FI87119C - Foerfarande foer framstaellning av genom fotopolymerisation tvaerbundna reliefplaotar - Google Patents

Foerfarande foer framstaellning av genom fotopolymerisation tvaerbundna reliefplaotar Download PDF

Info

Publication number
FI87119C
FI87119C FI870010A FI870010A FI87119C FI 87119 C FI87119 C FI 87119C FI 870010 A FI870010 A FI 870010A FI 870010 A FI870010 A FI 870010A FI 87119 C FI87119 C FI 87119C
Authority
FI
Finland
Prior art keywords
layers
olefinically unsaturated
relief
developing solvent
terpine
Prior art date
Application number
FI870010A
Other languages
English (en)
Swedish (sv)
Other versions
FI87119B (fi
FI870010A0 (fi
FI870010A (fi
Inventor
Karl-Rudolf Kurtz
Gerhard Hoffman
Original Assignee
Basf Ag
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6291417&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=FI87119(C) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Basf Ag filed Critical Basf Ag
Publication of FI870010A0 publication Critical patent/FI870010A0/fi
Publication of FI870010A publication Critical patent/FI870010A/fi
Application granted granted Critical
Publication of FI87119B publication Critical patent/FI87119B/fi
Publication of FI87119C publication Critical patent/FI87119C/fi

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means
    • G03F7/32Liquid compositions therefor, e.g. developers
    • G03F7/325Non-aqueous compositions

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Description

1 87119
Menetelmä fotopolymeroinnin avulla verkkoutettujen relie-filevyjen valmistamiseksi
Keksintö koskee parannettua menetelmää fotopolyme-5 roinnin avulla verkkoutettujen reliefilevyjen valmistamiseksi valottamalla kuvan mukaisesti fotopolymeroinnin avulla verkkoutuvia kerroksia aktiinisella valolla ja pesemällä kerrosten verkkoutumattomat osat kehitysliuotti-milla.
10 Menetelmä on sellaisenaan, lukuunottamatta keksin nön mukaisia parannuksia, yleisesti tunnettu. Yleensä käytetään kehitysliuottimina: a) kloorattuja hiilivetyjä, kuten kloroformia, tri-kloorietyleeniä, tetrakloorietyleeniä tai trikloorietaania 15 sellaisenaan tai seoksena alempien alkoholien kuten n-bu-tanolin kanssa; b) tyydyttyneitä syklisiä tai asyklisiä hiilivetyjä kuten petrolieetteriä, heksaania, heptaania, oktaania, sykloheksaania tai metyylisykloheksaania; 20 c) aromaattisia hiilivetyjä kuten bentseeniä, to- lueenia tai ksyleeniä; tai d) alempia alifaattisia ketoneja kuten asetonia, metyylietyyliketonia tai metyyli-isobutyyliketonia.
Tunnetun menettelytavan haittana on, että kehitys-... 25 liuottimen on annettava vaikuttaa kauan, jotta saavutettaisiin tyydyttävä pesuvaikutus. Siinä yhteydessä reliefi-• levyt usein turpoavat tai osia reliefistä syöpyy ja tie tyissä olosuhteissa irtoaa mekaanisesti. Sen lisäksi tavanomaisia tyydyttyneitä tai aromaattisia hiilivetyjä ja 30 ketoneja käytettäessä ovat pitkät kuivausajat välttämättömiä, jossa yhteydessä esiintyy usein pelättyä "positiivista sisäistä muokkautumista", eli hienommat kuvaelementit kohoavat esiin peitteisestä pinnasta. Kaiken lisäksi näiden liuottimien leimahduspisteet ovat alle 21 °C, jo- 35 ten menetelmä voidaan suorittaa ainoastaan erityisissä, 2 87119 räjähdyssuojatuissa laitoksissa. Käytettäessä kloorattuja hiilivetyjä johtaa niiden myrkyllisyys käsittelyongelmiin. Sen lisäksi on reliefilevyillä, jotka on valmistettu näiden liuotinaineiden avulla, epätyydyttävä reunanmuodostus.
5 Tämän keksinnön tavoitteena oli kehittää menetelmä fotopolymeroinnin avulla verkkoutettujen reliefilevyjen valmistamiseksi, jossa menetelmässä pesu- ja kuivausaika on tunnettuihin menetelmiin verrattuna selvästi lyhyempi, eikä reliefilevyissä tapahdu turpoamista, syöpymistä eikä 10 mitään "postiivista, sisäistä muokkautumista" ja joka menetelmä voidaan suorittaa ilman räjähdyssuojan käyttöä ja tulokseksi saadaan reliefilevyjä, joissa on parempi relief isyvyys ja reunanmuodostus.
Sen mukaisesti keksittiin menetelmä fotopolyme-15 roinnin avulla verkkoutuvia kerroksia aktiinisella valolla ja pesemällä verkkoutumattomat kerrosten osat kehitys-liuottimilla, jolloin nämä kerrokset sisältävät pääasiassa A) yhtä tai useampaa elastomeeripolymeereihin perustuvaa sideainetta, 20 B) yhtä tai useampaa tämän sideaineen kanssa yhteen sopivaa fotopolymeroituvaa monomeeria ja C) yhtä tai useampaa fotoinitiaattoria, jolle menetelmälle on tunnusomaista että käytetään kehitysliuotinta, joka sisältää pääasiallisena aineosana ... 25 a) haarautuneita tai haarautumattomia, yhdestä kol meen kertaan olefiinisesti tyydyttymättömiä asyklisiä, tai b) tyydyttyneitä tai yhdestä kolmeen kertaan ole-fiinisesti tyydyttymättömiä syklisiä alifaattisia hiilivetyjä, alkoholeja tai ketoneita, joissa on 8-15 hiiliato-30 mia.
Esimerkkejä sopivista keksinnön mukaan käytettä vistä hiilivedyistä, alkoholeista tai ketoneista, joissa on 8 - 15 hiiliatomia, ovat 1-okteeni, syklo-oktaani, syk- lo-okteeni, syklo-oktanoli, syklo-oktanoni, 3-noneeni, mo- 35 no ja seskviterpeenit (vrt. Ullmanns Enzyklopedie der i, 3 87119 technischen Chemie, 3. painos, osa 16, 1965, sivut 756 -766 ja osa 17, 1966, sivut 1-54) tai terpentiiniöljyt (vrt. Ullmanns Enzyklopedie der technischem Chemie, 3. painos osa 16, 1965, sivut 768 - 779), joista edullisia 5 ovat monoterpeenit.
Keksinnön mukaan erityisen edullisia mono-terpeene-jä ovat: $ £· $ p- mentaani bomeoli Rientoni D- ja L-limoneenit " 6 6 6 ö X°* X X x oi- terpineoli oi- terpineeni terpineeni terpinoleeni 20 Φ φ d) » Cjl..
25 o(- pineeni β-pineeni cT-pineeni sitronelloli sekä niiden seokset, joista D- ja L-limoneeni eli "diter-peeni" ovat edullisia ja appelsiinin kuoresta saadut limo-neenin isomeerien seokset ovat aivan erityisen edullisia.
30 Jälkimmäisiä nimitetään seuraavassa lyhyyden vuoksi "limo-neeniksi".
Keksinnön mukaisessa menetelmässä käytettävien hiilivetyjen alkoholien tai ketonien lisäksi kehitysliuotti-messa voidaan käyttää noin 40 paino-%:iin asti muita liu-35 ottimia, esim. edellä esitetystä tekniikan tasosta tunnet- 4 B '/ ί 'i 9 tuja liuottimia, erityisesti kuitenkin korkeammalla kiehuvia alkoholeja 20 paino-%:n pitoisuutena.
Metodisesti ei keksinnön mukaisessa menetelmässä ole erikoisuuksia, eli tavanomaisella tavalla kuvan mukaan 5 valotetut kerrokset kehitetään pesemällä verkkoutumatto-mat kerrosten osat keksinnön mukaan käytettävillä kehi-tysliuottimilla tunnetuissa ruisku-, harja- ja hankaus-pesureissa lämpötilassa, joka on välillä 20 - 60 °C, erityisesti 25 - 35 °C. Siinä yhteydessä osoittautuu, että 10 keksinnön mukaisen menetelmän optimaaliset pesuajät ovat selvästi lyhyempiä kuin tunnettujen menetelmien ja että siinä, päinvastoin kuin tunnetuissa menetelmissä, ylitettäessä optimaaliset pesuajät ei esiinny niin kutsuttua ylipuhdistumista eli materiaalin murtumista reliefilevystä 15 mekaanisen vaikutuksen johdosta. Optimaalisella pesuajalla tarkoitetaan aikaa, jossa saavutetaan juuri maksimaalinen reliefisyvyys. Samalla saadaan aikaan reliefilevyjä, joissa on voimakkaammin painunut syvyys ja erittäin hyvä reu-nanmuodostus, jolloin näiden reliefilevyjen ulkopinta on 20 yllättäen selvästi sileämpi ja tasaisempi kuin niiden relief ilevyjen ulkopinta, jotka on valmistettu tunnettujen menetelmien avulla. Samoin kuvaelementtien turpoaminen on selvästi niukempaa kuin käytettäessä tavanomaisia kehitys-liuottimia. Yllättävä lisäetu keksinnön mukaisessa mene-25 telmässä on, että pitkähkönkään käyttöajan jälkeen ei pesuriin tule saostumia.
Keksinnön mukaista menetelmää suoritettaessa kehitysvaihetta edeltää fotopolymeroinnin kautta verkkoutuvien kerrosten tunnettu ja tavanomainen kuvanmukainen valotta-30 minen aktiinisella valolla, jonka aallonpituus Ί on 230 -450 nm, erityisesti 300 - 450 nm. Tähän sopivia valonlähteitä ovat esim. auringonvalo, kaupalliset UV-fluoresens-siputket, elohopeakeskipaine-, elohopeakorkeapaine- ja elohopeamatalapainelamput, superaktiiniset loistelamput, 3b ksenonimpulssilamput, metallijodideja lisäaineina sisältävät lamput ja hiilikaarilamput.
i 5 87119
Kehitysvaihetta seuraa keksinnön mukaisen menetelmän jatkovaiheessa reliefilevyn kuivaus. Sen jälkeen voidaan reliefilevyt halogenisoida halogeenia sisältävissä tai tuottavissa kylvyissä, jälkipestä pelkistävissä kyl-5 vyissä ja uudelleen kuivata. Vaihtoehtoisesti tai näiden käsittelyjen jälkeen reliefilevyt voidaan vielä valottaa aktiinisella valolla koko pinnaltaan.
Keksinnön mukaisen menetelmän lisäetu on, että se voidaan suorittaa lukuisilla tunnetuilla fotopolymeroinnin 10 kautta verkkoutuvilla kerroksilla hyvällä menestyksellä. Sellaiset tunnetut kerrokset sisältävät pääasiassa A) yhtä tai useampaa elastomeeripolymeereihin perustuvaa sideainetta B) yhtä tai useampaa tämän sideaineen kanssa yhteen 15 sopivaa fotopolymeroituvaa monomeeriä ja C) yhtä tai useampaa fotoinitiaattoria.
Ne voivat sisältää myös muita sopivia lisäaineita, kuten termisesti initioituvan polymeroinnin inhibiitto-reita, väriaineita, pigmenttejä, fotokromiaineita, valo-20 pihasuoja-aineita, pehmennintä, antioksidantteja, antiot- sonantteja, aineita reliefirakenteen parantamiseksi, verk-koutumisapuaineita, juoksutteita, erotusaineita, täyteaineita ja/tai vahvistavia täyteaineita tehokkaina määrinä.
Keksinnön mukaisella menetelmällä voidaan saavuttaa ____- 25 erittäin hyviä tuloksia kerroksilla, jotka sisältävät sideaineena A konjugoitujen alifaattisen 4-5 hiiliatomia sisältävien dieenien polymeerejä. Edullisia sideaineita A ovat esimerkiksi luonnonkumi, butadieenin tai isopreenin ‘ homopolymerit, butadieenin ja isopreenin kopolymeerit tai 30 butadieenin ja/tai isopreenin kopolymeerit muiden kopoly- meroituvien monomeerien kuten styreenin, a-metyylistyree-nin, vinyylitolueenin, akryylinitriilin tai alkyyliryhmäs-sään 1-8 hiiliatomia sisältävien (met)akryylihappoeste-reiden kanssa, esim. julkaisun EP-A-64 564 mukaiset nit-35 riilikumit, tilastolliset styreeni/butadieeni-, -/isopree- 6 87119 ni- ja -/isopreeni/butadieeni-kopolymeerit, jossa mukaan polymeroituvaa styreeniä on 10 - 50 paino-%, tai styreeni-monomeerien ja butadieenin ja/tai isopreenin lohkokopoly-meerit julkaisujen DE-AS-22 15 090, DE-OS 24 56 439 ja DE-5 OS 29 42 183 mukaan. Näistä ovat erityisen edullisia julkaisun DE-OS 29 42 183 mukaiset lohkokopolymeerit.
Keksinnön mukaisella menetelmällä voidaan saavuttaa erityisen hyviä tuloksia kerroksilla, jotka sisältävät sideaineena A elastomeerisia kolmilohkokopolymeereja, jot-10 ka ovat tyyppiä julkaisun X-Y-Z DE-OS 29 42 183 mukaisesti, jolloin X on termoplastinen, epäelastinen styreenipo-lymeerilohko, Y on elastomeerinen butadieeni- ja/tai iso-preenipolymeerilohko ja Z on Y:stä poikkeava elastomeerinen polymeerilohko, jossa on butadieeniä ja/tai isopree-15 niä sekä mahdollisesti styreeniä.
Keksinnön mukaista menetelmää voidaan käyttää foto-polymeroinnin kautta verkkoutuviin kerroksiin sellaisenaan tai verkkoutuviin kerroksiin, jotka ovat toisten, sopivien tasomaisten kerrosten yhteydessä. Tämän kaltaisia yhdis-20 telmiä nimitetään yleisesti "monikerroselementeiksi" (vrt. DE-OS 29 42 183, DE-OS 24 44 118).
Keksinnön mukaisella menetelmällä saatavia reliefi-levyjä voidaan käyttää koristeellisina ulkopintoina, foto-resistimalleina tai laakapaino-, kohopaino- ja fleksopai-... 25 nolevyinä. Erityisesti ne soveltuvat fleksopainolevyiksi jatkuvaan painantaan.
Esimerkkejä ja vertailukokeita
Seuraavissa esimerkeissä ja vertailukokeissa määritettiin paksuusturpoaminen prosenteissa gravimetristen 30 mittausten avulla. Kuvaelementtien reunanmuodostuksen hyvyys arvioitiin visuaalisesti mikroskoopin avulla; kriteereinä olivat reunojen jyrkkyys ja kovertuman aste kuten myös reunan pyöristymisen aste.
I* 7 87119
Esimerkki 1
Valmistettiin kaupallinen fleksopainolevy tavanomaisella tavalla. Kantokalvona oli 125 pm paksu polyety-leenitereftalaatti-kalvo, joka ennen valon vaikutuksesta 5 verkkoutuvan kerroksen levittämistä päällystettiin 0,3 pm paksulla polyuretaani-kiinnityslakkakerroksella. Fotopoly-meroinnilla verkkoutuva kerros oli 700 pm:n paksuinen ja sisälsi A) 90,917 paino-% lohkokopolymeeriä XYZ, jonka viskositeettiluku oli 164,9 ml/g ja kokonaismoolimassa 10 190 000 ja joka koostui XYZrsta laskettuna 10 paino-%:sta polystyreeniä X-lohkona, 70 paino-%:sta polyisopreeniä, jonka lasitumislämpötila Tg oli -53 °C, Y-lohkoina ja 20 paino-%:sta polyisopreeniä, jossa oli 53 paino-% 3,4-ra-kenteita ja jonka lasitumislämpötila oli +10 °C, Z-lohko-15 na, B) 7,268 paino-%:sta heksaanidioli-1,6-diakrylaattia, C) 1,350 paino-%:sta bentsiilidimetyyliasetaalia ja lisäaineina 0,457 paino-%:sta 2,6-di-tert.-butyyli-p-kresolia ja 0,008 paino-%:sta Solvent Black 3:a (C.I.
26 150). Suojakerroksena käytettiin 2 pm paksua korkean 20 syklisoitumisasteen omaavaa syklokumia.
Tätä fleksopainolevyä esivalotettiin ensin koko pinnalta 2 minuutin ajan selkäpuolelta putkivalaisimella, sen jälkeen valotettiin suojakerroksen päälle levitetyn ; negatiivimallin läpi 22 minuutin ajan kuvanmukaisesti ja ____: 25 kehitettiin 30 °C:ssa limoneenilla hankauspesurissa, joka ei ollut räjähdyssuojattu. Optimaalinen pesuaika oli 4 minuuttia. Kuvaelementtien reunanmuodostus oli kehittynyt moitteettomasti, reliefireunan pyöristymistä ja reunan kovertumista ei ollut huomattavissa. Paksuusturpoaminen 30 oli 1,65 %.
Fleksopainolevyä kuivattiin 2 tuntia 80 °C:ssa, varastoitiin 15 tuntia huoneenlämpötilassa, suoritettiin tavanomainen jälkikäsittely bromin vesiliuoksella ja kuivattiin uudelleen.
87119 Jälkikäsitelty fleksopainolevy kiinnitettiin painosylinterille ja sillä saatiin erinomaisia painotuloksia, joissa ei näkynyt mitään informaatiohäviöitä negatiivimal-liin verrattuna.
5 Esimerkki 2
Meneteltiin kuten esimerkissä 1, paitsi että räjäh-dyssuojaamattoman hankauspesurin sijasta käytettiin räjäh-dyssuojaamatonta suihkupesuria. Optimaalinen pesuaika oli 4,5 minuuttia. Reunanmuodostuksen, paksuusturpoamisen ja 10 painotulosten laadun hyvyys oli yhtäläinen esimerkin 1 kanssa.
Vertailukoe 1
Meneteltiin kuten esimerkissä 1 paitsi että limo-neenin sijasta käytettiin tetrakloorietyleeniä. Optimaali-15 nen pesuaika oli 6,5 minuuttia, paksuusturpoaminen 3 %.
Vertailukoe 2
Meneteltiin kuten esimerkissä 1 paitsi että limo-neenin sijasta käytettiin sykloheksaania ja räjähdyssuo-jaamattomia hankauspesurin sijasta oli pakko käyttää han-20 kauspesuria, jossa oli kallis räjähdyssuoja. Optimaalinen pesuaika oli 6 minuuttia, paksuusturpoaminen oli 6 %. Kuvaelementtien reunanmuodostus oli epätyydyttävä (kovertumista, pyöristyneitä reunoja).
Esimerkki 3 .. 25 Meneteltiin kuten esimerkissä 1. Pesuri sisälsi 90 1 limoneenia, jolla kehitettiin yhteensä 50 kuvan mukaisesti valotettua 200 x 300 mm2:n fleksopainolevyä, joissa verkkoutumaton osuus oli 78 %. Pesurissa ei havaittu mitään saostumia eikä likaantumista.
30 Vertailukoe 3
Meneteltiin kuten esimerkistä 3 paitsi että limo-neenin sijasta käytettiin tetrakloorietyleeniä. Tällöin esiintyi pesurissa nesteen yläkerroksissa ja harjoissa saostumia ja likaantumia.
I.
9 87119
Esimerkki 4
Meneteltiin kuten esimerkissä 1 paitsi että pesua suoritettiin 8 minuuttia pitempään 4 minuutin optimaaliseen pesuaikaan verrattuna. Siitä huolimatta ei tullut 5 esille ylipuhdistumista.
Vertailukoe 4
Meneteltiin kuten esimerkissä 4 paitsi että limo-neenin sijasta käytettiin tetrakloorietyleeniä. Tällöin esiintyi ylipuhdistumista, joka oli huomattavissa erityi-10 sesti reunan murtumina. Lisäksi olivat vapaiden reliefi- pisteiden reunat kovertuneita.

Claims (4)

10 871 1 9
1. Menetelmä fotopolymeroinnin avulla verkkoutet-tujen reliefilevyjen valmistamiseksi valottamalla kuvan- 5 mukaisesti fotopolymeroinnin avulla verkkoutuvia kerroksia aktiinisella valolla ja pesemällä verkkoutumattomat kerrosten osat kehitysliuottimilla, jolloin nämä kerrokset sisältävät pääasiassa A) yhtä tai useampaa elastomeeripolymeereihin pe- 10 rustuvaa sideainetta, B) yhtä tai useampaa tämän sideaineen kanssa yhteen sopivaa fotopolymeroituvaa monomeeria ja C) yhtä tai useampaa fotoinitiaattoria, tunnettu siitä, että käytetään kehitysliuotinta, joka 15 sisältää pääasiallisena aineosana a) haarautuneita tai haarautumattomia, yhdestä kolmeen kertaan olefiinisesti tyydyttymättömiä asyklisiä, tai b) tyydyttyneitä tai yhdestä kolmeen kertaan ole-fiinisesti tyydyttymättömiä syklisiä 20 alifaattisia hiilivetyjä, alkoholeja tai ketoneita, joissa on 8 - 15 hiiliatomia.
2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että käytetään kehitysliuotinta, joka sisältää pääasiallisena aineosana haarautuneita, yh- 25 destä kolmeen kertaan olefiinisesti tyydyttymättömiä asyklisiä tai tyydyttyneitä tai yhdestä kolmeen kertaa olefiinisesti tyydyttymättömiä syklisiä alifaattisia hiilivetyjä, alkoholeja tai ketoneita, joissa on 10 hiiliatomia.
3. Patenttivaatimuksen 2 mukainen menetelmä, 30 tunnettu siitä, että käytetään kehitysliuotinta, joka sisältää pääasiallisena aineosana monoterpeenejä.
4. Patenttivaatimuksen 3 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että käytetään kehitysliuotinta, joka sisältää pääasiallisena aineosana p-mentaania, bor- 35 neolia, mentonia, D- ja L-limoneenia, α-terpineolia, a-terpineeniä, Ύ -terpineeniä, terpinoleenia, α-, β- ja 1-pineeniä ja/tai sitronellolia. 11 87119
FI870010A 1986-01-04 1987-01-02 Foerfarande foer framstaellning av genom fotopolymerisation tvaerbundna reliefplaotar FI87119C (fi)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19863600116 DE3600116A1 (de) 1986-01-04 1986-01-04 Verfahren zur herstellung von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen
DE3600116 1986-01-04

Publications (4)

Publication Number Publication Date
FI870010A0 FI870010A0 (fi) 1987-01-02
FI870010A FI870010A (fi) 1987-07-05
FI87119B FI87119B (fi) 1992-08-14
FI87119C true FI87119C (fi) 1992-11-25

Family

ID=6291417

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
FI870010A FI87119C (fi) 1986-01-04 1987-01-02 Foerfarande foer framstaellning av genom fotopolymerisation tvaerbundna reliefplaotar

Country Status (8)

Country Link
US (1) US4806452A (fi)
EP (1) EP0228676B2 (fi)
JP (1) JPH0769617B2 (fi)
DE (2) DE3600116A1 (fi)
DK (1) DK1187A (fi)
ES (1) ES2021586T5 (fi)
FI (1) FI87119C (fi)
NO (1) NO174604C (fi)

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4847182A (en) * 1987-09-03 1989-07-11 W. R. Grace & Co. Method for developing a photopolymer printing plate using a developer comprising terpene hydrocarbons
DE3807929A1 (de) * 1988-03-10 1989-09-28 Basf Ag Verfahren zur herstellung von reliefformen
IL89372A0 (en) * 1988-07-28 1989-09-10 M & T Chemicals Inc Aqueous developer composition for solvent developable photoresist coatings
EP0355789A3 (en) * 1988-08-23 1990-06-20 E.I. Du Pont De Nemours And Company Process for the production of flexographic printing reliefs
DE3836403A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
DE3836404A1 (de) * 1988-10-26 1990-05-03 Hoechst Ag Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US5204227A (en) * 1990-05-10 1993-04-20 3D Agency, Inc. Method of developing photopolymerizable printing plates and composition therefor
US5252432A (en) * 1990-06-27 1993-10-12 Basf Aktiengesellschaft Production of photopolymeric flexographic relief printing plates
DE4020374A1 (de) * 1990-06-27 1992-01-02 Basf Ag Verfahren zur herstellung photopolymerer flexographischer reliefdruckplatten
DE4022221A1 (de) * 1990-07-12 1992-01-23 Basf Magnetics Gmbh Magnetband mit schleifmittel
JP2692716B2 (ja) * 1991-03-14 1997-12-17 東京応化工業株式会社 フレキソ印刷版用現像液
JPH0566570A (ja) * 1991-09-06 1993-03-19 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> レジスト現像液およびパタン形成方法
JPH05249695A (ja) * 1991-11-15 1993-09-28 Asahi Chem Ind Co Ltd 感光性エラストマー組成物の現像剤及びそれを用いた製版方法
WO1999035538A1 (en) 1998-01-09 1999-07-15 Nupro Technologies, Inc. Developer solvent for photopolymer printing plates and method
ITMI991378A1 (it) * 1999-06-21 2000-12-21 Chimeko S R L Trade Chimico Ec Solvente di lavaggio per rimuovere da uno strato di fotopolimero esposto alla luce la parte non polimerizzata
US6162593A (en) * 1999-10-26 2000-12-19 Wyatt; Marion F. Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
JP4623452B2 (ja) 2000-02-09 2011-02-02 旭化成イーマテリアルズ株式会社 赤外線感受性層を形成する為の塗工液
US7326353B2 (en) * 2001-11-27 2008-02-05 Nupro Technologies Methods for reclaiming developing solvents
US6582886B1 (en) 2001-11-27 2003-06-24 Nupro Technologies, Inc. Developing solvent for photopolymerizable printing plates
US7413849B2 (en) * 2004-09-10 2008-08-19 Nupro Technologies Substituted benzene developing solvent for photopolymerizable printing plates
US20060040218A1 (en) * 2004-08-18 2006-02-23 Wyatt Marion F Terpene ether solvents
JP4980038B2 (ja) 2006-09-20 2012-07-18 東京応化工業株式会社 保護膜形成用材料及びホトレジストパターンの形成方法
US20100068651A1 (en) * 2008-09-16 2010-03-18 Bradford David C Developing solution for flexographic printing plates
US8349185B2 (en) 2010-10-20 2013-01-08 E I Du Pont De Nemours And Company Method for rebalancing a multicomponent solvent solution
US9897921B2 (en) 2014-08-22 2018-02-20 Nsx Operating Co. Llc Compositions comprising mineral spirits and methods related thereto
US11175586B2 (en) 2017-05-26 2021-11-16 Nsx Managemen T Group, Llc Platewash composition

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR474142A (fr) * 1913-11-05 1915-02-09 Francisque Marius Rambaud Procédé photolithographique, sans négatif, pour reports directs
DE62662C (de) * J. NORTH in New-York, V. St. A Herstellung von Photographien mittels Guajaretinsäure als lichtempfindlicher Substanz
DE40774C (de) * UniVERSAL-FARBEN-COMPAGNIE in New-York Verfahren zur Herstellung von Photögraphie- und Lichtbildern
US1574357A (en) * 1922-03-08 1926-02-23 Wadsworth Watch Case Co Photographic media and process
BE332468A (fi) * 1922-11-18
US1575143A (en) * 1922-11-18 1926-03-02 Wadsworth Watch Case Co Photographic sensitizer
US1587272A (en) * 1923-01-19 1926-06-01 Wadsworth Watch Case Co Synthetic resins, photographic process, photographic media, and method of preparing same
US1587273A (en) * 1923-01-19 1926-06-01 Wadsworth Watch Case Co Synthetic resins photographic process, media, and process of preparing same
US1797211A (en) * 1926-12-16 1931-03-17 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
US1751908A (en) * 1926-12-16 1930-03-25 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
US1797210A (en) * 1926-12-16 1931-03-17 Keystone Watch Case Corp Process of and product for photographic etching
NL101499C (fi) * 1951-08-20
JPS5151939A (ja) * 1974-10-31 1976-05-07 Canon Kk Saisenpataanyohotorejisutogenzoeki
JPS5182617A (ja) * 1975-01-17 1976-07-20 Canon Kk Saisenpataanyohotorejisutogenzohoho
JPS6021378B2 (ja) * 1978-04-24 1985-05-27 ジェイエスアール株式会社 現像液
DE2941960A1 (de) * 1979-10-17 1981-04-30 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Entwicklergemisch und verfahren zum entwickeln von von belichteten lichtempfindlichen kopierschichten
JPS57164736A (en) * 1981-04-03 1982-10-09 Canon Inc Formation of pattern
DE3246403A1 (de) * 1982-12-15 1984-06-20 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Verfahren zur entwicklung von reliefstrukturen auf der basis von strahlungsvernetzten polymervorstufen hochwaermebestaendiger polymere
SU1113774A1 (ru) * 1982-12-30 1984-09-15 МГУ им.М.В.Ломоносова Репрографический светочувствительный материал
US4535054A (en) * 1983-05-05 1985-08-13 Hughes Aircraft Company Wet process for developing styrene polymer resists for submicron lithography
US4665009A (en) * 1984-07-10 1987-05-12 Hughes Aircraft Company Method of developing radiation sensitive negative resists

Also Published As

Publication number Publication date
NO870012L (no) 1987-07-06
EP0228676B1 (de) 1991-03-13
NO174604B (no) 1994-02-21
ES2021586B3 (es) 1991-11-16
US4806452A (en) 1989-02-21
NO174604C (no) 1994-06-01
EP0228676B2 (de) 1995-05-10
EP0228676A2 (de) 1987-07-15
DE3678127D1 (de) 1991-04-18
DE3600116A1 (de) 1987-07-09
DK1187D0 (da) 1987-01-02
JPH0769617B2 (ja) 1995-07-31
FI87119B (fi) 1992-08-14
JPS62160446A (ja) 1987-07-16
NO870012D0 (no) 1987-01-02
ES2021586T5 (es) 1995-08-16
EP0228676A3 (en) 1987-08-26
DK1187A (da) 1987-07-05
FI870010A0 (fi) 1987-01-02
FI870010A (fi) 1987-07-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
FI87119C (fi) Foerfarande foer framstaellning av genom fotopolymerisation tvaerbundna reliefplaotar
US4320188A (en) Photopolymerizable compositions containing elastomers and photo-curable elements made therefrom
US5061606A (en) Preparation of relief printing plates
JP2675121B2 (ja) 扁平な感光性記録材料
NO884068L (no) Fremgangsmaate for aa uklebriggjoere fleksografiske fotopolymertrykkplater.
NO179959B (no) Fremgangsmåte for fremstilling av en fleksografisk reliefftrykkeplate
EP0219795B1 (de) Durch Photopolymerisation vernetzbare Gemische
US5135837A (en) Photosensitive elastomeric element having improved solvent resistance
JPH10288838A (ja) 感光性混合物、感光性記録材料、レリーフ画像またはレリーフ印刷版の製造法およびレリーフ印刷版を用いての印刷可能な素材の印刷法
US6162593A (en) Diisopropylbenzene containing solvent and method of developing flexographic printing plates
US4452879A (en) Preparation of ozone resistant printing plates
JPH04232955A (ja) 光重合フレキソ印刷板の寸法安定化方法
EP0504824B1 (en) Photosensitive printing element
JP2000206676A (ja) Uv硬化性印刷インキで印刷する凸版印刷版を製造するための光重合性印刷板
DE3836404A1 (de) Entwicklungsloesemittel fuer durch photopolymerisation vernetzbare schichten sowie verfahren zur herstellung von reliefformen
US6040116A (en) Photosensitive recording element having a recording layer and a top layer possessing different solubility properties, and its development in one operation
JPH02213844A (ja) 耐オゾン性フレキソ印刷版の製法
JP3142289B2 (ja) 記録層およびこれと異なる溶解特性を有する被覆層を有する感光性記録単位体ならびにこれを単一処理で現像する方法
DE3625264A1 (de) Verfahren zur nachbehandlung der oberflaeche von durch photopolymerisation vernetzten reliefformen
JP3049863B2 (ja) 感光性エラストマ―組成物の現像方法
US5516624A (en) Photopolymerizable elastomeric mixture and recording material containing this mixture, for producing ozone-resistant flexographic printing forms
DK172001B1 (da) Fremgangsmåde til fremstilling af flexotrykforme
JPH05210244A (ja) ネガ型記録層の現像用溶剤混合物

Legal Events

Date Code Title Description
PC Transfer of assignment of patent

Owner name: BASF DRUCKSYSTEME GMBH

MM Patent lapsed

Owner name: BASF DRUCKSYSTEME GMBH