
この方法の不利な点は、前記添加剤が所要の耐オゾン性
を保証するのにしばしば不適当であるか、これらの添加
剤の有効濃度か増大されるならば、光重合性混合物が満
足な画像形成がもはや容易ではないような程度の曇りを
示すことである。
を保証するのにしばしば不適当であるか、これらの添加
剤の有効濃度か増大されるならば、光重合性混合物が満
足な画像形成がもはや容易ではないような程度の曇りを
示すことである。
フレキソ印刷版をオゾンから保護するための別の方法は
、DE−A第3,512,632号明細書(=米国特許
節4,680,251号明細書)に記載されている。こ
の方法は、光重合性混合物への添加に基づかないか、現
像され且つハロゲンで処理された印刷版を成るポリグリ
コール化合物で後処理することを記載している。記載の
ポリグリコール化合物は、エーテル化しないか、モノエ
チル化するだけである。しかしながら、これらのポリグ
リコール化合物で処理されたフレキソ印刷版は、オゾン
含有空気中での短時間後に既に形成している第一亀裂を
示した。
、DE−A第3,512,632号明細書(=米国特許
節4,680,251号明細書)に記載されている。こ
の方法は、光重合性混合物への添加に基づかないか、現
像され且つハロゲンで処理された印刷版を成るポリグリ
コール化合物で後処理することを記載している。記載の
ポリグリコール化合物は、エーテル化しないか、モノエ
チル化するだけである。しかしながら、これらのポリグ
リコール化合物で処理されたフレキソ印刷版は、オゾン
含有空気中での短時間後に既に形成している第一亀裂を
示した。
それゆえ、本発明の目的は、光重合性エラストマー混合
物をベースとするフレキソ印刷版の処理法(該方法は適
当に高い耐オゾン性を保証する)を提供することにある
。
物をベースとするフレキソ印刷版の処理法(該方法は適
当に高い耐オゾン性を保証する)を提供することにある
。
この目的は、現像され且つ適当な場合には常法で後処理
されたフレキソ印刷版に、必須成分として一般式■ (式中、RおよびR2はアルキル、特に(C1コ 〜C3)アルキルであり、 R3は水素またはアルキル、特に(01〜C3)アルキ
ルであり、 ができ、オキサ−n−または−イソーアルキレン、特に
オキサ−n−または−イソ−(01〜C5)アルキレン
であり、 1+m+n+oは3−40である) の少なくとも1種のポリグリコールエーテルを含有する
処理試薬を適用することを特徴とする最初に記載の一般
的な種類の方法によって達成される。
されたフレキソ印刷版に、必須成分として一般式■ (式中、RおよびR2はアルキル、特に(C1コ 〜C3)アルキルであり、 R3は水素またはアルキル、特に(01〜C3)アルキ
ルであり、 ができ、オキサ−n−または−イソーアルキレン、特に
オキサ−n−または−イソ−(01〜C5)アルキレン
であり、 1+m+n+oは3−40である) の少なくとも1種のポリグリコールエーテルを含有する
処理試薬を適用することを特徴とする最初に記載の一般
的な種類の方法によって達成される。
mおよび0が〉0であり且つ0≦mであり且っR3は(
C1〜C3)アルキルである時が好ましい。特に、0お
よびmは1に等しい。
C1〜C3)アルキルである時が好ましい。特に、0お
よびmは1に等しい。
0≠0であるならば、Dは好ましくはAまたはCと同一
であり且つBはこの場合にはオキサ−nアルキレン基、
特にオキサ−n (C3またはC5)アルキレン基で
ある。
であり且つBはこの場合にはオキサ−nアルキレン基、
特にオキサ−n (C3またはC5)アルキレン基で
ある。
しかしながら、o=0であり且っlとmとnとの和は3
〜40を与える時が特に好ましい。
〜40を与える時が特に好ましい。
更に好ましい態様においては、AはCと同一であるが、
Bとは異なる。この場合には、AおよびCはオキサ−n
(C2〜C4)アルキレン基であり且つBはオキサ
−n−または−イソ−(C2ASB、CおよびDは同一
または異種であることまたはC3)アルキレン基である
ことが好ましい。
Bとは異なる。この場合には、AおよびCはオキサ−n
(C2〜C4)アルキレン基であり且つBはオキサ
−n−または−イソ−(C2ASB、CおよびDは同一
または異種であることまたはC3)アルキレン基である
ことが好ましい。
オキサ−イソ−アルキレン基が、Bとしてここで特に好
ましい。
ましい。
また、mが0であり(即ち、また0−0)且つ1とnと
の和は3〜40に達する時が好ましい。
の和は3〜40に達する時が好ましい。
この場合には、AおよびCは、オキサ−n−または−イ
ソ−(C1〜C5)アルキレン、特にオキサ−n−また
は−イソ−(CまたはC3)アルキレンであり、Aまた
はCは少なくとも両方ともオキサ−n−アルキレン基ま
たはオキサ−イソアルキレン基ではないような方式で異
なる。
ソ−(C1〜C5)アルキレン、特にオキサ−n−また
は−イソ−(CまたはC3)アルキレンであり、Aまた
はCは少なくとも両方ともオキサ−n−アルキレン基ま
たはオキサ−イソアルキレン基ではないような方式で異
なる。
しかしながら、むしろ、1およびmまたはmおよびnは
各々0に等しい変形が、好ましい。この場合には、Cま
たはAは、オキサ−n−または−イソ−(02〜C5)
アルキレン、特にオキサ−n−または−イソー(Cまた
はC3)アルキレンである。
各々0に等しい変形が、好ましい。この場合には、Cま
たはAは、オキサ−n−または−イソ−(02〜C5)
アルキレン、特にオキサ−n−または−イソー(Cまた
はC3)アルキレンである。
RおよびRは、すべての場合に、(01〜C)アルキル
である。特に、RおよびR2は、同一であり、特に好ま
しくはメチルである。
である。特に、RおよびR2は、同一であり、特に好ま
しくはメチルである。
一般式■のポリグリコールエーテルの平均分子量は、1
00〜1,400、特に200〜1.200、特に好ま
しくは200〜600である。
00〜1,400、特に200〜1.200、特に好ま
しくは200〜600である。
特殊な態様においては、本発明に係る処理試薬は、一般
式Iの1つだけのポリグリコールエーテルを含有する。
式Iの1つだけのポリグリコールエーテルを含有する。
前記ポリグリコールジアルキルエーテルでの後処理は、
このような高い耐オゾン性をもたらすことは特に驚異的
であった。その理由は、対応モノアルキルエーテルの使
用が後者に匹敵する作用形態を示し、それゆえ、むしろ
ジアルキルエーテルの試験から離すことが予想されるで
あろうからである。
このような高い耐オゾン性をもたらすことは特に驚異的
であった。その理由は、対応モノアルキルエーテルの使
用が後者に匹敵する作用形態を示し、それゆえ、むしろ
ジアルキルエーテルの試験から離すことが予想されるで
あろうからである。
本発明に係る方法の処理液は、前記一般式Iによってカ
バーされる少なくとも1種の化合物を少なくとも50重
量%、好ましくは少なくとも80重量%含有する(排他
的であることが特に好ましい)。処理液が一般式Iの1
種の化合物のみを含有するならば特に好ましい。
バーされる少なくとも1種の化合物を少なくとも50重
量%、好ましくは少なくとも80重量%含有する(排他
的であることが特に好ましい)。処理液が一般式Iの1
種の化合物のみを含有するならば特に好ましい。
処理液が排他的に一般式Iの化合物からならないならば
、処理液は、混合物として、最新式の処理試薬、例えば
、DE−A第3,512,632号明細書のポリグリコ
ールエーテル、そしてまたハロゲン化炭化水素、アルコ
ール、芳香族炭化水素、テルペン、エステル、フェノー
ルエーテルなどの溶媒も含有できる。しかしながら、こ
の態様は、好ましくない。
、処理液は、混合物として、最新式の処理試薬、例えば
、DE−A第3,512,632号明細書のポリグリコ
ールエーテル、そしてまたハロゲン化炭化水素、アルコ
ール、芳香族炭化水素、テルペン、エステル、フェノー
ルエーテルなどの溶媒も含有できる。しかしながら、こ
の態様は、好ましくない。
本発明の方法によれば、前記処理液は、記録材料の現像
後、適当ならば、ハロゲン、特に臭素でのフレキソ印刷
版の処理後に適用する。適用は、例えば、綿羊毛タンポ
ン(dabber) 、ブラシまたはスポンジを使用し
てべたべた塗る(dab)ことによって実施でき、また
はフレキソ印刷版を処理液を含有する浴に浸漬すること
によっても実施できる。次いで、過剰の処理液は、例え
ば、したたりにより、またはタンポンにより除去する。
後、適当ならば、ハロゲン、特に臭素でのフレキソ印刷
版の処理後に適用する。適用は、例えば、綿羊毛タンポ
ン(dabber) 、ブラシまたはスポンジを使用し
てべたべた塗る(dab)ことによって実施でき、また
はフレキソ印刷版を処理液を含有する浴に浸漬すること
によっても実施できる。次いで、過剰の処理液は、例え
ば、したたりにより、またはタンポンにより除去する。
場合によって、次いで、本発明に係る方法で処理された
フレキソ印刷版は、例えば、フレキソ印刷版上の処理液
の濃度を修正するために加熱することもできる。
フレキソ印刷版は、例えば、フレキソ印刷版上の処理液
の濃度を修正するために加熱することもできる。
本発明に係る方法で前記処理液で処理されたフレキソ印
刷版は、エラストマー結合剤として、主として炭素数4
〜5の共役脂肪族ジエンの重合体を含有する。下記のも
のが特に挙げられるべきである:天然ゴム、ブタジェン
およびイソプレンの単独重合体または共重合体、ブタジ
ェンおよび/またはイソプ)ノンとスチレン、ビニルト
ルエン、アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステ
ルなどの他の単量体との共重合体、例えば、ニトリルゴ
ム、スチレン/ブタジェン、スチレン/イソプレンおよ
びスチレン/イソプレン/ブタジェンのランダム共重合
体、またはまたスチレン含量10−50重量%を有する
スチレン単量体とブタジェンおよび/またはイソプレン
とのブロック共重合体。この種のエラストマー結合剤は
、DEAjA2. 215. 040号明細書に記載さ
れている。
刷版は、エラストマー結合剤として、主として炭素数4
〜5の共役脂肪族ジエンの重合体を含有する。下記のも
のが特に挙げられるべきである:天然ゴム、ブタジェン
およびイソプレンの単独重合体または共重合体、ブタジ
ェンおよび/またはイソプ)ノンとスチレン、ビニルト
ルエン、アクリロニトリル、(メタ)アクリル酸エステ
ルなどの他の単量体との共重合体、例えば、ニトリルゴ
ム、スチレン/ブタジェン、スチレン/イソプレンおよ
びスチレン/イソプレン/ブタジェンのランダム共重合
体、またはまたスチレン含量10−50重量%を有する
スチレン単量体とブタジェンおよび/またはイソプレン
とのブロック共重合体。この種のエラストマー結合剤は
、DEAjA2. 215. 040号明細書に記載さ
れている。
本発明に係る光重合性混合物は、一般に、前記エラスト
マー結合剤型の少なくとも1種20〜98重量%、好ま
しくは30〜95重量%を含有する。また、本発明に係
る光重合性混合物は、遊離基によって重合できる少なく
とも1種のオレフィン性不飽和化合物および少なくとも
1種の光開始剤を含有する。
マー結合剤型の少なくとも1種20〜98重量%、好ま
しくは30〜95重量%を含有する。また、本発明に係
る光重合性混合物は、遊離基によって重合できる少なく
とも1種のオレフィン性不飽和化合物および少なくとも
1種の光開始剤を含有する。
1個以上の重合性オレフィン性二重結合を有する好適な
単量体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステ
ルおよびアミドである。例は、エチレングリコール、ジ
ー トリー、テトラ−またはポリ−エチレングリコール
(後者は好ましくは10〜15個のエチレングリコール
単位を有する)、1,3−プロパンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、ドデカンジオール、グリセロール、
11、.1−1リメチロールプロパン、1,2.4−ブ
タントリオール、ペンタエリトリトールなどの一価また
は多価アルコールの相容性モノアクリレートおよびジア
クリレートおよびモノメタクリレトおよびジメタクリレ
ート、例えば、エチレングリコールモノメタクリレート
、13−プロパンジオールモノメタクリレート、グリセ
ロールモノアクリレートおよびジアクリレート、ヘキサ
ンジオールジアクリレ−1・、ヘキサンジオールジメタ
クリレート、2−エチルへキシルアクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、ス云アリルメタクリレト、1,2.
4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペンタエリ
トリトールトリアクリレト、ポリエチレングリコールメ
チルエーテルアクリレート、テトラデカエチレングリコ
ールジメタクリレートまたはグリセロールとN−メチロ
ールアクリルアミドまたはN−メチロールメタクリルア
ミド3モルとのトリエステルである。P第3.817,
424.3号明細書に係るアルケニルホスホン酸エステ
ルおよびアルケニルホスフィン酸エステルも、使用でき
る。単量体の量は、般に、混合物の不揮発性成分に対し
て約1〜70重皿%、好ましくは約2〜50重量%であ
る。
単量体は、特にアクリル酸およびメタクリル酸のエステ
ルおよびアミドである。例は、エチレングリコール、ジ
ー トリー、テトラ−またはポリ−エチレングリコール
(後者は好ましくは10〜15個のエチレングリコール
単位を有する)、1,3−プロパンジオール、1,6−
ヘキサンジオール、ドデカンジオール、グリセロール、
11、.1−1リメチロールプロパン、1,2.4−ブ
タントリオール、ペンタエリトリトールなどの一価また
は多価アルコールの相容性モノアクリレートおよびジア
クリレートおよびモノメタクリレトおよびジメタクリレ
ート、例えば、エチレングリコールモノメタクリレート
、13−プロパンジオールモノメタクリレート、グリセ
ロールモノアクリレートおよびジアクリレート、ヘキサ
ンジオールジアクリレ−1・、ヘキサンジオールジメタ
クリレート、2−エチルへキシルアクリレート、ラウリ
ルメタクリレート、ス云アリルメタクリレト、1,2.
4−ブタントリオールモノメタクリレート、ペンタエリ
トリトールトリアクリレト、ポリエチレングリコールメ
チルエーテルアクリレート、テトラデカエチレングリコ
ールジメタクリレートまたはグリセロールとN−メチロ
ールアクリルアミドまたはN−メチロールメタクリルア
ミド3モルとのトリエステルである。P第3.817,
424.3号明細書に係るアルケニルホスホン酸エステ
ルおよびアルケニルホスフィン酸エステルも、使用でき
る。単量体の量は、般に、混合物の不揮発性成分に対し
て約1〜70重皿%、好ましくは約2〜50重量%であ
る。
光重合性混合物で使用する光開始剤は、記録材料の加工
時に適当な熱安定性を有し且つ露光時に遊離基の適当な
形成を示して単量体の重合を開始する既知の化合物であ
ることができる。光開始剤は、約250〜約50OnI
11の波長領域内の光を吸収して遊離基を形成すべきで
ある。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれら
の誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエ
ーテル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、v
icジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル
、ベンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケタ
ール、フルオレノン、チオキザントン、多核キノン、ア
クリジンおよびキノキサリン;そしてまたトリクロロメ
チル−8−トリアジン、2−ハロゲノメチル−4−ビニ
ル−1,3゜4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロ
メチル基で置換されたハロゲノ−オキサゾール、DEA
第3,333,450号明細書に係るトリハロゲノメチ
ル基含有カルボニルメチレン複素環式化合物、アシルホ
スフィンオキシト化合物、例えば、DE−A第3,13
3,419号明細書に記載のもの、および他のリン含有
光開始剤、例えば、西独特許出願P第3,827,73
5.2号明細書に記載の6−アシル−(6H)−ジベン
ゾ[c。
時に適当な熱安定性を有し且つ露光時に遊離基の適当な
形成を示して単量体の重合を開始する既知の化合物であ
ることができる。光開始剤は、約250〜約50OnI
11の波長領域内の光を吸収して遊離基を形成すべきで
ある。好適な光開始剤の例は、アシロインおよびそれら
の誘導体、例えば、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエ
ーテル、例えば、ベンゾインイソプロピルエーテル、v
icジケトンおよびそれらの誘導体、例えば、ベンジル
、ベンジルアセタール、例えば、ベンジルジメチルケタ
ール、フルオレノン、チオキザントン、多核キノン、ア
クリジンおよびキノキサリン;そしてまたトリクロロメ
チル−8−トリアジン、2−ハロゲノメチル−4−ビニ
ル−1,3゜4−オキサジアゾール誘導体、トリクロロ
メチル基で置換されたハロゲノ−オキサゾール、DEA
第3,333,450号明細書に係るトリハロゲノメチ
ル基含有カルボニルメチレン複素環式化合物、アシルホ
スフィンオキシト化合物、例えば、DE−A第3,13
3,419号明細書に記載のもの、および他のリン含有
光開始剤、例えば、西独特許出願P第3,827,73
5.2号明細書に記載の6−アシル−(6H)−ジベン
ゾ[c。
e)[:1.2)オキサホスホリン6−オキシド、特に
6− (2,4,6−トリメチルベンゾイル)(6H)
−ジベンゾCc、 e’J (:1. 2)オキサ
ホスホリン6−オキシドである。また、光開始剤は、互
いの組み合わせで使用でき、または補助開始剤または活
性剤、例えば、ミヒラーケトンおよびその誘導体または
2−アルキル−アントラキノンと併用できる。光開始剤
の量は、一般に、記録利料の約0.01〜10重量%、
好ましくは約0.5〜5重量%である。
6− (2,4,6−トリメチルベンゾイル)(6H)
−ジベンゾCc、 e’J (:1. 2)オキサ
ホスホリン6−オキシドである。また、光開始剤は、互
いの組み合わせで使用でき、または補助開始剤または活
性剤、例えば、ミヒラーケトンおよびその誘導体または
2−アルキル−アントラキノンと併用できる。光開始剤
の量は、一般に、記録利料の約0.01〜10重量%、
好ましくは約0.5〜5重量%である。
また、更に他の補助剤および添加剤、例えば、熱重合の
抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその誘導体、2,
6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニトロフェノー
ル、ニトロソアミン、例えば、N−ニトロソジフェニル
アミンまたはN−ニトロソシクロへキシルヒドロキシル
アミンの塩、例えば、それらのアルカリ金属塩またはア
ルミニウム塩を記録材料に加えることは、しばしば有利
である。更に他の通常の添加剤は、染料、顔料、可塑剤
、抗ハレーション剤、酸化防止剤、架橋剤、調整剤、充
填剤、流動剤および層の機能を改良する更に他の補助剤
である。
抑制剤、例えば、ヒドロキノンおよびその誘導体、2,
6−ジーt−ブチル−p−クレゾール、ニトロフェノー
ル、ニトロソアミン、例えば、N−ニトロソジフェニル
アミンまたはN−ニトロソシクロへキシルヒドロキシル
アミンの塩、例えば、それらのアルカリ金属塩またはア
ルミニウム塩を記録材料に加えることは、しばしば有利
である。更に他の通常の添加剤は、染料、顔料、可塑剤
、抗ハレーション剤、酸化防止剤、架橋剤、調整剤、充
填剤、流動剤および層の機能を改良する更に他の補助剤
である。
光重合性混合物は、有機溶媒中の溶液から注型し、そし
て高温で混練した後に7プレスすることにより凸版印刷
版およびフレキソ印刷版を製版するのに使用できる。ま
た、製版は、−軸スクリユーまたは二軸スクリュー押出
機で押出した後、艶出スタック(polishing
5tack)またはカレンダーによって最終成形して厚
さ0.02〜10mm、好ましくは0,4〜6關の層を
与えることによって可能である。ローラーヘッドプロセ
スによる製版も、可能である。層は、好適な担体の表面
に積層でき、または本発明に係る混合物の溶液は、層担
体に適用できる。
て高温で混練した後に7プレスすることにより凸版印刷
版およびフレキソ印刷版を製版するのに使用できる。ま
た、製版は、−軸スクリユーまたは二軸スクリュー押出
機で押出した後、艶出スタック(polishing
5tack)またはカレンダーによって最終成形して厚
さ0.02〜10mm、好ましくは0,4〜6關の層を
与えることによって可能である。ローラーヘッドプロセ
スによる製版も、可能である。層は、好適な担体の表面
に積層でき、または本発明に係る混合物の溶液は、層担
体に適用できる。
フレキソ印刷版の製版に加えて、光重合性混合物は、例
えば、平版印刷版、グラビア印刷シリンダー、スクリー
ン印刷ステンシルおよびフォトレジストの製造にも使用
できる。
えば、平版印刷版、グラビア印刷シリンダー、スクリー
ン印刷ステンシルおよびフォトレジストの製造にも使用
できる。
所期用途に応じて、好適な担体の例は、ポリエステルフ
ィルム、鋼シートまたはアルミニウムシート、銅シリン
ダー、スクリーン印刷ステンンル担体、発泡材料のプラ
イ、ゴム弾性担体またはプリント回路ボードである。ま
た、感光性記録層にカバー層または保護層、例えば、ポ
リビニルアルコールの薄層または剥離できるカバーフィ
ルム、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリ
アミドのカバーフィルムを適用することが有利であるこ
とがある。更に、担体の予備被覆は、有利であることが
ある。担体と感光性層との間の追加の層は、例えば、抗
ハレーション層として、または接着層として有効である
ことがある。
ィルム、鋼シートまたはアルミニウムシート、銅シリン
ダー、スクリーン印刷ステンンル担体、発泡材料のプラ
イ、ゴム弾性担体またはプリント回路ボードである。ま
た、感光性記録層にカバー層または保護層、例えば、ポ
リビニルアルコールの薄層または剥離できるカバーフィ
ルム、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリ
アミドのカバーフィルムを適用することが有利であるこ
とがある。更に、担体の予備被覆は、有利であることが
ある。担体と感光性層との間の追加の層は、例えば、抗
ハレーション層として、または接着層として有効である
ことがある。
担体および光重合性層によって調製される記録材料は、
水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源からの化学線で造像
的に露光する。発光される波長は、好ましくは300〜
420nmである。
水銀蒸気ランプ、蛍光管などの光源からの化学線で造像
的に露光する。発光される波長は、好ましくは300〜
420nmである。
未露光未架橋層部の除去は、塩素化炭化水素、エステル
、芳香族化合物またはフェノールエーテル、例えば、D
E−A第2,215,090号明細書および従来の刊行
物ではない西独特許出願P第3,836,402.6号
明細書、P第3.836,403.4号明細書およびP
第3.836,404.2号明細書に記載のものを噴霧
するか洗浄するかブラシすることによって実施できる。
、芳香族化合物またはフェノールエーテル、例えば、D
E−A第2,215,090号明細書および従来の刊行
物ではない西独特許出願P第3,836,402.6号
明細書、P第3.836,403.4号明細書およびP
第3.836,404.2号明細書に記載のものを噴霧
するか洗浄するかブラシすることによって実施できる。
微量の泡止め剤または水混和性有機溶媒、例えば、低級
脂肪族アルコールも、溶液に添加できる。使用する結合
剤に応じて、現像は、水または水溶液でも可能である。
脂肪族アルコールも、溶液に添加できる。使用する結合
剤に応じて、現像は、水または水溶液でも可能である。
便宜上、現像されたレリーフ版は、120℃までで乾燥
し、適当ならば、同時または爾後に化学線で後露光する
。フレキソ印刷版の乾燥後、フレキソ印刷版は、ハロゲ
ン含有溶液、例えば、臭素または塩素の溶液で後処理で
きる。化学線、特に波長< 300 nmの化学線での
後処理も、可能である。造像的露光前に、全面積は、反
対側から化学線で同様に短時間露光できる。
し、適当ならば、同時または爾後に化学線で後露光する
。フレキソ印刷版の乾燥後、フレキソ印刷版は、ハロゲ
ン含有溶液、例えば、臭素または塩素の溶液で後処理で
きる。化学線、特に波長< 300 nmの化学線での
後処理も、可能である。造像的露光前に、全面積は、反
対側から化学線で同様に短時間露光できる。
記録材料は、印刷版、なかんずく、フレキソ印刷に特に
好適である凸版印刷版またはレリーフ印刷版を製版する
のに特に好適である。
好適である凸版印刷版またはレリーフ印刷版を製版する
のに特に好適である。
本発明を下記例によって説明する。例においては、pb
wは重量部を意味し、特に断らない限り、g : cu
tは1:1と関連する。
wは重量部を意味し、特に断らない限り、g : cu
tは1:1と関連する。
例1(比較例)
医薬ホワイトオイル(DIN51423パートIに準拠
して屈折率1.479)20重量部および トルエン100重量部 中の スチレン含量30重量%を有するスチレン/イソプレン
/スチレン三元ブロック共重合体90重量部 ヘキサンジオールジアクリレート8重量部、ベンジルジ
メチルケタール2重量部および2.6−ジーt−ブチル
−4−メチルフェノール0.3重量部 かうなる光重合性エラストマー混合物を調製した。
して屈折率1.479)20重量部および トルエン100重量部 中の スチレン含量30重量%を有するスチレン/イソプレン
/スチレン三元ブロック共重合体90重量部 ヘキサンジオールジアクリレート8重量部、ベンジルジ
メチルケタール2重量部および2.6−ジーt−ブチル
−4−メチルフェノール0.3重量部 かうなる光重合性エラストマー混合物を調製した。
混合物を注いで、6暉厚の層を金属枠内の125μm厚
の二軸延伸熱固定ポリエステルフィルム上に与えた。ト
ルエンの蒸発後、接着層が設けられた125μm厚の二
軸延伸熱固定ポリエステルフィルムを今や3mm厚の固
体光重合体層の自山面に適用し、2.7mm厚のスペー
サーを使用して、得られた3層エレメントを40ON/
cJの圧力下で110’Cにおいてプレートプレス中で
5分間プレスした。
の二軸延伸熱固定ポリエステルフィルム上に与えた。ト
ルエンの蒸発後、接着層が設けられた125μm厚の二
軸延伸熱固定ポリエステルフィルムを今や3mm厚の固
体光重合体層の自山面に適用し、2.7mm厚のスペー
サーを使用して、得られた3層エレメントを40ON/
cJの圧力下で110’Cにおいてプレートプレス中で
5分間プレスした。
接着促進剤で処理されていないポリエステルフィルムを
剥離した後、厚さ3〜4μmのポリアミドのオーバーコ
ートを代わりに積層した。最初に、光重合体層の全面積
を残りのポリエステルフィルムを通して露光した。この
目的で、多層エレメントを市販のUV−Aフラット露光
装置(スペクトル領域320〜400 nm、光重合体
表面上の放射線強度14mW/c♂)の放射線に10秒
間露光した。次いで、造像的露光を同し線源で30分間
実施したが、多層エレメントの他の側から実施した。
剥離した後、厚さ3〜4μmのポリアミドのオーバーコ
ートを代わりに積層した。最初に、光重合体層の全面積
を残りのポリエステルフィルムを通して露光した。この
目的で、多層エレメントを市販のUV−Aフラット露光
装置(スペクトル領域320〜400 nm、光重合体
表面上の放射線強度14mW/c♂)の放射線に10秒
間露光した。次いで、造像的露光を同し線源で30分間
実施したが、多層エレメントの他の側から実施した。
現像をペルクロロエチレンで実施した。得られたフレキ
ソ印刷版を乾燥した後、臭素の0.4重量%水溶液で5
分間後処理した後、10分間水洗した。
ソ印刷版を乾燥した後、臭素の0.4重量%水溶液で5
分間後処理した後、10分間水洗した。
次いで、フレキソ印刷版を市販のUV−Aフラット露光
装V中で10分間後露光した。
装V中で10分間後露光した。
次いで、フレキソ印刷版を直径7cmのシリンダー上に
締結し、室温において室内でオゾン含有空気(オゾン0
.5ppm)に付した。版を一方で第一亀裂(拡大なし
て可視の亀裂)が現われる時間に関して、他方で室温で
20時間オゾン処理後に形成された亀裂の数に関して評
価した。第一亀裂は、3時間後程度の早期に現われた。
締結し、室温において室内でオゾン含有空気(オゾン0
.5ppm)に付した。版を一方で第一亀裂(拡大なし
て可視の亀裂)が現われる時間に関して、他方で室温で
20時間オゾン処理後に形成された亀裂の数に関して評
価した。第一亀裂は、3時間後程度の早期に現われた。
結果を表1に総括する。
例2(比較例)
例]に対応するフレキソ印刷版を製版した。次いで、印
刷版を、臭素での後処理後に、トリプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルに20秒間浸漬し、その後、過剰
の液体をダブオフ(dabofT)した。印刷版におけ
る第一亀裂は、オゾン処理(0,5ppm)2.5時間
後程度の早期に現われた。結果は、表1かられかる。
刷版を、臭素での後処理後に、トリプロピレングリコー
ルモノメチルエーテルに20秒間浸漬し、その後、過剰
の液体をダブオフ(dabofT)した。印刷版におけ
る第一亀裂は、オゾン処理(0,5ppm)2.5時間
後程度の早期に現われた。結果は、表1かられかる。
例3(比較例)
例1に対応するフレキソ印刷版を製版した。次いで、印
刷版を、臭素での後処理後に、ポリプロピレングリコー
ル1,200に20秒間浸漬し、= 24 その後、過剰の液体をダブオフした。第一亀裂は、オゾ
ン室(オゾン0.5ppm)での2時間後程度の早期に
現われた。結果を表1に総括する。
刷版を、臭素での後処理後に、ポリプロピレングリコー
ル1,200に20秒間浸漬し、= 24 その後、過剰の液体をダブオフした。第一亀裂は、オゾ
ン室(オゾン0.5ppm)での2時間後程度の早期に
現われた。結果を表1に総括する。
例4
フレキソ印刷版を例1に従って製版した。次いで、印刷
版を、臭素での後処理後に、トリエチレングリコールジ
メチルエーテルに20秒間浸漬し、その後、過剰の液体
をダブオフした。オゾン室での12,5時間後まで、亀
裂は現われなかった。
版を、臭素での後処理後に、トリエチレングリコールジ
メチルエーテルに20秒間浸漬し、その後、過剰の液体
をダブオフした。オゾン室での12,5時間後まで、亀
裂は現われなかった。
表1は、結果を示す。
例5
例1に対応するフレキソ印刷版を製版し、臭素で後処理
した。次いで、印刷版をポリエチレングリコールジメチ
ルエーテル250に20秒間浸漬した。液体をダブオフ
した後、版をオゾン含量0.5ppmを有する空気にさ
らした。亀裂は、20時間処理後にさえ検出可能ではな
かった。
した。次いで、印刷版をポリエチレングリコールジメチ
ルエーテル250に20秒間浸漬した。液体をダブオフ
した後、版をオゾン含量0.5ppmを有する空気にさ
らした。亀裂は、20時間処理後にさえ検出可能ではな
かった。
例6
例1に対応するフレキソ印刷版を製版し、臭素で後処理
した。次いで、印刷版をポリエチレングリコールジメチ
ルエーテル500に20秒間浸漬した。過剰の液体をダ
ブオフした後、版をオゾン含量0.5ppmを有する空
気にさらした。第一亀裂は、処理時間12.5時間後ま
で知覚可能ではなかった。
した。次いで、印刷版をポリエチレングリコールジメチ
ルエーテル500に20秒間浸漬した。過剰の液体をダ
ブオフした後、版をオゾン含量0.5ppmを有する空
気にさらした。第一亀裂は、処理時間12.5時間後ま
で知覚可能ではなかった。
表1
本発明に従って処理されたフレキソ印刷版のオゾン含有
空気(オゾン0.5ppm)への露出例 亀裂形成の開
始 20時間後の亀裂頻度(亀裂の数) 1 3時間 若干 2 2.5時間 若干 3 2時間 若干 4 1.2.5時間 1個 5 20時間後 なし 6 1.2.5時間 少し 表1は、本発明に従って後処理されたフレキソ印刷版が
、驚異的な方式で、当業者に従来既知であるフレキソ印
刷版よりもオゾン含有空気に対して抵抗性であることを
実証する。
空気(オゾン0.5ppm)への露出例 亀裂形成の開
始 20時間後の亀裂頻度(亀裂の数) 1 3時間 若干 2 2.5時間 若干 3 2時間 若干 4 1.2.5時間 1個 5 20時間後 なし 6 1.2.5時間 少し 表1は、本発明に従って後処理されたフレキソ印刷版が
、驚異的な方式で、当業者に従来既知であるフレキソ印
刷版よりもオゾン含有空気に対して抵抗性であることを
実証する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、現像され且つ適当な場合には後処理されたフレキソ
印刷版に、必須成分として式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R_1およびR_2はアルキル、特に(C_1
〜C_3)アルキルであり、 R_3は水素またはアルキル、特に(C_1〜C_3)
アルキルであり、 A、B、CおよびDは同一または異種であることができ
、オキサ−n−または−イソ−アルキレン、特にオキサ
−n−または−イソ−(C_1〜C_5)アルキレンで
あり、 l+m+n+oは3〜40である) の少なくとも1種のポリグリコールエーテルを含有する
処理試薬を適用することを特徴とする光重合性エラスト
マー混合物をベースとする耐オゾン性フレキソ印刷版の
製法。 2、式 I の処理試薬において、mおよびoが>0であ
り、 DがAまたはCであり、 Bがオキサ−n−アルキレン、特にオキサ−n−(C_
3またはC_5)アルキレンであり、R_1、R_2お
よびR_3が(C_1〜C_3)アルキルである、 請求項1に記載の方法。 3、式 I の処理試薬において、mが0であり且つoが
0であり、lとnとの和が3〜40を与え、 AおよびCがオキサ−n−または−イソ−(C_1〜C
_5)アルキレン、特にオキサ−n−または−イソ−(
C_2またはC_3)アルキレンであり、R_1および
R_2が(C_1〜C_3)アルキルである、請求項1
に記載の方法。 4、式 I の処理試薬において、lおよびmが0に等し
い場合には、 Cがオキサ−n−または−イソ−(C_2〜C_5)ア
ルキレン、特にオキサ−n−または−イソ−(C_2ま
たはC_3)アルキレンであり、mおよびnが0に等し
い場合には、 Aがオキサ−n−または−イソ−(C_2〜C_5)ア
ルキレン、特にオキサ−n−または−イソ−(C_2ま
たはC_3)アルキレンであり、各々の場合に、 R_1およびR_2が(C_1〜C_3)アルキル、特
にメチルである、 請求項1、または3に記載の方法。 5、式 I の処理試薬が、平均分子量100〜1,40
0、特に200〜1,200を有する、請求項1ないし
4のいずれか1項に記載の方法。 6、重合性エラストマー混合物が、実質的にエラストマ
ー結合剤、遊離基によって重合できるオレフィン性不飽
和化合物、および光開始剤を含有する、請求項1ないし
5のいずれか1項に記載の方法。 7、処理液が、特に式 I のポリグリコールエーテル少
なくとも50重量%、好ましくは少なくとも80重量%
を含有する、請求項1ないし5のいずれか1項に記載の
方法。 8、フレキソ印刷版が、実質的に担体およびその上に適
用された請求項6に記載の光重合性エラストマー混合物
から製版されている、請求項1ないし7のいずれか1項
に記載の方法。 9、化学線での造像的露光後、未露光未架橋層部を現像
液によって除去し、層を乾燥し、所望ならば、化学線で
後露光する、請求項1ないし8のいずれか1項に記載の
方法。 10、造像的露光前に、光重合性エラストマー層の全面
積を反対側から化学線で短時間露光する、請求項9に記
載の方法。 11、現像後に、乾燥してもよい層をハロゲン、特に臭
素で後処理するか、化学線で後露光する、請求項1ない
し10のいずれか1項に記載の方法。 12、処理試薬の現像フレキソ印刷版への適用は、試薬
をべたべた塗ることによって実施するか、フレキソ印刷
版を処理試薬を含有する浴に浸漬することによって実施
する、請求項1ないし11のいずれか1項に記載の方法
。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3841854A DE3841854A1 (de) | 1988-12-13 | 1988-12-13 | Verfahren zur herstellung einer ozonresistenten flexodruckform |
DE3841854.1 | 1988-12-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02213844A true JPH02213844A (ja) | 1990-08-24 |
Family
ID=6369009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1322454A Pending JPH02213844A (ja) | 1988-12-13 | 1989-12-12 | 耐オゾン性フレキソ印刷版の製法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5041360A (ja) |
EP (1) | EP0373474B1 (ja) |
JP (1) | JPH02213844A (ja) |
AU (1) | AU629271B2 (ja) |
CA (1) | CA2005208A1 (ja) |
DE (2) | DE3841854A1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4203608A1 (de) * | 1992-02-07 | 1993-08-12 | Basf Lacke & Farben | Verfahren zur photochemischen oder mechanischen herstellung flexibler druckformen |
US5496685A (en) * | 1993-09-17 | 1996-03-05 | Chase Elastomer Corporation | Photosensitive compositions and elements for flexographic printing |
US5798019A (en) * | 1995-09-29 | 1998-08-25 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Methods and apparatus for forming cylindrical photosensitive elements |
CA2318958A1 (en) * | 1998-01-09 | 1999-07-15 | Nupro Technologies, Inc. | Developer solvent for photopolymer printing plates and method |
US6582886B1 (en) | 2001-11-27 | 2003-06-24 | Nupro Technologies, Inc. | Developing solvent for photopolymerizable printing plates |
US20100068651A1 (en) * | 2008-09-16 | 2010-03-18 | Bradford David C | Developing solution for flexographic printing plates |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA977202A (en) * | 1970-08-03 | 1975-11-04 | Uniroyal | Photosensitive compositions |
CA1101586A (en) * | 1971-05-17 | 1981-05-19 | Arnel D. Potter | Photosensitive compositions |
US4162919A (en) * | 1974-11-29 | 1979-07-31 | Basf Aktiengesellschaft | Laminates for the manufacture of flexographic printing plates using block copolymers |
JPS53127004A (en) * | 1977-04-11 | 1978-11-06 | Asahi Chemical Ind | Photosensitive elastomer composition |
DE2942183A1 (de) * | 1979-10-18 | 1981-05-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus |
US4423135A (en) * | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
JPS58223149A (ja) * | 1982-06-22 | 1983-12-24 | Toray Ind Inc | 感光性ポリイミド用現像液 |
US4680251A (en) * | 1984-04-21 | 1987-07-14 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the ozone protection of photopolymer flexographic printing plates by treatment with liquid polyethers |
FR2564105B1 (fr) * | 1984-05-10 | 1987-09-11 | Saint Marc Lessives | Composition detergente liquide et procede pour sa preparation. |
US4576738A (en) * | 1984-12-21 | 1986-03-18 | Colgate-Palmolive Company | Hard surface cleaning compositions containing pianane |
DE3715792A1 (de) * | 1987-05-12 | 1988-11-24 | Hoechst Ag | Entwickler fuer wasserlos druckende offsetplatten |
-
1988
- 1988-12-13 DE DE3841854A patent/DE3841854A1/de not_active Withdrawn
-
1989
- 1989-12-04 EP EP89122352A patent/EP0373474B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-04 DE DE58909163T patent/DE58909163D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-12-12 JP JP1322454A patent/JPH02213844A/ja active Pending
- 1989-12-12 AU AU46140/89A patent/AU629271B2/en not_active Ceased
- 1989-12-12 CA CA002005208A patent/CA2005208A1/en not_active Abandoned
- 1989-12-13 US US07/449,773 patent/US5041360A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0373474B1 (de) | 1995-04-05 |
EP0373474A2 (de) | 1990-06-20 |
US5041360A (en) | 1991-08-20 |
AU4614089A (en) | 1990-06-21 |
CA2005208A1 (en) | 1990-06-13 |
DE58909163D1 (de) | 1995-05-11 |
AU629271B2 (en) | 1992-10-01 |
EP0373474A3 (de) | 1991-04-03 |
DE3841854A1 (de) | 1990-06-21 |
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