KR930702704A - 인쇄판 - Google Patents
인쇄판Info
- Publication number
- KR930702704A KR930702704A KR1019930701403A KR930701403A KR930702704A KR 930702704 A KR930702704 A KR 930702704A KR 1019930701403 A KR1019930701403 A KR 1019930701403A KR 930701403 A KR930701403 A KR 930701403A KR 930702704 A KR930702704 A KR 930702704A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- layer
- printing plate
- photosensitive
- polymer
- hydrophilic
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
노출후 최소 또는 어떤 부가적 공정없이, 인쇄기 상의 사용을 위한 리소그래픽 인쇄판은, 인쇄판 기판, 중합 친수성 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 광중합성, 광교차 연결성 또는 광전위성 화합물이 있는 감광 친수성층, 중합 소수성 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 광중합성, 광교차 연결성 또는 광전위성 화합물이 있는 감광 소수성층, 을 포함한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1A도는 본 발명의 평면 인쇄판의 개략의 단면도, 제1B도는 그곳의 각각에서 노출 및 비노출 영역을 도시하는, 제1A도의 광노출 인쇄판의 개략의 단면도, 제1C도는 현상후 제1B도의 인쇄판의 개략의 단면도, 제2도는 부분적 제거상태에서 오버레이를 도시한, 보호 오버레일 갖추고 있는 본 발명의 평면 인쇄판의 개략의 단면도, 제3도는 부분적 제거상태를 도시한 피일 시이트(peel sheet)를 도시한, 인쇄판으로 부터 소수성 감광 물질의 비노출 영역을 제거하기 위한 피일 시이트를 갖춘 본 발명의 평면 인쇄판의 개략의 단면도.
Claims (33)
- 인쇄판 기판, 친수성 고분자 유기 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 광중합성, 광교차연결성 또는 광전위성 화합물을 포함하는 중합감광 친수성 층, 소수성 고분자 유기 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 광중합성, 광교차 연결성 또는 광전위성 화합물을 포함하는 중합 감광 소수성 층, 상기 광노출로 각각 광불용성화 또는 광경화되는, 상기 감광친수성 및 소수성 층이 각 광노출된 영역들, 상기 광노출 후에 아래 있는 중합 친수성 층으로 부터 비노출 영역 제거시, 상기 중합 친수성 층의 대응하는 아래있는 영역의 벗겨냄에 적합되어진 상기 감광 소수성 층의 비노출 영역들의 포함함을 특징으로 하는 평면 인쇄판.
- 제1항에 있어서, 상기 중합 감광 친수성 층의 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 상기 화합물이 자유 라디칼적 개시화, 사슬 전개 부가 중합반응에 의한 고중합체를 형성할 수 있는 하나 이상의 말단기 에틸렌계 그룹을 가지는 에틸렌화 불포화 광중합성 단량체를 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제2항에 있어서, 상기 단량체가 다기능적 아크릴릭 단량체를 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제1항에 있어서, 상기 중합 감광 친수성 층이 광중합성, 광교차 연결성 또는 광전위성 화합물의 분산상을 가지는 상기 친수성 고분자 유기 결합체의 화합물로 부터 상기 인쇄판 기판에 부착된 층임을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제1항에 있어서, 상기 결합제는 하기 식
-
- 의 폴리알킬렌에테르 글리콜을 포함하고, R은 탄소수 2내지 약 10인 알킬렌기이고, a는 약 400내지 약 50,000범위내의 분자량을 제공하기에 충분한 정수임을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제5항에 있어서, 상기 R이 에틸렌이고 상기 분자량이 약 650 내지 20,000범위임을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제1항에 있어서, 상기 중합 감광 소수성 충은 자유 라디칼적 개시화 사슬 전개 부가 중합반응에 의해 고중합체를 형성할 수 있고, 화학선에 의해 활성 가능한 자유-라디칼 생성, 부가 중합화-개시 시스템을 형성할 수 있는 하나 이상의 말단기 에틸렌화 그룹을 광중합성 에틸렌계 불포화 단량체 및 고분자 유기 결합체를 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제7항에 있어서, 상기 고분자 유기 결합체는 폴리아크릴레이트에 스테르를 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제7항에 있어서, 상기 중합 감광 친수층의 결합체가 하기식
-
- 의 폴리알킬렌에테르 글리콜을 포함하고, R은 탄소수 2내지 약 10의 알킬렌이고 a는 약 400내지 약 6,000범위 내의 분자량을 제공하기에 충분한 정수임을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제9항에 있어서, 상기 중합 감광 친수성 층은 자유 라디칼 생산, 화학 방사에 의해 활성 가능한 부가 중합화 개시 시스템을 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제10항에 있어서, 상기 인쇄판 기판가 알루미늄을 포함하는 인쇄판.
- 제11항에 있어서, 상기 인쇄판 기판는 입상화된 알루미늄 기판를 포함함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제1항에 있어서, 중합체 보호 박판이 상기 중합 감광 소수성 층위에 겹쳐 놓여짐을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제13항에 있어서, 상기 중합체 박판은 상기 감광성 층을 광중합화 하기 위한 방사를 전달함을 특징으로 하는 인쇄판.
- 제14항에 있어서, 상기 중합체 박판은, 광노출후 상기 판으로 부터의 분리시에, 상기 소수성 층의 노출 영역의 제거에 적합되고, 이에 의해 상기 친수성 층의 대응되는 영역이 벗겨짐을 특징으로 하는 인쇄판.
- 친수성 고분자 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 화합물을 포함하는 포함하는 중합 감광 친수성 층, 소수성 고분자 유기결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 화합물을 포함하는 오버레이 중합 소수성 층을, 순서대로, 인쇄판 기판 위에 제공하는 단계, 상기 영역에서 각 상기 층들을 광불용성화 또는 광경화 하기에 충분히, 각 층의 영역을 동시에 광노출하는 단계, 상기 중합 감광 소수성 층의 비노출 영역을 제거하여, 이에 의해 상기 중합 친수성 층의 밑에 있고 대응하는 영역을 벗겨내는 단계를 포함하는, 인쇄기에서 사용하기 위한 광노출 평면 인쇄판 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 중합 감광 친수성 층이 수불용성 층을 포함하는 제조방법.
- 제17항에 있어서, 친수성 층이 폴리알킬렌에테르 글리콜 결합체, 자유 라디칼적 개시화, 사슬 전개 부가 중합 반응에 의해 고중합체를 형성할 수 있는 하나 이상의 말단 에틸렌 그룹을 갖는 광중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 화학선에 의해 활성 가능한 자유 라디칼 발생, 부가 중합 개시 시스템을 포함하는 제조방법.
- 제18항에 있어서, 중합체 보호 박판을 상기 중합 감광 소수성층에 겹쳐 놓음을 포함하는 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 보호 박판이 상기 광노출 이전에 상기 중합 감광 소수성 층에 겹쳐 놓여지는 제조방법.
- 제20항에 있어서, 상기 보호 박판이 상기 친수성 영역의 대응하는 영역으로 부터 상기 소수성 층의 비노출 영역의 제거에 적합되고 또한 상기 보호박판이 상기 인쇄판으로 부터 광노출후 분리되고, 이에 의해 상기 친수성 층의 상기 영역을 벗겨냄을 특징으로 하는 제조방법.
- 친수성 고분자 결합체 및 광노즐 영역에서 불용성화 및 경화를 촉진할 수 있는 화합물을 포함하는 중합감광 친수성 층, 소수성 고분자 유기 결합체 및 광노출 영역에서 불용성화 또는 경화를 촉진할 수 있는 화합물을 포함하는 오버레이 중합 소수성 층을 순서대로, 인쇄판 기판 상에 제공하고, 상기 영역에서 상기 각 층의 광불용성화 또는 광경화에 충분하게, 상기 판의 상기 각 층의 영역을 동시에 광노출하고, 상기 광노출판을, 더 이상의 공정없이, 인쇄기 위에 놓고, 상기 인쇄기가 인쇄판을 적재할 수 있게 적합되고 또한 상기 인쇄기의 작동 중에 상기판과 접촉하기 위해 친지성 잉크 및 물 또는 잉크통 용액 중 하나를 갖추고 있는, 각 단계들을 포함하는, 평면 인쇄판으로 리소그래픽적으로 인쇄하는 방법.
- 제22항에 있어서, 상기 중합 감광 친수성 층은 수불용성 층을 포함함을 특징으로 하는 인쇄방법.
- 제23항에 있어서, 친수성 층은 폴리알킬렌에테르 글리콜 결합체, 자유-라디칼적 개시화, 사슬 전개 부가 중합반응에 의해 고중합체를 형성할 수 있는 하나 이상의 말단기 에틸렌화 그룹을 가지는 광중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 또한 화학선에 의해 자유 라디칼 생성, 부가 중합화 개시 시스템을 포함하는 친수성 층이 있는 인쇄방법.
- 제24항에 있어서, 상기 중합 감광 소수성 층은 고분자 유기 결합체 및 자유 라디칼적 개시화, 사슬 전개 부가 중합 반응에 의해 고중합체를 형성할 수 있는 하나 이상의 말단기 에틸렌화 그룹을 가지는 광중합성 에틸렌계 불포화 단량체, 및 화학선에 의해 활성 가능한 자유 라디칼 생성, 부가 중합화 개시 시스템을 포함하는 상기 중합 감광 소수성 층이 있는 인쇄방법.
- 제25항에 있어서, 상기 소수성 층의 상기 고분자 유기 결합체는 폴리아크릴레이트 에스테르를 포함함을 특징으로 하는 인쇄방법.
- 제26항에 있어서, 상기 인쇄판 기판는 알루미늄을 포함함을 특징으로 하는 인쇄방법.
- 제27항에 있어서, 상기 인쇄판 기판는 임상화된 알루미늄 기판를 포함함을 특징으로 하는 인쇄방법.
- ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US757,076 | 1991-09-10 | ||
US07/757,076 US5258263A (en) | 1991-09-10 | 1991-09-10 | Printing plate and methods of making and use same |
PCT/US1992/007541 WO1993005446A1 (en) | 1991-09-10 | 1992-09-02 | Printing plate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930702704A true KR930702704A (ko) | 1993-09-09 |
KR100214738B1 KR100214738B1 (ko) | 1999-08-02 |
Family
ID=25046258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019930701403A KR100214738B1 (ko) | 1991-09-10 | 1993-05-10 | 인쇄판 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5258263A (ko) |
EP (1) | EP0557506B1 (ko) |
JP (1) | JP3210667B2 (ko) |
KR (1) | KR100214738B1 (ko) |
AT (1) | ATE173096T1 (ko) |
CA (1) | CA2094593A1 (ko) |
DE (1) | DE69227502T2 (ko) |
WO (1) | WO1993005446A1 (ko) |
Families Citing this family (61)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4336115A1 (de) * | 1993-10-22 | 1995-04-27 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten |
US5607816A (en) * | 1993-11-01 | 1997-03-04 | Polaroid Corporation | On-press developable lithographic printing plates with high plasticizer content photoresists |
US5616449A (en) * | 1993-11-01 | 1997-04-01 | Polaroid Corporation | Lithographic printing plates with dispersed rubber additives |
US5493971A (en) * | 1994-04-13 | 1996-02-27 | Presstek, Inc. | Laser-imageable printing members and methods for wet lithographic printing |
DE4415607A1 (de) * | 1994-05-04 | 1995-11-09 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches Material und Verfahren zur Herstellung von Flachdruckplatten |
EP0701173B1 (en) * | 1994-09-08 | 1997-11-12 | Agfa-Gevaert N.V. | Method for producing lithographic plates with imaging elements comprising a photosensitive acid precusor |
US5506090A (en) * | 1994-09-23 | 1996-04-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Process for making shoot and run printing plates |
DE4434278A1 (de) * | 1994-09-26 | 1996-03-28 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruckform |
EP0708373B1 (en) * | 1994-10-20 | 1999-07-07 | Agfa-Gevaert N.V. | Imaging element comprising a hydrophobic photopolymerizable composition and method for producing lithographic plates therewith |
US5922506A (en) * | 1994-10-20 | 1999-07-13 | Agfa-Gevaert, N.V. | Imaging element comprising a hydrophobic photopolymerizable composition and method for producing lithographic plates therewith |
US5910395A (en) * | 1995-04-27 | 1999-06-08 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Negative-acting no-process printing plates |
US5677108A (en) * | 1995-04-28 | 1997-10-14 | Polaroid Corporation | On-press removable quenching overcoat for lithographic plates |
US5649486A (en) * | 1995-07-27 | 1997-07-22 | Presstek, Inc. | Thin-metal lithographic printing members with visible tracking layers |
EP0769724B1 (en) * | 1995-10-11 | 2000-07-12 | Agfa-Gevaert N.V. | On the press development of a diazo based printing plate |
DE69520578T2 (de) * | 1995-10-11 | 2002-04-11 | Agfa Gevaert Nv | Druckpressentwicklung von lithographischen Diazodruckplatten |
DE69518526T2 (de) * | 1995-10-31 | 2001-06-13 | Agfa Gevaert Nv | Auf der Druckpressentwicklung von lithographischen Druckplatten bestehend aus lichtempfindlichem Schichten mit Aryldiazosulphonatharzen |
GB9612233D0 (en) * | 1996-06-12 | 1996-08-14 | Horsell Graphic Ind Ltd | Lithographic plate |
US5811220A (en) * | 1996-10-10 | 1998-09-22 | Polaroid Corporation | On-press lithographic development methodology facilitated by the use of a disperse hydrophilic microgel |
US5972566A (en) * | 1997-05-21 | 1999-10-26 | Identity Group, Inc. | Releasable photopolymer printing plate and method of forming same |
FR2766173B1 (fr) * | 1997-07-18 | 1999-08-20 | Saint Gobain Vitrage | Procede d'obtention d'un motif decoratif sur un substrat transparent |
US6014929A (en) * | 1998-03-09 | 2000-01-18 | Teng; Gary Ganghui | Lithographic printing plates having a thin releasable interlayer overlying a rough substrate |
US6360749B1 (en) * | 1998-10-09 | 2002-03-26 | Swaminathan Jayaraman | Modification of properties and geometry of heart tissue to influence heart function |
AU1116900A (en) | 1998-10-15 | 2000-05-01 | Identity Group, Inc. | Printer and method of using same to print on thermoplastic medium |
DE10022786B4 (de) | 1999-05-12 | 2008-04-10 | Kodak Graphic Communications Gmbh | Auf der Druckmaschine entwickelbare Druckplatte |
US6071675A (en) * | 1999-06-05 | 2000-06-06 | Teng; Gary Ganghui | On-press development of a lithographic plate comprising dispersed solid particles |
US6245481B1 (en) | 1999-10-12 | 2001-06-12 | Gary Ganghui Teng | On-press process of lithographic plates having a laser sensitive mask layer |
US6740464B2 (en) * | 2000-01-14 | 2004-05-25 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Lithographic printing plate precursor |
US6242156B1 (en) | 2000-06-28 | 2001-06-05 | Gary Ganghui Teng | Lithographic plate having a conformal radiation-sensitive layer on a rough substrate |
US6245486B1 (en) | 2000-06-30 | 2001-06-12 | Gary Ganghui Teng | Method for imaging a printing plate having a laser ablatable mask layer |
US7089856B2 (en) | 2000-09-06 | 2006-08-15 | Gary Ganghui Teng | On-press development of thermosensitive lithographic printing member |
US6576401B2 (en) | 2001-09-14 | 2003-06-10 | Gary Ganghui Teng | On-press developable thermosensitive lithographic plates utilizing an onium or borate salt initiator |
US7709184B2 (en) * | 2000-09-06 | 2010-05-04 | Gary Ganghui Teng | Method of on-press developing thermosensitive lithographic printing plate |
US6482571B1 (en) | 2000-09-06 | 2002-11-19 | Gary Ganghui Teng | On-press development of thermosensitive lithographic plates |
US6548222B2 (en) | 2000-09-06 | 2003-04-15 | Gary Ganghui Teng | On-press developable thermosensitive lithographic printing plates |
US7427465B2 (en) * | 2005-02-14 | 2008-09-23 | Gary Ganghui Teng | On-press development of high speed laser sensitive lithographic printing plates |
US6495310B2 (en) | 2000-10-30 | 2002-12-17 | Gary Ganghui Teng | Lithographic plate having conformal overcoat and photosensitive layer on a rough substrate |
US6387595B1 (en) | 2000-10-30 | 2002-05-14 | Gary Ganghui Teng | On-press developable lithographic printing plate having an ultrathin overcoat |
US6899994B2 (en) * | 2001-04-04 | 2005-05-31 | Kodak Polychrome Graphics Llc | On-press developable IR sensitive printing plates using binder resins having polyethylene oxide segments |
KR20030078254A (ko) * | 2002-03-28 | 2003-10-08 | 에스피테크(주) | 스테인레스 스틸 박판의 표면을 개질하는 방법 및 이를이용한 스테인레스 스틸 벽지소재 |
JP2004314530A (ja) | 2003-04-18 | 2004-11-11 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版材料の印刷機上現像方法及び印刷方法 |
JP2005121949A (ja) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 印刷版材料 |
JP4505242B2 (ja) | 2004-03-17 | 2010-07-21 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷方法 |
WO2005091068A1 (ja) | 2004-03-24 | 2005-09-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | 画像形成方法、平版印刷版原版および平版印刷方法 |
JP4585872B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-11-24 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
EP1602982B1 (en) * | 2004-05-31 | 2013-12-18 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing method |
WO2006080107A1 (ja) * | 2005-01-31 | 2006-08-03 | Fujifilm Corporation | 平版印刷版原版および平版印刷方法 |
US20070119323A1 (en) * | 2005-02-14 | 2007-05-31 | Teng Gary G | Method of on-press developing high speed laser sensitive lithographic printing plate |
US8053170B2 (en) * | 2008-05-25 | 2011-11-08 | Gary Ganghui Teng | Process for on-press developing high speed laser sensitive lithographic printing plate |
US8062832B2 (en) * | 2008-05-27 | 2011-11-22 | Gary Ganghui Teng | Method for on-press developing high speed laser sensitive lithographic plate |
US8252513B2 (en) * | 2005-02-14 | 2012-08-28 | Gary Ganghui Teng | Method for on-press developing laser sensitive lithographic printing plate |
US7507525B2 (en) * | 2005-05-10 | 2009-03-24 | Fujifilm Corporation | Polymerizable composition and lithographic printing plate precursor |
EP1788449A1 (en) | 2005-11-21 | 2007-05-23 | Agfa Graphics N.V. | Method for making a lithographic printing plate |
PL1788435T3 (pl) | 2005-11-21 | 2013-09-30 | Agfa Nv | Sposób wytwarzania litograficznej płyty drukowej |
ES2324542T3 (es) | 2005-11-21 | 2009-08-10 | Agfa Graphics N.V. | Metodo para fabricar una plancha de impresion litografica. |
EP2065211B1 (en) | 2007-11-30 | 2010-05-26 | Agfa Graphics N.V. | A method for treating a lithographic printing plate |
ES2430562T3 (es) | 2008-03-04 | 2013-11-21 | Agfa Graphics N.V. | Método para la fabricación de un soporte de una plancha de impresión litográfica |
ATE514561T1 (de) | 2008-03-31 | 2011-07-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur behandlung einer lithografischen druckplatte |
EP2186637B1 (en) | 2008-10-23 | 2012-05-02 | Agfa Graphics N.V. | A lithographic printing plate |
US8333148B2 (en) * | 2008-11-26 | 2012-12-18 | Psa Essentials Llc | Photopolymer stamp manufacturing process and preparation system and photopolymer stamp dies |
US8715906B2 (en) * | 2008-12-12 | 2014-05-06 | E I Du Pont De Nemours And Company | High resolution, solvent resistant, thin elastomeric printing plates |
EP3032334B1 (en) | 2014-12-08 | 2017-10-18 | Agfa Graphics Nv | A system for reducing ablation debris |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE588325A (ko) * | 1959-03-24 | |||
US3342601A (en) * | 1964-02-27 | 1967-09-19 | Eastman Kodak Co | Lithographic printing plate |
GB1208413A (en) * | 1966-10-24 | 1970-10-14 | Agfa Gevaert Nv | Preparation and use of planographic printing masters |
GB1237192A (en) * | 1967-06-21 | 1971-06-30 | Agfa Gevaert Nv | Information-recording processes and materials |
US3615435A (en) * | 1968-02-14 | 1971-10-26 | Du Pont | Photohardenable image reproduction element with integral pigmented layer and process for use |
JPS4833905A (ko) * | 1971-09-02 | 1973-05-15 | ||
US3793033A (en) * | 1972-09-05 | 1974-02-19 | Minnesota Mining & Mfg | Development-free printing plate |
US3836366A (en) * | 1972-09-11 | 1974-09-17 | Lith Kem Corp | Planographic printing plates and method for their preparation |
DE2340323C2 (de) * | 1973-08-09 | 1984-09-13 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen |
US4198236A (en) * | 1974-01-21 | 1980-04-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Method for preparation of lithographic printing plate having addition polymerized areas and binder areas |
US4225663A (en) * | 1974-08-26 | 1980-09-30 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Driographic printing plate |
US4356251A (en) * | 1975-06-03 | 1982-10-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Multilayer photosensitive element with solvent-soluble layer |
FR2375623A1 (fr) * | 1976-06-23 | 1978-07-21 | Commissariat Energie Atomique | Nouveaux films photosensibles utilisables en microgravure |
US4104072A (en) * | 1977-05-19 | 1978-08-01 | Polychrome Corporation | Water developable lithographic printing plate having dual photosensitive layering |
US4233390A (en) * | 1979-07-20 | 1980-11-11 | Polychrome Corporation | Lithographic printing plate having dual photosensitive layering |
US4273851A (en) * | 1979-05-29 | 1981-06-16 | Richardson Graphics Company | Method of coating using photopolymerizable latex systems |
DE3232485A1 (de) * | 1982-09-01 | 1984-03-01 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur nachbehandlung von aluminiumoxidschichten mit alkalisilikat enthaltenden waessrigen loesungen und dessen verwendung bei der herstellung von offsetdruckplattentraegern |
US4507382A (en) * | 1983-03-03 | 1985-03-26 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Water developable positive acting lithographic printing plate |
JPS59208552A (ja) * | 1983-05-12 | 1984-11-26 | Fuji Yakuhin Kogyo Kk | 感光性平版印刷版 |
DE3447357A1 (de) * | 1984-12-24 | 1986-07-03 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Trockenfilmresist und verfahren zur herstellung von resistmustern |
DE3628719A1 (de) * | 1986-08-23 | 1988-02-25 | Hoechst Ag | Vorsensibilisierte druckplatte und verfahren zur herstellung einer druckform fuer den wasserlosen flachdruck |
JPH01278585A (ja) * | 1988-04-30 | 1989-11-08 | Somar Corp | 紫外線硬化性レジストインキ |
-
1991
- 1991-09-10 US US07/757,076 patent/US5258263A/en not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-09-02 JP JP50544693A patent/JP3210667B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-02 WO PCT/US1992/007541 patent/WO1993005446A1/en active IP Right Grant
- 1992-09-02 EP EP92920171A patent/EP0557506B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-02 DE DE69227502T patent/DE69227502T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-02 CA CA002094593A patent/CA2094593A1/en not_active Abandoned
- 1992-09-02 AT AT92920171T patent/ATE173096T1/de not_active IP Right Cessation
-
1993
- 1993-05-10 KR KR1019930701403A patent/KR100214738B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-08-06 US US08/102,917 patent/US5407764A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5407764A (en) | 1995-04-18 |
WO1993005446A1 (en) | 1993-03-18 |
JP3210667B2 (ja) | 2001-09-17 |
US5258263A (en) | 1993-11-02 |
EP0557506B1 (en) | 1998-11-04 |
DE69227502D1 (de) | 1998-12-10 |
CA2094593A1 (en) | 1993-03-11 |
EP0557506A1 (en) | 1993-09-01 |
DE69227502T2 (de) | 1999-04-08 |
ATE173096T1 (de) | 1998-11-15 |
KR100214738B1 (ko) | 1999-08-02 |
JPH06502931A (ja) | 1994-03-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR930702704A (ko) | 인쇄판 | |
US5607814A (en) | Process and element for making a relief image using an IR sensitive layer | |
US4431723A (en) | Aqueous processible, alcohol resistant flexographic printing plates | |
US3574617A (en) | Novel photosensitive coating systems | |
US4177074A (en) | Butadiene/acrylonitrile photosensitive, elastomeric polymer compositions for flexographic printing plates | |
US4272608A (en) | Photosensitive compositions containing thermoplastic ionomeric elastomers useful in flexographic printing plates | |
US2993789A (en) | Photopolymerizable elements, their preparation and use | |
EP0096572B1 (en) | Photosensitive materials for use in making dry transfers | |
CA2171771A1 (en) | Flexographic Element Having an Infrared Ablatable Layer and Process for Making a Flexographic Printing Plate | |
US4046071A (en) | Relief printing plate having projections in non-image areas | |
EP0356952A3 (en) | Process for making flexographic plates with increased flexibility | |
US4123272A (en) | Double-negative positive-working photohardenable elements | |
US3888672A (en) | Photopolymerizable process capable of yielding a reverse image | |
US4101324A (en) | Printing plate and method for forming the same having small projections in non-image areas | |
AU650697B2 (en) | Photosensitive polymeric printing medium and water developable printing plates | |
RU2004106537A (ru) | Фоточувствительный флексографский элемент и способ изготовления формных пластин флексографской печати для печатания газет | |
CA1258653A (en) | PYRIDINIUM YLIDE POLYMERS AND PRODUCTS DERIVED THEREOF | |
US4225663A (en) | Driographic printing plate | |
US3782951A (en) | Photopolymerizable compositions capable of yielding reverse images | |
CN109641444B (zh) | 制造柔版印刷版的改良方法 | |
US4755445A (en) | Dry presensitized plate for use in making a lithographic printing plate | |
EP0568744B1 (en) | A photosensitive printing plate developed by a peel-apart process | |
JPS62103376A (ja) | 凸版像およびそれに有用な感光性物質の製造法 | |
CN110892327B (zh) | 制作柔性版印刷板的改进方法 | |
US4446220A (en) | Method of making a photosensitive elastomeric composition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20021125 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |