NL176021C - Bekleed voorwerp in de vorm van een bewaarbaar vel, in hoofdzaak bestaande uit een substraatvel en een daarop als bekleding aangebrachte droge fotopolymeriseerbare film en werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling. - Google Patents
Bekleed voorwerp in de vorm van een bewaarbaar vel, in hoofdzaak bestaande uit een substraatvel en een daarop als bekleding aangebrachte droge fotopolymeriseerbare film en werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling.Info
- Publication number
- NL176021C NL176021C NLAANVRAGE7201460,A NL7201460A NL176021C NL 176021 C NL176021 C NL 176021C NL 7201460 A NL7201460 A NL 7201460A NL 176021 C NL176021 C NL 176021C
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- sheet
- photopymerisable
- applicated
- dry
- coating
- Prior art date
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/12—Using specific substances
- H05K2203/122—Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax or thiol
- H05K2203/124—Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/389—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a coupling agent, e.g. silane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11279771A | 1971-02-04 | 1971-02-04 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
NL7201460A NL7201460A (de) | 1972-08-08 |
NL176021B NL176021B (nl) | 1984-09-03 |
NL176021C true NL176021C (nl) | 1987-07-16 |
Family
ID=22345895
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
NLAANVRAGE7201460,A NL176021C (nl) | 1971-02-04 | 1972-02-04 | Bekleed voorwerp in de vorm van een bewaarbaar vel, in hoofdzaak bestaande uit een substraatvel en een daarop als bekleding aangebrachte droge fotopolymeriseerbare film en werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling. |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS5538961B1 (de) |
AU (1) | AU461461B2 (de) |
BE (1) | BE778729A (de) |
BG (1) | BG26673A3 (de) |
CA (1) | CA965291A (de) |
CH (1) | CH592322A5 (de) |
DD (1) | DD101035A5 (de) |
DE (1) | DE2205146C2 (de) |
DK (2) | DK142623B (de) |
ES (1) | ES399317A1 (de) |
FI (1) | FI57429C (de) |
FR (1) | FR2124974A5 (de) |
GB (1) | GB1361298A (de) |
HK (1) | HK28382A (de) |
IL (1) | IL38677A (de) |
IT (1) | IT949005B (de) |
LU (1) | LU64712A1 (de) |
NL (1) | NL176021C (de) |
NO (1) | NO141804C (de) |
PL (1) | PL83391B1 (de) |
RO (1) | RO64896A (de) |
SE (1) | SE390218B (de) |
ZA (1) | ZA72345B (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1507704A (en) * | 1974-04-23 | 1978-04-19 | Du Pont | Photopolymerisable compositions |
ZA757984B (en) * | 1974-10-04 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS5917414B2 (ja) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン (株) | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
JPS5944615B2 (ja) * | 1976-02-16 | 1984-10-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料 |
SU941918A1 (ru) * | 1976-08-10 | 1982-07-07 | Предприятие П/Я Г-4444 | Сухой пленочный фоторезист |
US4239849A (en) | 1978-06-19 | 1980-12-16 | Dynachem Corporation | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS55501072A (de) * | 1978-12-25 | 1980-12-04 | ||
DE3034343A1 (de) * | 1979-02-21 | 1981-04-09 | Panelgraphic Corp | Radiation curable cellulosic polyacrylic abrasion resistant coating |
JPS5619752A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition laminate |
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
DD250593A1 (de) * | 1984-04-03 | 1987-10-14 | Wolfen Filmfab Veb | Fotopolymerisierbares material |
DE3504254A1 (de) | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3619129A1 (de) * | 1986-06-06 | 1987-12-10 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3841025A1 (de) * | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JP2613462B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1997-05-28 | コニカ株式会社 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JP2515885Y2 (ja) * | 1990-09-28 | 1996-10-30 | アンリツ株式会社 | 測定装置の表示部 |
DE19638032A1 (de) * | 1996-09-18 | 1998-03-19 | Du Pont Deutschland | Photopolymerisierbares Gemisch mit geringerer Sauerstoffempfindlichkeit zur Herstellung von Farbprüfdrucken |
US7052824B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-05-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for thick film circuit patterning |
US20100209843A1 (en) | 2009-02-16 | 2010-08-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for thick film circuit patterning |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA614181A (en) * | 1961-02-07 | J. Mcgraw William | Photopolymerizable compositions, elements and processes | |
US2893868A (en) * | 1955-08-22 | 1959-07-07 | Du Pont | Polymerizable compositions |
NL218803A (de) * | 1956-07-09 | |||
GB835849A (en) * | 1957-04-26 | 1960-05-25 | Du Pont | Photopolymerisable compositions and uses thereof |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
-
1972
- 1972-01-18 ZA ZA720345A patent/ZA72345B/xx unknown
- 1972-01-25 NO NO177/72A patent/NO141804C/no unknown
- 1972-01-27 AU AU38392/72A patent/AU461461B2/en not_active Expired
- 1972-01-29 ES ES399317A patent/ES399317A1/es not_active Expired
- 1972-01-31 BE BE778729A patent/BE778729A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-01-31 IL IL38677A patent/IL38677A/xx unknown
- 1972-01-31 FR FR7203150A patent/FR2124974A5/fr not_active Expired
- 1972-02-01 RO RO7269624A patent/RO64896A/ro unknown
- 1972-02-01 CH CH142672A patent/CH592322A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-01 SE SE7201145A patent/SE390218B/xx unknown
- 1972-02-02 JP JP1214572A patent/JPS5538961B1/ja active Pending
- 1972-02-02 LU LU64712A patent/LU64712A1/xx unknown
- 1972-02-02 FI FI271/72A patent/FI57429C/fi active
- 1972-02-02 GB GB481472A patent/GB1361298A/en not_active Expired
- 1972-02-02 CA CA133,755A patent/CA965291A/en not_active Expired
- 1972-02-03 DK DK48172AA patent/DK142623B/da not_active IP Right Cessation
- 1972-02-03 DE DE2205146A patent/DE2205146C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1972-02-03 PL PL1972153265A patent/PL83391B1/pl unknown
- 1972-02-03 IT IT67324/72A patent/IT949005B/it active
- 1972-02-04 NL NLAANVRAGE7201460,A patent/NL176021C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-04 BG BG019648A patent/BG26673A3/xx unknown
- 1972-12-08 DD DD167452A patent/DD101035A5/xx unknown
-
1973
- 1973-01-03 DK DK1773A patent/DK144184C/da active
-
1982
- 1982-06-24 HK HK283/82A patent/HK28382A/xx unknown
- 1982-11-26 JP JP57207462A patent/JPS58144824A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FI57429B (fi) | 1980-04-30 |
BG26673A3 (bg) | 1979-05-15 |
DK142623B (da) | 1980-12-01 |
DE2205146C2 (de) | 1990-03-08 |
IT949005B (it) | 1973-06-11 |
DD101035A5 (de) | 1973-10-12 |
LU64712A1 (de) | 1973-09-04 |
RO64896A (ro) | 1980-01-15 |
DK142623C (de) | 1981-08-03 |
FR2124974A5 (de) | 1972-09-22 |
DK144184B (da) | 1982-01-04 |
ZA72345B (en) | 1973-03-28 |
DE2205146A1 (de) | 1972-11-23 |
CA965291A (en) | 1975-04-01 |
IL38677A (en) | 1974-12-31 |
DK144184C (da) | 1982-06-14 |
IL38677A0 (en) | 1972-03-28 |
PL83391B1 (de) | 1975-12-31 |
JPS58144824A (ja) | 1983-08-29 |
NL7201460A (de) | 1972-08-08 |
SE390218B (sv) | 1976-12-06 |
AU461461B2 (en) | 1975-05-12 |
HK28382A (en) | 1982-07-02 |
ES399317A1 (es) | 1974-12-16 |
NO141804B (no) | 1980-02-04 |
JPH0136924B2 (de) | 1989-08-03 |
NL176021B (nl) | 1984-09-03 |
FI57429C (fi) | 1980-08-11 |
GB1361298A (en) | 1974-07-24 |
BE778729A (fr) | 1972-07-31 |
AU3839272A (en) | 1973-08-02 |
JPS5538961B1 (de) | 1980-10-07 |
NO141804C (no) | 1980-05-14 |
CH592322A5 (de) | 1977-10-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NL176021C (nl) | Bekleed voorwerp in de vorm van een bewaarbaar vel, in hoofdzaak bestaande uit een substraatvel en een daarop als bekleding aangebrachte droge fotopolymeriseerbare film en werkwijze voor het vervaardigen van een gedrukte schakeling. | |
NL7607880A (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een bij het aan- brengen van een antistatische laag toe te passen bekledingssamenstelling. | |
NL7513989A (nl) | Sublimatie-transfer voor droge overdracht alsme- de werkwijze voor het versieren van een substraat met een patroon van een of meer sublimatie-ink- ten. | |
NL183125C (nl) | Inrichting voor het aanbrengen van een deklaag op voorwerpen. | |
NL163838C (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een gevormd tex- tielverzachtingsmiddel, bestaande uit een absorberend substraat, waarop wasverzachter is aangebracht. | |
NL182326C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een zelfreinigend, waterig bekledingsmiddel en voorwerpen en substraten daarmee behandeld. | |
NL7901222A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van een lakbekleding, de toepassing van een heldere lak en het voorwerp met de hierop aangebrachte lakbekleding. | |
NL169190C (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een bekledingslaag uit een statistisch etheen-maleinezuuranhydride-copolymeer op het oppervlak van een materiaal. | |
BE833483A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een tindioxidelaagje op glasoppervlakken en glazen voorwerpen, bekleed met een tindioxide-laagje volgens deze werkwijze | |
NL7606653A (nl) | Bekledingspreparaat en bekleed voortbrengsel als- mede werkwijze voor het verbeteren van de hechting van een fluorpolymeerbekleding aan het substraat daarvan. | |
NL144313B (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een ondergrond met een lossende deklaag en de daarmede beklede gevormde voortbrengselen. | |
NL163552C (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak met een tegen corrosie bestendige, slijtvaste laag en werkwijze voor het bereiden van voor het bekleden geschikte mengsels. | |
NL164871C (nl) | Werkwijze ter bereiding van een polyvinylideenchloride- -latex die geschikt is voor het bekleden van substraten, alsmede voorwerpen die zijn verkregen onder toepassing van deze latex. | |
NL7508361A (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een bekledings- laag, werkwijze voor het bereiden van een deklaag- vormend middel en voorwerpen voorzien van zo'n be- kledingslaag. | |
NL161085C (nl) | Inrichting voor het bekleden van kleine voorwerpen. | |
NL156740B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een thermohardend vast bekledingspreparaat, en voorwerpen vervaardigd onder toepassing van een dergelijk preparaat. | |
NL180080C (nl) | Werkwijze voor het bekleden van een oppervlak van een voorwerp uit titanium, zirconium of tantaal. | |
NL145603B (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een zinklaag, voorwerpen voorzien van een volgens deze werkwijze aangebrachte zinklaag en werkwijze voor het bereiden van een verzinkingspasta. | |
NL139776B (nl) | Werkwijze voor het aanbrengen van een fosfaatbekledingslaag op een zinkoppervlak en voorwerp met een zinkoppervlak, voorzien van een fosfaatbekledingslaag gevormd met de werkijze. | |
NL186869C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een bad voor het kataforetisch bekleden van oppervlakken en werkwijze voor het bekleden van ijzeren voorwerpen. | |
NL163990C (nl) | Werkwijze voor het vormen van een decoratieve bekleding met gegolfd oppervlak. | |
NL150171B (nl) | Werkwijze voor het elektrolytisch bekleden van een substraat en werkwijze voor het vervaardigen van een laminaat. | |
NL158538B (nl) | Werkwijze voor het bereiden van een corrosiewerend bekledingsmengsel voor metaaloppervlakken, alsmede daarmee beklede voorwerpen. | |
NL174648C (nl) | Werkwijze voor het bereiden van vaste epoxyharsen met een verwekingspunt van 80-120 graden c, en voorwerpen met een bekledingslaag daaruit. | |
NL7500561A (nl) | Werkwijze voor het vervaardigen van met thermo- ische inkt bedrukte en met polymeer bedek- lazen voorwerpen. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
BB | A search report has been drawn up | ||
BC | A request for examination has been filed | ||
A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
R1B | Notice of opposition during period of laying open | ||
NP1G | Patent granted (not automatically) [patent specification modified] | ||
V4 | Discontinued because of reaching the maximum lifetime of a patent |