JPH04500278A - フレクソグラフ用印刷レリーフの作成方法 - Google Patents
フレクソグラフ用印刷レリーフの作成方法Info
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- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 57
- -1 diethylene glycol dialkyl ether Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 20
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 16
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N anhydrous diethylene glycol Natural products OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 10
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 claims description 7
- 150000001733 carboxylic acid esters Chemical class 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 claims description 5
- WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl acetate Chemical compound CCCCC(CC)COC(C)=O WOYWLLHHWAMFCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GJQIMXVRFNLMTB-UHFFFAOYSA-N nonyl acetate Chemical group CCCCCCCCCOC(C)=O GJQIMXVRFNLMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical group CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DGKXDLCVQSQVBC-UHFFFAOYSA-N 3,5,5-trimethylhexyl acetate Chemical group CC(C)(C)CC(C)CCOC(C)=O DGKXDLCVQSQVBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 claims description 2
- 238000007647 flexography Methods 0.000 claims 2
- 229920002725 thermoplastic elastomer Polymers 0.000 claims 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 claims 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 4
- BYEVBITUADOIGY-UHFFFAOYSA-N ethyl nonanoate Chemical compound CCCCCCCCC(=O)OCC BYEVBITUADOIGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 3
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NOTFZGFABLVTIG-UHFFFAOYSA-N Cyclohexylethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCC1CCCCC1 NOTFZGFABLVTIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N carvone Chemical compound CC(=C)C1CC=C(C)C(=O)C1 ULDHMXUKGWMISQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N ethyl octanoate Chemical compound CCCCCCCC(=O)OCC YYZUSRORWSJGET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N hexyl acetate Chemical compound CCCCCCOC(C)=O AOGQPLXWSUTHQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichloroanisole Chemical compound COC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl WCVOGSZTONGSQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylbutyl acetate Chemical compound CCC(CC)COC(C)=O HQLKZWRSOHTERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CCCCOC(C)COC(C)COC(C)CO JDSQBDGCMUXRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJXDZSALPHAYQX-UHFFFAOYSA-N C.C.C(COCCO)O Chemical compound C.C.C(COCCO)O QJXDZSALPHAYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005973 Carvone Substances 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Natural products 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical group ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001242 acetic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N antipyrene Natural products C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid group Chemical group C(CCCCC)(=O)O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229940117955 isoamyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- LDSKHRQOZJYTFX-UHFFFAOYSA-N pentan-2-yl hexanoate Chemical compound CCCCCC(=O)OC(C)CCC LDSKHRQOZJYTFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の名称
フレクツグラフ用印刷レリーフの作成方法発明の分野
本発明はフレクツグラフ用印刷レリーフの作成方法に関し、さらに詳しくはパー
クロロエチレンを使用しない現像用の溶剤に関するものである。
発明の背景
フレクツグラフ印刷用のホトポリマーのレリーフを作るには、代表的に紫外線に
よってエレメントの感光性層を画像状に露光することが含まれる。露光をされな
かった区域は適当な溶剤を用いてウォッシュアウトされる。
溶剤は蒸発させて除去し、必要なれば表面の粘着性を除く処理をする。
一般的に、適当な現像用の溶剤は感光性層を処方するため用いたバインダーに応
じて水性のアルカリ溶液、あるいは飽和炭化水素、芳香族炭化水素、脂肪族ケト
ンのような有機溶剤、および特にトリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、
またはトリクロロエタンのような塩素化炭化水素類を、それ自体もしくは低分子
量アルコールとの混合物のいずれかなどにより構成されている。
この既知の現像用溶剤は多くの不都合な性質を示すのである。しばしば、長いウ
ォッシュ−オフ時間が必要とされ、これは画像状に露光をされた感光性層の膨潤
を来たし、長期の現像時間による架橋化された区域の溶解化を招(のである。ま
た現像用溶剤を完全に除くために普通長い乾燥時間を必要とする。この他、余り
にも軟化させるため欠点のある印刷版面を生ずることもある。またある種の溶剤
使用の欠点は、作業場を耐爆性にする必要のあるその高い可燃性である。作業場
を耐爆性とするのは非常に費用を要することである。塩素化炭化水素のようなそ
の他の溶剤は極めて有毒であり、安全上および廃棄の際に重大な問題がある。
1986年1月30日に刊行されたPCT出願WO86100725号中で引用
されているJournal of the ElectrochemicalS
ociety、 Vol、126.1268−1230. No、 9(107
9)、およびJournal of Vacu+me 5cience and
Technology、 Vol、 19゜1121−1126. No、
4 (1981)には、クロルメチル化されたポリスチレンを含むホトレジスト
が、酢酸−n−ペンチルエステル中にレジストを漬け、つづいてイソプロピルア
ルコールで処理することにより現像することが述べられている。
ドイツ国特許出願公開第3.315.118号には、芳香族ビニルポリマーから
作られた感光性のネガテブ保護皮膜用の現像溶剤として、酢酸の01〜.アルキ
ルエステルのような良好な溶剤と、エチレングリコールアルキルエーテルのよう
な不十分な溶剤との混合物を説明している。
前述の低分子量の酢酸エステルは、これらが健康上、安全上および環境上の諸問
題を提示するため現像用溶剤には不適当である。さらに、この低分子量酢酸エス
テルは、印刷レリーフを膨潤させることが知られている。
1987年5月13日に刊行された欧州特許公報筒221.428号には、プロ
ピレングリコールアルキルエーテルとプロピレングリコールエーテルアセテート
との好ましくは1:1比の混合物を、ホトレジスト特にノボラック樹脂を含むレ
ジスト用の皮膜除去剤として述べている。これでは硬化されたレジスト組成物が
すべてとり除かれるので、露光と未露光の区域を区別する必要はまったくない。
レジスト材料が残留していないので膨潤の問題も存在しない。
1975年11月6日に公表されたドイツ国特許第2.459.156号では、
感光性皮膜用の現像法が説明されている。このホトポリマーは紫外線に対する露
光により分解し、低分子量の光分解生成物は現像工程中に溶出する。現像は07
〜.のアルキルアセテートまたはケトンを用い高められた温度において行われる
。周囲温度においては、ここで用いられた溶剤、例えばイソアミルアセテートは
不十分な溶解特性を示している。n−ヘキシルアセテートもまた一般的に不十分
な溶剤とされている。
従うて、現像用溶剤を使用するフレクツグラフ用印刷レリーフの作成のため、こ
の溶剤は画像状に露光をされた層の、架橋結合をされていない部分を良好なエツ
ジ鮮鋭度により除去するとともに、感光性層の露光をされている区域を膨潤した
りまたは除去したりしないものが必要である。これらのレリーフは速やかに乾燥
し、そして安定で均一な印刷面が完全に得られなければならない。
さらに、このウォッシュアウト系は環境上安全であり廃棄物の問題を与えるもの
であってはならない。この系は取扱いεよびモニターの容易なものでなければな
らない。
発明の概要
本発明は、
(A)支持体上に少なくとも1つの光重合性の層を形成させ、そしてこの層は光
重合によって架橋結合性であるものとし:
(B)この層を活性放射線に対して画像状に露光させ:そして
(C)この層の架橋結合をしていない部分を現像用溶剤で除去する;
ことからなるフレクツグラフ用印刷レリーフを製造する方法において、この現像
用の溶剤が(a)ジエチレングリコールジアルキルエーテルで、このアルキル基
がC,−Sであるもの; 0))Co−t oの飽和アルコールおよびC6−1
0のアルコキシ置換アルコールの群から選ばれたアルコールの酢酸エステル;
(C)Co−+oの酸とC1−6のアルコールとのカルボン酸エステル;および
(d)アルコキシ基置換カルボン酸のエステルで、酸がC2−4、アルコキシ置
換基が01−4、そし7てアルコールが自−4のものである、からなる群より選
ばれた少なくとも1つの成分をもつものを使用することからなる、改良方法に関
するものである。
本発明のいま1つの具体化例においてはフレクツグラフ用印刷レリーフを作るた
めに
(A)支持体上に少なくとも1つの光重合性の層を形成し、この層は光重合で架
橋結合性のものであり;(B)この層を活性放射線に対して画像状に露光し;そ
して
(C)この層の架橋結合をしていない部分を現像用溶剤で除去する;
ことからなる方法において、この現像用の溶剤が(a)ジエチレングリコールジ
アルキルエーテルで、このアルキル基が01−6であるもの; (b)Cs−+
oの分岐鎖飽和アルコールおよび06−3゜のアルコキシ置換飽和アルコールの
群から選ばれたアルコールの酢酸エステル;および(C)Cg−+ aの酸とC
1−6のアルコールとの反応により生成したカルボン酸エステル、からなる群よ
り選ばれた少なくとも1つの成分をもつものを使用することからなる、改良方法
にも関するものである。
発明の詳細な記述
本発明を実施するのに適した現像用溶剤は(a)ジエチレングリコールジアルキ
ルエーテルで、アルキル基が01−6のちの、(b)cs〜10の飽和アルコー
ルおよび01〜.。のアルコキシ置換飽和アルコールの群から選ばれたアルコー
ルの酢酸エステル、(C)Cs−+。の酸とC1〜6のアルコールとのカルボン
酸エステル、または(d)アルコキシ基置換カルボン酸のエステルで、酸がCト
4、アルコキシ置換基がCl−4、そしてアルコールがC3−4のものである、
などが含まれる。
これらの溶剤は単独であるいは互に組合わせて用いることができる。本発明の実
施に際しては前記の各溶剤の少なくとも1つを使用することが重要である。
本発明の現像用溶剤はこの溶剤が光重合性層と相溶性であるため、画像状に露光
されたフレクツグラフ用印刷レリーフの、迅速かつ適確な除去またはウォッシュ
−オフを可能とする。このような溶剤は露光をされた区域に膨潤を生じさせ、ま
たこれらが低い蒸気圧をもつため乾燥中に取り除くことが極めて困難であると予
想されていたので、この効果は予期しない驚くべきものであった。
通常、これらの溶剤は印刷およびフェス業界において、所望の易揮発性溶剤の使
用から生じる急速な乾燥を阻止するための抑止剤として用いられていたのである
。
本発明の現像用溶剤は、これらが19ミリバールの蒸気圧をもつパークロロエチ
レンと比べて、比較的低い蒸気圧を有するにもかかわらず、かなり短時間に完全
に除去できることが認められた。そこで、ここで述べる現像用溶剤の使用で、フ
レクツグラフ用印刷レリーフを迅速に作ることができる。
このことは、印刷業界においては良好な品質で速やかに仕上げることが必要な、
急ぎの仕事をお客がしばしば要求するために極めて重要である。これまでは、印
刷レリーフの長びいた乾燥が急ぎの要請に応じて仕上をすることを阻んでいた。
得られるレリーフは膨潤しておりかつ溶剤がすべて除かれていなかった。そこで
、レリーフは必要な硬度と印刷のため必要な厚みとを持たなかった。
レリーフは機械的に安定でなく、従って圧着されるとき奢るしい磨滅を生じた。
これは印刷レリーフの速やかな破損を招き、レリーフの有用な期間を短くし、印
刷の安定性と品質とを低下し、同時に印刷コストを上昇させる。
これら欠点のすべては本発明の現像用溶剤を用いることにより回避される。
本発明の溶剤の低い蒸気圧は、これらが従来用いられていた現像用溶剤よりずっ
と環境的に安全であるためさらに有利である。その上、これらの溶剤は比較的高
い引火点を有するため安全性も強化される。
前記したように、以下の各溶剤の少なくとも1つが存在しなければならないニジ
エチレングリコールエーテル、酢酸エステル、またはその他のカルボン酸エステ
ルあるいはこれらの組合わせ。
適当なジエチレングリコールエーテルにはそのアルキル置換基が61〜6、好ま
し1くはC7−4のジエーテルが含まれる。本発明の実施にはジエチルエーテル
が特に好ましい。
酢酸エステルはC8−10の飽和アルコールまたはC0〜1゜のアルコキシ置換
飽和アルコールと、酢酸とを反応させることにより作られる。本発明の実施のた
めには以下のものを用いることができる:酢酸−3.5.5−トリメチルヘキシ
ルエステル、酢酸−2−ブトキシエチルエステル、酢酸−2−エチルブチルエス
テル、酢酸−2−シクロヘキシルエチルエステル、酢酸−2−エチルヘキシルエ
ステル、またはこれらの混合物。好ましいエステルは酢酸−3,5,5−トリメ
チルヘキシルエステルまたはノニル酢酸エステルとの混合物である。
C6−8゜の酸とC2−6のアルコールとのカルボン酸エステルも用いることが
できる。このようなエステルにはオクタン酸エチルエステル、ヘキサン酸−2−
ペンチルエステル、およびノナン酸エチルエステルなどが含まれる。
アルコキシ置換カルボン酸のエステルで、酸がC2−4、アルコキシ基がC1〜
4そしてアルコールがCl−4のものも用いることができる。このようなエステ
ルにはエチル3−エトキシプロピオネートが含まれる。
本発明の現像用溶剤はうすめずにそのままか、または表面の粘着性をさけるため
印刷板にしばしば付与されている、ポリアミド層を溶解するためブタノールもし
くはベンジルアルコールのようなアルコールの5〜40%でうすめるかのいずれ
かで用いられる。これらの現像用溶剤はどのような現像装置中でも用いることが
でき、また各種の光重合性組成物について使用することができる。
本発明の現像用溶剤は次のような感光性材料に特に適している。すなわち、バイ
ンダーとして少なくとも1つの熱可塑性エラストマーブロックコポリマー、少な
くとも1つの末端エチレン性不飽和の付加重合性化合物、光開始剤または開始剤
系、任意的に、可塑剤、色素、充填剤、抗酸化剤、抑制剤などのその他添加剤を
含むものである。適当なバインダーにはポリスチレンーポリブタジエンーボリス
チレンブロックコポリマーまたはポリスチレン−ポリイソプレン−ポリスチレン
ブロックコポリマーが含まれる。これらのバインダーその他についてはドイツ国
特許第2.215.090号中で述べられている。
光重合性材料は通常の技術を用いて市販の支持体上に塗布することができる。こ
のような方法もドイツ国特許第2.215.090号中で述べられている。本発
明の溶剤による現像後、印刷レリーフは乾燥され、そして任意的に、現像後の処
理または後露光が行われる。
本発明を以下の各実施例により例示する:実施例 1
ドイツ国特許第2.215.090号の実施例5に従って作った、フレクツグラ
フ用印刷板(厚み2.7h*)を40WのUv燈により原板を通して5分間露光
し、ついでテストしようとするウォッシュ−オフ溶剤により、周囲温度で5分間
ブラシ処理機により処理をした。ついで印刷板は60℃で30分間乾燥し、レリ
ーフ深度と膨潤量とを測定した。
結果は第1表中にまとめである。表中に示された各種の溶剤は以下の通りである
:(1)パークロロエチレン(対照例’) 、(2)ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、(3)ジエチレングリコールジエチルエーテル、(4)ジエチレ
ングリコールジブチルエーテル、(5)酢酸−2−ブトキシエチルエステル、(
6)酢酸−2−エチルブチルエステル、(7)酢酸−2−エチルヘキシルエステ
ル、(8)酢酸−2−シクロヘキシルエチルエステル、(9)オクタン酸エチル
エステル、(10)ヘキサン酸−2−ペンチルエステル、(11)ノナン酸エチ
ルエステル、および(12)酢酸−3,5,5−トリメチルヘキシルエステル。
(1) 1.00 3.20 2.99(2) 0.79 2.84 2.80
(3) 1.34 2.85 2.81(4) 1.00 2.82 2.81
(5) 0.53 2.83 2.81(6) 0.79 2.87 2.82
(7) 0.66 2.82 2.80(8) 0.59 2.82 2.81
(9) 0.72 2.84 2.81(10) 0.82 2.85 2.8
2(11,) 0.67 2.86 2.85(12) 0.70 2.84
2.81第1表から見られるように、本発明のすべての溶剤のレリーフ深度は実
用上の最低所要量0.5mm以上である。
膨潤量はすべてのケースにおいてパークロロエチレンよりも低く、その上ウォッ
シュ直後の量と乾燥後の量との間の差が実質的に低く、つまり溶剤が材料から著
しく速やかに除かれ、従って機械的の安定性がさらに急速に回復されるのである
。
実施例 2
実施例1のようにして、4種のフレクツグラフ用印刷板を作り露光をした。つい
で、IIのレリーフ深度となるまでに必要なウォッシュ−オフ時間を測定した。
印刷板をついで60℃で板の厚さの変化が認められなくなるまで乾燥をした。
(1) 5 5 5時5分
(3) 10 2 2時10分
(5) 10 3 3時10分
(7) 7 1 1時7分
(10) 6 2 2時6分
第2表は本発明の現像用溶剤を用いることにより、フレクツグラフ用印刷レリー
フの作成時間を著しく短縮できるのが示されている。
本発明のウォッシュ−オフ用溶剤を用いて作られた印刷レリーフは最小限度の膨
潤を示し、そして通常の溶剤により必要とする乾燥時間に比べてはるかに短い乾
燥時間ですむことを示した。
板の粘着防止用ポリアミド層を溶解するために、実際には20〜30%のブタノ
ールが溶剤に対して一般に加えられる。この添加剤は通常の溶剤に対し所要の乾
燥時間を減少し、本発明の溶剤では10〜15%減少する。
実施例 3
他のバインダー系による3種類の印刷板を作り、実施例1のようにしてテストし
た:(a)米国特許第4.320.180号の実施例2中のもの(2種類の異な
るエラストマーブロックをもつA−B−Cブロックコポリマー):(b)米国特
許第4.197.130号の実施例8中のもの(ラジアルブロックコポリマー)
:および(c)欧州特許第76、588号の実施例3中のもの(ポリブタジェン
)。3種の印刷レリーフは、いずれも本発明のウォッシュ−オフ溶剤に対し良好
なレリーフ深度と低い膨潤とを示した。
(1) 0.84 3.10 2゜92(4) 0.63 2.84 2.81
(6) 0.61 2.84 2.81(9) 0.74 2.86 2.83
(1) 1.10 3.30 2.93(4) 0.92 2.87 2.83
(6) 0.94 2.86 2.82(9) 1. Of 2.F、13 2
.84(1)0、?3 3.00 2.89
(4) 0.66 2.85 2.81(6) 0.58 2.84 2.81
(9) Q、 61 2.83 2.80実施例 4
サイレル[F]肛印刷板を、エチル3−エトキシプロピオネート(CHsCLO
CLCJlzCOOCJs)と2−エチルヘキサノールとの75/25重量比混
合物中で7.5分間処理をした。
このアルコールの目的はポリアミドの粘着防止層をとり除くためである(アルコ
ールがない場合、洗い出し時間は約5分であった)0
露光時間二 6分間
板のもとの厚さ: 2.85厘菖
60℃で1時間の乾燥後の厚さ: 2.88■レリ一フ深度: 0.90xm
これら結果はこの溶剤が良好なウォッシュ−アウト、低い膨潤性を与え、そして
迅速に乾燥することを示している。
r@沿掴審縮生
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(A)支持体上に少なくとも1つの光重合性の層を形成させ、そしてこの層 は光重合によって架橋結合性であるものとし; (B)この層を活性放射線に対して画像状に露光させ;そして (C)この層の架橋結合をしていない部分を現像用溶剤で除去する; ことによってフレクソグラフ用印刷レリーフを製造する方法において、この現像 用の溶剤が(a)ジエチレングリコールジアルキルエーテルで、このアルキル基 がC1〜5であるもの:(b)C6〜10の飽和アルコールおよびC6〜10の アルコキシ置換飽和アルコールの群から選ばれたアルコールの酢酸エステル;( c)C6〜10の酸とC1〜6のアルコールとのカルボン酸エステル;および( d)アルコキシ置換カルボン酸のエステルで、酸がC2〜4、アルコキシ置換基 がC1〜4、そしてアルコールがC1〜4のもの、からなる群より選ばれた少な くとも1つの成分をもつものを使用することからなる改良方法。 2)現像用溶剤がエチル3−エトキシ−プロピオネートである請求項1記載の方 法。 3)現像用溶剤が酢酸ノニルエステル、酢酸−2−エチルヘキシルエステルおよ びジエチレングリコールジエチルエーテルよりなる群から選ばれた少なくとも1 つの成分を含むものである請求項1記載の方法。 4)感光性層が熱可塑性エラストマーのブロックコポリマーを含むものである請 求項1記載の方法。 5)現像用溶剤が少なくとも1つのアルコールによりうすめられるものである請 求項1、2または3に記載の方法。 6)(A)支持体上に少なくとも1つの光重合性の層を形成させ、そしてこの層 は光重合によって架橋結合性であるものとし; (B)この層を活性放射線に対して画像状に露光させ;そして (C)この層の架橋結合をしていない部分を現像用溶剤で除去する; ことによってフレクソグラフ用印刷レリーフを製造する方法において、この現像 用の溶剤が(a)ジエチレングリコールジアルキルエーテルで、このアルキル基 がC1〜5であるもの;(b)C6〜10の分岐鎖飽和アルコールおよびC6〜 10のアルコキシ置換飽和アルコールの群から選ばれたアルコールの酢酸エステ ル;(c)C6〜10の酸とC1〜6のアルコールとの反応により生成したカル ボン酸エステル、からなる群より選ばれた少なくとも1つの成分をもつものを使 用することからなる改良方法。 7)現像用溶剤が酢酸−3,5,5−トリメチルヘキシルエステル、酢酸−2− エチルヘキシルエステルおよびジエチレングルコールジエチルエーテルよりなる 群から選ばれた少なくとも1つの成分を含むものである請求項6記載の方法。 8)感光性層が熱可塑性エラストマーのブロックコポリマーを含むものである請 求項6記載の方法。 9)現像用溶剤が少なくとも1つのアルコールによってうすめられるものである 請求項6または7記載の方法。
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DE3828551.7 | 1988-08-23 | ||
US39253689A | 1989-08-15 | 1989-08-15 | |
US392,536 | 1989-08-15 | ||
US3828551.7 | 1989-08-15 | ||
CA000609095A CA1336238C (en) | 1988-08-23 | 1989-08-23 | Process for the production of flexographic printing reliefs |
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JPH04500278A true JPH04500278A (ja) | 1992-01-16 |
JP2566326B2 JP2566326B2 (ja) | 1996-12-25 |
Family
ID=27168422
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JP1509817A Expired - Lifetime JP2566326B2 (ja) | 1988-08-23 | 1989-08-22 | フレクソグラフ用印刷レリーフの作成方法 |
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Country | Link |
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EP (2) | EP0433374B1 (ja) |
JP (1) | JP2566326B2 (ja) |
AT (1) | ATE136661T1 (ja) |
AU (1) | AU628399B2 (ja) |
CA (1) | CA1336238C (ja) |
DE (1) | DE68926242T2 (ja) |
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