JP3210667B2 - プリンティングプレート - Google Patents
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- printing plate
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
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- G—PHYSICS
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
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- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明はプリンティングプレート、およびプリンティ
ングプレートの製造方法および使用方法に関する。より
詳しくは、本発明は、露光後に最小の処理でまたは追加
処理無しで印刷機上での使用にすぐ使える平版プリンテ
ィングプレートに関する。
ングプレートの製造方法および使用方法に関する。より
詳しくは、本発明は、露光後に最小の処理でまたは追加
処理無しで印刷機上での使用にすぐ使える平版プリンテ
ィングプレートに関する。
平版プリンティングプレート、特に、シート様アルミ
ニウム支持体上に支持されたもの、の製造は、印刷分野
で周知である。かかるプリンティングプレートは典型的
に平版タイプのものであり、そして印刷は、印刷領域が
隣りのまわりの非印刷領域よりも認め得る程盛り上がっ
てもいないし凹んでもいない実質的に平坦な表面から行
われる。一般に、これらプレートは疎水性（撥水性）の
インキ受容性画像領域と、親水性（インキ反撥性）の水
受容性非画像領域からなる。親水性の非画像領域は代表
的には、像様現像処理によって裸出した親水性表面であ
る。従って、フォトレジスト材料の非画像領域は、たと
えば、洗浄除去されるか又は他の仕方で除去されること
ができ、そうして、親水性樹脂層、燐酸塩−もしくは珪
酸塩−で処理された親水性表面を有する、アルミニウム
（またはその他金属板）表面、陽極酸化したアルミニウ
ム（またはその他金属板）表面または金属板が裸出され
る。米国特許第3,836,366号（J.L.Silverに対して1974
年９月17日に発行された）に記載されているように、プ
リンティングプレートの親水性非画像領域は腐食や点腐
のせいで水受容性の損失を受け、その結果、非画像領域
に親水性保護被覆を保つためには定期的に親水性保護被
覆、たとえば、アラビアゴムが適用されることになろう
（プレートの「ゴム引き」）。必要な親水性表面を提供
するのに使用されてもよい親水性樹脂状被覆に関して、
その特許に言及されている欠点は、中でも、非画像領域
の親水性または水吸引性が徐々に意図した効能を失う傾
向があることと、かかる材料が「スカム（scum）」す
る、すなわち、徐々に、親油性、インキ受容性になる傾
向があることである。
ニウム支持体上に支持されたもの、の製造は、印刷分野
で周知である。かかるプリンティングプレートは典型的
に平版タイプのものであり、そして印刷は、印刷領域が
隣りのまわりの非印刷領域よりも認め得る程盛り上がっ
てもいないし凹んでもいない実質的に平坦な表面から行
われる。一般に、これらプレートは疎水性（撥水性）の
インキ受容性画像領域と、親水性（インキ反撥性）の水
受容性非画像領域からなる。親水性の非画像領域は代表
的には、像様現像処理によって裸出した親水性表面であ
る。従って、フォトレジスト材料の非画像領域は、たと
えば、洗浄除去されるか又は他の仕方で除去されること
ができ、そうして、親水性樹脂層、燐酸塩−もしくは珪
酸塩−で処理された親水性表面を有する、アルミニウム
（またはその他金属板）表面、陽極酸化したアルミニウ
ム（またはその他金属板）表面または金属板が裸出され
る。米国特許第3,836,366号（J.L.Silverに対して1974
年９月17日に発行された）に記載されているように、プ
リンティングプレートの親水性非画像領域は腐食や点腐
のせいで水受容性の損失を受け、その結果、非画像領域
に親水性保護被覆を保つためには定期的に親水性保護被
覆、たとえば、アラビアゴムが適用されることになろう
（プレートの「ゴム引き」）。必要な親水性表面を提供
するのに使用されてもよい親水性樹脂状被覆に関して、
その特許に言及されている欠点は、中でも、非画像領域
の親水性または水吸引性が徐々に意図した効能を失う傾
向があることと、かかる材料が「スカム（scum）」す
る、すなわち、徐々に、親油性、インキ受容性になる傾
向があることである。
「スカミング」による、親水性の漸次損失は、プレー
トの有効寿命を短くする。さらに、親水性樹脂状物質の
変質は裸出領域だけに限らず、必要な疎水性領域の下に
横たわる層の隣接部分にも及び、その結果、必要な親油
性印刷領域の「アンダーカッティング」および印刷品質
の損失を生じる。親水性の損失を克服するための、たと
えば、プレートの定期的「ゴム引き」による、試みは、
転じて、プレートの「ブラインディング（blindin
g）」、すなわち、プレートのインキ受容性（画像）領
域の親油性の低下、を促進するかも知れない。
トの有効寿命を短くする。さらに、親水性樹脂状物質の
変質は裸出領域だけに限らず、必要な疎水性領域の下に
横たわる層の隣接部分にも及び、その結果、必要な親油
性印刷領域の「アンダーカッティング」および印刷品質
の損失を生じる。親水性の損失を克服するための、たと
えば、プレートの定期的「ゴム引き」による、試みは、
転じて、プレートの「ブラインディング（blindin
g）」、すなわち、プレートのインキ受容性（画像）領
域の親油性の低下、を促進するかも知れない。
プリンティングプレートの製造においては、露光工程
の後に、通常、現像工程を行って、親水性表面の上にネ
ガ作用またはポジ作用どちらのフォトレジストが使用さ
れているかに依存して非露光領域または露光領域を像様
除去する。現像処理は通常、洗浄およびすすぎ作業を包
含し、それら作業は摩擦やブラッシングによって補助さ
れてもよい。その他の作業、たとえば、プレートの「ゴ
ム引き」も行われるであろう。プレートメーカーによっ
て行われるこれら作業は印刷分野では従来からのもので
ある。従って、湿式現像処理の行為に頼らない、また露
光後にそれ以上の処理を必要としないで直接にプレート
の使用を可能にする、プレート製造方法はかなりの魅力
がある。
の後に、通常、現像工程を行って、親水性表面の上にネ
ガ作用またはポジ作用どちらのフォトレジストが使用さ
れているかに依存して非露光領域または露光領域を像様
除去する。現像処理は通常、洗浄およびすすぎ作業を包
含し、それら作業は摩擦やブラッシングによって補助さ
れてもよい。その他の作業、たとえば、プレートの「ゴ
ム引き」も行われるであろう。プレートメーカーによっ
て行われるこれら作業は印刷分野では従来からのもので
ある。従って、湿式現像処理の行為に頼らない、また露
光後にそれ以上の処理を必要としないで直接にプレート
の使用を可能にする、プレート製造方法はかなりの魅力
がある。
発明の背景 低いスカミング性向を有する平版プリンティングプレ
ートを発明した。それは露光後にそれ以上の処理を殆ど
または全く必要としないで直接に印刷機で使用すること
ができる。それは、プリンティングプレート用基体の上
に、親水性重合体結着剤と、露光領域の不溶化または硬
化を促進することができる光重合性、光架橋性または光
転位性の化合物とを含んでいる感光性親水性層；および
更にその上に、疎水性重合体結着剤と、露光領域の不溶
化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋
性または光転位性の化合物とを含んでいる感光性疎水性
層；を順に用いることによって得ることができる。プリ
ンティングプレート製造用のこの得られた層を露光する
と、感光性疎水性層の中の光重合性、光架橋性または光
転位性の化合物（以後、便宜上、「光活性化合物」と称
する）は露光領域では不溶化または硬化を促進して疎水
性（親油性、インキ受容性）印刷領域をもたらす。同時
に、感光性疎水性層の露光領域の下に横たわっている感
光性親水性層の領域も、光不溶化または光硬化されてそ
の露光領域に改良された硬度および耐久性を付与する。
露光済みプレートは直接に印刷機に搭載して既知の印刷
方法に従って平版印刷に使用することができる。
ートを発明した。それは露光後にそれ以上の処理を殆ど
または全く必要としないで直接に印刷機で使用すること
ができる。それは、プリンティングプレート用基体の上
に、親水性重合体結着剤と、露光領域の不溶化または硬
化を促進することができる光重合性、光架橋性または光
転位性の化合物とを含んでいる感光性親水性層；および
更にその上に、疎水性重合体結着剤と、露光領域の不溶
化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋
性または光転位性の化合物とを含んでいる感光性疎水性
層；を順に用いることによって得ることができる。プリ
ンティングプレート製造用のこの得られた層を露光する
と、感光性疎水性層の中の光重合性、光架橋性または光
転位性の化合物（以後、便宜上、「光活性化合物」と称
する）は露光領域では不溶化または硬化を促進して疎水
性（親油性、インキ受容性）印刷領域をもたらす。同時
に、感光性疎水性層の露光領域の下に横たわっている感
光性親水性層の領域も、光不溶化または光硬化されてそ
の露光領域に改良された硬度および耐久性を付与する。
露光済みプレートは直接に印刷機に搭載して既知の印刷
方法に従って平版印刷に使用することができる。
本発明の物品によれば、順に、 プリンティングプレート用基体； 親水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域の不溶化ま
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
親水性層；および、 疎水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域の不溶化ま
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
疎水性層； を含んでおり、 前記感光性親水性層および感光性疎水性層の各々の露
光領域は前記露光によって光不溶化または光硬化され； 前記感光性疎水性層の非露光領域は、前記露光後に前
記下に横たわる重合体親水性層から除去されるときに、
前記重合体親水性層の対応する下に横たわる領域を裸出
するのに適合している； 平版プリンティングプレートが提供される。
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
親水性層；および、 疎水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域の不溶化ま
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
疎水性層； を含んでおり、 前記感光性親水性層および感光性疎水性層の各々の露
光領域は前記露光によって光不溶化または光硬化され； 前記感光性疎水性層の非露光領域は、前記露光後に前
記下に横たわる重合体親水性層から除去されるときに、
前記重合体親水性層の対応する下に横たわる領域を裸出
するのに適合している； 平版プリンティングプレートが提供される。
本発明の方法によれば、印刷機で使用するための露光
済み平版プリンティングプレートの製造方法が提供され
る。この製造方法は、プリンティングプレート用基体の
上に、順に、上記に説明したような、重合体の親水性感
光性層と疎水性感光性層を提供し；前記各層の領域を同
時に、前記領域で前記各層を光不溶化または光硬化する
のに十分に、露光し；そして、前記重合体疎水性層の非
露光領域を除去し、それによって、その下に横たわる前
記重合体親水性層の領域を裸出させることを包含してい
る。
済み平版プリンティングプレートの製造方法が提供され
る。この製造方法は、プリンティングプレート用基体の
上に、順に、上記に説明したような、重合体の親水性感
光性層と疎水性感光性層を提供し；前記各層の領域を同
時に、前記領域で前記各層を光不溶化または光硬化する
のに十分に、露光し；そして、前記重合体疎水性層の非
露光領域を除去し、それによって、その下に横たわる前
記重合体親水性層の領域を裸出させることを包含してい
る。
さらに、本発明の別の方法によれば、平版印刷方法が
提供される。この方法は、上記に説明したようなプリン
ティングプレートの親水性層と疎水性層の領域を同時に
露光することによって、露光済み平版プリンティングプ
レートを製造し；露光済み平版プリンティングプレート
を、洗浄またはその他の湿式処理なしで、前記平版プリ
ンティングプレートが少なくとも親油性インキおよび水
性湿し液と接触するのに適した印刷機上に設置し；そし
て、前記印刷機を操作することを包含している。
提供される。この方法は、上記に説明したようなプリン
ティングプレートの親水性層と疎水性層の領域を同時に
露光することによって、露光済み平版プリンティングプ
レートを製造し；露光済み平版プリンティングプレート
を、洗浄またはその他の湿式処理なしで、前記平版プリ
ンティングプレートが少なくとも親油性インキおよび水
性湿し液と接触するのに適した印刷機上に設置し；そし
て、前記印刷機を操作することを包含している。
本発明の特徴および目的をより十分に理解するために
図面を参考に以下に詳述する。
図面を参考に以下に詳述する。
図面の簡単な説明 図1Aは本発明の平版プリンティングプレートの概略断
面図である。
面図である。
図1Bは、図1Aのプリンティングプレートの露光後の概
略断面図であり、露光領域と非露光領域を示している。
略断面図であり、露光領域と非露光領域を示している。
図1Cは、図1Bのプリンティングプレートの現像後の概
略断面図である。
略断面図である。
図２は、保護オーバーレイを具備した本発明の平版プ
リンティングプレートの概略断面図であり、オーバーレ
イが一部分取り除かれた状態で示されている。
リンティングプレートの概略断面図であり、オーバーレ
イが一部分取り除かれた状態で示されている。
図３は、プリンティングプレートから疎水性感光性材
料の非露光領域を一緒に除去するために剥離シートを具
備した本発明の平版プリンティングプレートの概略断面
図であり、剥離シートが一部分剥がされた状態で示され
ている。
料の非露光領域を一緒に除去するために剥離シートを具
備した本発明の平版プリンティングプレートの概略断面
図であり、剥離シートが一部分剥がされた状態で示され
ている。
発明の詳細 先に述べたように、本発明の平版プリンティングプレ
ートは、プリンティングプレート用基体の上に担持され
た感光性の親水性層と疎水性層を含有しており、そして
露光可能であり、そしてそれ以上の処理を殆どまたは全
く必要としないで印刷機上で使用可能である。
ートは、プリンティングプレート用基体の上に担持され
た感光性の親水性層と疎水性層を含有しており、そして
露光可能であり、そしてそれ以上の処理を殆どまたは全
く必要としないで印刷機上で使用可能である。
図１を引用して、好ましい平版プリンティングプレー
ト10を示す。それは、感光性親水性層14と感光性疎水性
層16を担持した基体12を含んでいる。基体12は、印刷操
作に使用するのに適する耐久性を有する様々なシート様
材料のいずれから成ってもよく、金属や金属合金からな
るプレートが挙げられる。紙または紙積層体を使用する
こともでき、同様に、ポリエチレン、ポリエチレンテレ
フタレート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリカ
ーボネートなどのような重合体シートまたはホイルであ
ることができる。
ト10を示す。それは、感光性親水性層14と感光性疎水性
層16を担持した基体12を含んでいる。基体12は、印刷操
作に使用するのに適する耐久性を有する様々なシート様
材料のいずれから成ってもよく、金属や金属合金からな
るプレートが挙げられる。紙または紙積層体を使用する
こともでき、同様に、ポリエチレン、ポリエチレンテレ
フタレート、三酢酸セルロース、ポリスチレン、ポリカ
ーボネートなどのような重合体シートまたはホイルであ
ることができる。
本発明の平版プリンティングプレートの製造において
は、基体12は、親水性層14および疎水性層16を提供する
ように、塗布される。先に述べたように、それぞれの層
の露光領域は同時に光不溶化または光硬化されて層の露
光領域に改良された硬度および耐久性を与える。層14お
よび16の各々の中の光活性化合物の存在により、必要な
上記の光不溶化または光硬化の作用が促進される。この
分野で認識されている通り、平版プリンティングプレー
トの製造に使用するための放射線感受性（複製）被膜を
担持するコーティング支持体または基体は、或る種の要
求、たとえば、露光前の感光性被膜（単数または複数）
の基体への適切な接着度と、露光後には必要な印刷を遂
行する部分の被膜（単数または複数）の十分な接着性と
を満足させる必要があろう。複製用被膜のために適する
コーティング支持体のこれらおよびその他要求は、たと
えば、米国特許第4,492,616号（E.Pliefke他に対して19
85年１月８日に発行された）に記載されている。従っ
て、層14においてその中の光活性化合物の存在によって
促進される有利な光硬化および光不溶化の効果は、層が
基体に単に一時的または貧弱に接着している場合に、得
ることができるが、かかる有利な効果は、実際の立場か
らは、基体12とその上に塗布された層14との間の適切な
接着度が存在する場合にのみ、実現され、そして有効な
プレート寿命に反映されるであろう、ということが認識
されよう。
は、基体12は、親水性層14および疎水性層16を提供する
ように、塗布される。先に述べたように、それぞれの層
の露光領域は同時に光不溶化または光硬化されて層の露
光領域に改良された硬度および耐久性を与える。層14お
よび16の各々の中の光活性化合物の存在により、必要な
上記の光不溶化または光硬化の作用が促進される。この
分野で認識されている通り、平版プリンティングプレー
トの製造に使用するための放射線感受性（複製）被膜を
担持するコーティング支持体または基体は、或る種の要
求、たとえば、露光前の感光性被膜（単数または複数）
の基体への適切な接着度と、露光後には必要な印刷を遂
行する部分の被膜（単数または複数）の十分な接着性と
を満足させる必要があろう。複製用被膜のために適する
コーティング支持体のこれらおよびその他要求は、たと
えば、米国特許第4,492,616号（E.Pliefke他に対して19
85年１月８日に発行された）に記載されている。従っ
て、層14においてその中の光活性化合物の存在によって
促進される有利な光硬化および光不溶化の効果は、層が
基体に単に一時的または貧弱に接着している場合に、得
ることができるが、かかる有利な効果は、実際の立場か
らは、基体12とその上に塗布された層14との間の適切な
接着度が存在する場合にのみ、実現され、そして有効な
プレート寿命に反映されるであろう、ということが認識
されよう。
適する基体12は、層14（および間接的に層16）が露光
前に十分に接着することができ、かつ露光後には露光さ
れた印刷（画像）領域が接着するものである。実際に
は、プリンティングプレートの製造に使用するための基
体材料は上記米国特許第4,492,616号に記載されている
ように、感光性被膜の接着性を改良するために、または
基体材料の親水性を増大させるために、および／または
感光性被膜の現像適性をを改良するために、しばしば一
つまたはそれ以上の処理を受けるであろう。従って、基
体12は代表的には、層14の必要な接着性を促進するため
に、たとえば、コロナ放電やプラズマ処理によって又は
粗面化処理によって、処理されるであろう。
前に十分に接着することができ、かつ露光後には露光さ
れた印刷（画像）領域が接着するものである。実際に
は、プリンティングプレートの製造に使用するための基
体材料は上記米国特許第4,492,616号に記載されている
ように、感光性被膜の接着性を改良するために、または
基体材料の親水性を増大させるために、および／または
感光性被膜の現像適性をを改良するために、しばしば一
つまたはそれ以上の処理を受けるであろう。従って、基
体12は代表的には、層14の必要な接着性を促進するため
に、たとえば、コロナ放電やプラズマ処理によって又は
粗面化処理によって、処理されるであろう。
特に好ましい基体12はアルミニウム、亜鉛、鋼または
銅の金属製基体である。これらは既知の二層金属板およ
び三層金属板、たとえば、銅またはクロム層を有するア
ルミニウム板；クロム層を有する銅板；銅層とクロム層
を有する鋼板；および純粋なアルミニウムの被覆を有す
るアルミニウム合金板；などである。
銅の金属製基体である。これらは既知の二層金属板およ
び三層金属板、たとえば、銅またはクロム層を有するア
ルミニウム板；クロム層を有する銅板；銅層とクロム層
を有する鋼板；および純粋なアルミニウムの被覆を有す
るアルミニウム合金板；などである。
好ましい板12は、板表面が機械的または化学的（たと
えば、電気化学的）に又は粗面化処理の組み合わせによ
り粗面化されている、粗面化アルミニウム板である。陽
極酸化された板を使用することができる。陽極酸化はこ
の分野で知られているように、たとえば、アルカリ金属
の水酸化物、燐酸塩、アルミン酸塩、炭酸塩および珪酸
塩などの、水性アルカリ性電解質溶液の中で行うことが
できる。たとえば、水性アルカリ金属珪酸塩、たとえ
ば、珪酸ナトリウムで処理されているか、またはポリビ
ニルホスホン酸で処理されているか、またはそうでなく
ても樹脂もしくは重合体の親水性層を付与されている、
粗面化および／または陽極酸化されたアルミニウム板は
基体12として適切に使用することができる。
えば、電気化学的）に又は粗面化処理の組み合わせによ
り粗面化されている、粗面化アルミニウム板である。陽
極酸化された板を使用することができる。陽極酸化はこ
の分野で知られているように、たとえば、アルカリ金属
の水酸化物、燐酸塩、アルミン酸塩、炭酸塩および珪酸
塩などの、水性アルカリ性電解質溶液の中で行うことが
できる。たとえば、水性アルカリ金属珪酸塩、たとえ
ば、珪酸ナトリウムで処理されているか、またはポリビ
ニルホスホン酸で処理されているか、またはそうでなく
ても樹脂もしくは重合体の親水性層を付与されている、
粗面化および／または陽極酸化されたアルミニウム板は
基体12として適切に使用することができる。
本発明のプリンティングプレートの製造に使用するこ
とができる、プリンティングプレート用基体材料12の具
体例、およびかかる基体を粗面化、陽極酸化および親水
化する方法は、たとえば、米国特許第4,153,461号（G.B
erghaeuser他に対して1979年５月８日に発行された）；
米国特許第4,492,616号（E.Pliefke他に対して1985年１
月８日に発行された）；米国特許4,618,405号（D.Mohr
他に対して1986年10月21日に発行された）；米国特許第
4,619,742号（E.Pliefkeに対して1986年10月28日に発行
された）；および米国特許4,661,219号（E.Pliefkeに対
して1987年４月28日に発行された）に記載されている。
とができる、プリンティングプレート用基体材料12の具
体例、およびかかる基体を粗面化、陽極酸化および親水
化する方法は、たとえば、米国特許第4,153,461号（G.B
erghaeuser他に対して1979年５月８日に発行された）；
米国特許第4,492,616号（E.Pliefke他に対して1985年１
月８日に発行された）；米国特許4,618,405号（D.Mohr
他に対して1986年10月21日に発行された）；米国特許第
4,619,742号（E.Pliefkeに対して1986年10月28日に発行
された）；および米国特許4,661,219号（E.Pliefkeに対
して1987年４月28日に発行された）に記載されている。
図1A、図1B、図1C、図２および図３には、平版プリン
ティングプレートが概略断面図として示されている。基
体12の具体的性質に依存して、そして特に、粗面化金属
基体の場合には、基体12はそれへの層の接着を促進する
のに有効な表面ミクロ構造（図示されていない）を示し
てもよいということが認識されよう。その上に薄層とし
て塗布された層14および16は、一般に、基体材料の局所
的特徴に順応するであろう。
ティングプレートが概略断面図として示されている。基
体12の具体的性質に依存して、そして特に、粗面化金属
基体の場合には、基体12はそれへの層の接着を促進する
のに有効な表面ミクロ構造（図示されていない）を示し
てもよいということが認識されよう。その上に薄層とし
て塗布された層14および16は、一般に、基体材料の局所
的特徴に順応するであろう。
図1Bには、化学線によるプレート10の露光が示されて
いる。露光領域は各対の矢印13と13′、15と15′および
17と17′によって示されている。プレート10を化学線で
露光することによって、層16は露光領域16eで光不溶化
または光硬化（たとえば、光重合）を生じて親油性の印
刷領域を提供する。同時に、かかる露光により、層14は
対応する領域14eが光不溶化または光硬化（たとえば、
光重合）される。図1Bに示されている露光済みプレート
は、それから、その非露光領域16uを除去してプリンテ
ィングプレートの特有の機能に必要な親水性表面（下に
横たわる親水性層14の領域14u）を裸出するために、現
像することができる。得られた現像済みプリンティング
プレートは図1Cに示されている。
いる。露光領域は各対の矢印13と13′、15と15′および
17と17′によって示されている。プレート10を化学線で
露光することによって、層16は露光領域16eで光不溶化
または光硬化（たとえば、光重合）を生じて親油性の印
刷領域を提供する。同時に、かかる露光により、層14は
対応する領域14eが光不溶化または光硬化（たとえば、
光重合）される。図1Bに示されている露光済みプレート
は、それから、その非露光領域16uを除去してプリンテ
ィングプレートの特有の機能に必要な親水性表面（下に
横たわる親水性層14の領域14u）を裸出するために、現
像することができる。得られた現像済みプリンティング
プレートは図1Cに示されている。
図1Bに示されている露光済みプレートの現像は水また
は印刷分野に使用される湿し液で洗浄することによって
行うことができる。洗浄は、プレートを洗浄用液体に浸
漬、またはプレートに洗浄用液体を吹き付けまたは塗布
することによって、そしてプレートをすすぎ乾燥するこ
とによって、行うことができる。現像を助けるために機
械的摩擦やブラッシングが使用できる。
は印刷分野に使用される湿し液で洗浄することによって
行うことができる。洗浄は、プレートを洗浄用液体に浸
漬、またはプレートに洗浄用液体を吹き付けまたは塗布
することによって、そしてプレートをすすぎ乾燥するこ
とによって、行うことができる。現像を助けるために機
械的摩擦やブラッシングが使用できる。
露光済みプリンティングプレートは、平版印刷操作に
典型的に使用されている湿し液により現像できるので、
可能なまたは実用的な場合に露光後の操作を省くこと、
および露光済みプリンティングプレートを「オン−プレ
ス」現像のために直接に印刷機上に設置することは、大
抵の場合、有利であろう。これは顕著な利益、例えば、
露光後の操作の省略や、通常の洗浄、ゴム引きおよびそ
の他の露光後操作の省略に関連した時間的節約、を与え
る。
典型的に使用されている湿し液により現像できるので、
可能なまたは実用的な場合に露光後の操作を省くこと、
および露光済みプリンティングプレートを「オン−プレ
ス」現像のために直接に印刷機上に設置することは、大
抵の場合、有利であろう。これは顕著な利益、例えば、
露光後の操作の省略や、通常の洗浄、ゴム引きおよびそ
の他の露光後操作の省略に関連した時間的節約、を与え
る。
重合体の親水性層14は本発明のプリンティングプレー
トに幾つかの機能を付与する。主として、それは、湿し
液との親和性のためにも、および疎油性（インキ反撥
性）層としての層の特有の機能のためにも必要な親水性
を付与する。加えて、この層は感光性であるので、重合
体の感光性疎水性画像形成層16の下に横たわる領域では
光不溶化または光硬化を受ける。図1Bおよび図1Cに示さ
れている通り、光不溶化または光硬化は親水性層の領域
14eに起こる。それに伴う、層の分子層、硬度および耐
久性の増加は、印刷機で使用中の、かかる領域の「アン
ダーカッティング」およびプリンティングプレートの疎
水性印刷領域16eの損傷を最小にすることによって、プ
レートの有効寿命に重大に貢献する。
トに幾つかの機能を付与する。主として、それは、湿し
液との親和性のためにも、および疎油性（インキ反撥
性）層としての層の特有の機能のためにも必要な親水性
を付与する。加えて、この層は感光性であるので、重合
体の感光性疎水性画像形成層16の下に横たわる領域では
光不溶化または光硬化を受ける。図1Bおよび図1Cに示さ
れている通り、光不溶化または光硬化は親水性層の領域
14eに起こる。それに伴う、層の分子層、硬度および耐
久性の増加は、印刷機で使用中の、かかる領域の「アン
ダーカッティング」およびプリンティングプレートの疎
水性印刷領域16eの損傷を最小にすることによって、プ
レートの有効寿命に重大に貢献する。
プレートの裸出した親水性重合体領域が、その親水性
を維持する耐久性フィルムに塗布された重合体材料（単
数または複数）から成るということも、耐久性および有
効な操作寿命には重要であろう。有利であるには、親水
性層14は、そこから、その上の疎水性層材料（単数また
は複数）が非露光領域16uでは容易に除去され得るよう
な、重合体材料（単数または複数）から成るべきであ
る。最も少ない必要工程数での、疎水性非露光領域の容
易な除去によって、必要な親水性プリンティングプレー
ト表面の裸出を生じることは、実際的利益を与えること
が認識されよう。指摘したように、かかる除去は印刷機
上で行うことができるので、プレートは、「露光だけ
の」または「印刷機で現像可能な」プリンティングプレ
ートとみなすことができる。
を維持する耐久性フィルムに塗布された重合体材料（単
数または複数）から成るということも、耐久性および有
効な操作寿命には重要であろう。有利であるには、親水
性層14は、そこから、その上の疎水性層材料（単数また
は複数）が非露光領域16uでは容易に除去され得るよう
な、重合体材料（単数または複数）から成るべきであ
る。最も少ない必要工程数での、疎水性非露光領域の容
易な除去によって、必要な親水性プリンティングプレー
ト表面の裸出を生じることは、実際的利益を与えること
が認識されよう。指摘したように、かかる除去は印刷機
上で行うことができるので、プレートは、「露光だけ
の」または「印刷機で現像可能な」プリンティングプレ
ートとみなすことができる。
出願人は、疎水性重合体の非露光領域をその下に横た
わる親水性重合体から除去することの容易性の説明にお
いて、特定の理論または機構によって拘束するつもりは
ないが、疎水性材料の薄層としての本性、その層での不
連続性が与えられるその層を通しての水性湿し液の拡散
または浸透と疎水性重合体の除去、親水性層と疎水性層
の間の相互の物理的対抗作用と比較的劣った接着性、疎
水性非露光領域によるインキ吸収性とそれに伴うかかる
領域の膨潤、および親水性層からの光活性化合物の親水
性層と疎水性層の界面への移動、のような因子が含まれ
るであろうと考えられる。
わる親水性重合体から除去することの容易性の説明にお
いて、特定の理論または機構によって拘束するつもりは
ないが、疎水性材料の薄層としての本性、その層での不
連続性が与えられるその層を通しての水性湿し液の拡散
または浸透と疎水性重合体の除去、親水性層と疎水性層
の間の相互の物理的対抗作用と比較的劣った接着性、疎
水性非露光領域によるインキ吸収性とそれに伴うかかる
領域の膨潤、および親水性層からの光活性化合物の親水
性層と疎水性層の界面への移動、のような因子が含まれ
るであろうと考えられる。
層14は主要な結着剤成分の他に、光活性化合物を含有
する。本願明細書中に使用されるとき、光活性化合物は
露光領域では層の不溶化または光硬化を促進することが
できる化合物、または化合物の混合物、または化合物の
反応系を意味する。適する光活性化合物およびかかる目
的のための材料としては、露光領域で光重合を受ける光
重合性単量体や、光重合、光架橋または光転位を受ける
または促進する光活性垂下基を有する巨大分子（重合
体）材料が挙げられる。かかる化合物および材料は後で
詳述する。
する。本願明細書中に使用されるとき、光活性化合物は
露光領域では層の不溶化または光硬化を促進することが
できる化合物、または化合物の混合物、または化合物の
反応系を意味する。適する光活性化合物およびかかる目
的のための材料としては、露光領域で光重合を受ける光
重合性単量体や、光重合、光架橋または光転位を受ける
または促進する光活性垂下基を有する巨大分子（重合
体）材料が挙げられる。かかる化合物および材料は後で
詳述する。
良好な結果は、ポリエーテルポリオール結着剤を基材
とした親水性層14を使用することによって得ることがで
きる。適するポリエーテルポリオールの中には、ポリア
ルキレンエーテルグリコール、ポリアルキレンエーテル
トリオールおよびテトロール、たとえば、ポリアルキレ
ンエーテルグリセロールおよびポリアルキレンエーテル
ペンタエリトリトール、を含めて、非分枝鎖および分枝
鎖のポリエーテルポリオールがある。
とした親水性層14を使用することによって得ることがで
きる。適するポリエーテルポリオールの中には、ポリア
ルキレンエーテルグリコール、ポリアルキレンエーテル
トリオールおよびテトロール、たとえば、ポリアルキレ
ンエーテルグリセロールおよびポリアルキレンエーテル
ペンタエリトリトール、を含めて、非分枝鎖および分枝
鎖のポリエーテルポリオールがある。
ポリエーテルポリオール結着剤の好ましいクラスはポ
リアルキレンエーテルグリセロールのクラスであり、そ
れは次の式によって表わされてもよい： HO−（RO）ａ−Ｈ 式中、Ｒは、２〜約10個の炭素原子を有するアルキレン
基であり、そしてａは、約400〜50,000の範囲の分子量
を与えるのに十分な整数であり、好ましくは約650〜20,
000の範囲の分子量を与える。好ましくは、Ｒは、２〜
４個の炭素原子を有するアルキレン基である。ポリエー
テルポリオール結着剤には、単独重合体および共重合
体、たとえば、ブロック共重合体も包含される。ここで
有効なポリアルキレンエーテルグリコールの例は、ポリ
エチレンエーテルグリコール；ポリプロピレンエーテル
グリコール；ポリヘキサメチレンエーテルグリコール；
ポリ（エチレン−コ−プロピレン）エーテルグリコー
ル；ポリテトラメチレンエーテルグリコール；ポリデカ
メチレンエーテルグリコール；ポリ1,2−ジメチルエチ
レンエーテルグリコール、およびテトラヒドロフランと
１−アリルオキシ−2,3−エポキシプロパンの共重合体
などである。ここでのポリアルキレンエーテルグリコー
ルは、たとえば、水または他の低分子量アルコールまた
は水素供与体化合物の存在下での、アルキレンエーテ
ル、たとえば、エチレンオキシド、テトラヒドロフラ
ン、プロピレンオキシド、またはそれらの混合物の、適
切な分子量への重合によって、容易に得ることができ
る。
リアルキレンエーテルグリセロールのクラスであり、そ
れは次の式によって表わされてもよい： HO−（RO）ａ−Ｈ 式中、Ｒは、２〜約10個の炭素原子を有するアルキレン
基であり、そしてａは、約400〜50,000の範囲の分子量
を与えるのに十分な整数であり、好ましくは約650〜20,
000の範囲の分子量を与える。好ましくは、Ｒは、２〜
４個の炭素原子を有するアルキレン基である。ポリエー
テルポリオール結着剤には、単独重合体および共重合
体、たとえば、ブロック共重合体も包含される。ここで
有効なポリアルキレンエーテルグリコールの例は、ポリ
エチレンエーテルグリコール；ポリプロピレンエーテル
グリコール；ポリヘキサメチレンエーテルグリコール；
ポリ（エチレン−コ−プロピレン）エーテルグリコー
ル；ポリテトラメチレンエーテルグリコール；ポリデカ
メチレンエーテルグリコール；ポリ1,2−ジメチルエチ
レンエーテルグリコール、およびテトラヒドロフランと
１−アリルオキシ−2,3−エポキシプロパンの共重合体
などである。ここでのポリアルキレンエーテルグリコー
ルは、たとえば、水または他の低分子量アルコールまた
は水素供与体化合物の存在下での、アルキレンエーテ
ル、たとえば、エチレンオキシド、テトラヒドロフラ
ン、プロピレンオキシド、またはそれらの混合物の、適
切な分子量への重合によって、容易に得ることができ
る。
好ましいポリエステルポリオール結着剤には、プロピ
レングリコールの２個のヒドロキシル基にプロピレンオ
キシドを制御して付加した後に、その得られた疎水体に
エチレンオキシドとの反応により親水性末端基を結合さ
せることによって製造されたブロック共重合体ポリエー
テル化合物がある。良好な結果は、親水性／疎水性バラ
ンス（HLB）値がたとえば７〜24であるかかるブロック
共重合体ポリエーテル化合物を使用して得ることができ
る。適するブロック共重合体ポリエーテル化合物の例は
BAFS社のプルロニック（Pluronic）商標名で商業的に入
手可能なもの等である。
レングリコールの２個のヒドロキシル基にプロピレンオ
キシドを制御して付加した後に、その得られた疎水体に
エチレンオキシドとの反応により親水性末端基を結合さ
せることによって製造されたブロック共重合体ポリエー
テル化合物がある。良好な結果は、親水性／疎水性バラ
ンス（HLB）値がたとえば７〜24であるかかるブロック
共重合体ポリエーテル化合物を使用して得ることができ
る。適するブロック共重合体ポリエーテル化合物の例は
BAFS社のプルロニック（Pluronic）商標名で商業的に入
手可能なもの等である。
層14における結着剤材料として有効なポリエーテルポ
リオールは、適切な触媒の存在下で、グリコールまたは
アルキレンオキシドまたはそれらの混合物を、サクロー
ス、グリセロール、ソルビトール、ヘキサントリオー
ル、ペンタエリトリトール、フロログルシノール、トリ
メチロールフェノール、トリメチロールベンゼン、トリ
メチロールプロパン、エチレンジアミンなどのような化
合物と反応させることによって得ることができる分枝鎖
ポリエーテルポリオールを挙げられる。好ましい分枝鎖
ポリエーテルポリオール結着剤は、エチレンジアミンに
プロピレンオキシドとエチレンオキシドを順次付加する
ことから誘導されるテトラ官能性ブロック共重合体を挙
げられ、それはBAFS社のテトロニック（Tetronic）商標
名で商業的に入手可能である。
リオールは、適切な触媒の存在下で、グリコールまたは
アルキレンオキシドまたはそれらの混合物を、サクロー
ス、グリセロール、ソルビトール、ヘキサントリオー
ル、ペンタエリトリトール、フロログルシノール、トリ
メチロールフェノール、トリメチロールベンゼン、トリ
メチロールプロパン、エチレンジアミンなどのような化
合物と反応させることによって得ることができる分枝鎖
ポリエーテルポリオールを挙げられる。好ましい分枝鎖
ポリエーテルポリオール結着剤は、エチレンジアミンに
プロピレンオキシドとエチレンオキシドを順次付加する
ことから誘導されるテトラ官能性ブロック共重合体を挙
げられ、それはBAFS社のテトロニック（Tetronic）商標
名で商業的に入手可能である。
ここで有効なポリエーテルポリオール結着剤の別のク
ラスは、多数（ｎ個）の末端ヒドロキシル基がｎ価の飽
和または不飽和の直鎖または分枝鎖の炭化水素重合体上
に存在する、約400〜6,000の範囲の分子量を有するヒド
ロキシ含有炭化水素重合体材料の類である。例は、1,4
−ブタジエンのような重合可能なエチレン性不飽和単量
体の重合から、そして既知の手法でのヒドロキシル基の
導入によって、得られたポリオールを挙げられる。かか
るポリオール材料は既知であり、たとえば、ジカルボキ
シレート置換炭化水素重合体、たとえば、ジカルボキシ
レート末端の重合体を提供するために、重合可能なエチ
レン性不飽和単量体のラジカル開始重合によって製造で
きる。既知の仕方での還元は脂肪族炭化水素ポリオール
を提供する。かかるポリオール材料の製造に適する方法
は米国特許第2,888,439号（D.M.Simmonsに対して1959年
５月26日に発行された）に更に詳細に記載されている。
ラスは、多数（ｎ個）の末端ヒドロキシル基がｎ価の飽
和または不飽和の直鎖または分枝鎖の炭化水素重合体上
に存在する、約400〜6,000の範囲の分子量を有するヒド
ロキシ含有炭化水素重合体材料の類である。例は、1,4
−ブタジエンのような重合可能なエチレン性不飽和単量
体の重合から、そして既知の手法でのヒドロキシル基の
導入によって、得られたポリオールを挙げられる。かか
るポリオール材料は既知であり、たとえば、ジカルボキ
シレート置換炭化水素重合体、たとえば、ジカルボキシ
レート末端の重合体を提供するために、重合可能なエチ
レン性不飽和単量体のラジカル開始重合によって製造で
きる。既知の仕方での還元は脂肪族炭化水素ポリオール
を提供する。かかるポリオール材料の製造に適する方法
は米国特許第2,888,439号（D.M.Simmonsに対して1959年
５月26日に発行された）に更に詳細に記載されている。
３個またはそれ以上のヒドロキシル基を有する多価ア
ルコールから誘導されたポリアルキレンエーテルポリオ
ールは、例えば、グリセロールまたはペンタエリトリト
ールと、エチレンオキシド、プロピレンオキシドまたは
それらの混合物との反応によって得ることができる。か
かる分枝鎖ポリオールな多官能性は、層14の領域14eで
の改良された架橋の観点から望ましいであろう。
ルコールから誘導されたポリアルキレンエーテルポリオ
ールは、例えば、グリセロールまたはペンタエリトリト
ールと、エチレンオキシド、プロピレンオキシドまたは
それらの混合物との反応によって得ることができる。か
かる分枝鎖ポリオールな多官能性は、層14の領域14eで
の改良された架橋の観点から望ましいであろう。
望むならば、層14のための重合体結着剤はポリアルキ
レン−アリーレン−エーテル グリコールからなること
ができる。これらグリコールは、構造がポリアルキレン
エーテル グリコールに類似しているが、さらにアリー
レン基、たとえば、フェニレン基を含有している。一般
に、層14における必要な親水性を達成することの関心事
にあっては、アリーレン含量を最小にすることが望まし
いであろう。
レン−アリーレン−エーテル グリコールからなること
ができる。これらグリコールは、構造がポリアルキレン
エーテル グリコールに類似しているが、さらにアリー
レン基、たとえば、フェニレン基を含有している。一般
に、層14における必要な親水性を達成することの関心事
にあっては、アリーレン含量を最小にすることが望まし
いであろう。
層14のための特に好ましい結着剤は、約400〜約50,00
0の範囲の分子量を有するポリエチレングリコールであ
る。これら重合体は分子量に依存して水中の溶解度が変
動するが、良好な親水性を有する層を提供するために溶
液、分散物または乳濁物として塗布することができる。
さらに、かかる層は良好な耐久性、必要な親水性保持お
よび非スカミング性を示す。
0の範囲の分子量を有するポリエチレングリコールであ
る。これら重合体は分子量に依存して水中の溶解度が変
動するが、良好な親水性を有する層を提供するために溶
液、分散物または乳濁物として塗布することができる。
さらに、かかる層は良好な耐久性、必要な親水性保持お
よび非スカミング性を示す。
プレート10の露光中の、層14の光不溶化または光硬化
は、露光によって物理的に変化できるか又は露光領域に
おける層の性質の物理的変化（不溶化または硬化）を促
進できる様々な化合物、材料、または、化合物または材
料の混合物または反応系のいずれかを含有することによ
って行うことができる。この目的に適する化合物および
材料は、ラジカル開始付加重合を受ける単量体の光重合
性化合物を挙げられる。また、垂下基、たとえば、露光
されたときに架橋または硬化を促進するエチレン性不飽
和基や、架橋によりまたは光二量体化により硬化を促進
するその他反応性基、たとえば、シンナメート基、を有
する巨大分子または重合体化合物も適する。
は、露光によって物理的に変化できるか又は露光領域に
おける層の性質の物理的変化（不溶化または硬化）を促
進できる様々な化合物、材料、または、化合物または材
料の混合物または反応系のいずれかを含有することによ
って行うことができる。この目的に適する化合物および
材料は、ラジカル開始付加重合を受ける単量体の光重合
性化合物を挙げられる。また、垂下基、たとえば、露光
されたときに架橋または硬化を促進するエチレン性不飽
和基や、架橋によりまたは光二量体化により硬化を促進
するその他反応性基、たとえば、シンナメート基、を有
する巨大分子または重合体化合物も適する。
望むならば、コポリエステル前駆体反応体の未反応混
合物と、酸性の光生成可能な触媒が、コポリエステルの
生成のための光反応性系として使用できる。たとえば、
縮合重合体にするためのジカルボキシル前駆体化合物と
ジオール前駆体化合物の混合物は、酸性の光生成可能な
触媒を使用して、露光領域ではエステル化することがで
き、露光領域での縮合重合体の生成およびそれに伴って
必要な光硬化を与える。米国特許第3,968,085号（G.Rab
illoud他に対して1976年７月６日に発行された）に記載
されているような、オリゴエステルの生成に適する反応
性単量体が使用できる。
合物と、酸性の光生成可能な触媒が、コポリエステルの
生成のための光反応性系として使用できる。たとえば、
縮合重合体にするためのジカルボキシル前駆体化合物と
ジオール前駆体化合物の混合物は、酸性の光生成可能な
触媒を使用して、露光領域ではエステル化することがで
き、露光領域での縮合重合体の生成およびそれに伴って
必要な光硬化を与える。米国特許第3,968,085号（G.Rab
illoud他に対して1976年７月６日に発行された）に記載
されているような、オリゴエステルの生成に適する反応
性単量体が使用できる。
層14の光硬化を促進するのに特に好ましいのは、露光
されたときに巨大分子または重合体物質になる重合性単
量体であり、好ましくは、ラジカル開始連鎖生成反応の
付加重合によって高重合体を生成することができる少な
くとも一つの末端エチレン性基を有する光重合可能なエ
チレン性不飽和単量体である。重合は、光開始剤、すな
わち、化学線によって活性化可能な遊離基生成付加重合
開始系、を使用して行うことができる。かかる付加重合
開始系は既知であり、その例は後述する。
されたときに巨大分子または重合体物質になる重合性単
量体であり、好ましくは、ラジカル開始連鎖生成反応の
付加重合によって高重合体を生成することができる少な
くとも一つの末端エチレン性基を有する光重合可能なエ
チレン性不飽和単量体である。重合は、光開始剤、すな
わち、化学線によって活性化可能な遊離基生成付加重合
開始系、を使用して行うことができる。かかる付加重合
開始系は既知であり、その例は後述する。
好ましい重合性単量体は、多官能性アクリレート単量
体、たとえば、エチレングリコールやトリメチリロール
プロパンやペンタエリトリトールの、アクリレートおよ
びメタクリレートエステルである。これらは、層14の露
光領域では、光開始剤の存在下で単独重合によりまたは
層14の結着剤へのグラフト重合により重合される。適す
る光開始剤は、アセトフェノン誘導体（たとえば、2,2
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン）、ベンゾ
インまたはアルキル置換アントラキノン、アゾビスイソ
ブチロ−ニトリルおよびアゾ−ビス−４−シアノ−ペン
タノン酸であるが、その他も使用できる。
体、たとえば、エチレングリコールやトリメチリロール
プロパンやペンタエリトリトールの、アクリレートおよ
びメタクリレートエステルである。これらは、層14の露
光領域では、光開始剤の存在下で単独重合によりまたは
層14の結着剤へのグラフト重合により重合される。適す
る光開始剤は、アセトフェノン誘導体（たとえば、2,2
−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン）、ベンゾ
インまたはアルキル置換アントラキノン、アゾビスイソ
ブチロ−ニトリルおよびアゾ−ビス−４−シアノ−ペン
タノン酸であるが、その他も使用できる。
水溶性巨大分子結着剤と重合性単量体と光開始剤から
なる感光性組成物は、適切に層状塗布することができ、
そして露光されたときには、重合性単量体の単独重合お
よび重合体結着剤への単量体のグラフト化の結果として
不溶化および硬化を受ける。望むならば、その他の架橋
剤、たとえば、二官能性のタイプのもの（たとえば、ジ
ビニルベンゼン）を層14の中に含有することができ、そ
うしてその不飽和部分を介して重合性単量体への又は上
に横たわる層16の結着剤または重合性成分への架橋が促
進される。
なる感光性組成物は、適切に層状塗布することができ、
そして露光されたときには、重合性単量体の単独重合お
よび重合体結着剤への単量体のグラフト化の結果として
不溶化および硬化を受ける。望むならば、その他の架橋
剤、たとえば、二官能性のタイプのもの（たとえば、ジ
ビニルベンゼン）を層14の中に含有することができ、そ
うしてその不飽和部分を介して重合性単量体への又は上
に横たわる層16の結着剤または重合性成分への架橋が促
進される。
露光によって変化される、または露光されたときに層
14の物理的性質の変化を促進する、反応性垂下基を含有
する予め生成された重合体も、また、層14の中に使用す
るのに適する。かかる反応性基は転位、重合またはその
他の反応を受けるものである。好ましい重合体は、光開
始剤を使用して、放射線によって架橋することができる
エチレン性不飽和の垂下部分を有するものである。架橋
性垂下基を有する予め生成された重合体は、たとえば、
ヒドロキシルを含有する重合体（たとえば、ジカルボン
酸と多価アルコールのポリエステル）と、ジイソシアネ
ート基を含有するビニル単量体（たとえば、イソシアナ
トエチルアクリレートまたはメタクリレート）との反応
生成物を挙げられる。ウレタン結合を有する架橋重合体
を提供して層14を硬化するには、架橋剤と光開始剤を使
用することができる。
14の物理的性質の変化を促進する、反応性垂下基を含有
する予め生成された重合体も、また、層14の中に使用す
るのに適する。かかる反応性基は転位、重合またはその
他の反応を受けるものである。好ましい重合体は、光開
始剤を使用して、放射線によって架橋することができる
エチレン性不飽和の垂下部分を有するものである。架橋
性垂下基を有する予め生成された重合体は、たとえば、
ヒドロキシルを含有する重合体（たとえば、ジカルボン
酸と多価アルコールのポリエステル）と、ジイソシアネ
ート基を含有するビニル単量体（たとえば、イソシアナ
トエチルアクリレートまたはメタクリレート）との反応
生成物を挙げられる。ウレタン結合を有する架橋重合体
を提供して層14を硬化するには、架橋剤と光開始剤を使
用することができる。
望むならば、シンナメート基のような反応性垂下基を
有する予め生成された重合体が、光不溶化または光硬化
を促進するために使用できる。たとえば、シンナミン酸
を使用してのポリビニルアルコール（PVA）のヒドロキ
シル基のエステル化によって生成されたPVAシンナメー
トは、シンナモイル基の光二量体によって架橋を促進す
るために使用できる。
有する予め生成された重合体が、光不溶化または光硬化
を促進するために使用できる。たとえば、シンナミン酸
を使用してのポリビニルアルコール（PVA）のヒドロキ
シル基のエステル化によって生成されたPVAシンナメー
トは、シンナモイル基の光二量体によって架橋を促進す
るために使用できる。
露光されると環膨張（光転位）を受けてジアゼピン基
になるピリジニウムイリド垂下基を有する予め生成され
た重合体も使用できる。かかる基を有する重合体の例は
米国特許第4,670,528号（L.D.Taylor他に対して1987年
６月２日に発行された）に記載されている。
になるピリジニウムイリド垂下基を有する予め生成され
た重合体も使用できる。かかる基を有する重合体の例は
米国特許第4,670,528号（L.D.Taylor他に対して1987年
６月２日に発行された）に記載されている。
層14は一般的には薄層であるけれども、その厚さは変
動可能である。従って、層14は、良好な均一性、耐久性
および親水性保持を示す層になるように容易に塗布でき
るような厚さのものであろう。しかしながら、厚さは、
許容できる画像品質の実現を大いに危うくする厚さを越
えるべきでない。層14の厚さは、上記要件および使用さ
れる親水性巨大分子の具体的特性に依存し、そしてそれ
らに照らして変動可能であるが、良好な結果は約0.1μ
〜約２μの範囲の厚さを有する層を使用して得ることが
できる。
動可能である。従って、層14は、良好な均一性、耐久性
および親水性保持を示す層になるように容易に塗布でき
るような厚さのものであろう。しかしながら、厚さは、
許容できる画像品質の実現を大いに危うくする厚さを越
えるべきでない。層14の厚さは、上記要件および使用さ
れる親水性巨大分子の具体的特性に依存し、そしてそれ
らに照らして変動可能であるが、良好な結果は約0.1μ
〜約２μの範囲の厚さを有する層を使用して得ることが
できる。
基体12の上に層14を形成する際には、非イオン性アル
キルフェノールポリエトキシレートのような界面活性剤
を使用して、親水性結着剤の水性相の中の重合性単量体
（またはその他の光硬化性の化合物または系）の水中油
型乳濁物の形態で被覆性組成物を適用することが好まし
い。かかる乳濁物は、重合体結着剤を攪拌によって水性
ビヒクルの中に導入し；溶媒（たとえば、酢酸エチル）
の中の重合性単量体（またはその他の光活性の化合物ま
たは系）と光開始剤の溶液、酸化防止剤およびその他の
添加剤を加え；そして界面活性剤水溶液を添加すること
によって、製造できる。光活性材料の分散相を有する親
水性結着剤組成物から得た親水性層は、良好な親水性と
耐久性の観点から好ましい。加えて、疎油性非スカミン
グ領域14uを裸出させるために、この層から、その上に
横たわる疎水性層16の非露光領域16uを除去することも
容易に行うことができる。
キルフェノールポリエトキシレートのような界面活性剤
を使用して、親水性結着剤の水性相の中の重合性単量体
（またはその他の光硬化性の化合物または系）の水中油
型乳濁物の形態で被覆性組成物を適用することが好まし
い。かかる乳濁物は、重合体結着剤を攪拌によって水性
ビヒクルの中に導入し；溶媒（たとえば、酢酸エチル）
の中の重合性単量体（またはその他の光活性の化合物ま
たは系）と光開始剤の溶液、酸化防止剤およびその他の
添加剤を加え；そして界面活性剤水溶液を添加すること
によって、製造できる。光活性材料の分散相を有する親
水性結着剤組成物から得た親水性層は、良好な親水性と
耐久性の観点から好ましい。加えて、疎油性非スカミン
グ領域14uを裸出させるために、この層から、その上に
横たわる疎水性層16の非露光領域16uを除去することも
容易に行うことができる。
層14の中に使用される光重合性単量体またはその他の
光活性化合物または系は、しばしば、かかる層の結着剤
の中に不溶性である、すなわち、分散相もしくは乳濁相
として層中に存在するので、かかる単量体、化合物また
は系が層から一部分離して局剤表面濃縮の生成または層
14と16の間の光活性材料の薄層の形成が起こる。たとえ
ば、光活性材料の分散相または乳濁相を含有する結着剤
組成物から親水性層を塗布し乾燥すると、分散された光
活性材料の分離または塗布層表面への移動が観察され
る。結果として、親水性層の少なくとも基体12に隣接し
た帯域はかかる光活性材料の比較的低濃度を含有し、他
方、層の基体12から遠い方の表面帯域はかかる光活性材
料の高濃度を含んでいるであろう。光活性材料は親水性
層14から分離して疎水性材料の比較的薄い表面層を形成
していてもよく、それは疎水性層16のための接着層とし
て作用する。親水性層14と疎水性層16の界面での疎水性
光活性材料の局在濃縮の存在、または層14と16の間の疎
水性光活性材料の別個の層の存在（図示されていない）
は、層14とその上の層16との光結着が架橋および重合体
の相互浸透によって向上するという観点からは有利であ
ろう。
光活性化合物または系は、しばしば、かかる層の結着剤
の中に不溶性である、すなわち、分散相もしくは乳濁相
として層中に存在するので、かかる単量体、化合物また
は系が層から一部分離して局剤表面濃縮の生成または層
14と16の間の光活性材料の薄層の形成が起こる。たとえ
ば、光活性材料の分散相または乳濁相を含有する結着剤
組成物から親水性層を塗布し乾燥すると、分散された光
活性材料の分離または塗布層表面への移動が観察され
る。結果として、親水性層の少なくとも基体12に隣接し
た帯域はかかる光活性材料の比較的低濃度を含有し、他
方、層の基体12から遠い方の表面帯域はかかる光活性材
料の高濃度を含んでいるであろう。光活性材料は親水性
層14から分離して疎水性材料の比較的薄い表面層を形成
していてもよく、それは疎水性層16のための接着層とし
て作用する。親水性層14と疎水性層16の界面での疎水性
光活性材料の局在濃縮の存在、または層14と16の間の疎
水性光活性材料の別個の層の存在（図示されていない）
は、層14とその上の層16との光結着が架橋および重合体
の相互浸透によって向上するという観点からは有利であ
ろう。
層16はプレート10の主要な画像形成層を構成し、そし
て疎水性重合体結着剤と、露光領域での層の不溶化また
は硬化を促進する光活性化合物とを含んでいる。層16に
使用するのに適する光活性化合物は層14に関連して記載
したものである。しかしながら、一般には、層16の必要
な光重合および硬化を行うために光重合性単量体を使用
することが好ましい。
て疎水性重合体結着剤と、露光領域での層の不溶化また
は硬化を促進する光活性化合物とを含んでいる。層16に
使用するのに適する光活性化合物は層14に関連して記載
したものである。しかしながら、一般には、層16の必要
な光重合および硬化を行うために光重合性単量体を使用
することが好ましい。
層16の主成分は、適する親油性およびインキ受容性の
疎水性層を提供する重合体結着剤である。層16のための
好ましい組成物の中には、巨大分子有機結着剤；ラジカ
ル開始連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成
することができる少なくとも一つの末端エチレン性基を
有する光重合性エチレン性不飽和単量体；および化学線
によって活性化可能な付加重合開始系；を含有している
組成物がある。適する巨大分子結着剤材料は、塩化ビニ
リデン共重合体（たとえば、塩化ビニリデン／アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニリデン／メチルメタクリレ
ート共重合体、および塩化ビニリデン／酢酸ビニル共重
合体）；エチレン／酢酸ビニル共重合体；セルロースエ
ステルおよびエーテル（たとえば、酢酸酪酸セルロー
ス、酢酸プロピオン酸セルロース、およびメチル、エチ
ルベンジルセルロース）；合成ゴム（たとえば、ブタジ
エン／アクリロニトリル共重合体；塩化イソプレンおよ
びクロロ−２−ブタジエン−1,3−ポリマー）；ポリビ
ニルエステル（たとえば、ポリビニルアセテート／アク
リレート共重合体、ポリ酢酸ビニルおよびポリビニルア
セテート／メチルメタクリレート共重合体）；ポリアク
リレートおよびポリアルキルアクリレートエステル（た
とえば、ポリメチルメタクリレート）；およびポリ塩化
ビニル共重合体（たとえば、塩化ビニル／酢酸ビニル共
重合体）などである。
疎水性層を提供する重合体結着剤である。層16のための
好ましい組成物の中には、巨大分子有機結着剤；ラジカ
ル開始連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成
することができる少なくとも一つの末端エチレン性基を
有する光重合性エチレン性不飽和単量体；および化学線
によって活性化可能な付加重合開始系；を含有している
組成物がある。適する巨大分子結着剤材料は、塩化ビニ
リデン共重合体（たとえば、塩化ビニリデン／アクリロ
ニトリル共重合体、塩化ビニリデン／メチルメタクリレ
ート共重合体、および塩化ビニリデン／酢酸ビニル共重
合体）；エチレン／酢酸ビニル共重合体；セルロースエ
ステルおよびエーテル（たとえば、酢酸酪酸セルロー
ス、酢酸プロピオン酸セルロース、およびメチル、エチ
ルベンジルセルロース）；合成ゴム（たとえば、ブタジ
エン／アクリロニトリル共重合体；塩化イソプレンおよ
びクロロ−２−ブタジエン−1,3−ポリマー）；ポリビ
ニルエステル（たとえば、ポリビニルアセテート／アク
リレート共重合体、ポリ酢酸ビニルおよびポリビニルア
セテート／メチルメタクリレート共重合体）；ポリアク
リレートおよびポリアルキルアクリレートエステル（た
とえば、ポリメチルメタクリレート）；およびポリ塩化
ビニル共重合体（たとえば、塩化ビニル／酢酸ビニル共
重合体）などである。
かかる組成物用の適する光重合性エチレン性不飽和単
量体は、二官能性および三官能性アクリレート、たとえ
ば、先に挙げた多価アルコールのアクリレートおよびメ
タクリレートエステル（たとえば、ペンタエリトリトー
ルトリアクリレートおよびトリメチロールプロパントリ
アクリレート）などである。その他の適する単量体は、
エチレングリコールジアクリレートまたはジメタクリレ
ートまたはそれらの混合物；グリセロールジアクリレー
トまたはトリアクリレート；およびそれらのエトキシレ
ートなどである。化学線を使用して単量体重合を開始さ
せるための、組成物中の光開始剤は、先に挙げた光開始
剤である。
量体は、二官能性および三官能性アクリレート、たとえ
ば、先に挙げた多価アルコールのアクリレートおよびメ
タクリレートエステル（たとえば、ペンタエリトリトー
ルトリアクリレートおよびトリメチロールプロパントリ
アクリレート）などである。その他の適する単量体は、
エチレングリコールジアクリレートまたはジメタクリレ
ートまたはそれらの混合物；グリセロールジアクリレー
トまたはトリアクリレート；およびそれらのエトキシレ
ートなどである。化学線を使用して単量体重合を開始さ
せるための、組成物中の光開始剤は、先に挙げた光開始
剤である。
平版プリンティング表面を提供する既知の巨大分子結
着剤と重合性単量体の組み合わせは、層16の製造のため
にここに適して使用できる。露光されると、層16の露光
領域16eは、重合性単量体の単独重合の効果によって、
また、巨大分子結着剤を含有するならばグラフト重合に
よって、硬化される。領域16eは、図1Cのプリンティン
グプレートの、インキを担持しインキを転写する領域で
あり、そしてプレートの耐久性および有効寿命に必要な
度合にまで重合される。
着剤と重合性単量体の組み合わせは、層16の製造のため
にここに適して使用できる。露光されると、層16の露光
領域16eは、重合性単量体の単独重合の効果によって、
また、巨大分子結着剤を含有するならばグラフト重合に
よって、硬化される。領域16eは、図1Cのプリンティン
グプレートの、インキを担持しインキを転写する領域で
あり、そしてプレートの耐久性および有効寿命に必要な
度合にまで重合される。
プリンティングプレートの露光は層16の具体的組成物
およびその厚さにより指定された要求に従って行うこと
ができる。一般に、露光、たとえば、比較的長い波長の
紫外線照射または可視照射、のためには、通常光源から
の化学線が使用できる。紫外線光源は特に好ましく、炭
素アーク灯、「Ｄ」バルブ、キセノンランプおよび高圧
水銀灯などである。
およびその厚さにより指定された要求に従って行うこと
ができる。一般に、露光、たとえば、比較的長い波長の
紫外線照射または可視照射、のためには、通常光源から
の化学線が使用できる。紫外線光源は特に好ましく、炭
素アーク灯、「Ｄ」バルブ、キセノンランプおよび高圧
水銀灯などである。
層16の厚さは具体的要求によって変動可能である。一
般に、それは耐久性の、光硬化した、プリンティングプ
レート表面を提供するように十分な厚さを有するもので
ある。しかしながら、厚さは、それが要求された露光時
間の範囲内で露光することができるように、制御される
べきであり、かつ非露光領域における層の、水または湿
し液による容易な除去を妨げる厚さで適用されるべきで
ない。良好な結果は、約0.2μ〜約３μの範囲の厚さを
有する層16を使用して得られる。
般に、それは耐久性の、光硬化した、プリンティングプ
レート表面を提供するように十分な厚さを有するもので
ある。しかしながら、厚さは、それが要求された露光時
間の範囲内で露光することができるように、制御される
べきであり、かつ非露光領域における層の、水または湿
し液による容易な除去を妨げる厚さで適用されるべきで
ない。良好な結果は、約0.2μ〜約３μの範囲の厚さを
有する層16を使用して得られる。
図1Bに示されているように、プレート10が露光される
と、光不溶化または光硬化は領域16eと14eに同時に起こ
る。出願人は特定の理論または機構によって拘束するつ
もりはないが、層14および16の各層における、重合体の
相互浸透および／または重合性単量体をまき込む共重合
は、領域14eと16eの間の強い結合または接合を促進する
作用を果たす。従って、プレートを印刷機上に設置の前
または後に洗浄すると、層16の非露光領域16u（図1B）
が除去されて、図1Cに示された、必要な耐久画像パター
ン領域16eを有するプリンティングプレートが製造され
る。
と、光不溶化または光硬化は領域16eと14eに同時に起こ
る。出願人は特定の理論または機構によって拘束するつ
もりはないが、層14および16の各層における、重合体の
相互浸透および／または重合性単量体をまき込む共重合
は、領域14eと16eの間の強い結合または接合を促進する
作用を果たす。従って、プレートを印刷機上に設置の前
または後に洗浄すると、層16の非露光領域16u（図1B）
が除去されて、図1Cに示された、必要な耐久画像パター
ン領域16eを有するプリンティングプレートが製造され
る。
層14および16の各々は、具体的要求に適するように追
加の成分または添加剤を含有することができる。層14
は、たとえば、塗布適性を改良するため又は層の必要な
物理的性質または基体12への接着性を促進するために、
可塑剤、使用される具体的光活性化合物または系に適す
る増感剤または触媒、硬膜剤、またはその他薬剤を含有
することができる。同様に、層16は、改良された塗布適
性または層14と16の間の密着性の調節のために添加剤を
含有することができる。層14および16のどちらも、不要
な（早すぎる）重合を防止するために酸化防止剤物質を
含有することができ、その具体例は、テトラキス｛（メ
チレン（3,5−ジ−tert−２−ブチル−４−ヒドロキシ
シンナメート）｝メタン；チオジエチレンビス−（3,5
−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ）ヒドロシンナメ
ート；およびメトキシヒドロキノンなどである。しかし
ながら、その他の酸化防止剤またはそれらの混合物も使
用できる。
加の成分または添加剤を含有することができる。層14
は、たとえば、塗布適性を改良するため又は層の必要な
物理的性質または基体12への接着性を促進するために、
可塑剤、使用される具体的光活性化合物または系に適す
る増感剤または触媒、硬膜剤、またはその他薬剤を含有
することができる。同様に、層16は、改良された塗布適
性または層14と16の間の密着性の調節のために添加剤を
含有することができる。層14および16のどちらも、不要
な（早すぎる）重合を防止するために酸化防止剤物質を
含有することができ、その具体例は、テトラキス｛（メ
チレン（3,5−ジ−tert−２−ブチル−４−ヒドロキシ
シンナメート）｝メタン；チオジエチレンビス−（3,5
−ジ−tert−ブチル−４−ヒドロキシ）ヒドロシンナメ
ート；およびメトキシヒドロキノンなどである。しかし
ながら、その他の酸化防止剤またはそれらの混合物も使
用できる。
層14および16のどちらか又は両方は、所望の及び予め
定められた目視外観を付与するために、着色剤、たとえ
ば、色彩染料、をもって提供されることができる。特に
好ましいのは、製版用露光工程の照射によって無色また
は着色どちらかになることが可能である着色剤または着
色種の前駆体であろう。かかる染料または染料前駆体化
合物および露光によって促進された吸光差は、プレート
メーカーが、露光済みプレートを印刷機に設置して印刷
走行の実施を進行させる際に、プレートの露光領域を非
露光領域から容易に区別することを可能にする。
定められた目視外観を付与するために、着色剤、たとえ
ば、色彩染料、をもって提供されることができる。特に
好ましいのは、製版用露光工程の照射によって無色また
は着色どちらかになることが可能である着色剤または着
色種の前駆体であろう。かかる染料または染料前駆体化
合物および露光によって促進された吸光差は、プレート
メーカーが、露光済みプレートを印刷機に設置して印刷
走行の実施を進行させる際に、プレートの露光領域を非
露光領域から容易に区別することを可能にする。
望むならば、プレート10は、汚れや磨滅に抗してその
表面16を保護するため、ブロッキングに抗して保護する
ため、および酸化防止剤を保護するために、保護オーバ
ーレイを付与されることができる。かかるプレートは図
２に製品20として示されており、それはプレートから一
部分取り除かれた状態で示されている保護オーバーレイ
18を具備している。図２に示されているような保護オー
バーレイを有する態様で使用される場合、露光はオーバ
ーレイ18に通して行うことができる。しかしながら、一
般には、先に記載されているような仕方で実施される露
光に先立って、図２に示されているように、プレートか
らオーバーレイ18を除去することが好ましい。図２の製
品20は、オーバーレイ18の保護特性を必要とする場合の
好ましい態様であろう。
表面16を保護するため、ブロッキングに抗して保護する
ため、および酸化防止剤を保護するために、保護オーバ
ーレイを付与されることができる。かかるプレートは図
２に製品20として示されており、それはプレートから一
部分取り除かれた状態で示されている保護オーバーレイ
18を具備している。図２に示されているような保護オー
バーレイを有する態様で使用される場合、露光はオーバ
ーレイ18に通して行うことができる。しかしながら、一
般には、先に記載されているような仕方で実施される露
光に先立って、図２に示されているように、プレートか
らオーバーレイ18を除去することが好ましい。図２の製
品20は、オーバーレイ18の保護特性を必要とする場合の
好ましい態様であろう。
図３には、層16の非露光領域16uを除去することがで
きる保護シートを使用した場合の本発明のプレート30が
示されている。保護オーバーレイ19は、シート19を層16
に接着させる作用を果たしそして層16に対するその接着
度が層14に対する層16の接着力より大きい接着剤の層
（図示されていない）をもって、付与されることができ
る。図３に示されている通り、層16の分割は層16の凝集
力が層16とシート19の間の接着力より大きいことを要求
するこということが認識されよう。
きる保護シートを使用した場合の本発明のプレート30が
示されている。保護オーバーレイ19は、シート19を層16
に接着させる作用を果たしそして層16に対するその接着
度が層14に対する層16の接着力より大きい接着剤の層
（図示されていない）をもって、付与されることができ
る。図３に示されている通り、層16の分割は層16の凝集
力が層16とシート19の間の接着力より大きいことを要求
するこということが認識されよう。
図３に示されている態様の場合には、露光は、オーバ
ーレイ19を層16に付着させる前または後に行うことがで
きる。従って、望むならば、層16は、オーバーレイ19を
層16に積層する前に露光することができ、そしてかかる
露光後にオーバーレイ19を除去すると、層16の非露光領
域16uは一段階の乾式現像で除去される。代わりに、上
記のように接着剤の層（図示されていない）をもって付
与されるオーバーレイ19は、オーバーレイ19を通して露
光する前に、層16の上に積層することができる。露光後
にオーバーレイ19を除去すると、層16の分割が図３に図
示された仕方で実施され、そして得られたプレートは追
加の処理工程を必要とすることなくプリンティングプレ
ートに使用できる。
ーレイ19を層16に付着させる前または後に行うことがで
きる。従って、望むならば、層16は、オーバーレイ19を
層16に積層する前に露光することができ、そしてかかる
露光後にオーバーレイ19を除去すると、層16の非露光領
域16uは一段階の乾式現像で除去される。代わりに、上
記のように接着剤の層（図示されていない）をもって付
与されるオーバーレイ19は、オーバーレイ19を通して露
光する前に、層16の上に積層することができる。露光後
にオーバーレイ19を除去すると、層16の分割が図３に図
示された仕方で実施され、そして得られたプレートは追
加の処理工程を必要とすることなくプリンティングプレ
ートに使用できる。
図２および図３に示されている態様においてオーバー
レイ18および19として様々なシート状材料を使用するこ
とがでる。従って、ポリエチレン、三酢酸セルロース、
紙、またはポリエステルたとえばポリエチレンテレフタ
レート、のようなシートまたはホイル材料が使用でき
る。オーバーレイシート18および19は具体的要求によっ
て指定されるように不透明であってもよいし又は透明で
あってもよいが、一般的には、シート18および19は透明
材料からなるであろう。たとえば、オーバーレイ19が層
16の露光前に層16の上に配置されるべき場合には、プレ
ートから除去されるときに層16の非露光領域を除去する
オーバーレイ19の不透明度は、露光がオーバーレイ19を
通して行われること、およびオーバーレイ19が化学線を
透過する層をからなることを指定されよう。透明なポリ
エチレンシートは好ましいオーバーレイ材料である。
レイ18および19として様々なシート状材料を使用するこ
とがでる。従って、ポリエチレン、三酢酸セルロース、
紙、またはポリエステルたとえばポリエチレンテレフタ
レート、のようなシートまたはホイル材料が使用でき
る。オーバーレイシート18および19は具体的要求によっ
て指定されるように不透明であってもよいし又は透明で
あってもよいが、一般的には、シート18および19は透明
材料からなるであろう。たとえば、オーバーレイ19が層
16の露光前に層16の上に配置されるべき場合には、プレ
ートから除去されるときに層16の非露光領域を除去する
オーバーレイ19の不透明度は、露光がオーバーレイ19を
通して行われること、およびオーバーレイ19が化学線を
透過する層をからなることを指定されよう。透明なポリ
エチレンシートは好ましいオーバーレイ材料である。
次に本発明を代表する実施例を示すが、実施例は本発
明の例証であって本発明を制限することを意図しない。
別に指定されていない限り、割合は全て重量による。
明の例証であって本発明を制限することを意図しない。
別に指定されていない限り、割合は全て重量による。
実施例１ 電気化学的に粗面化され、陽極酸化され、そしてポリ
ビニルホスホン酸によって親水性化処理されている、約
６ミル（0.15mm）の厚さを有するアルミニウム板の上
に、0.35μの厚さを有する親水性層を塗布した。この親
水性層は、水と酢酸エチルの92.5/3.5の混合溶剤中の固
形分（４％）の組成物から塗布され、次の組成を有して
いた：成分 ％ ポリエチレングリコール ワックス 49.5 分子量17,000 （カルボワックス（Carbowax）20M、 ユニオンカーバイド社） UV光開始剤 4.5 （2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ ェノン、 イルガキュア（Irgacure）651、 チバガイギー社） 酸化防止剤 0.5 （テトラキス｛メチレン（3,5−ジ−tert− ２−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ ート）｝メタン、 イルガノックス（Irganox）1010、 チバガイギー社） トリメチロールプロパントリアクリレート 45.5 （サルトマー（Sartomer）351、サルトマー 社） 界面活性剤 ２〜４滴 オクチルフェノキシポリエトキシエタノール （トリトン（Triton）Ｘ−100、 ローム＆ハース社、25％水溶液として添加） 上記層は次の仕方で形成した。ポリエチレングリコー
ルワックスは攪拌しながら水中に完全に溶解した。光開
始剤および酸化防止剤は酢酸エチルの中に溶解した（５
％固形分）。ソニファイヤ（sonifier）を水溶液の中に
置き、そして始動し、そこに、トリメチロールプロパン
トリアクリレートと、酢酸エチル／光開始剤／酸化防止
剤の溶液を、各々の場合に、10〜20秒の範囲でゆっくり
加えた。得られた50gの乳濁物に対して、２〜３滴のト
リトンＸ−100を添加した。乳濁物をさらに２〜３分
間、全体にソニファイし、そしてマイヤー＃４ロッドを
使用して、上記アルミニウム板の上に塗布して約0.35μ
の厚さの上記親水性フィルムをもたらした。フィルムは
オーブン（170゜F）の中で２分間乾燥した。
ビニルホスホン酸によって親水性化処理されている、約
６ミル（0.15mm）の厚さを有するアルミニウム板の上
に、0.35μの厚さを有する親水性層を塗布した。この親
水性層は、水と酢酸エチルの92.5/3.5の混合溶剤中の固
形分（４％）の組成物から塗布され、次の組成を有して
いた：成分 ％ ポリエチレングリコール ワックス 49.5 分子量17,000 （カルボワックス（Carbowax）20M、 ユニオンカーバイド社） UV光開始剤 4.5 （2,2−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ ェノン、 イルガキュア（Irgacure）651、 チバガイギー社） 酸化防止剤 0.5 （テトラキス｛メチレン（3,5−ジ−tert− ２−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメ ート）｝メタン、 イルガノックス（Irganox）1010、 チバガイギー社） トリメチロールプロパントリアクリレート 45.5 （サルトマー（Sartomer）351、サルトマー 社） 界面活性剤 ２〜４滴 オクチルフェノキシポリエトキシエタノール （トリトン（Triton）Ｘ−100、 ローム＆ハース社、25％水溶液として添加） 上記層は次の仕方で形成した。ポリエチレングリコー
ルワックスは攪拌しながら水中に完全に溶解した。光開
始剤および酸化防止剤は酢酸エチルの中に溶解した（５
％固形分）。ソニファイヤ（sonifier）を水溶液の中に
置き、そして始動し、そこに、トリメチロールプロパン
トリアクリレートと、酢酸エチル／光開始剤／酸化防止
剤の溶液を、各々の場合に、10〜20秒の範囲でゆっくり
加えた。得られた50gの乳濁物に対して、２〜３滴のト
リトンＸ−100を添加した。乳濁物をさらに２〜３分
間、全体にソニファイし、そしてマイヤー＃４ロッドを
使用して、上記アルミニウム板の上に塗布して約0.35μ
の厚さの上記親水性フィルムをもたらした。フィルムは
オーブン（170゜F）の中で２分間乾燥した。
この親水性フィルムの上に、疎水性フィルムを8.4％
固形分の組成物から塗布した。疎水性フィルムは次の組
成を有していた：成分 ％ エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 22.0 エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （ヘンケル（Henkel）4155、ヘンケル社） 22.0 高分子量ポリ（エチルメタクリレート） エルバサイト（Elvacite）2042、 E.I.デュポン ドヌムール社 36.5 低分子量ポリ（エチルメタクリレート） エルバサイト2043、E.I.デュポン ドヌムール社 12.0 光開始剤、イルガキュア651 6.5 酸化防止剤、イルガノックス1010 1.0 上記疎水性層は約0.7μの厚さで親水性層の上に塗布
された。得られたプリンティングプレートはUV露光フレ
ームの中に置き、そして通常の仕方でターゲットを介し
て化学線照射で露光した。露光済みプレートはそれ以上
の処理（たとえば、洗浄またはゴム引き）工程なしで印
刷機上で使用した。このプリンティングプレートは150
線／インチのスクリーン上で２〜98％のドットおよびUG
RAスケール上で10μ線の解像力をもたらした。このプレ
ートはマルチグラフィックス・デュプリケーター印刷機
上で３〜98％のドットおよび10μの線を印刷した。プレ
ートの耐久性は良好であった；許容できる30,000より多
い印刷を作成した。
固形分の組成物から塗布した。疎水性フィルムは次の組
成を有していた：成分 ％ エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 22.0 エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （ヘンケル（Henkel）4155、ヘンケル社） 22.0 高分子量ポリ（エチルメタクリレート） エルバサイト（Elvacite）2042、 E.I.デュポン ドヌムール社 36.5 低分子量ポリ（エチルメタクリレート） エルバサイト2043、E.I.デュポン ドヌムール社 12.0 光開始剤、イルガキュア651 6.5 酸化防止剤、イルガノックス1010 1.0 上記疎水性層は約0.7μの厚さで親水性層の上に塗布
された。得られたプリンティングプレートはUV露光フレ
ームの中に置き、そして通常の仕方でターゲットを介し
て化学線照射で露光した。露光済みプレートはそれ以上
の処理（たとえば、洗浄またはゴム引き）工程なしで印
刷機上で使用した。このプリンティングプレートは150
線／インチのスクリーン上で２〜98％のドットおよびUG
RAスケール上で10μ線の解像力をもたらした。このプレ
ートはマルチグラフィックス・デュプリケーター印刷機
上で３〜98％のドットおよび10μの線を印刷した。プレ
ートの耐久性は良好であった；許容できる30,000より多
い印刷を作成した。
実施例２ 次の成分から塗布組成物（4.89％固形分）を調製し
た：成分 量（ｇ） 水 92.88 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.15 トリメチロールプロパントリアクリレート 1.15 ポリエチレングリコール （カルボワックス20M） 2.00 イルガキュア651（５％、酢酸エチル中） 3.40 上記塗布組成物はビーカーの中で調製した。まず、ビ
ーカーに、水、トリトンＸ−100およびソニファイヤを
入れた。界面活性剤の溶液をソニファイしながら、トリ
メチロールプロパントリアクリレートを滴加し、相転換
を生じさせた。カルボワックスとイルガキュー成分を滴
加し、この添加が完了したら、乳濁物を３分間ソニファ
イし、数μの液滴を有する非常に微細な乳濁物を生成し
た。
た：成分 量（ｇ） 水 92.88 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.15 トリメチロールプロパントリアクリレート 1.15 ポリエチレングリコール （カルボワックス20M） 2.00 イルガキュア651（５％、酢酸エチル中） 3.40 上記塗布組成物はビーカーの中で調製した。まず、ビ
ーカーに、水、トリトンＸ−100およびソニファイヤを
入れた。界面活性剤の溶液をソニファイしながら、トリ
メチロールプロパントリアクリレートを滴加し、相転換
を生じさせた。カルボワックスとイルガキュー成分を滴
加し、この添加が完了したら、乳濁物を３分間ソニファ
イし、数μの液滴を有する非常に微細な乳濁物を生成し
た。
得られた乳濁物を、実施例１に記載されているアルミ
ニウム板の上0.43〜0.54μの厚さに塗布した。この塗膜
をオーブン（180゜F）の中で乾燥して重合体親水性層を
もうけた。
ニウム板の上0.43〜0.54μの厚さに塗布した。この塗膜
をオーブン（180゜F）の中で乾燥して重合体親水性層を
もうけた。
（重合体疎水性層を形成するための）塗布組成物は次
の成分から8.38％固形分に調製した。（磁気攪拌器の助
けによって）成分は指定された順序で混合し、そして最
終添加後に５分間混合した：成分 量（ｇ） 酢酸エチル 50.00 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 （チオジエチレン ビス−（3,5−ジ− tert−ブチル−４−ヒドロキシ） ヒドロシンナメート、チバガイギー社） 0.02 メトキシヒドロキノン （0.38％、酢酸エチル中） 1.62 エルバサイト2045、 ポリ（イソブチルメタクリレート）、 E.I.デュポン ドヌムール社 1.50 トリメチロールプロパントリアクリレート （99％） 2.72 得られた組成物は、0.70μの塗布厚さになるように＃
４湿潤フィルム塗布器ロッドを使用して、重合体親水性
層の上に塗布した。このプレートは180゜Fのオーブンで
３分間乾燥した。
の成分から8.38％固形分に調製した。（磁気攪拌器の助
けによって）成分は指定された順序で混合し、そして最
終添加後に５分間混合した：成分 量（ｇ） 酢酸エチル 50.00 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 （チオジエチレン ビス−（3,5−ジ− tert−ブチル−４−ヒドロキシ） ヒドロシンナメート、チバガイギー社） 0.02 メトキシヒドロキノン （0.38％、酢酸エチル中） 1.62 エルバサイト2045、 ポリ（イソブチルメタクリレート）、 E.I.デュポン ドヌムール社 1.50 トリメチロールプロパントリアクリレート （99％） 2.72 得られた組成物は、0.70μの塗布厚さになるように＃
４湿潤フィルム塗布器ロッドを使用して、重合体親水性
層の上に塗布した。このプレートは180゜Fのオーブンで
３分間乾燥した。
このプリンティングプレートはUV露光フレームの中に
置き、そしてターゲットを介して露光した。露光済みプ
レートは（ゴム引きまたは現像工程なしで）、マルチ28
50S印刷機上で設置し、そして印刷機はウィコフ（Wikof
f）インキを用いて35,000印刷のために走行した。ハイ
ライト領域でのドットの損失は35,000印刷で起こること
が最初に観察された。このプレートはハイライト領域お
よびシャドー領域で12μ線の解像力をもたらした。ハイ
ライトドット:98％；シャドードット:2％。
置き、そしてターゲットを介して露光した。露光済みプ
レートは（ゴム引きまたは現像工程なしで）、マルチ28
50S印刷機上で設置し、そして印刷機はウィコフ（Wikof
f）インキを用いて35,000印刷のために走行した。ハイ
ライト領域でのドットの損失は35,000印刷で起こること
が最初に観察された。このプレートはハイライト領域お
よびシャドー領域で12μ線の解像力をもたらした。ハイ
ライトドット:98％；シャドードット:2％。
実施例３ 水性乳濁塗布材は次の成分から調製した：成分 量（ｇ） カルボワックス20M 2.00 サルトマー351 1.85 イルガキュア651（20％、酢酸エチル中） 0.91 イルガノックス1010 （テトラキス｛メチレン（3,5−ジ−tert− ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）｝ メタン、チバガイギー社） 0.22 イルガノックス1035（10％、エチル中） 0.22 トリトンＸ−100（25％水溶液） 0.10 蒸留水 48.00 上記乳濁物は次のようにして調製した。まずカルボワ
ックス20Mを水中に溶解し、そしてサルトマー351を滴加
しながらソニファイした。イルガキュア651、イルガノ
ックス1010およびイルガノックス1035の溶液を混ぜ合わ
せ、そして滴加した。それから、トリトンＸ−100を滴
加し、そしてこの乳濁物を３分間ソニファイした。この
水中油型乳濁物は、＃４マイヤーロッドを使用して、実
施例１に記載のアルミニウム板の上に９μの湿潤厚さに
塗布した。この板を乾燥して重合体親水性層をもたらし
た。
ックス20Mを水中に溶解し、そしてサルトマー351を滴加
しながらソニファイした。イルガキュア651、イルガノ
ックス1010およびイルガノックス1035の溶液を混ぜ合わ
せ、そして滴加した。それから、トリトンＸ−100を滴
加し、そしてこの乳濁物を３分間ソニファイした。この
水中油型乳濁物は、＃４マイヤーロッドを使用して、実
施例１に記載のアルミニウム板の上に９μの湿潤厚さに
塗布した。この板を乾燥して重合体親水性層をもたらし
た。
溶剤塗布組成物は下記成分から、成分を磁気攪拌機の
助けによって30分間攪拌することにより、調製した：成分 量（ｇ） エルバサイト2045 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 この溶剤塗布材は、＃４マイヤーロッドを使用して、
重合体親水性層の上に、９μの湿潤厚さに塗布した。こ
のプレートを乾燥し、そして真空露光フレームの中で、
380nmで、５キロワット光源を使用して、画像形成し
た。露光後、このプリンティングプレートは、水または
湿し液を使用して５〜10秒間洗浄した。どちらの場合
も、親水性非露光領域は清浄に維持され、そしてスカミ
ングがなく、他方、露光領域は親油性（インキ親和性）
を示した。
助けによって30分間攪拌することにより、調製した：成分 量（ｇ） エルバサイト2045 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 この溶剤塗布材は、＃４マイヤーロッドを使用して、
重合体親水性層の上に、９μの湿潤厚さに塗布した。こ
のプレートを乾燥し、そして真空露光フレームの中で、
380nmで、５キロワット光源を使用して、画像形成し
た。露光後、このプリンティングプレートは、水または
湿し液を使用して５〜10秒間洗浄した。どちらの場合
も、親水性非露光領域は清浄に維持され、そしてスカミ
ングがなく、他方、露光領域は親油性（インキ親和性）
を示した。
実施例４ 重合体親水性層を実施例３に記載されている仕方でア
ルミニウム板の上に塗布した。この親水性層の上に、重
合体疎水性層を、下記成分からなる組成物から、（実施
例３に記載されている仕方で）塗布した：成分 量（ｇ） エルバサイト2045 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 エトキシ化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 2.72 酢酸エチル 49.50 塗布層を乾燥して得られた平版プリンティングプレー
トは、実施例３に引用されているのと同じ条件下で画像
形成した。露光済みプレートは水または湿し液で10秒間
洗浄した。画像領域は親油性（インキ受容性）を示した
が、非画像領域はそうでなかった。
ルミニウム板の上に塗布した。この親水性層の上に、重
合体疎水性層を、下記成分からなる組成物から、（実施
例３に記載されている仕方で）塗布した：成分 量（ｇ） エルバサイト2045 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 エトキシ化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 2.72 酢酸エチル 49.50 塗布層を乾燥して得られた平版プリンティングプレー
トは、実施例３に引用されているのと同じ条件下で画像
形成した。露光済みプレートは水または湿し液で10秒間
洗浄した。画像領域は親油性（インキ受容性）を示した
が、非画像領域はそうでなかった。
実施例５ 実施例１に記載されているようなアルミニウム板の上
に、下記成分からなる塗布組成物を使用して、（やはり
実施例１に記載されている仕方で）重合体親水性層を塗
布し乾燥した：成分 量（ｇ） カルボワックス20M 2.00 サルトマー454 1.85 イルガキュア651（20％、酢酸エチル中） 0.91 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.22 イルガノックス1035 （10％、酢酸エチル中） 0.22 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.10 蒸留水 48.00 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層を、実施例
３に記載されている塗布組成物および方法を使用して、
塗布した。このプレートをオーブン乾燥し、そして実施
例３に記載されている仕方で露光した。露光済みプレー
トを水または湿し液で10秒間洗浄した。露光領域は親油
性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそうでな
かった。
に、下記成分からなる塗布組成物を使用して、（やはり
実施例１に記載されている仕方で）重合体親水性層を塗
布し乾燥した：成分 量（ｇ） カルボワックス20M 2.00 サルトマー454 1.85 イルガキュア651（20％、酢酸エチル中） 0.91 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.22 イルガノックス1035 （10％、酢酸エチル中） 0.22 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.10 蒸留水 48.00 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層を、実施例
３に記載されている塗布組成物および方法を使用して、
塗布した。このプレートをオーブン乾燥し、そして実施
例３に記載されている仕方で露光した。露光済みプレー
トを水または湿し液で10秒間洗浄した。露光領域は親油
性（インキ受容性）を示したが、非露光領域はそうでな
かった。
実施例６ 重合体親水性層を担持するアルミニウム板は、実施例
５の記載に従って製造した。それから、この親水性層の
上に、重合体疎水性層を、実施例４に記載されている塗
布組成物を使用して塗布した。このプレートを、実施例
５に記載されているように、オーブン乾燥し、露光し、
そして洗浄した。プレートの露光領域は親油性（インキ
受容性）を示したが、非露光領域はそうでなかった。
５の記載に従って製造した。それから、この親水性層の
上に、重合体疎水性層を、実施例４に記載されている塗
布組成物を使用して塗布した。このプレートを、実施例
５に記載されているように、オーブン乾燥し、露光し、
そして洗浄した。プレートの露光領域は親油性（インキ
受容性）を示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例７ 重合体親水性層を担持するアルミニウム板は、実施例
３の記載に従って製造した。この親水性層の上に、重合
体疎水性層を、下記成分からなる塗布組成物を（＃４マ
イヤーロッドによって９μの湿潤厚さになるように）塗
布することによって形成した：成分 量（ｇ） ポリメチルメタクリレート （エルバサイト2010、E.I.デュポン ドヌムール社） 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートをオーブン乾燥し、そして真空フレーム
内で露光した。プレートを水または湿し液で５〜10秒間
洗浄した。露光領域はインキ受容性を示したが、非露光
領域はそうでなかった。
３の記載に従って製造した。この親水性層の上に、重合
体疎水性層を、下記成分からなる塗布組成物を（＃４マ
イヤーロッドによって９μの湿潤厚さになるように）塗
布することによって形成した：成分 量（ｇ） ポリメチルメタクリレート （エルバサイト2010、E.I.デュポン ドヌムール社） 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートをオーブン乾燥し、そして真空フレーム
内で露光した。プレートを水または湿し液で５〜10秒間
洗浄した。露光領域はインキ受容性を示したが、非露光
領域はそうでなかった。
実施例８ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） ポリメチルメタクリレート 固有粘度1.25（エルバサイト2041、 E.I.デュポン ドヌムール社） 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） ポリメチルメタクリレート 固有粘度1.25（エルバサイト2041、 E.I.デュポン ドヌムール社） 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例９ 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エルバサイト2042 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エルバサイト2042 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例10 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エルバサイト2044 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例７に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エルバサイト2044 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例11 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） ポリ（メチルメタクリレート−コ−ｎ− ブチルメタクリレート）、 エルバサイト2013、E.I.デュポン ドヌムール社 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） ポリ（メチルメタクリレート−コ−ｎ− ブチルメタクリレート）、 エルバサイト2013、E.I.デュポン ドヌムール社 1.50 イルガキュア651 0.49 イルガノックス1010 0.02 イルガノックス1035 0.02 サルトマー351 2.72 酢酸エチル 49.50 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例12 実施例３の手順を使用して、アルミニウム板の上に、
重合体親水性層を、乳濁物から、＃４マイヤーロッドを
使用して９μの湿潤塗布厚さに塗布した。この乳濁物は
下記成分から成る：成分 量（ｇ） カルボワックス20M 2.00 サルトマー351 1.85 イルガキュア651（20％、酢酸エチル中） 0.91 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.22 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.20 蒸留水 96.0 乾燥した親水性層の上に、重合体疎水性層を、溶剤の
渦にゆっくり添加した下記成分を（磁気攪拌機で30分
間）攪拌することによって得た組成物から、塗布した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 ポリエチレングリコールジメタクリレート （サルトマー210、サルトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 得られたプレートを、乾燥し、真空フレーム内でUV照
射で露光し、そして水または湿し液で10〜20秒間洗浄し
た。画像領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非
画像領域はそうでなかった。
重合体親水性層を、乳濁物から、＃４マイヤーロッドを
使用して９μの湿潤塗布厚さに塗布した。この乳濁物は
下記成分から成る：成分 量（ｇ） カルボワックス20M 2.00 サルトマー351 1.85 イルガキュア651（20％、酢酸エチル中） 0.91 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.22 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.20 蒸留水 96.0 乾燥した親水性層の上に、重合体疎水性層を、溶剤の
渦にゆっくり添加した下記成分を（磁気攪拌機で30分
間）攪拌することによって得た組成物から、塗布した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 ポリエチレングリコールジメタクリレート （サルトマー210、サルトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 得られたプレートを、乾燥し、真空フレーム内でUV照
射で露光し、そして水または湿し液で10〜20秒間洗浄し
た。画像領域は親油性（インキ受容性）を示したが、非
画像領域はそうでなかった。
実施例13 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エトキシル化ビスフェノールＡ ジアクリレート （サルトマー348、サマトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エトキシル化ビスフェノールＡ ジアクリレート （サルトマー348、サマトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例14 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 ネオペンチルグリコールジアクリレート （サルトマー247、サマトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 ネオペンチルグリコールジアクリレート （サルトマー247、サマトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例15 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 サルトマー351 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 サルトマー351 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
実施例16 重合体疎水性層が下記成分からなる組成物から塗布さ
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
れたこと以外は、実施例12に記載されている手順に従っ
て、アルミニウムプリンティングプレートを製造し、露
光し、洗浄し、そして評価した：成分 量（ｇ） エトキシル化トリメチロールプロパン トリアクリレート （サルトマー454、サルトマー社） 1.5 エルバサイト2042 1.12 エルバサイト2043 0.37 イルガキュア651 0.2 イルガノックス1010 （10％、酢酸エチル中） 0.32 酢酸エチル 33.3 このプレートの露光領域は親油性（インキ受容性）を
示したが、非露光領域はそうでなかった。
上記のように製造したアルミニウムプレートを、露光
し、水で洗浄し、そして周囲条件下で５日間セットし、
ゴム引きはしなかった。それから、このプレートを印刷
機に設置し、そしてスカミングなしで少なくとも500複
写を作成した。上記のように製造したアルミニウムプリ
ンティングプレートを露光し、そしてさらに処理するこ
となく印刷機に設置し、インキを供給し、そして通常の
湿し液の代わりに水を供給した。少なくとも200複写を
走行した。（湿し液の代わりの）水は印刷機上での現像
を可能にした。
し、水で洗浄し、そして周囲条件下で５日間セットし、
ゴム引きはしなかった。それから、このプレートを印刷
機に設置し、そしてスカミングなしで少なくとも500複
写を作成した。上記のように製造したアルミニウムプリ
ンティングプレートを露光し、そしてさらに処理するこ
となく印刷機に設置し、インキを供給し、そして通常の
湿し液の代わりに水を供給した。少なくとも200複写を
走行した。（湿し液の代わりの）水は印刷機上での現像
を可能にした。
実施例17〜24 これら各実施例においては、重合体疎水性画像形成層
が表１に掲載されている成分からなる各組成物を塗布す
ることによって形成されたこと以外は、実施例12に記載
されている手順に従って、プリンティングプレートを製
造し、露光し、洗浄し、そして評価した： 実施例25〜32 実施例１に記載されているプリンティングプレート用
基体を使用して、そこに記載されている仕方で、プリン
ティングプレート製造した；親水性層は下記の塗布配合
物（配合物25〜32）から300mg/m2の被覆量に塗布し；そ
して疎水性画像形成層は次の成分を有する組成物を使用
して＃４マイヤーロッドで適用した：成分 量（ｇ） 酢酸エチル 45.0 イルガノックス1010 （a0％、酢酸エチル中） 0.2 ITX（３％、酢酸エチル中） 0.34 イルガキュア369（５％、酢酸エチル中） 0.62 エルバサイト2042 2.27 TMPTA 1.67 各々の場合に、親水性塗布配合物はマイクロ流動化装
置に２回通して水中油型乳濁物にし、それをワイヤバー
によって、親水化され粗面化された陽極酸化アルミニウ
ム基体の上に塗布した。実施例25〜32は、エチレンオキ
シド／プロピレンオキシドブロック共重合体およびセル
ロースエーテルのタイプの親水性結着剤を使用すること
を例証している。配合物25 量（ｇ） エチレンジアミン／プロピレンオキシド／ エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス（Tetronics）1107、 20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物26 量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシド ブロック共重合体 （プルロニクス（Pluronics）F87、 20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物27 量（ｇ） エチレンジアミン／プロピレンオキシド／ エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス908、20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、水酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物28 量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシド ブロック共重合体 （プルロニクスF127、20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物29 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセル（Methocel）E15LV、 ダウケミカル社、２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物30 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルE50LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物31 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルF50LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物32 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルK35LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00 プリンティングプレートを印刷機上で現像するために
印刷機に設置し、そして印刷走行の実施に利用した。こ
れらプレートはスカミングせず、そして許容できるプリ
ンティングプレートの操作パラメーターの範囲内の性能
を有していた。
が表１に掲載されている成分からなる各組成物を塗布す
ることによって形成されたこと以外は、実施例12に記載
されている手順に従って、プリンティングプレートを製
造し、露光し、洗浄し、そして評価した： 実施例25〜32 実施例１に記載されているプリンティングプレート用
基体を使用して、そこに記載されている仕方で、プリン
ティングプレート製造した；親水性層は下記の塗布配合
物（配合物25〜32）から300mg/m2の被覆量に塗布し；そ
して疎水性画像形成層は次の成分を有する組成物を使用
して＃４マイヤーロッドで適用した：成分 量（ｇ） 酢酸エチル 45.0 イルガノックス1010 （a0％、酢酸エチル中） 0.2 ITX（３％、酢酸エチル中） 0.34 イルガキュア369（５％、酢酸エチル中） 0.62 エルバサイト2042 2.27 TMPTA 1.67 各々の場合に、親水性塗布配合物はマイクロ流動化装
置に２回通して水中油型乳濁物にし、それをワイヤバー
によって、親水化され粗面化された陽極酸化アルミニウ
ム基体の上に塗布した。実施例25〜32は、エチレンオキ
シド／プロピレンオキシドブロック共重合体およびセル
ロースエーテルのタイプの親水性結着剤を使用すること
を例証している。配合物25 量（ｇ） エチレンジアミン／プロピレンオキシド／ エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス（Tetronics）1107、 20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物26 量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシド ブロック共重合体 （プルロニクス（Pluronics）F87、 20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物27 量（ｇ） エチレンジアミン／プロピレンオキシド／ エチレンオキシドブロック共重合体 （テトロニクス908、20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、水酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物28 量（ｇ） プロピレンオキシド／エチレンオキシド ブロック共重合体 （プルロニクスF127、20％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物29 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセル（Methocel）E15LV、 ダウケミカル社、２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物30 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルE50LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物31 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルF50LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00配合物32 量（ｇ） ヒドロキシプロピルメチルセルロース （メトセルK35LV、ダウケミカル社、 ２％、水中） 10.00 トリメチロールプロパントリアクリレート （TMPTA） 1.84 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） .50 ２−ベンジル−２−（ジメチルアミノ）− １−｛４−（４−モルホリニル）フェニル｝ −１−ブタノン （イルガキュア369、５％、酢酸エチル中） .72 イソプロピルチオキサントン（ITX） ３％、酢酸エチル中 .60 トリトンＸ−100（25％、水中） .10 蒸留水 90.00 プリンティングプレートを印刷機上で現像するために
印刷機に設置し、そして印刷走行の実施に利用した。こ
れらプレートはスカミングせず、そして許容できるプリ
ンティングプレートの操作パラメーターの範囲内の性能
を有していた。
実施例33 実施例１に記載されているようなアルミニウム板の上
に、重合体親水性層は、下記成分からなる乳濁塗布組成
物を使用して、（やはり、実施例１に記載されている仕
方で）塗布し乾燥した：成分 量（ｇ） カルボワックス20M（20％、水中） 2.977 PEG8000、ポリエチレングリコール、 分子量8000、ユニオンカーバイド社、 （20％、水中） 1.98 TMPTA（99％） 0.94 イルガノックス369（５％、酢酸エチル中） 0.416 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） 0.075 ITX（３％、酢酸エチル中） 0.23 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.20 蒸留水 43.18 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層は、実施例
25〜32に記載されている塗布組成物および方法を使用し
て、塗布した。
に、重合体親水性層は、下記成分からなる乳濁塗布組成
物を使用して、（やはり、実施例１に記載されている仕
方で）塗布し乾燥した：成分 量（ｇ） カルボワックス20M（20％、水中） 2.977 PEG8000、ポリエチレングリコール、 分子量8000、ユニオンカーバイド社、 （20％、水中） 1.98 TMPTA（99％） 0.94 イルガノックス369（５％、酢酸エチル中） 0.416 イルガノックス1010 （４％、酢酸エチル中） 0.075 ITX（３％、酢酸エチル中） 0.23 トリトンＸ−100（25％、水中） 0.20 蒸留水 43.18 得られた親水性層の上に、重合体疎水性層は、実施例
25〜32に記載されている塗布組成物および方法を使用し
て、塗布した。
プレートをオーブン乾燥し、露光し、そして印刷機上
での現像のために印刷機に設置した。このプレートは許
容できる約25,000印刷を提供した。
での現像のために印刷機に設置した。このプレートは許
容できる約25,000印刷を提供した。
比較例 上記実施例に記載した仕方で製造したプリンティング
プレートと比較するために、下記試験を行った。
プレートと比較するために、下記試験を行った。
比較例Ａ 実施例１に記載されている通りの、粗面化され、陽極
酸化され、そして親水化処理された、プリンティングプ
レート用基体を、プレートを水で湿潤し、それから親水
性表面を親油性インキ（ヘキスト社からRC−43インキと
して入手可能な黒色保護インキ）で擦ることによって、
親水性について評価した。インキは親水性表面によって
反撥された。すなわち、湿潤表面はスカミングされず、
良好な親水性を示し、そしてインキ組成物に対する親和
性を示されなかった。かかるプレートの表面上に、最初
に水で湿潤しないで、インキを擦った場合には、プレー
ト表面はインキでスカミングされ、それから、そのイン
キは水洗によって除去できなかった。
酸化され、そして親水化処理された、プリンティングプ
レート用基体を、プレートを水で湿潤し、それから親水
性表面を親油性インキ（ヘキスト社からRC−43インキと
して入手可能な黒色保護インキ）で擦ることによって、
親水性について評価した。インキは親水性表面によって
反撥された。すなわち、湿潤表面はスカミングされず、
良好な親水性を示し、そしてインキ組成物に対する親和
性を示されなかった。かかるプレートの表面上に、最初
に水で湿潤しないで、インキを擦った場合には、プレー
ト表面はインキでスカミングされ、それから、そのイン
キは水洗によって除去できなかった。
比較例Ｂ アルミニウムのプリンティングプレート用基体材料の
サンプルに直接に、疎水性結着剤／重合性単量体の組成
物を（実施例３、４、７、８、９、10、11、13、14およ
び15に記載されている組成物を使用して）塗布した。す
なわち、プリンティングプレート用基体の既に親水性で
ある表面の上に、まず樹脂状親水性層を塗布することを
しなかった。疎水性層を塗布したサンプルを乾燥し、露
光なしで、次の処理をした：（１）流れる水道水の下で
洗浄し、それからインキで擦る；および（２）逆の順序
で、すなわち、インキで擦ってから、水洗する。どの場
合も、疎水性層はインキ親和性を示した、すなわち、ス
カミングされた。非露光の（そして非インキ処理の）疎
水性層は、水洗によっても、または酢酸エチルによる洗
浄によっても、プレートの親水性表面から除去可能でな
かった。非インキ処理の疎水性層の、プレート表面への
付着性は、洗浄済みプレートを後からインキ処理して観
察された実質的スカミングにより、確認された。従っ
て、これら疎水性組成物は、プレート用基体の親水性化
処理した表面上に直接適用する画像形成層の生成には適
していなかった。
サンプルに直接に、疎水性結着剤／重合性単量体の組成
物を（実施例３、４、７、８、９、10、11、13、14およ
び15に記載されている組成物を使用して）塗布した。す
なわち、プリンティングプレート用基体の既に親水性で
ある表面の上に、まず樹脂状親水性層を塗布することを
しなかった。疎水性層を塗布したサンプルを乾燥し、露
光なしで、次の処理をした：（１）流れる水道水の下で
洗浄し、それからインキで擦る；および（２）逆の順序
で、すなわち、インキで擦ってから、水洗する。どの場
合も、疎水性層はインキ親和性を示した、すなわち、ス
カミングされた。非露光の（そして非インキ処理の）疎
水性層は、水洗によっても、または酢酸エチルによる洗
浄によっても、プレートの親水性表面から除去可能でな
かった。非インキ処理の疎水性層の、プレート表面への
付着性は、洗浄済みプレートを後からインキ処理して観
察された実質的スカミングにより、確認された。従っ
て、これら疎水性組成物は、プレート用基体の親水性化
処理した表面上に直接適用する画像形成層の生成には適
していなかった。
比較例Ｃ プリンティングプレート用基体のサンプルに、親水性
カルボワックス20M乳濁組成物だけを、実施例３および
５に記載の組成物を使用して、塗布した。どの場合に
も、その上にさらに疎水性層を適用しなかった。層は、
0.2μ〜１μの範囲の乾燥フィルム厚で試験した。ネガ
マスクを通してのUV露光後に、プレート上には不鮮明な
パターンが観察された。水洗後、得られたプレートにイ
ンキを適用すると、プレートの表面全体にわたってイン
キのビーズ化（反撥）を示し、いくつかの領域は他より
低いインキ反撥を示した。プレートは露光領域または非
露光領域どちらでもインキ保留性を示さず、画像表面ま
たは印刷表面が形成されず、そのことは、実施例３およ
び５の親水性結合剤／重合性単量体の組成物から塗布さ
れた層が、プリンティングプレート製造のための単独の
画像形成層としては不適合であることを意味している。
カルボワックス20M乳濁組成物だけを、実施例３および
５に記載の組成物を使用して、塗布した。どの場合に
も、その上にさらに疎水性層を適用しなかった。層は、
0.2μ〜１μの範囲の乾燥フィルム厚で試験した。ネガ
マスクを通してのUV露光後に、プレート上には不鮮明な
パターンが観察された。水洗後、得られたプレートにイ
ンキを適用すると、プレートの表面全体にわたってイン
キのビーズ化（反撥）を示し、いくつかの領域は他より
低いインキ反撥を示した。プレートは露光領域または非
露光領域どちらでもインキ保留性を示さず、画像表面ま
たは印刷表面が形成されず、そのことは、実施例３およ
び５の親水性結合剤／重合性単量体の組成物から塗布さ
れた層が、プリンティングプレート製造のための単独の
画像形成層としては不適合であることを意味している。
比較例Ｄ プリンティングプレートは実施例33に記載されている
仕方で製造した。ただし、そこに記載されている（光重
合性TMPTA単量体を含有する）親水性層の代わりに、水
（96g）の中のカルボワックス20M（2.4g）とPEG8000
（1.6g）を含む水溶液から塗布されたポリエチレングリ
コールの層を使用した。得られたプレートを露光し、そ
して印刷走行の実施に使用したところ、実施例33のプリ
ンティングプレートからは25,000印刷が得られるのに比
べて、許容できる約7000印刷を生じた。
仕方で製造した。ただし、そこに記載されている（光重
合性TMPTA単量体を含有する）親水性層の代わりに、水
（96g）の中のカルボワックス20M（2.4g）とPEG8000
（1.6g）を含む水溶液から塗布されたポリエチレングリ
コールの層を使用した。得られたプレートを露光し、そ
して印刷走行の実施に使用したところ、実施例33のプリ
ンティングプレートからは25,000印刷が得られるのに比
べて、許容できる約7000印刷を生じた。
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/038 Ｇ０３Ｆ 7/038 (72)発明者 ギウディス，アンソニー，シー. アメリカ合衆国01880 マサチューセッ ツ州ウエイクフィールド，ヒーサー レ ーン ６ (72)発明者 ラングレイス，ユージン，エル. アメリカ合衆国02056 マサチューセッ ツ州ノーフォーク，フォーリスト レー ン ３ (72)発明者 セント ジャック，クラレンス，エフ. アメリカ合衆国02861 ロードアイラン ド州ポウタケット，オズワルド ストリ ート 84 (56)参考文献 特開 昭50−152803（ＪＰ，Ａ) 特開 昭53−145706（ＪＰ，Ａ) 特開 昭49−1302（ＪＰ，Ａ) 特開 昭55−11282（ＪＰ，Ａ) 特開 昭50−71407（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G03F 7/095 G03F 7/00 503 G03F 7/027 G03F 7/028 G03F 7/032 G03F 7/038
Claims (28)
- 【請求項１】順に、 プリンティングプレート用基体； 親水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域では不溶化ま
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
親水性層；および、 疎水性巨大分子の有機結着剤と、露光領域では不溶化ま
たは硬化を促進することができる光重合性、光架橋性ま
たは光転位性の化合物とを含んでいる、重合体の感光性
疎水性層； を含んでおり、 前記感光性親水性層および感光性疎水性層の各々の露光
領域は前記露光によって光不溶化または光硬化され； 前記感光性疎水性層の非露光領域は、前記露光後に前記
下に横たわる重合体親水性層から除去されるときに、前
記重合体親水性層の対応する下に横たわる領域を裸出す
るのに適合している； 平版プリンティングプレート。 - 【請求項２】前記重合体感光性親水性層の前記不溶化ま
たは硬化を促進することができる前記化合物が、ラジカ
ル開始連鎖生長反応の付加重合によって高重合体を生成
することができる少なくとも一つの末端エチレン性基を
有する光重合性エチレン性不飽和単量体を含んでいる、
請求項１のプリンティングプレート。 - 【請求項３】前記単量体が多官能性アクリル系単量体を
含んでいる請求項２のプリンティングプレート。 - 【請求項４】前記重合体感光性親水性層が、前記光重合
性、光架橋性または光転位性の化合物の分散相を有する
前記親水性巨大分子有機結着剤の組成物から、前記プリ
ンティングプレート用基体に適用された層である、請求
項１のプリンティングプレート。 - 【請求項５】前記結着剤が、式 HO−（RO）ａ−Ｈ （式中、Ｒは、２〜約10個の炭素原子を有するアルキレ
ン基であり、そしてａは、約400〜50,000の範囲の分子
量を与えるのに十分な整数である） のポリアルキレンエーテルグリコールを含んでいる、請
求項１のプリンティングプレート。 - 【請求項６】前記Ｒがエチレンであり、そして前記分子
量が約650〜20,000の範囲である、請求項５のプリンテ
ィングプレート。 - 【請求項７】前記重合体感光性疎水性層が、巨大分子有
機結着剤と、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重合によ
って高重合体を生成することができる少なくとも一つの
末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和単
量体と、化学線によって活性化可能な遊離基生成性の付
加重合開始系とを含んでいる、請求項１のプリンティン
グプレート。 - 【請求項８】前記巨大分子有機結着剤がポリアクリレー
トエステルを含んでいる、請求項７のプリンティングプ
レート。 - 【請求項９】前記重合体感光性親水性層の前記結着剤
が、式 HO−（RO）ａ−Ｈ （式中、Ｒは、２〜約10個の炭素原子を有するアルキレ
ン基であり、そしてａは、約400〜6,000の範囲の分子量
を与えるのに十分な整数である） のポリアルキレンエーテルグリコールを含んでいる、請
求項７のプリンティングプレート。 - 【請求項１０】前記重合体感光性親水性層が、化学線に
よって活性化可能な遊離基生成性の付加重合開始系を含
んでいる、請求項９のプリンティングプレート。 - 【請求項１１】前記プリンティングプレート用基体がア
ルミニウムを含んでいる、請求項10のプリンティングプ
レート。 - 【請求項１２】前記プリンティングプレート用基体が粗
面化アルミニウム基体を含んでいる、請求項11のプリン
ティングプレート。 - 【請求項１３】前記重合体感光性疎水性層の上に、重合
体保護シートが重ね合わされている、請求項１のプリン
ティングプレート。 - 【請求項１４】前記重合体シートは前記感光性層を光重
合させるための放射線を透過する、請求項13のプリンテ
ィングプレート。 - 【請求項１５】前記重合体シートは、露光後に前記プレ
ートから分離されるときに、前記疎水性層の露光領域を
除去するのに適しており、それにより前記親水性層の対
応する領域が裸出する、請求項14のプリンティングプレ
ート。 - 【請求項１６】プリンティングプレート用基体の上に、
順に、親水性巨大分子の有機結着剤と露光領域では不溶
化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋
性または光転位性の化合物とを含んでいる重合体感光性
親水性層； および、その上に横たわる、疎水性巨大分子の有機結着
剤と露光領域では不溶化または硬化を促進することがで
きる光重合性、光架橋性または光転位性の化合物とを含
んでいる、重合体感光性疎水性層を提供し； 前記各層の領域を同時に、前記領域で前記各層を光不溶
化または光硬化するのに十分に、露光し；そして、 前記重合体感光性疎水性層の非露光領域を除去し、それ
によって、その下に横たわる前記重合体親水性層の対応
する領域を裸出させる； ことを含んでいる、印刷機上で使用するための露光済み
平版プリンティングプレートの製造方法。 - 【請求項１７】前記重合体感光性親水性層が水不溶性層
からなる、請求項16の方法。 - 【請求項１８】親水性層が、ポリアルキレンエーテルグ
リコール結着剤と、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重
合によって高重合体を生成することができる少なくとも
一つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不
飽和単量体と、化学線によって活性化可能な遊離基生成
性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項17の方法。 - 【請求項１９】前記重合体感光性疎水性層の上に、重合
体保護シートが重ね合わされる、請求項18の方法。 - 【請求項２０】前記保護シートが、前記露光に先立っ
て、前記重合体感光性疎水性層の上に重ね合われる、請
求項19の方法。 - 【請求項２１】前記重合体シートは、前記疎水性層の非
露光領域を前記親水性領域の対応領域から除去するのに
適合しており、そして前記保護シートは前記露光後に前
記プリンティングプレートから分離され、それによっ
て、前記親水性層の前記領域を裸出させる、請求項20の
方法。 - 【請求項２２】プリンティングプレート用基体の上に、
順に、親水性巨大分子の有機結着剤と露光領域では不溶
化または硬化を促進することができる光重合性、光架橋
性または光転位性の化合物とを含んでいる重合体感光性
親水性層；および、その上に横たわる、疎水性巨大分子
の有機結着剤と露光領域では不溶化または硬化を促進す
ることができる光重合性、光架橋性または光転位性の化
合物とを含んでいる、重合体感光性疎水性層を提供し； 前記各層の領域を同時に、前記領域で前記各層を光不溶
化または光硬化するのに十分に、露光し； 前記露光済みプレートを、さらに処理することなく、印
刷機上に設置し、前記印刷機は前記プリンティングプレ
ートを受容するのに適合しており、そして前記印刷機の
操作中に親油性インキおよび少なくとも水または湿し液
を前記プレートに接触させるため供給され；そして 前記印刷機を操作し、それによって、前記露光済みプレ
ートを前記インキおよび少なくとも前記水または湿し液
と接触させ、そして前記水または湿し液によって前記親
水性層の非露光領域を除去して前記親水性層の対応領域
を裸出する； ことを含んでいる、平版プリンティングプレートによっ
て平版印刷する方法。 - 【請求項２３】前記重合体感光性親水性層が水不溶性層
からなる、請求項22の方法。 - 【請求項２４】親水性層が、ポリアルキレンエーテルグ
リコール結着剤と、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重
合によって高重合体を生成することができる少なくとも
一つの末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不
飽和単量体と、化学線によって活性化可能な遊離基生成
性の付加重合開始系とを含んでいる、請求項23の方法。 - 【請求項２５】前記重合体感光性疎水性層が、巨大分子
有機結着剤と、ラジカル開始連鎖生長反応の付加重合に
よって高重合体を生成することができる少なくとも一つ
の末端エチレン性基を有する光重合性エチレン性不飽和
単量体と、化学線によって活性化可能な遊離基生成性の
付加重合開始系とを含んでいる、請求項24の方法。 - 【請求項２６】前記疎水性層の前記巨大分子有機結着剤
がポリアクリレートエステルを含んでいる、請求項25の
方法。 - 【請求項２７】前記プリンティングプレート用基体がア
ルミニウムを含んでいる、請求項26の方法。 - 【請求項２８】前記プリンティングプレート用基体が粗
面化アルミニウム基体を含んでいる、請求項27の方法。
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|---|---|---|---|
| US757,076 | 1991-09-10 | ||
| US07/757,076 US5258263A (en) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | Printing plate and methods of making and use same |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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| JP (1) | JP3210667B2 (ja) |
| KR (1) | KR100214738B1 (ja) |
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