KR970018133A - 제진 장치 및 노광 장치 - Google Patents

제진 장치 및 노광 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR970018133A
KR970018133A KR1019960038169A KR19960038169A KR970018133A KR 970018133 A KR970018133 A KR 970018133A KR 1019960038169 A KR1019960038169 A KR 1019960038169A KR 19960038169 A KR19960038169 A KR 19960038169A KR 970018133 A KR970018133 A KR 970018133A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
controlled object
drive control
state
generating
adjustment
Prior art date
Application number
KR1019960038169A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100396860B1 (ko
Inventor
마사토 타카하시
Original Assignee
오노 시게오
니콘 가부시기사이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP25188895A external-priority patent/JP3629772B2/ja
Application filed by 오노 시게오, 니콘 가부시기사이샤 filed Critical 오노 시게오
Publication of KR970018133A publication Critical patent/KR970018133A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100396860B1 publication Critical patent/KR100396860B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70716—Stages
    • G03F7/70725—Stages control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16F—SPRINGS; SHOCK-ABSORBERS; MEANS FOR DAMPING VIBRATION
    • F16F15/00—Suppression of vibrations in systems; Means or arrangements for avoiding or reducing out-of-balance forces, e.g. due to motion
    • F16F15/02—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems
    • F16F15/03—Suppression of vibrations of non-rotating, e.g. reciprocating systems; Suppression of vibrations of rotating systems by use of members not moving with the rotating systems using magnetic or electromagnetic means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/7085—Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/709—Vibration, e.g. vibration detection, compensation, suppression or isolation

Abstract

목표상태량생성유닛은 스테이지에 대한 목표상태량을 생성하고, 레이저간섭계는 스테이지의 현재상태량(위치)을 검출한다. 가변위상보상기 및 PID보상기로 구성된 보상계는, 상기 목표상태량 및 검출된 상태량(위치)에 의거해서, 스테이지의 구동동작을 제어한다. 메모리유닛은 순방향 및 역방향이득테이블을 기억하고, 상기 스테이지의 상태량에 따라 상기 보상계를 조정하는 조정정보를 제공한다. 상기 스테이지의 구동방향에 의거해서 대응하는 이득테이블을 선택하고, 스테이지의 위치에 의거해서 상기 선택된 이득테이블로부터 조정정보를 판독하고, 그 판독된 조정정보에 의거해서 상기 가변위상보상기의 코너주파수를 변경한다.

Description

구동제어장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 정밀제어장치의 제어구성을 도시한 블록도.

Claims (40)

  1. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성수단; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출수단과; 상기 생성수단에 의해 생성된 목표상태량과 상기 검출수단에 의해 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어수단과; 상기 피제어물체의 동작상태단위로 해당 피제어물체의 상태량에 따라서 상기 제어수단에 의한 구동동작을 조정하기 위한 조정정보를 기억하는 기억수단과; 상기 피제어물체의 동작상태 및 상태량에 의거해서 상기 기억수단으로부터 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어수단의 구동제어를 조정하는 조정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 상태량을 변수로 사용한 함수인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 각 상태량에 대응하는 조정량을 기재한 테이블인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작 상태는 피제어물체의 동작 방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 조정수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상을 변화시키는 변경수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 변경수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 조정수단에 의한 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어수단의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계와 그때의 동작상태에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작 방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  11. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성수단; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출수단과; 상기 생성수단에 의해 생성된 목표상태량과 상기 검출수단에 의해 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어수단과; 상기 피제어물체의 상태량에 의거해서 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어수단에 의한 구동제어의 위상보상을 조정하는 조정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 조정수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 조정수단에 의한 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어수단의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  14. 가동부재의 위치에 따라서 통전시켜야 할 코일을 선택적으로 절환하는 리니어모터의 구동제어장치에 있어서 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 유지하는 유지수단과; 상기 보정정보에 의거해서 상기 가동부재의 상태량을 피드백해서 얻어진 제어편차를 제어목표상태량으로 보정하는 보정수단과; 상기 보정수단에 의해 보정된 제어편차에 의거해서 상기 리니어모터의 구동동작을 제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 보정수단에 의한 보정을 금지한 상태에서 상기 리니어모터를 구동하여 상기 가동 부재의 복수의 위치에서 제어편차를 얻는 획득수단과; 상기 획득수단에 의해 얻어진 제어편차에 의거해서 상기 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 생성하는 생성수단을 또 구비간 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 획득수단은 상기 가동부재의 위치 및 제어편차를 시계열데이터로서 얻고, 상기 생성수단은 상기 시계열데이터에 의거해서 상기 가동부재의 위치에 대응하는 제어편차를 기재한 참조테이블을 생성하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 생성수단은 상기 시계열데이터로부터 고주파성분을 제거함으로써 얻어진 결과에 의거해서 참조테이블로 생성하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 고주파성분은, 고주파차단형 선형위상필터를 사용해서 상기 생성수단에 의해 상기 시계열데이터로부터 제거되고, 상기 필터의 차단주파수는 피드백시스템의 제어주파수영역의 하한보다도 낮게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  19. 제14항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 기재한 제1참조테이블을 유지하고, 상기 구동제어장치는 상기 제어수단에 의한 제어결과로서 얻어진 상기 가동부재의 위치 및 제어편차의 시계열데이터에 의거해서 제2참조테이블을 발생하는 발생수단과; 상기 제2참조테이블에 의거해서 상기 제1참조테이블을 보정하는 참조테이블보정수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 보정수단에 의한 보정을 복수회 반복함으로써 얻어진 상기 제1참조테이블을 유지하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  21. 피제어물체의 동작상태단위로 해당 피제어물체의 상태량에 따라서 상기 피제어물체의 구동제어를 조정하기 위한 조정정보를 기억하는 기억수단을 구비한 장치용의 구동제어방법에 있어서, 상기 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성단계와; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출단계와; 상기 생성단계에서 생성된 목표상태량과 상기 검출단계에서 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어단계와, 상기 피제어물체의 동작상태 및 상태량에 의거해서 상기 기억수단으로부터 조정 정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어단계의 구동제어를 조정하는 조정단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 상태량을 변수로 사용한 함수인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  23. 제21항에 있어서 상기 조정정보는 피제어물체의 각 상태량에 대응하는 조정량을 기재한 테이블인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  24. 제21항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  25. 제21항에 있어서 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  26. 제21항에 있어서, 상기 조정단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상을 변화시키는 변경단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  27. 제26항에 있어서 상기 변경단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  28. 제21항에 있어서, 상기 조정단계에서의 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어단계의 제어량과 상기 피제어물체의 태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계와 그때의 동작상태에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  30. 제28항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  31. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성단계와; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출단계와, 상기 생성단계에서 생성된 목표상태량과 상기 검출단계에서 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어단계와; 상기 피제어물체의 상태량에 의거해서 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어단계의 구동제어의 위상보상을 조정하는 조정단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  32. 제31항에 있어서, 상기 조정단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  33. 제31항에 있어서, 상기 조정단계에서의 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어단계의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  34. 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 유지하는 유지수단을 구비하고, 상기 가동부재의 위치에 따라서 통전시켜야 할 코일을 선택적으로 절환하는 리니어모터의 구동제어장치용의 구동제어방법에 있어서 상기 가동부재의 위치에 의거해서 상기 유지수단으로부터 대응하는 보정정보를 얻는 취득단계와; 상기 취득단계에서 얻어진 보정정보에 의거해서 상기가동부재의 상태량을 피드백해서 얻어진 제어편차를 보정하는 보정단계와; 상기 보정단계에서 보정된 제어편차에 의거해서 상기 리니어모터의 구동동작을 제어하는 제어단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  35. 제34항에 있어서, 상기 보정단계에서의 보정을 금지한 상태에서 상기 리니어모터를 구동하여 상기 가동 부재의 복수의 위치에서 제어편차를 얻는 획득수단과; 상기 획득단계에서 얻어진 제어편차에 의거해서 상기 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 생성하고, 그 보정정보를 상기 유지수단에 유지하는 생성단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  36. 제35항에 있어서, 상기 획득단계는 상기 가동부재의 위치 및 제어편차를 시계열데이터로서 얻는 단계를 포함하고, 상기 생성단계는, 상기 시계열데이터에 의거해서 상기 가동부재의 위치에 대응하는 제어편차를 기재한 참조테이블을 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  37. 제36항에 있어서, 상기 생성단계는 상기 시계열데이터로부터 고주파성분을 제거함으로써 얻어진 결과에 의거해서 참조테이블 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  38. 제37항에 있어서, 상기 고주파성분은, 고주파차단형 선형위상필터를 사용해서 상기 생성단계에서 상기 시계열데이터로부터 제거되고, 상기 필터의 차단주파수는 피드백시스템의 제어주파수영역의 하한보다도 낮게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  39. 제34항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 기재한 제1참조테이블을 유지하고, 상기 구동제어방법은, 상기 제어단계의 제어결과로서 얻어진 상기 가동부재의 위치 및 제어편차의 시계열데이터에 의거해서 제2참조테이블을 발생하는 발생단계와; 상기 제2참조테이블에 의거해서 상기 제1참조테이블을 보정하는 참조테이블보정단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  40. 제39항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 보정단계에서의 보정을 복수회 반복함으로써 얻어진 상기 제1참조테이블을 유지하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960038169A 1995-09-05 1996-09-04 제진장치및노광장치 KR100396860B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP95-251888 1995-09-05
JP95-251887 1995-09-05
JP25188895A JP3629772B2 (ja) 1995-09-05 1995-09-05 除振装置、ステージ装置、露光装置及び走査型露光装置
JP25188795 1995-09-05

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970018133A true KR970018133A (ko) 1997-04-30
KR100396860B1 KR100396860B1 (ko) 2003-11-05

Family

ID=26540410

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960038169A KR100396860B1 (ko) 1995-09-05 1996-09-04 제진장치및노광장치

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5812420A (ko)
KR (1) KR100396860B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100844096B1 (ko) * 2006-03-14 2008-07-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 설정치 프로파일을 통해 구성요소를 이동시키는 시스템 및방법, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법

Families Citing this family (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6791098B2 (en) 1994-01-27 2004-09-14 Cymer, Inc. Multi-input, multi-output motion control for lithography system
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
US5528118A (en) * 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US6989647B1 (en) 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US7365513B1 (en) 1994-04-01 2008-04-29 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
TW318255B (ko) 1995-05-30 1997-10-21 Philips Electronics Nv
US6392741B1 (en) 1995-09-05 2002-05-21 Nikon Corporation Projection exposure apparatus having active vibration isolator and method of controlling vibration by the active vibration isolator
JPH09326362A (ja) * 1996-04-05 1997-12-16 Nikon Corp 除振装置及び露光装置
JPH09289155A (ja) * 1996-04-19 1997-11-04 Nikon Corp 走査型露光装置
KR980006398A (ko) * 1996-06-21 1998-03-30 마에다 시게루 진동 감쇄장치
JPH1089403A (ja) * 1996-09-10 1998-04-07 Nikon Corp 防振装置
JPH10112433A (ja) * 1996-10-04 1998-04-28 Nikon Corp 除振装置及び露光装置
US6490025B1 (en) * 1997-03-17 2002-12-03 Nikon Corporation Exposure apparatus
TW406292B (en) * 1997-06-03 2000-09-21 Koninkl Philips Electronics Nv Motion damper with electrical amplifier, and lithographic device with such a motion damper
US6330052B1 (en) * 1997-06-13 2001-12-11 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus and its control method, stage apparatus, and device manufacturing method
US6089525A (en) * 1997-10-07 2000-07-18 Ultratech Stepper, Inc. Six axis active vibration isolation and payload reaction force compensation system
AU1172699A (en) * 1997-11-18 1999-06-07 Nikon Corporation Vibration eliminator, aligner and projection exposure method
TW404089B (en) * 1997-11-25 2000-09-01 Ebara Corp Positioning device for testing stage
JP4194160B2 (ja) * 1998-02-19 2008-12-10 キヤノン株式会社 投影露光装置
JPH11294520A (ja) * 1998-04-08 1999-10-29 Canon Inc 除振装置、これを用いた露光装置およびデバイス製造方法、ならびに除振方法
JP4109747B2 (ja) * 1998-05-07 2008-07-02 キヤノン株式会社 アクティブ除振装置および露光装置
US6287735B2 (en) * 1998-09-16 2001-09-11 Nikon Corporation Method and apparatus for controlling the leveling table of a wafer stage
JP2000274482A (ja) * 1999-01-18 2000-10-03 Canon Inc 能動的除振装置、露光装置及び方法並びにデバイス製造方法
US6254242B1 (en) * 1999-07-14 2001-07-03 Britax Vision Systems (North America) Inc. Potentiometer for motorized mirror
US6474822B2 (en) * 1999-07-14 2002-11-05 David Swindon Potentiometer for motorized mirror
US6375147B1 (en) * 1999-09-13 2002-04-23 General Electric Company Vibration isolation apparatus for MR imaging system
EP1248288A1 (en) * 1999-12-16 2002-10-09 Nikon Corporation Exposure method and exposure apparatus
KR100755335B1 (ko) 2000-01-11 2007-09-05 일렉트로 싸이언티픽 인더스트리이즈 인코포레이티드 아베 에러 정정 시스템 및 방법
US6563128B2 (en) * 2001-03-09 2003-05-13 Cymer, Inc. Base stabilization system
JP4416250B2 (ja) 2000-02-09 2010-02-17 キヤノン株式会社 アクティブ除振装置及び露光装置
JP2001308003A (ja) * 2000-02-15 2001-11-02 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
EP1128216B1 (en) * 2000-02-21 2008-11-26 Sharp Kabushiki Kaisha Precision stage device
US6621556B2 (en) * 2000-02-28 2003-09-16 Nikon Corporation Projection exposure apparatus and manufacturing and adjusting methods thereof
US20020137358A1 (en) * 2001-02-08 2002-09-26 Mike Binnard Multiple point support assembly for a stage
US6781138B2 (en) 2001-05-30 2004-08-24 Nikon Corp. Positioning stage with stationary actuators
EP1425564B1 (de) * 2001-09-12 2011-04-20 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren und vorrichtung zur diagnostik von eigenschwingungen eines mechatronischen systems
US7345559B2 (en) * 2001-09-13 2008-03-18 General Electric Company High field open MRI magnet isolation system and method
JP3902942B2 (ja) * 2001-11-13 2007-04-11 キヤノン株式会社 除振装置及びその制御方法、並びに該除振装置を有する露光装置
US6937911B2 (en) * 2002-03-18 2005-08-30 Nikon Corporation Compensating for cable drag forces in high precision stages
DE60302462T2 (de) * 2002-06-25 2006-08-10 Tyco Electronics Corp. Integrierte vorrichtung mit überstrom- und überspannungschutzschaltung und gleichtaktfilterung für die datenbusschnittstelle
US6808051B2 (en) * 2002-09-27 2004-10-26 Koninklijke Philips Electronics N.V. System and method for active vibration isolation and active vibration cancellation
US7248339B2 (en) * 2003-07-04 2007-07-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
ATE465441T1 (de) * 2003-08-07 2010-05-15 Koninkl Philips Electronics Nv Positionierungseinrichtung, einrichtung und verfahren zum ausgleich der schwerkraft
KR100517509B1 (ko) * 2003-10-13 2005-09-28 삼성전자주식회사 레이저 다이오드의 출력제어방법 및 장치
US7552781B2 (en) 2004-10-20 2009-06-30 Black & Decker Inc. Power tool anti-kickback system with rotational rate sensor
JP2006159345A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Fanuc Ltd 制御装置
EP1845281B1 (de) * 2006-04-11 2016-03-09 Integrated Dynamics Engineering GmbH Aktives Schwingungsisolationssystem
JP5036259B2 (ja) 2006-09-14 2012-09-26 キヤノン株式会社 除振装置、露光装置及びデバイス製造方法
US7782446B2 (en) * 2007-03-01 2010-08-24 Asml Netherlands B.V. Stage system and lithographic apparatus comprising such stage system
NL2002902A1 (nl) * 2008-06-18 2009-12-22 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus having a feed forward pressure pulse compensation for the metrology frame.
US8805556B2 (en) * 2008-07-03 2014-08-12 Nikon Corporation Damping apparatus and exposure apparatus
JP5350139B2 (ja) * 2008-10-01 2013-11-27 キヤノン株式会社 露光装置、及びデバイスの製造方法
US8610332B2 (en) * 2008-10-09 2013-12-17 Newcastle Innovation Limited Positioning system and method
AU2011204260A1 (en) 2010-01-07 2012-06-07 Black & Decker Inc. Power screwdriver having rotary input control
US9475180B2 (en) 2010-01-07 2016-10-25 Black & Decker Inc. Power tool having rotary input control
US8418778B2 (en) 2010-01-07 2013-04-16 Black & Decker Inc. Power screwdriver having rotary input control
US9266178B2 (en) 2010-01-07 2016-02-23 Black & Decker Inc. Power tool having rotary input control
EP2631035B1 (en) 2012-02-24 2019-10-16 Black & Decker Inc. Power tool
JP6253312B2 (ja) * 2012-09-10 2017-12-27 キヤノン株式会社 制御装置、制御装置を備えるアクチュエータ、画像振れ補正装置、交換用レンズ、撮像装置、及び自動ステージ
US10589413B2 (en) 2016-06-20 2020-03-17 Black & Decker Inc. Power tool with anti-kickback control system

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5060519A (en) * 1988-02-18 1991-10-29 Tokkyo Kiki Kabushiki Kaisha Active control precision damping table
DE69014750T2 (de) * 1989-07-24 1995-07-06 Tokkyo Kiki K K Verfahren zur Positions- und Vibrationssteuerung und eine aktive Vibrationssteuervorrichtung.
GB2249189B (en) * 1990-10-05 1994-07-27 Canon Kk Exposure apparatus
JP3182158B2 (ja) * 1991-02-25 2001-07-03 キヤノン株式会社 露光装置用のステージ支持装置
NL9100407A (nl) * 1991-03-07 1992-10-01 Philips Nv Optisch lithografische inrichting met een krachtgecompenseerd machinegestel.
JPH05136023A (ja) * 1991-11-14 1993-06-01 Nikon Corp 投影露光装置
US5502311A (en) * 1992-01-17 1996-03-26 Nikon Corporation Method of and apparatus for detecting plane position
JP2646414B2 (ja) * 1992-02-21 1997-08-27 キヤノン株式会社 半導体製造装置
JP2954815B2 (ja) * 1993-06-24 1999-09-27 キヤノン株式会社 鉛直方向除振装置
JP3374467B2 (ja) * 1993-09-14 2003-02-04 株式会社ニコン 投影露光装置及び露光方法
JP3401769B2 (ja) * 1993-12-28 2003-04-28 株式会社ニコン 露光方法、ステージ装置、及び露光装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100844096B1 (ko) * 2006-03-14 2008-07-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 설정치 프로파일을 통해 구성요소를 이동시키는 시스템 및방법, 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
KR100396860B1 (ko) 2003-11-05
US5812420A (en) 1998-09-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970018133A (ko) 제진 장치 및 노광 장치
KR970018132A (ko) 구동제어장치 및 방법
US5847874A (en) Control apparatus for positional control of an optical system
JP3089709B2 (ja) 磁気ディスク装置のアクセスサーボ機構
CN101369044B (zh) 变焦透镜控制装置及其控制方法
US4443742A (en) Phase locked loop motor control system
KR940013148A (ko) 오토 포커스기능을 갖는 비디오 카메라 및 그 제어방법
WO2005072264A2 (en) System and method for adjusting a pid controller in a limited rotation motor system
EP0049948B1 (en) Control system for transducer positioning motor
IE52943B1 (en) Method and apparatus for controlling a stepper motor
EP1225493B1 (en) Alignment apparatus and method
KR950033545A (ko) 줌 렌즈 장치
US7453228B2 (en) Method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device
KR880002669B1 (ko) 주사형 전자현미경 또는 유사장치내의 대물렌즈를 제어하기 위한 방법
KR970007499A (ko) 스테이지 구동 제어 장치 및 스테이지 구동 제어 방법
JP6825133B2 (ja) 動作レーザビームの焦点を制御するための方法及び装置ならびにそのような装置を有するレーザ加工ヘッド
JP4630853B2 (ja) 移動体の位置決め制御装置及びレーザ加工装置
JP2005014169A (ja) フィードバック制御装置および加工装置
JP2016122399A (ja) テーブル形式データによる運転を行う数値制御装置
JP2010086395A (ja) ２自由度デジタル制御装置
JP3720490B2 (ja) 能動的除振装置
JPH0974059A (ja) 精密制御装置
JP2021135386A (ja) レンズ装置および撮像装置
KR100293969B1 (ko) 기계요소및지지수단의변형보상장치,변형보상방법과변형보상장치의보정방법
JP2010198517A (ja) 可変構造制御装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080808

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee