JPS62160446A - 光重合により架橋されるレリ−フ版体の製造方法 - Google Patents
光重合により架橋されるレリ−フ版体の製造方法Info
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- JPS62160446A JPS62160446A JP61299080A JP29908086A JPS62160446A JP S62160446 A JPS62160446 A JP S62160446A JP 61299080 A JP61299080 A JP 61299080A JP 29908086 A JP29908086 A JP 29908086A JP S62160446 A JPS62160446 A JP S62160446A
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- trivalent
- monovalent
- solvent containing
- olefinic unsaturated
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
- G03F7/325—Non-aqueous compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（技術分野］
本発明は光重合架橋性層を１ζ学線で画像形成露光し、
該層の非架橋部分を現像溶媒で洗除することにより光重
合架橋版体を製造するだめの改良方法に関するものであ
る。更にまた本発明はこの改良方法により製造される改
良されたレリーフ深で及び改良された勾配構造をＭする
レリーフ版体に関するものである。
該層の非架橋部分を現像溶媒で洗除することにより光重
合架橋版体を製造するだめの改良方法に関するものであ
る。更にまた本発明はこの改良方法により製造される改
良されたレリーフ深で及び改良された勾配構造をＭする
レリーフ版体に関するものである。
（従来技術）
本発明により改良されるべきそのような製造方法は一般
的に公知である。このための慣用現像溶媒としては、 （ａ）クロロホルム、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレンＥＣはトリクロルエタンのような塩素化炭化
水累自体或はｎ−ブタノールのような低級アルコールと
の混合物、 （ｂ）石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
シクロヘキサン或はメチルシクロヘキサンのような飽和
環式或は非環式炭化水素、（０）ベンゼン、トルエンｙ
、はキシレンのよウナ芳香族炭化水素、或は （ｄ）アセトン、メチルエチルケトン或はメチルイソブ
チルナトンのような低級脂肪族ケトンが使用される。
的に公知である。このための慣用現像溶媒としては、 （ａ）クロロホルム、トリクロルエチレン、テトラクロ
ルエチレンＥＣはトリクロルエタンのような塩素化炭化
水累自体或はｎ−ブタノールのような低級アルコールと
の混合物、 （ｂ）石油エーテル、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
シクロヘキサン或はメチルシクロヘキサンのような飽和
環式或は非環式炭化水素、（０）ベンゼン、トルエンｙ
、はキシレンのよウナ芳香族炭化水素、或は （ｄ）アセトン、メチルエチルケトン或はメチルイソブ
チルナトンのような低級脂肪族ケトンが使用される。
しかしながら、このような公知方法の欠点は、十分な洗
除をもたらすためには現像溶媒を長時間作用させねばな
らないことである。このためにレリーフ版体はしばしば
膨潤し、レリーフ部分が洗い流され、細部が機械的に剥
離される。更に慣用の飽和炭化水素、芳香族炭化木葉及
びケトンを使用する場合には長時間の乾燥が必要であり
、このためにしばしば「ボジチプ内方磨滅Ｊ （ｐｏ
ｓｉｔｉｖθ１ｎｎｅｒｅ Ｚｕｒｉｃｈｔｕｎｇ ）
が懸念され、フルトーン表面レベルを超えて微細な画像
構成素子が突出てる。
除をもたらすためには現像溶媒を長時間作用させねばな
らないことである。このためにレリーフ版体はしばしば
膨潤し、レリーフ部分が洗い流され、細部が機械的に剥
離される。更に慣用の飽和炭化水素、芳香族炭化木葉及
びケトンを使用する場合には長時間の乾燥が必要であり
、このためにしばしば「ボジチプ内方磨滅Ｊ （ｐｏ
ｓｉｔｉｖθ１ｎｎｅｒｅ Ｚｕｒｉｃｈｔｕｎｇ ）
が懸念され、フルトーン表面レベルを超えて微細な画像
構成素子が突出てる。
また、これらの溶媒は云うまでもなく２１”Ｃよりも低
い引火点を有し、従って現像処理は特別な耐爆乃至耐燃
設備中で行わねばならない。塩素化炭化水素を使用する
場合にはその毒性のために廃棄について公害問題を生ず
る。更にまたこのような溶媒で作製されたレリーフ版体
は不満足な勾配構造をもたらす。
い引火点を有し、従って現像処理は特別な耐爆乃至耐燃
設備中で行わねばならない。塩素化炭化水素を使用する
場合にはその毒性のために廃棄について公害問題を生ず
る。更にまたこのような溶媒で作製されたレリーフ版体
は不満足な勾配構造をもたらす。
従って本発明により解決されるべきこの分野の技術的課
題は、洗除時間及び乾燥時間が公知方法よりも著しく短
縮され、レリーフ版体が膨潤することもなく、また流し
落とされることもなく、「ボジチプ内方磨滅」を生起せ
ず、防爆設備を必要とすることなく、改善されたレリー
フ深さ及び勾配構成を有するレリーフ版体をもたらす、
光重合により架橋されるレリーフ版体の製造方法を提供
することである。
題は、洗除時間及び乾燥時間が公知方法よりも著しく短
縮され、レリーフ版体が膨潤することもなく、また流し
落とされることもなく、「ボジチプ内方磨滅」を生起せ
ず、防爆設備を必要とすることなく、改善されたレリー
フ深さ及び勾配構成を有するレリーフ版体をもたらす、
光重合により架橋されるレリーフ版体の製造方法を提供
することである。
（発明の要約ン
上述の技術的課題は、光重合架橋性層を化学線で画像形
成露光し、該層の非架橋部分を現像溶媒で洗除すること
により光重合架橋レリーフ版体を製造する方法であって
、本質的構成分として８乃至１５個の炭素原子を有する
、分枝或は非分枝の１価乃至３価オレフィン列不飽和非
環式炭化水素もしくは飽和炭化水素或は１価乃至３価オ
レフィン列不飽和脂環式炭化水素、アルツー／Ｉ／或は
ケトンを含πする現像溶媒を使用することを特徴とする
本発明方法により解決され得ることが見出された。
成露光し、該層の非架橋部分を現像溶媒で洗除すること
により光重合架橋レリーフ版体を製造する方法であって
、本質的構成分として８乃至１５個の炭素原子を有する
、分枝或は非分枝の１価乃至３価オレフィン列不飽和非
環式炭化水素もしくは飽和炭化水素或は１価乃至３価オ
レフィン列不飽和脂環式炭化水素、アルツー／Ｉ／或は
ケトンを含πする現像溶媒を使用することを特徴とする
本発明方法により解決され得ることが見出された。
（発明の構成］
本発明方法において使用されるぺぎ８乃至１５個の炭素
原子を有する炭化水素、アルコール或はケトンとしては
、例えば１−オクテン、シクロオクタン、シクロオクテ
ン、シクロオクタツール、シクロオクタノン、３−ノネ
ン、モノテルペン及ヒセスキテルペン（ウルマンス、エ
ンツィクロペデイ、デル、テヒニツシエン、ヘミ−３版
、１６巻、１９６５年、７５６−７６６頁及び１７巻、
１９６６年、１−ｓａ頁参照）或はテレピン油（ウルマ
ンス、エンツイクロペディ、デル、テヒニツシェン、ヘ
ミ−３版、１６巻、１９６５年、７６８−７７９頁参照
ンが挙げられ、このうちモノテルペンが特に好ましい。
原子を有する炭化水素、アルコール或はケトンとしては
、例えば１−オクテン、シクロオクタン、シクロオクテ
ン、シクロオクタツール、シクロオクタノン、３−ノネ
ン、モノテルペン及ヒセスキテルペン（ウルマンス、エ
ンツィクロペデイ、デル、テヒニツシエン、ヘミ−３版
、１６巻、１９６５年、７５６−７６６頁及び１７巻、
１９６６年、１−ｓａ頁参照）或はテレピン油（ウルマ
ンス、エンツイクロペディ、デル、テヒニツシェン、ヘ
ミ−３版、１６巻、１９６５年、７６８−７７９頁参照
ンが挙げられ、このうちモノテルペンが特に好ましい。
本発明に使用されるべきモノテルペンのうち特に好まし
いのは、 ｐ−メンタン ボルネオール メントン ”−１Ｌ
−１）七ネンα−ピネン β−ピネン Ｊ−ピネン
シトロネロールならびにこれ等の混合物であって、
このうちＤ−及びＬ−リモネン乃至「ジテルベ／」がこ
とに好ましく、オレンジ果皮から得られるこのリモネン
異性体混合物が特に好ましい。この最後者を以下におい
て単に「リモネン」と略称する。
いのは、 ｐ−メンタン ボルネオール メントン ”−１Ｌ
−１）七ネンα−ピネン β−ピネン Ｊ−ピネン
シトロネロールならびにこれ等の混合物であって、
このうちＤ−及びＬ−リモネン乃至「ジテルベ／」がこ
とに好ましく、オレンジ果皮から得られるこのリモネン
異性体混合物が特に好ましい。この最後者を以下におい
て単に「リモネン」と略称する。
本発明に使用されるべき現像溶媒中の炭化水素、アルコ
ール或はケトンに対し、４０重量％までの他の溶媒を添
加使用することができる。例えばこの技術分野で公知の
高沸点アルコールを２０重量％添加することができる。
ール或はケトンに対し、４０重量％までの他の溶媒を添
加使用することができる。例えばこの技術分野で公知の
高沸点アルコールを２０重量％添加することができる。
本発明方法は方法論的には全く特殊な条件を必要としな
い。慣用の方法で画像形成露光層の非架橋部分を、本発
明方法において使用されるべき現像溶媒を２０乃至６０
”Ｃ１ことに２５乃至３５′Ｃで噴射し、ブラッシング
し或は塗擦して洗除することにより現像する。この場合
、本発明方法による最適洗除時間は公知方法におけるよ
りも著しく短く、また公知方法における最適洗除時間を
超えた場合の過剰洗除、丁なわち機械的作用によるレリ
ーフ版体からの材料の洗除を生じない。最適洗除時間に
おいては、洗除によりまさに最大限のレリーフ深さが達
成される。同時に極めて判然とした深さと極めて良好な
勾配構造を有するレリーフ版体が得られ、このレリーフ
版体の表面は公知方法により作製されたレリーフ版体の
表面よりも著しく平滑であり均斉である。同様に、慣用
の現像溶媒を使用した場合よりも画像構成素子の膨潤は
著しく低い。本発明の更に追加的な利点は長時間洗除処
理をしても浴中に沈澱物をもたらさない点である。
い。慣用の方法で画像形成露光層の非架橋部分を、本発
明方法において使用されるべき現像溶媒を２０乃至６０
”Ｃ１ことに２５乃至３５′Ｃで噴射し、ブラッシング
し或は塗擦して洗除することにより現像する。この場合
、本発明方法による最適洗除時間は公知方法におけるよ
りも著しく短く、また公知方法における最適洗除時間を
超えた場合の過剰洗除、丁なわち機械的作用によるレリ
ーフ版体からの材料の洗除を生じない。最適洗除時間に
おいては、洗除によりまさに最大限のレリーフ深さが達
成される。同時に極めて判然とした深さと極めて良好な
勾配構造を有するレリーフ版体が得られ、このレリーフ
版体の表面は公知方法により作製されたレリーフ版体の
表面よりも著しく平滑であり均斉である。同様に、慣用
の現像溶媒を使用した場合よりも画像構成素子の膨潤は
著しく低い。本発明の更に追加的な利点は長時間洗除処
理をしても浴中に沈澱物をもたらさない点である。
本発明実施態様において、波長λが２３０乃至４５０、
ことに３００乃至４５０の化学線により光重合架橋性層
を公知慣用の画像形成露光することか現像処理に先立っ
て行われる。この場合の適当な光源は、例えば太陽光、
市販のＵＶ螢光灯、中圧、低圧及び高圧水銀灯、超化学
線螢光灯、キセノンインパルス灯、沃化金属ドーピング
灯、炭素ア−り灯などである。
ことに３００乃至４５０の化学線により光重合架橋性層
を公知慣用の画像形成露光することか現像処理に先立っ
て行われる。この場合の適当な光源は、例えば太陽光、
市販のＵＶ螢光灯、中圧、低圧及び高圧水銀灯、超化学
線螢光灯、キセノンインパルス灯、沃化金属ドーピング
灯、炭素ア−り灯などである。
現像処理の次に、レリーフ版体の乾燥で本発明方法は完
結する。次いでレリーフ版体は更にハロゲン含有或はハ
ロゲン添加浴でハロゲン化処理され、還元浴で後洗浄し
、更に乾燥することもできる。これに代えて、或はその
後更にレリーフ版体ケ化学線で全面露光することもでき
る。
結する。次いでレリーフ版体は更にハロゲン含有或はハ
ロゲン添加浴でハロゲン化処理され、還元浴で後洗浄し
、更に乾燥することもできる。これに代えて、或はその
後更にレリーフ版体ケ化学線で全面露光することもでき
る。
本発明方法の更に他の利点は、光重合架橋性層が桟々の
良好な結果をもたらし得ることにある。
良好な結果をもたらし得ることにある。
公知の光重合架橋性層は、主として
（Ａ）１種類或は複数種類のエラストマー重合体を主体
とする結合剤と・ （Ｂ）１種類或は複数種類のこれと併存し得るモノマー
と、 （Ｃ）１種類或は複数種類の光重合開始剤とから成る。
とする結合剤と・ （Ｂ）１種類或は複数種類のこれと併存し得るモノマー
と、 （Ｃ）１種類或は複数種類の光重合開始剤とから成る。
これは更に適当な添加剤、例えば熱開始重合禁止剤、染
料、顔料、光吸収変色剤、抗ハレーション剤、抗オゾン
化剤、レリーフ構造改善剤、架橋助剤、フラックス剤、
剥離剤、充填剤及び／或は補強充填剤を有効量含有する
ことができる。
料、顔料、光吸収変色剤、抗ハレーション剤、抗オゾン
化剤、レリーフ構造改善剤、架橋助剤、フラックス剤、
剥離剤、充填剤及び／或は補強充填剤を有効量含有する
ことができる。
本発明方法は結合剤（Ａ）として４乃至５個の炭素原子
を有する共役脂肪族ジエンな含有する感光層の場合に良
好な結果をもたらす。結合剤（Ａ）として好ましいのは
、例えば天然ゴム、ブタジェン或はイソプレンの単独重
合体、ブタジェンとイソプレンの共重合体、ブタジェン
及び／或はイソプレンと他の共重合可能モノマー、例え
ばスチレ／、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ア
クリロニトリル或はアルキルに１乃至８個の炭素原子を
ｉする（メタ）アクリル酸アルキルエステル、例えばヨ
ーロッパ特許出願公開６４５６４号公報によるニトリル
ゴム、重合スチレン分ｌＯ乃至５０重ｔ％のスチレン／
ブタジェン共重合体、スチレン／イソプレン共重合体及
びスチレン／イソプレン／ブタジェン共重合体、西独特
許出願公開２２１５０９０号、同２４５６４３９号及び
同２９４２１８３号公報によるスチレン及びブタジェン
のブロック共重合体である。
を有する共役脂肪族ジエンな含有する感光層の場合に良
好な結果をもたらす。結合剤（Ａ）として好ましいのは
、例えば天然ゴム、ブタジェン或はイソプレンの単独重
合体、ブタジェンとイソプレンの共重合体、ブタジェン
及び／或はイソプレンと他の共重合可能モノマー、例え
ばスチレ／、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、ア
クリロニトリル或はアルキルに１乃至８個の炭素原子を
ｉする（メタ）アクリル酸アルキルエステル、例えばヨ
ーロッパ特許出願公開６４５６４号公報によるニトリル
ゴム、重合スチレン分ｌＯ乃至５０重ｔ％のスチレン／
ブタジェン共重合体、スチレン／イソプレン共重合体及
びスチレン／イソプレン／ブタジェン共重合体、西独特
許出願公開２２１５０９０号、同２４５６４３９号及び
同２９４２１８３号公報によるスチレン及びブタジェン
のブロック共重合体である。
本発明方法は結合剤（Ｎとして西独特許出願公開２９４
２１８３号公報によるＸ−Ｙ−２３成分系タイプのエラ
ストマーブロック共重合体であって、Ｘが熱可塑性の非
エラストマースチレンポリマーブロック、Ｙがエラスト
マーブタジェン及び／或はインプレンポリマーブロック
、ｚがブタジェン及び／或はイソプレンならびに場合に
よりスチレンから成る、Ｙと相違するエラストマーポリ
マーブロックを意味するものから形成される感光層を使
用する場合に、極めて秀れた結果がもたらされる。
２１８３号公報によるＸ−Ｙ−２３成分系タイプのエラ
ストマーブロック共重合体であって、Ｘが熱可塑性の非
エラストマースチレンポリマーブロック、Ｙがエラスト
マーブタジェン及び／或はインプレンポリマーブロック
、ｚがブタジェン及び／或はイソプレンならびに場合に
よりスチレンから成る、Ｙと相違するエラストマーポリ
マーブロックを意味するものから形成される感光層を使
用する場合に、極めて秀れた結果がもたらされる。
本発明方法は光重合により架橋可能の層或は更に他の適
当な層と合体した架橋可能の層について実施され得る。
当な層と合体した架橋可能の層について実施され得る。
この種の合体層は一般に多層体と称される（西独特許出
願公開２９４２１８３号及び同２４４４１１８号公報参
照］。
願公開２９４２１８３号及び同２４４４１１８号公報参
照］。
本発明方法により得られるレリーフ版体は、装飾面とし
て、フォトレジスト面として、平版、凸版、フレキソ印
刷版体として使用され得る。ことに連続印刷用のフレキ
ソ版体として適当である。
て、フォトレジスト面として、平版、凸版、フレキソ印
刷版体として使用され得る。ことに連続印刷用のフレキ
ソ版体として適当である。
以下の実施例及び対比実験例において、％で示される厚
さ膨潤度は重量測定により決定された。
さ膨潤度は重量測定により決定された。
画像構成素子の勾配構成の良好性は顕微鏡を使用して視
覚的に確認された。その基準はフントラスト、勾配の磨
耗度、縁辺の磨滅度とした。
覚的に確認された。その基準はフントラスト、勾配の磨
耗度、縁辺の磨滅度とした。
実施例 １
一般に市販されているようなフレキソ印刷版体を慣用の
方法で作製した。その担体シートとしては１２５μｍ厚
さのポリエチレンテレフタラートのシートを使用し、こ
れに光重合架橋性層を塗布する前に０．３μｍ厚さのポ
リウレタン接着層を施した。光重合架橋性層は７００μ
ｍ厚さとし、これは（Ａ） Ｘブロックとして１０重量
％のポリスチレン、Ｘブロックとして７０ｍｋ１％の一
５３゛Ｃのガラス転移点Ｔｇを有するポリイソプレン、
２ブロツクトして＋１０°Ｃのガラス転移点ヲ有し５３
重量％の３．４構造を写する２０重量％のポリイソプレ
ンから成”る、１６４．９ ｄ／ ｆの粘度、１９００
０００分子量を有するＸＹＺブロック共重合体９０．９
１７重量％、（Ｂ）ヘキサンジオール−１，６−ジアク
リラート７．２６８重量％及び（０）ベンジルジメチル
アセタール１，３５０重量％と、添加物質として２，６
−シーｔａｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．４５７重
量％及びソルベントプラック３（Ｏ０工、 ２６１５０
３０．００８重量％とを含有するものとした。保護層と
して高い環化度を有する環化ゴムの２μｍ厚さの層を使
用した。
方法で作製した。その担体シートとしては１２５μｍ厚
さのポリエチレンテレフタラートのシートを使用し、こ
れに光重合架橋性層を塗布する前に０．３μｍ厚さのポ
リウレタン接着層を施した。光重合架橋性層は７００μ
ｍ厚さとし、これは（Ａ） Ｘブロックとして１０重量
％のポリスチレン、Ｘブロックとして７０ｍｋ１％の一
５３゛Ｃのガラス転移点Ｔｇを有するポリイソプレン、
２ブロツクトして＋１０°Ｃのガラス転移点ヲ有し５３
重量％の３．４構造を写する２０重量％のポリイソプレ
ンから成”る、１６４．９ ｄ／ ｆの粘度、１９００
０００分子量を有するＸＹＺブロック共重合体９０．９
１７重量％、（Ｂ）ヘキサンジオール−１，６−ジアク
リラート７．２６８重量％及び（０）ベンジルジメチル
アセタール１，３５０重量％と、添加物質として２，６
−シーｔａｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール０．４５７重
量％及びソルベントプラック３（Ｏ０工、 ２６１５０
３０．００８重量％とを含有するものとした。保護層と
して高い環化度を有する環化ゴムの２μｍ厚さの層を使
用した。
このフレキソ印刷版体をまずその裏面から２分間全面露
光し、次いで保護層上に置いたネガチプ原画を透過して
２２分間画像形成露光し、３０℃において耐爆、防火設
備を施こ丁ことなくリモネンで塗擦現像した。最適洗除
時間は４分であった。画素の勾配は申分なく形成され、
レリーフ縁辺の損傷、側縁の磨耗は認められなかった。
光し、次いで保護層上に置いたネガチプ原画を透過して
２２分間画像形成露光し、３０℃において耐爆、防火設
備を施こ丁ことなくリモネンで塗擦現像した。最適洗除
時間は４分であった。画素の勾配は申分なく形成され、
レリーフ縁辺の損傷、側縁の磨耗は認められなかった。
厚さ膨潤度は１．６５％であった。
このフレキソ印刷版体ヲ８０℃で２週間乾燥し、室温で
１５時間保存し、臭素水溶液で慣用の後処理を行い、あ
らためて乾燥した。
１５時間保存し、臭素水溶液で慣用の後処理を行い、あ
らためて乾燥した。
この後処理を施したフレキソ印刷版体を印刷ドラムに展
張し、印刷に附した所、ネガチブ原画に対し全く欠陥の
ない印刷結果を得た。
張し、印刷に附した所、ネガチブ原画に対し全く欠陥の
ない印刷結果を得た。
実施例 ２
実施例１と同様にして、ただし非防爆式塗擦装置の代り
に非防爆式噴射装置を使用して現像処理した。最適洗除
時間は４．５分であった。画像構成素子の勾配、厚さ膨
潤度、印刷物の品質は実施例１における結果と全く同様
であった。
に非防爆式噴射装置を使用して現像処理した。最適洗除
時間は４．５分であった。画像構成素子の勾配、厚さ膨
潤度、印刷物の品質は実施例１における結果と全く同様
であった。
比較実験例 １
実施例１と同様にして、ただしリモネンの代りにテトラ
クロルエチレンを使用して現像処理した。
クロルエチレンを使用して現像処理した。
最適洗除時間は６．５分で、厚さ膨潤度は３％であった
。
。
比較実験例 ２
実施例１と同様にして、ただしリモネンの代りに、シク
ロヘキサンを使用し、非防爆式塗擦装置の代りに不可避
的に防爆設備を有する塗擦装置を使用して現像処理した
。最適洗除時間は６分、厚さ膨潤度は６％であった。画
像構成素子の勾配形′成は不満足（磨耗、縁辺の欠損〕
なものであった。
ロヘキサンを使用し、非防爆式塗擦装置の代りに不可避
的に防爆設備を有する塗擦装置を使用して現像処理した
。最適洗除時間は６分、厚さ膨潤度は６％であった。画
像構成素子の勾配形′成は不満足（磨耗、縁辺の欠損〕
なものであった。
実施例 ３
実施例１と同様に処理した。現像槽にはリモネン９０１
を入れ、全部で５０回の画像形成露光した、２００ Ｘ
３００ ｍｓサイズの非架橋部分７８％を有するフレ
キソ印刷版体を洗除現像した。現像槽には全く沈澱、汚
濁が認められなかった。
を入れ、全部で５０回の画像形成露光した、２００ Ｘ
３００ ｍｓサイズの非架橋部分７８％を有するフレ
キソ印刷版体を洗除現像した。現像槽には全く沈澱、汚
濁が認められなかった。
比較実験例 ３
実施例３と同様にして、ただしリモネンの代りにテトラ
クロルエチレンを使用して現像処理した。
クロルエチレンを使用して現像処理した。
槽中の液部縁とブラシには沈澱、汚濁が認められた０
実施例 ４
実施例１と同様にして、ただし４分間の最適洗除時間よ
りも８分間長く現像処理したが、それにもかかわらず過
洗除は認められなかった。
りも８分間長く現像処理したが、それにもかかわらず過
洗除は認められなかった。
比較実験例 ４
実施例４と同様にして、ただしリモネンの代りにテトラ
クロルエチレンを使用して現像処理した。
クロルエチレンを使用して現像処理した。
この場合過洗除を生じ、ことに縁辺部の欠損が著しかっ
た。更に個々の起伏点の勾配に磨耗が認められた。
た。更に個々の起伏点の勾配に磨耗が認められた。
Claims (4)
- （１）光重合架橋性層を化学線で画像形成露光し、該層
の非架橋部分を現像溶媒で洗除することにより光重合架
橋レリーフ版体を製造する方法において、本質的構成分
として８乃至１５個の炭素原子を有する、分枝或は非分
枝の１価乃至３価オレフィン列不飽和非環式炭化水素も
しくは飽和炭化水素或は１価乃至３価オレフィン列不飽
和脂環式炭化水素、アルコール或はケトンを含有する現
像溶媒を使用することを特徴とする方法。 - （２）特許請求の範囲（１）による方法において、本質
的構成分として１０個の炭素原子を有する、１価乃至３
価の分枝オレフィン列不飽和非環式炭化水素もしくは飽
和炭化水素或は１価乃至３価のオレフィン列不飽和脂環
式炭化水素、アルコール或はケトンを含有する現像溶媒
を使用することを特徴とする方法。 - （３）特許請求の範囲（２）による方法において、本質
的構成分としてモノテルペンを含有する現像溶媒を使用
することを特徴とする方法。 - （４）特許請求の範囲（３）による方法において、本質
的構成分としてｐ−メンタン、ボルネオール、メントン
、Ｄ−及びＬ−リモネン、α−テルピネオール、α−テ
ルピネン、γ−テルピネン、テルビノレン、α−、β−
及びδ−ピネン及び／或はシトロネロールを含有する現
像溶媒を使用することを特徴とする方法。
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