KR970018142A - 반도체 소자 제조방법 - Google Patents

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KR970018142A
KR970018142A KR1019950030139A KR19950030139A KR970018142A KR 970018142 A KR970018142 A KR 970018142A KR 1019950030139 A KR1019950030139 A KR 1019950030139A KR 19950030139 A KR19950030139 A KR 19950030139A KR 970018142 A KR970018142 A KR 970018142A
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insulating film
semiconductor substrate
semiconductor device
device manufacturing
peripheral circuit
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KR1019950030139A
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Inventor
이경희
Original Assignee
문정환
Lg 반도체 주식회사
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Abstract

본 발명은 반도체 소자 제조방법에 관한 것으로, 반도체 기판 상의 주변회로부 영역에 제1절연막을 형성하는 공정과; 열산화 공정으로 상기 제1절연막 및 노출된 반도체 기판에 제2절연막을 성장시키는 공정 및; 상기 제1절연막 및 제2절연막을 제거하는 공정을 구비하여 소자 제조를 완료하므로써, 기존 질화막을 마스크로 한 셀 리세스 공정시 요구되던 다단계 공정을 간력화할 수 있게 되어 공정단순화를 기할 수 있을 뿐 아니라, 이로 인해 셀 리세스 공정 적용시 반도체 제조공정이 복잡해지는 현상을 방지할 수 있게 된다.

Description

반도체 소자 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2(가) 내지 제2(다)도는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조방법은 도시한 공정수순도.

Claims (2)

  1. 반도체 기판 상의 주변회로부 영역에 제1절연막을 형성하는 공정과; 열산화 공정으로 상기 제1절연막 및 노출된 반도체 기판에 제2절연막을 성장시키는 공정 및; 상기 제1절연막 및 제2절연막을 제거하는 공정을 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1절연막은 반도체 기판 상에 제1절연막을 증착하는 공정과; 제1절연막 상의 주변회로부 영역에 감광막 패턴을 형성하는 공정 및; 상기 감광막 패턴을 마스크로 제1절연막을 습식식각하는 공정을 더 포함하여 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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