JP3388004B2 - 感光性記録素子およびレリーフ印刷版体の製造方法 - Google Patents

感光性記録素子およびレリーフ印刷版体の製造方法

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【技術分野】本願発明は、寸法的に安定な基板(A)、
光重合可能なレリーフ形成記録層(B)および、必要な
らば、(A)と(B)間に設置される接着促進層、記録
層(B)の基板に面する側と反対の面上に施された剥離
層(C)、および、必要に応じて剥離層上に施された被
覆シート(D)から成り、光重合可能なレリーフ形成記
録層(B)が b1 )少なくとも1種の高分子結合剤、 b2 )b1 )と相溶性の少なくとも1種の光重合可能な
オレフィン性不飽和のモノマー、 b3 )少なくとも1種の光重合開始剤、および b4 )少なくとも1種の更なる感光性有機化合物 より成る感光性記録素子に関する。
【0002】本願発明は更に、寸法的に安定な基板およ
び、少なくとも1種の高分子結合剤に加えて、少なくと
も1種の光重合可能なオレフィン性不飽和のモノマーお
よび少なくとも1種の光重合開始剤、および少なくとも
1種の更なる感光性有機化合物を含む感光性記録素子を
有し、不粘着性の印刷表面を有するレリーフ印刷版体の
新規な製造方法に関する。この新規な製造方法は、光重
合可能なレリーフ形成記録層を化学線で画像形成的に露
光させ、画像形成的に露光されたレリーフ形成記録層の
非露光、したがって光重合されていない部分を現像剤に
より洗浄除去(現像)し、およびこのような方法で得ら
れた光重合されたレリーフ層を波長λ<300nmの光
で後露光(後処理)する各工程より成る。
【0003】
【従来技術】寸法的に安定な基板および、少なくとも1
種の高分子結合剤、高分子結合剤と相溶性の少なくとも
1種の光重合可能なオレフィン性不飽和のモノマー、少
なくとも1種の光重合開始剤および少なくとも1種の更
なる感光性化合物を有する光重合可能なレリーフ形成記
録層より成るレリーフ印刷版体を製造するための感光性
記録素子は、例えば、ドイツ特許出願公開第27224
21号、同第2720560号または同第324824
7号各公報に開示されている。
【0004】最初に述べた製造工程より成る不粘着性の
印刷表面を有するレリーフ印刷版体の製造方法は更にド
イツ特許出願公開第2821500号公報、欧州特許第
0017927号明細書およびドイツ特許出願公開第3
908059号公報に開示されている。
【0005】ドイツ特許出願公開第2821500号公
報に記載された製造方法では、画像形成的に露光し、画
像形成的に露光されたレリーフ形成記録層の非露光の、
すなわち光重合されない部分を現像剤により洗浄除去
(現像)することによりレリーフ層を製造し、レリーフ
層の表面を9,10−アントラキノンのような脱水素化
合物に含浸させ、その後、波長λ<300nmの光で後
露光(後処理)する。
【0006】欧州特許第0017927号明細書に記載
されている製造方法では、主鎖中に共役ジエンモノマ
ー、少なくとも1種の光重合可能なオレフィン性不飽和
のモノマーおよび光重合開始剤より成るポリマーセグメ
ントを有する溶媒可溶の重合体を主成分として含む感光
性記録材料が用いられる。この特許明細書の第7欄、第
45−60行から明らかなように、ベンゾフェノン、ミ
カエルのケトンまたは更に他の多くの化合物が光重合開
始剤として使用され得る。更にその中にここで述べた光
重合開始剤は単独でも、組合わせても使用され得ること
が述べられている。しかしながら上記明細書にはどのよ
うな光重合開始剤が互いに組合わされるかについては何
ら記述されていない。
【0007】ドイツ特許出願公開第3908059号公
報には、感光性記録層が少なくとも1種のブロック共重
合体結合剤、少なくとも1種の光重合可能なオレフィン
性不飽和のモノマー、少なくとも1種の光重合開始剤お
よび、更に他の感光性化合物として、ベンゾフェノンお
よび/またはモノ−或はポリ置換のベンゾフェノンによ
り構成され、波長λ<300nmの光での後露光(後処
理)を行った結果として不粘着性の印刷表面を得たレリ
ーフ層を画像形成的に露光し、非露光部分を洗浄除去
(現像)することにより製造する製造方法が記載されて
いる。
【0008】しかしこれらの3つの公知の方法は不利な
点を有する。すなわちそれらは付加的な処理工程、例え
ば感光性レリーフ層の表面の9,10−アントラキノン
による含浸を要し、または特別の組成の光重合可能なレ
リーフ形成記録層を有する感光性記録素子に限定され、
更に他の感光性記録層の場合、所望の製造目的、すなわ
ち不粘着性の印刷表面の製造が達成されない。更にドイ
ツ特許出願公開第3908059号公報によるレリーフ
層の製造はベンゾフェノンおよび上述の誘導体が、使用
する光重合開始剤と同様に、化学線領域で高い吸光度を
有し、そのため露光時間を大幅に長びかせるという大き
な不利益を有することになる。このことは1mm、特に
3mm以上の大きいレリーフ深さを得る必要があるとき
特に注意すべきである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本願発明の課題は、新
規の記録素子およびレリーフ印刷版体、特にフレキソ印
刷版体の製造のための新規の方法を得ることであり、そ
の光重合可能なレリーフ層が不粘着性の印刷表面を有
し、新規の層表面が、 (1)寸法的に安定な基板および光重合可能なレリーフ
形成記録層を含む感光性記録素子の画像形成的な化学線
での露光、 (2)画像形成的に露光されたレリーフ形成記録層の非
露光、すなわち光重合されない部分の現像剤による洗浄
除去(現像)、 (3)このような方法で得られた光重合されたレリーフ
層の波長λ<300nmの光への後露光(後処理) の各工程より成り、先駆技術の欠点を有さない新規の記
録素子およびレリーフ印刷版体の製造方法を提供するこ
とである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願発明の目的は、驚く
べきことに、アリールアルキルケトン類より成る群から
選択される少なくとも1種の更なる感光性化合物が、新
規の方法に使用される感光性記録素子の光重合可能なレ
リーフ形成記録層に添加されるときに達成されることが
見出された。化学線による露光の間に光重合可能なレリ
ーフ形成記録層においてアリールアルキルケトンが単独
では光重合開始剤として作用しないという予期せざる実
験的発見から、本願発明による目的の達成はなおさら驚
くべきことである。
【0011】本願発明により、寸法的に安定な基板
(A)、光重合可能なレリーフ形成記録層(B)およ
び、必要ならば、(A)と(B)の間に設置される接着
促進層、記録層(B)の基板(A)に面する側と反対の
面に施された剥離層(C)、および、もし必要なら、そ
の上に施された被覆シート(D)から成り、光重合可能
なレリーフ形成記録層(B)が b)少なくとも1種の高分子結合剤、 b)b)と相溶性の少なくとも1種の光重合可能な
オレフィン性不飽和のモノマー、 b)少なくとも1種の光重合開始剤、および b)少なくとも1種の更なる感光性有機化合物より成
る感光性記録素子であって、一般式(I)または(I
I)
【化2】 で示され、式中R1が、炭素原子数1〜24のアルキ
ル、炭素原子数1〜24のアルカンジイル、炭素原子数
3〜12のシクロアルキル、炭素原子数3〜12のシク
ロアルカンジイル、またはベンジルを意味し、nが2、
3、4、5または6を意味し、R2〜R6が相互に同一
であっても異なっていてもよく、それぞれ水素、ハロゲ
ン、ヒドロキシル、チオール、シアノ、炭素原子数1〜
24のアルキル、アリール、炭素原子数1〜24のアル
コキシ、アリールオキシ、炭素原 子数1〜24のアルキ
ルチオ、アリールチオ、炭素原子数1〜24のアルキル
カルボニルオキシ、アリールカルボニルオキシ、炭素原
子数1〜24のアルキルカルボニルチオ、アリールカル
ボニルチオ、炭素原子数1〜24のアルキルオキシカル
ボニルオキシ、アリールオキシカルボニルオキシ、炭素
原子数1〜24のアルキルオキシカルボニルチオまたは
アリールオキシカルボニルチオを示す、1種またはそれ
以上のアリールアルキルケトンまたはアリールベンジル
ケトンが感光性有機化合物b)として使用されること
を特徴とする感光性記録素子に関する。
【0012】望ましいアリールアルキルケトンb4 )は
アルキル基中に1から18個の炭素原子を有するもので
ある。
【0013】本願発明は更に不粘着性の印刷表面を有す
るレリーフ印刷版体の製造方法であって、新規の感光性
記録素子が、(1)画像形成的に露光され、(2)レリ
ーフ形成記録層(B)の非露光部分が現像剤により除去
され、さらに(3)このような方法で得られた光重合さ
れたレリーフ層が波長λ<300nmの光で後処理され
ることを特徴とする製造方法に関する。
【0014】本願発明はまた、光重合性のレリーフ層を
波長λ<300nmの光で後処理する際にアリールアル
キルケトンおよび/またはそれらの混合物を使用するこ
とに関する。
【0015】新規の方法で製造されたレリーフ印刷版体
は不粘着性の印刷表面を有する。
【0016】不粘着性の印刷表面を有するレリーフ印刷
版体の製造のための新規の感光性記録素子に関して、以
下に詳細に述べる。
【0017】適当に寸法的に安定な基板は、通常印刷版
体の製造に使用されるものである。
【0018】寸法的に安定な基板の適当な例は、鋼、ア
ルミニウム、銅またはニッケルのような金属の、或はポ
リエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリアミドおよびポリカーボネートなどのプラスチ
ックのフィルムおよび円錐状または円筒状スリーブ、ガ
ラス繊維の織成体などの織成体または不織成体、および
ガラス繊維とプラスチックより成る複合材料がある。
【0019】b1 )少なくとも1種の高分子結合剤、 b2 )b1 )と相溶性の少なくとも1種の光重合可能な
オレフィン性不飽和のモノマー、 b3 )少なくとも1種の光重合開始剤および b4 )少なくとも1種の更なる感光性有機化合物 を含む光重合可能なレリーフ形成記録層(B)は、必要
に応じて薄い接着促進層を介して、寸法的に安定な基板
(A)上に施される。
【0020】適当な高分子結合剤b1 )は原則的には光
重合可能なレリーフ形成記録層に通常使用される全ての
ものが使用される。
【0021】特に適当な高分子結合剤b1 )はエラスト
マーである。
【0022】特に適当なエラストミック高分子結合剤b
1 )の例は、公知のポリアルカジエン、ビニル芳香族/
アルカジエン共重合体およびブロック共重合体、アルカ
ジエン/アクリロニトリル共重合体、エチレン/プロピ
レン共重合体、エチレン/プロピレン/アルカジエン共
重合体、エチレン/アクリル酸共重合体、アルカジエン
/アクリル酸共重合体、アルカジエン/アクリレート/
アクリル酸共重合体、およびエチレン/(メタ)アクリ
ル酸/(メタ)アクリレート共重合体である。
【0023】重合単位として、ブタジエンまたはイソプ
レンのような共役ジエンを含むエラストマーは特に非常
に適している。高分子結合剤b1 )は光重合可能な記録
層(B)中に、(B)中の成分の全量に対して50から
95、望ましくは50から90重量%の量で存在する。
【0024】更に本願発明によって使用される光重合可
能なレリーフ形成記録層(B)は、高分子結合剤b1
と相溶性の慣用、公知の光重合可能なオレフィン性不飽
和のモノマーb2 )を(B)の全量に対して1から6
0、有利には2から50、特に3から40重量%の量で
含む。「相溶性」という用語は使用するモノマーb2
が容易に高分子結合剤b1 )と混和し、対応する光重合
可能なレリーフ形成記録層(B)において乳白濁や曇り
が起きないことを意味する。適当なモノマーb2)の例
は、慣用、公知の、一価または多価アルコールのアクリ
レートおよびメタアクリレート、アクリルアミドおよび
メタアクリルアミド、ビニルエーテルおよびビニルエス
テル、アリルエーテルおよびアリルエステル、フマール
酸およびマレイン酸ジエステル、特にアクリル酸および
/または(メタ)アクリル酸と一価および、望ましくは
多価のアルコールとのエステル、例えばアクリル酸また
は(メタ)アクリル酸とエタンジオール、プロパンジオ
ール、ブタンジオール、ヘキサンジオールまたはオキサ
アルカンジオール、例えばジエチレングリコール、或は
アクリル酸または(メタ)アクリル酸と三価または多価
のアルコールとのエステル、例えばグリセロール、トリ
メチロールプロパン、ペンタエリスリトールまたはソル
ビトールである。特に適当な単官能および多官能アクリ
レートおよびメタアクリレートの例はブチルアクリレー
ト、ブチルメタアクリレート、2−エチルヘキシルアク
リレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタアクリ
レート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ブタン−1,4−ジオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、3−メ
チルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、1,1,1−トリメチ
ロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジ−、トリ
−およびテトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、またはペンタエリスリチルテトラ(メタ)アクリレ
ート、並びにポリ(エチレンオキサイド)ジ(メタ)ア
クリレート、ω−メチルポリ(エチレンオキサイド)−
α−イル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミ
ノエチルアクリレート、1モルのグリセロール、1モル
のエピクロロヒドリンおよび3モルのアクリル酸の反応
生成物、およびグリシジルメタアクリレートおよびビス
フェノールAジグリシジルエーテルアクリレートであ
る。
【0025】光重合可能なオレフィン性不飽和の有機化
合物の混合物および、例えば多官能性(メタ)アクリレ
ート例えばヒドロキシエチルメタアクリレートと上記タ
イプの多官能性(メタ)アクリレートとの混合物もまた
適している。
【0026】特にポリアミドまたはポリビニルアルコー
ルが成分b1 )として使用される場合、(メタ)アクリ
レートに加えて、(メタ)アクリルアミドの誘導体、例
えばポリオール(例えばグリコール)のN−メチロール
(メタ)アクリルアミドエーテルもまた成分b2 )とし
て適している。
【0027】適する光重合開始剤b3 )としては感光性
記録材料、例えば遊離基光開始剤、例えばベンゾインメ
チルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイン
イソプロピルエーテル、ベンゾインn−ブチルエーテル
またはベンゾインイソブチルエーテルなどの炭素原子数
1−6の直鎖または分枝状モノアルコールのベンゾイン
エーテルなどのベンゾインまたはベンゾイン誘導体、ベ
ンジルジメチルアセタール、ベンジル1−メチル1−エ
チルアセタールなどの対称もしくは非対称置換ベンジル
アセタール、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキサイド、2,6−ジメチルベンゾイ
ルジフェニルホスフィンオキサイドまたはアクリルジア
リ−ルホスフィンオキサイドなどのジアリ−ルホスフィ
ンオキサイド(ドイツ特許出願公開第2909992号
公報)または1−フェニル−2−メチル−2−ヒドロキ
シ−1−プロパンなどのヒドロキシプロパンおよび1−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが通常使用さ
れる。これらは単独でもしくは互いに混合物として使用
しても良いし、またコイニシエーターと共に、例えばベ
ンゾイルメチルエーテルとトリフェニルホスフィン、ジ
アクリルホスフィンオキサイドと第三アミン、またはア
クリルジアリールホスフィンオキサイドとベンジルジメ
チルアセタールを使用しても良い。
【0028】新規記録層(B)中に、成分b3 )は成分
1 )からb4 )の総量に対して0.01−10重量
%、好ましくは0.5−5重量%、ことに1−2重量%
存在する。
【0029】光重合可能なレリーフ形成記録層(B)に
は成分b4 )として一種類以上のアリールアルキルケト
ンが(B)中の成分の総量に対して0.05−10重量
%、好ましくは0.1−5重量%,ことに0.5−1.
5重量%含まれる。
【0030】適するアリールアルキルケトンb4 )の例
として一般式(I)および(II)
【0031】
【化1】 (式中、R1 はそれぞれ炭素原子数1−24のアルキル
またはアルカンジイル、それぞれ炭素原子数3−12の
シクロアルキルまたはシクロアルカンジイル、またはベ
ンジル、nは2、3、4、5または6であっても良く、
またR2 からR6は同じかまたは異なっても良く、それ
ぞれ水素、塩素などのハロゲン、ヒドロキシル、チオー
ル、シアノ、炭素原子数1−24のアルキル、フェニル
などのアリール、炭素原子数1−24のアルコキシ、フ
ェノキシなどのアリールオキシ、炭素原子数1−24の
アルキルチオ、フェニルチオなどのアリールチオ、炭素
原子数1−24のアルキルカルボニルオキシ、フェニル
カルボニルオキシなどのアリールカルボニルオキシ、炭
素原子数1−24のアルコキシカルボニルチオ、フェノ
キシカルボニルチオなどのアリールカルボニルチオ、炭
素原子数1−24のアルコキシカルボニルオキシ、フェ
ノキシカルボニルオキシなどのアリールカルボニルオキ
シ、炭素原子数1−24のアルコキシカルボニルチオ、
またはフェノキシカルボニルオキシチオなどのアリール
オキシカルボニルチオを示す)で示されるアリールアル
キルケトンが挙げられる。
【0032】アリールアルキルケトンb4 )はそれ自体
公知であり、一般的には対応する芳香族炭化水素をフリ
ーデル・クラフツ反応によりアシル化することにより製
造される。
【0033】更に本発明により使用される光重合可能な
レリーフ形成記録層(B)は更に添加剤、例えば熱重合
抑制剤、染料、顔料、フォトクロミック物質、ぼやけ防
止剤、可塑剤、酸化防止剤、レリーフ構造を向上させる
ための薬剤、架橋剤、充填剤および/または補強充填剤
を有効量で含有しても良い。
【0034】各成分から本発明に使用されるレリーフ形
成記録層(B)を製造するためには通常、公知の混合法
を使用して成分を混合し、公知方法、例えば溶液使用の
キャスティング、カレンダリング、押出で記録層形成用
の混合物を加工する。これらの方法を他の方法と適宜取
り混ぜて行っても良い。
【0035】本発明で使用される光重合可能なレリーフ
形成記録層(B)の膜厚を200μm−1cm、ことに
300μm−6mmとすると有利である。
【0036】新規感光性記録素子はこの他の層を含んで
も良い。すなわち、ドイツ特許出願公開第244411
8号公報による軟質弾性下層を寸法的に安定な基板
(A)の下に設けても良い。更に、慣用かつ公知の剥離
層(C)および/または慣用かつ公知の被覆シート
(D)が光重合可能レリーフ形成記録層上の寸法的に安
定な基板(A)と反対側の面上に存在しても良い。剥離
層(C)および/または慣用かつ公知の被覆シート
(D)を使用する場合には、剥離層(C)を記録層
(B)上に直接設け、更に付着防止層を剥離層(C)と
被覆シート(D)の間に設けても良い。また、接着促進
層を用いて寸法的に安定な基板(A)と光重合可能なレ
リーフ形成層(B)の間に堅固な接着性を得ることもで
きる。
【0037】一般的には、接着促進層の厚さを0.5−
4μm、剥離層(C)の厚さを0.5−20μm、被覆
シート(D)の厚さを20−250μm、付着防止層の
厚さを0.1−0.5μmとする。
【0038】新規の記録素子の製造方法には特に特色は
ないが、本発明に使用される光重合可能なレリーフ形成
記録層(B)を溶液のキャスティング、ホットプレス、
カレンダリングまたは押出により寸法的に安定な基板
(A)上に施すことにより行われる。この他の層はこの
二層から成る素子に公知方法により設けられる。しかし
ながら、まずこの記録層(B)を被覆シート(D)の剥
離層(C)に覆われている側に設け、次いで記録層
(B)の覆われていない側を寸法的に安定な基板(A)
に接着することも可能である。この新規方法において、
新規記録素子を化学線で画像形成的に露光し、製造工程
(1)とする。化学線の好適な光源の例に慣用かつ公知
の高圧、中圧、低圧の水銀灯、紫外線蛍光灯および金属
ハライドでドープしたランプがある。
【0039】画像形成的露光を受けたレリーフ形成記録
層(C)の未露光の、従って未重合の部分を適当な現像
剤で洗浄または現像する。適する現像剤の例としては慣
用かつ公知の無極性、非プロトン極性、プロトン極性の
各溶媒およびその混合物が通常この目的で使用される。
一般的に、製造工程(2)は慣用かつ公知のスプレーお
よびブラシワッシャー中で行われる。
【0040】製造工程(2)の後に、得られた光重合可
能層を波長λ<300nm、ことに200−300nm
の光で後露光、もしくは後処理する。
【0041】このような波長の光の光源として適当な例
は慣用かつ公知の殺菌灯および滅菌灯である。
【0042】新規方法に更なる工程を加えても良い。更
なる工程として適する例は以下の通りである。 ・新規記録媒体の表面および/または裏面への化学線に
よる均一な前露光。 ・新規記録素子中に存在する被覆シートの除去。 ・画像形成的に露光した記録素子中に存在する剥離層
(C)の分離洗浄。 ・製造工程(3)を行う前の光重合可能なレリーフ層の
乾燥、または放置。 ・製造工程(3)を行う前および/または後の光重合可
能レリーフ層への波長λ>300nmの光によるよる後
露光。
【0043】本発明による新規方法には多くの顕著な利
点がある。
【0044】即ち、新規方法により不粘着性のレリーフ
印刷版体表面を有するレリーフ印刷版体が製造できるの
みならず、不粘着性の装飾的なレリーフ型が製造でき
る。しかしながら、この新規方法の顕著な利点はフレキ
ソレリーフ印刷版体の製造を行う場合に極めて重要であ
る。なぜならばこの適用法において表面の粘着がかなり
重要な問題となるからである。本発明に於ける新規方法
によってエラストマー系光重合可能なレリーフ層が不粘
着性の印刷面を有するフレキソレリーフ印刷版体を得る
ことができる。新規記録媒体または光重合可能なレリー
フ形成記録層(B)の組成により、波長λ<300nm
の光を記録層(B)へ画像形成的に露光および後露光す
る時間が新規方法では従来技術による方法よりも短縮さ
れ、産業上の実施に大きな発展をもたらした。更に、得
られたレリーフ層はアイドットや線などのレリーフの細
部をより良く維持し、これはことにレリーフ深さが深
く、1mmより大きい場合、特に3mm以上の場合に極
めて重要である。また、新規方法により製造されたフレ
キソレリーフ印刷版体、およびその光重合可能のレリー
フ層は後露光の間、長びく貯蔵期間および/または繰り
返しの使用の間に脆化や割れを起こすような傾向は認め
られない。従って、このレリーフ印刷版体をフレキソ印
刷に使用する場合、従来の技術により製造されたフレキ
ソレリーフ印刷版体よりもかなり多数回および長時間使
用することができ、これにより優れた印刷原稿を非常に
長期に亙って得ることができる。更に、新規方法により
製造されたフレキソレリーフ印刷版体はインクの受容性
に優れているが印刷インク溶媒に対して非常に安定であ
り、これらによって、問題となるほど膨れることはな
い。
【0045】後述の表に示した組成の光重合可能なレリ
ーフ形成記録層(B)を以下に記載する実施例1−2
0、および比較実験V1−V4で使用する。ここで、す
べての場合において、慣用かつ公知の熱可塑性エラスト
マー系スチレン/イソプレン/スチレンスリーブロック
重合体(例えばシェル社製造のCariflex(登録
商標)TR1107)を高分子結合剤b1 )として、5
重量%のヘキサン−1,6−ジオールジアクリレートを
光重合可能なオレフィン性不飽和単量体b2 )として、
1.2重量%のベンジルジメチルケタールを光重合開始
剤b3 )として、および1.2重量%の2,6−ジ−t
ert−ブチル−p−クレゾール、0.002重量%の
染料溶媒ブラック3、および可塑剤としての13重量%
の慣用かつ公知の液体パラフィンの助剤を使用した。重
量%という表現は光重合可能なレリーフ形成記録層
(B)中に存在する成分b1 )−b4 )の総量を基準と
する。
【0046】実施例および比較実験において、慣用、公
知の標準ネガおよび樹脂管を有する慣用、公知の平板露
光装置を化学線の画像形成的な露光に使用した。
【0047】画像形成的に露光したレリーフ形成記録層
(B)の現像(製造工程(2))を慣用、公知の円筒状
ブラシワッシャー中で行った。80容量%の高沸点水素
化鉱油留分(エッソ製Exxol(登録商標)D60)
と20容量%のn−ペンチルの混合物をここで現像剤と
して使用した。
【0048】アンデルソンおよびフリーランドによる寸
法300×400mm、フィリップスTUV40W管を
有する後処理ランプ装置で、波長λ<300nmの光を
使用し後露光(後処理)した(製造工程(3))。
【0049】フレキソレリーフ印刷版体中の光重合され
たレリーフ層印刷面の粘着をエリクセン振子法で測定し
た。このため光重合されたレリーフ層の、べた部分を切
り取り、これらの試料の振子粘着値(PTV)を測定し
た。公知方法では振子に接続した円筒を目的の表面上に
置き、振子が一定に振れた後、振子が静止するまでの振
幅数を測定した。目的の表面の粘着性が高いほど振子の
振幅減衰が増大し、低い振子粘着値が得られる。
【0050】
【実施例】
(実施例1−20および比較実験V1−V4)新規実験(実施例1−20)および従来の実験(比較実
験V1−V4)によるフレキソレリーフ印刷版体の製造
手順 実施例1−20および比較実験V1−V4を実行するた
めに使用される感光性記録素子の全体の厚さはそれぞれ
4700μmであり、これらは膜厚4560μmの光重
合可能なレリーフ形成記録層(B)、および寸法的に安
定な基板(A)として、ポリウレタン接着促進塗膜で塗
布された膜厚125μmのポリエチレンテレフタレート
からそれぞれ構成される。すべての場合において前露光
時間を一定としたことによりレリーフの深さは3mmと
なった。画像形的な露光の段階では直径750μmのア
イドットが良好に維持される時間を露光時間と定めた。
すなわち側壁は決して削られることなく平たんでなけれ
ばならない。
【0051】表に高分子結合剤b1 )の組成、更なる感
光性化合物b4 )の組成、および更に感光性記録素子を
更に加工する場合の操作条件を記載する。振子法の使用
により得られた振子粘着値を最終欄に示す。
【0052】
【表1】
【0053】
【表2】
フロントページの続き (72)発明者 トーマス、ツヴェツ ドイツ、76199、カールスルーエ、アル メントシュトラーセ、8 (72)発明者 ベルンハルト、アルベルト ドイツ、67133、マクスドルフ、リート ブルクシュトラーセ、13 (56)参考文献 特開 平2−273751(JP,A) 特開 平2−213846(JP,A) 特開 昭58−40546(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/004 G03F 7/028 G03F 7/032 C08F 2/50 G03F 7/00 502

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 寸法的に安定な基板(A)、光重合可能
    なレリーフ形成記録層(B)および、必要に応じて
    (A)と(B)の間に設置される接着促進層、記録層
    (B)の基板(A)に面する側と反対の面上に施された
    剥離層(C)、および必要に応じて、その上に施された
    被覆シート(D)から成り、 光重合可能なレリーフ形成記録層(B)が b)少なくとも1種の高分子結合剤、 b)b)と相溶性の少なくとも1種の光重合可能な
    オレフィン性不飽和のモノマー、 b)少なくとも1種の光重合開始剤、および b)少なくとも1種の更なる感光性有機化合物より成
    る感光性記録素子であって、一般式(I)または(I
    I) 【化1】 で示され、式中 が、炭素原子数1〜24のアルキ
    ル、 炭素原子数1〜24のアルカンジイル、 炭素原子数3〜12のシクロアルキル、 炭素原子数3〜12のシクロアルカンジイル、または
    ンジルを意味し、 nが2、3、4、5または6を意味し、 〜R が相互に同一であっても異なっていてもよ
    く、それぞれ 水素、ハロゲン、ヒドロキシル、チオー
    ル、シアノ、炭素原子数1〜24のアルキル、アリー
    ル、炭素原子数1〜24のアルコキシ、アリールオキ
    シ、炭素原子数1〜24のアルキルチオ、アリールチ
    オ、炭素原子数1〜24のアルキルカ ルボニルオキシ、
    アリールカルボニルオキシ、炭素原子数1〜24のアル
    キルカルボニルチオ、アリールカルボニルチオ、炭素原
    子数1〜24のアルキルオキシカルボニルオキシ、アリ
    ールオキシカルボニルオキシ、炭素原子数1〜24のア
    ルキルオキシカルボニルチオまたはアリールオキシカル
    ボニルチオを示す、1種以上のアリールアルキルケトン
    またはアリールベンジルケトン が感光性有機化合物
    )として使用されることを特徴とする感光性記録素
    子。
  2. 【請求項2】不粘着性の印刷表面を有するレリーフ印刷
    版体の製造方法であって、請求項1に記載の感光性記録
    素子が、(1)画像形成的に露光され、(2)レリーフ
    形成記録層(B)の非露光部分が現像剤により除去さ
    れ、さらに(3)このように得られた光重合されたレリ
    ーフ層が波長λ<300nmの光で後処理されることを
    特徴とする製造方法。
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