FR474142A - Procédé photolithographique, sans négatif, pour reports directs - Google Patents

Procédé photolithographique, sans négatif, pour reports directs

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FR474142A
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Francisque-Marius Rambaud
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FRANCISQUE MARIUS RAMBAUD
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FRANCISQUE MARIUS RAMBAUD
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable

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FR474142A 1913-11-05 Procédé photolithographique, sans négatif, pour reports directs Expired FR474142A (fr)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228676A2 (fr) * 1986-01-04 1987-07-15 BASF Aktiengesellschaft Procédé pour la fabrication de formes en relief réticulées par photopolymérisation

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0228676A2 (fr) * 1986-01-04 1987-07-15 BASF Aktiengesellschaft Procédé pour la fabrication de formes en relief réticulées par photopolymérisation
EP0228676A3 (en) * 1986-01-04 1987-08-26 Basf Aktiengesellschaft Process for obtaining relief forms reticulated by means of photopolymerization

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