KR970018132A - 구동제어장치 및 방법 - Google Patents

구동제어장치 및 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR970018132A
KR970018132A KR1019960037952A KR19960037952A KR970018132A KR 970018132 A KR970018132 A KR 970018132A KR 1019960037952 A KR1019960037952 A KR 1019960037952A KR 19960037952 A KR19960037952 A KR 19960037952A KR 970018132 A KR970018132 A KR 970018132A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
controlled object
drive control
state
generating
adjustment
Prior art date
Application number
KR1019960037952A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100226599B1 (ko
Inventor
미키오 사토
히로아키 타케이시
Original Assignee
미타라이 후지오
캐논 가부시기사이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP24826695A external-priority patent/JP3320276B2/ja
Priority claimed from JP32787295A external-priority patent/JP3387715B2/ja
Application filed by 미타라이 후지오, 캐논 가부시기사이샤 filed Critical 미타라이 후지오
Publication of KR970018132A publication Critical patent/KR970018132A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100226599B1 publication Critical patent/KR100226599B1/ko

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Programme-control systems
    • G05B19/02—Programme-control systems electric
    • G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/19—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
    • G05B19/21—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device
    • G05B19/23—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control
    • G05B19/231—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/37—Measurements
    • G05B2219/37275—Laser, interferometer
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41026—Change gain as function of speed
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41028—Select gain with memory, rom table
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41029—Adjust gain as function of position error and position
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41172—Adapt coefficients of compensator to bring system into phase margin
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41203—Lead-phase compensation, lag-phase compensation servo
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/41—Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41216—Two lookup tables, for forward and reverse movement
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00—Program-control systems
    • G05B2219/30—Nc systems
    • G05B2219/42—Servomotor, servo controller kind till VSS
    • G05B2219/42033—Kind of servo controller

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)

Abstract

목표상태량생성유닛은 스테이지에 대한 목표상태량을 생성하고, 레이저간섭계는 스테이지의 현재상태량(위치)을 검출한다. 가변위상보상기 및 PID보상기로 구성된 보상계는, 상기 목표상태량 및 검출된 상태량(위치)에 의거해서, 스테이지의 구동동작을 제어한다. 메모리유닛은 순방향 및 역방향이득테이블을 기억하고, 상기 스테이지의 상태량에 따라 상기 보상계를 조정하는 조정정보를 제공한다. 상기 스테이지의 구동방향에 의거해서 대응하는 이득테이블을 선택하고, 스테이지의 위치에 의거해서 상기 선택된 이득테이블로부터 조정정보를 판독하고, 그 판독된 조정정보에 의거해서 상기 가변위상보상기의 코너주파수를 변경한다.

Description

구동제어장치 및 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 제1실시예에 의한 정밀제어장치의 제어구성을 도시한 블록도.

Claims (40)

  1. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성수단; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출수단과; 상기 생성수단에 의해 생성된 목표상태량과 상기 검출수단에 의해 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어수단과; 상기 피제어물체의 동작상태단위로 해당 피제어물체의 상태량에 따라서 상기 제어수단에 의한 구동동작을 조정하기 위한 조정정보를 기억하는 기억수단과; 상기 피제어물체의 동작상태 및 상태량에 의거해서 상기 기억수단으로부터 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어수단의 구동제어를 조정하는 조정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 상태량을 변수로 사용한 함수인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 각 상태량에 대응하는 조정량을 기재한 테이블인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작 상태는 피제어물체의 동작 방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 조정수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상을 변화시키는 변경수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 변경수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 조정수단에 의한 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어수단의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계와 그때의 동작상태에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  9. 제8항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작 방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  11. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성수단; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출수단과; 상기 생성수단에 의해 생성된 목표상태량과 상기 검출수단에 의해 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어수단과; 상기 피제어물체의 상태량에 의거해서 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어수단에 의한 구동제어의 위상보상을 조정하는 조정수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  12. 제11항에 있어서, 상기 조정수단은 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  13. 제11항에 있어서, 상기 조정수단에 의한 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어수단의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  14. 가동부재의 위치에 따라서 통전시켜야 할 코일을 선택적으로 절환하는 리니어모터의 구동제어장치에 있어서 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 유지하는 유지수단과; 상기 보정정보에 의거해서 상기 가동부재의 상태량을 피드백해서 얻어진 제어편차를 제어목표상태량으로 보정하는 보정수단과; 상기 보정수단에 의해 보정된 제어편차에 의거해서 상기 리니어모터의 구동동작을 제어하는 제어수단을 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 보정수단에 의한 보정을 금지한 상태에서 상기 리니어모터를 구동하여 상기 가동 부재의 복수의 위치에서 제어편차를 얻는 획득수단과; 상기 획득수단에 의해 얻어진 제어편차에 의거해서 상기 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 생성하는 생성수단을 또 구비간 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  16. 제15항에 있어서, 상기 획득수단은 상기 가동부재의 위치 및 제어편차를 시계열데이터로서 얻고, 상기 생성수단은 상기 시계열데이터에 의거해서 상기 가동부재의 위치에 대응하는 제어편차를 기재한 참조테이블을 생성하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  17. 제16항에 있어서, 상기 생성수단은 상기 시계열데이터로부터 고주파성분을 제거함으로써 얻어진 결과에 의거해서 참조테이블로 생성하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  18. 제17항에 있어서, 상기 고주파성분은, 고주파차단형 선형위상필터를 사용해서 상기 생성수단에 의해 상기 시계열데이터로부터 제거되고, 상기 필터의 차단주파수는 피드백시스템의 제어주파수영역의 하한보다도 낮게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  19. 제14항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 기재한 제1참조테이블을 유지하고, 상기 구동제어장치는 상기 제어수단에 의한 제어결과로서 얻어진 상기 가동부재의 위치 및 제어편차의 시계열데이터에 의거해서 제2참조테이블을 발생하는 발생수단과; 상기 제2참조테이블에 의거해서 상기 제1참조테이블을 보정하는 참조테이블보정수단을 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  20. 제19항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 보정수단에 의한 보정을 복수회 반복함으로써 얻어진 상기 제1참조테이블을 유지하는 것을 특징으로 하는 구동제어장치.
  21. 피제어물체의 동작상태단위로 해당 피제어물체의 상태량에 따라서 상기 피제어물체의 구동제어를 조정하기 위한 조정정보를 기억하는 기억수단을 구비한 장치용의 구동제어방법에 있어서, 상기 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성단계와; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출단계와; 상기 생성단계에서 생성된 목표상태량과 상기 검출단계에서 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어단계와, 상기 피제어물체의 동작상태 및 상태량에 의거해서 상기 기억수단으로부터 조정 정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어단계의 구동제어를 조정하는 조정단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  22. 제21항에 있어서, 상기 조정정보는 피제어물체의 상태량을 변수로 사용한 함수인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  23. 제21항에 있어서 상기 조정정보는 피제어물체의 각 상태량에 대응하는 조정량을 기재한 테이블인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  24. 제21항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  25. 제21항에 있어서 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  26. 제21항에 있어서, 상기 조정단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상을 변화시키는 변경단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  27. 제26항에 있어서 상기 변경단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  28. 제21항에 있어서, 상기 조정단계에서의 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어단계의 제어량과 상기 피제어물체의 태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계와 그때의 동작상태에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  29. 제28항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 위치정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  30. 제28항에 있어서, 상기 상태량은 피제어물체에 관련된 이동속도정보이고, 상기 동작상태는 피제어물체의 동작방향인 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  31. 피제어물체의 목표상태량을 생성하는 생성단계와; 상기 피제어물체의 현재상태량을 검출하는 검출단계와, 상기 생성단계에서 생성된 목표상태량과 상기 검출단계에서 검출된 상태량에 의거해서 상기 피제어물체의 구동동작을 제어하는 제어단계와; 상기 피제어물체의 상태량에 의거해서 조정정보를 얻고, 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 상기 제어단계의 구동제어의 위상보상을 조정하는 조정단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  32. 제31항에 있어서, 상기 조정단계는 상기 얻어진 조정정보에 의거해서 위상보상의 코너주파수를 변화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  33. 제31항에 있어서, 상기 조정단계에서의 조정이 금지된 상태에서의 상기 제어단계의 제어량과 상기 피제어물체의 상태량과의 관계를 얻고, 그 얻어진 관계에 의거해서 상기 조정정보를 발생하는 발생단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  34. 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 유지하는 유지수단을 구비하고, 상기 가동부재의 위치에 따라서 통전시켜야 할 코일을 선택적으로 절환하는 리니어모터의 구동제어장치용의 구동제어방법에 있어서 상기 가동부재의 위치에 의거해서 상기 유지수단으로부터 대응하는 보정정보를 얻는 취득단계와; 상기 취득단계에서 얻어진 보정정보에 의거해서 상기가동부재의 상태량을 피드백해서 얻어진 제어편차를 보정하는 보정단계와; 상기 보정단계에서 보정된 제어편차에 의거해서 상기 리니어모터의 구동동작을 제어하는 제어단계를 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  35. 제34항에 있어서, 상기 보정단계에서의 보정을 금지한 상태에서 상기 리니어모터를 구동하여 상기 가동 부재의 복수의 위치에서 제어편차를 얻는 획득수단과; 상기 획득단계에서 얻어진 제어편차에 의거해서 상기 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 생성하고, 그 보정정보를 상기 유지수단에 유지하는 생성단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  36. 제35항에 있어서, 상기 획득단계는 상기 가동부재의 위치 및 제어편차를 시계열데이터로서 얻는 단계를 포함하고, 상기 생성단계는, 상기 시계열데이터에 의거해서 상기 가동부재의 위치에 대응하는 제어편차를 기재한 참조테이블을 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  37. 제36항에 있어서, 상기 생성단계는 상기 시계열데이터로부터 고주파성분을 제거함으로써 얻어진 결과에 의거해서 참조테이블 생성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  38. 제37항에 있어서, 상기 고주파성분은, 고주파차단형 선형위상필터를 사용해서 상기 생성단계에서 상기 시계열데이터로부터 제거되고, 상기 필터의 차단주파수는 피드백시스템의 제어주파수영역의 하한보다도 낮게 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  39. 제34항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 리니어모터의 가동부재의 각 위치에 대응하는 보정정보를 기재한 제1참조테이블을 유지하고, 상기 구동제어방법은, 상기 제어단계의 제어결과로서 얻어진 상기 가동부재의 위치 및 제어편차의 시계열데이터에 의거해서 제2참조테이블을 발생하는 발생단계와; 상기 제2참조테이블에 의거해서 상기 제1참조테이블을 보정하는 참조테이블보정단계를 또 구비한 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
  40. 제39항에 있어서, 상기 유지수단은 상기 보정단계에서의 보정을 복수회 반복함으로써 얻어진 상기 제1참조테이블을 유지하는 것을 특징으로 하는 구동제어방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960037952A 1995-09-04 1996-09-03 구동제어장치 및 방법 KR100226599B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24826695A JP3320276B2 (ja) 1995-09-04 1995-09-04 精密制御装置
JP95-248266 1995-09-04
JP32787295A JP3387715B2 (ja) 1995-11-24 1995-11-24 多相リニアモータ制御装置
JP95-327872 1995-11-24

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR970018132A true KR970018132A (ko) 1997-04-30
KR100226599B1 KR100226599B1 (ko) 1999-10-15

Family

ID=26538682

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960037952A KR100226599B1 (ko) 1995-09-04 1996-09-03 구동제어장치 및 방법

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5757149A (ko)
EP (1) EP0762255B1 (ko)
KR (1) KR100226599B1 (ko)
DE (1) DE69601763T2 (ko)

Families Citing this family (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7365513B1 (en) 1994-04-01 2008-04-29 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US6989647B1 (en) 1994-04-01 2006-01-24 Nikon Corporation Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device
US5528118A (en) 1994-04-01 1996-06-18 Nikon Precision, Inc. Guideless stage with isolated reaction stage
US5874820A (en) 1995-04-04 1999-02-23 Nikon Corporation Window frame-guided stage mechanism
TW318255B (ko) 1995-05-30 1997-10-21 Philips Electronics Nv
JP3501559B2 (ja) * 1995-06-27 2004-03-02 キヤノン株式会社 リニア・モータ装置
JP4039728B2 (ja) * 1998-03-13 2008-01-30 オリエンタルモーター株式会社 ステッピングモータの制御装置
US6260282B1 (en) * 1998-03-27 2001-07-17 Nikon Corporation Stage control with reduced synchronization error and settling time
US6037737A (en) * 1998-04-30 2000-03-14 Trw Inc. Simple friction-compensating control algorithm for high precision mechanisms
JPH11354417A (ja) 1998-06-11 1999-12-24 Canon Inc 走査型露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法ならびにステージ制御装置
US6144118A (en) 1998-09-18 2000-11-07 General Scanning, Inc. High-speed precision positioning apparatus
JP3595708B2 (ja) * 1998-10-30 2004-12-02 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および制御方法
US6487458B1 (en) 1999-08-31 2002-11-26 Delphi Technologies, Inc. Adaptive closed-loop servo control
US6573976B2 (en) 2000-10-04 2003-06-03 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus, exposure method, and semiconductor device manufacturing method
EP1267213B1 (en) * 2001-06-13 2006-09-20 ASML Netherlands B.V. Lithographic projection apparatus
JP3870058B2 (ja) * 2001-10-05 2007-01-17 キヤノン株式会社 スキャン露光装置及び方法並びにデバイスの製造方法
JP3963426B2 (ja) * 2001-11-28 2007-08-22 キヤノン株式会社 ステージ装置および露光装置
US6922025B2 (en) * 2002-02-21 2005-07-26 Anorad Corporation Zero ripple linear motor system
JP2004030500A (ja) * 2002-06-28 2004-01-29 Fanuc Ltd モータ制御装置
JP3907566B2 (ja) * 2002-09-27 2007-04-18 キヤノン株式会社 位置決め装置における測定手段を初期化する方法
US6949896B2 (en) * 2002-12-03 2005-09-27 Ricoh Company, Limited Apparatus for and method of driving motor to move object at a constant velocity
US7119511B2 (en) * 2003-04-11 2006-10-10 International Business Machines Corporation Servo system for a two-dimensional micro-electromechanical system (MEMS)-based scanner and method therefor
JP4315420B2 (ja) * 2003-04-18 2009-08-19 キヤノン株式会社 露光装置及び露光方法
NL1027851C2 (nl) * 2004-12-22 2006-06-27 Assembleon Nv Werkwijze voor het regelen van een dynamisch systeem alsmede een dergelijke inrichting.
US7265813B2 (en) * 2004-12-28 2007-09-04 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US20060170382A1 (en) * 2005-01-28 2006-08-03 Nikon Corporation Linear motor force ripple identification and compensation with iterative learning control
US7253580B2 (en) * 2005-05-06 2007-08-07 Marvell International Technology Ltd. Method and apparatus for adaptive motor speed control
US20070206456A1 (en) * 2005-09-30 2007-09-06 Sullivan Jeffrey S Trajectory mapping for improved motion-system jitter while minimizing tracking error
US7468589B2 (en) * 2006-01-13 2008-12-23 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus having a controlled motor, and motor control system and method
JP2009527214A (ja) * 2006-02-16 2009-07-23 カダント インコーポレイテッド 空隙誘導モチベーターを取り入れた線形トラバースキャリッジ
US7453228B2 (en) * 2006-04-07 2008-11-18 Asml Netherlands B.V. Method for controlling a positioning device, positioning device, and lithographic apparatus provided with a positioning device
US7818073B2 (en) * 2006-04-20 2010-10-19 Asml Netherlands B.V. Method for obtaining improved feedforward data, a lithographic apparatus for carrying out the method and a device manufacturing method
CN100593767C (zh) * 2006-06-30 2010-03-10 深圳市大族激光科技股份有限公司 电容传感器的控制方法
US8267388B2 (en) * 2007-09-12 2012-09-18 Xradia, Inc. Alignment assembly
US8452424B2 (en) * 2008-03-05 2013-05-28 National Univeristy Corporation Nagoya Institute of Technology Moving object feed-forward control method
NL2003331A (en) * 2008-09-02 2010-03-12 Asml Netherlands Bv Device manufacturing method, control system, computer program and computer-readable medium.
US8649885B2 (en) * 2008-11-25 2014-02-11 Nikon Corporation Frequency selective iterative learning control system and method for controlling errors in stage movement
JP5308249B2 (ja) * 2009-06-22 2013-10-09 三菱重工業株式会社 サーボ制御装置
NL2006981A (en) * 2010-07-26 2012-01-30 Asml Netherlands Bv Position control system, lithographic apparatus, and method to control a position of a movable object.
TWI488016B (zh) * 2012-11-16 2015-06-11 唐明中 可攜式遠端互動系統
WO2017066602A1 (en) * 2015-10-16 2017-04-20 Thorlabs, Inc. Linear motor or voice coil for fast tuning of a laser cavity
JP2022129161A (ja) * 2021-02-24 2022-09-05 キヤノン株式会社 制御装置、位置決め装置、リソグラフィー装置および物品製造方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58116735A (ja) * 1981-12-29 1983-07-12 Canon Inc 投影焼付方法
JPS60168149A (ja) * 1984-02-13 1985-08-31 Canon Inc 位置合わせ信号処理装置
JPS6115341A (ja) * 1984-07-02 1986-01-23 Canon Inc ウエハプロ−バ
US4747608A (en) * 1984-10-30 1988-05-31 Canon Kabushiki Kaisha Wafer chuck
US4870288A (en) * 1986-04-01 1989-09-26 Canon Kabushiki Kaisha Alignment method
US4714400A (en) * 1986-04-14 1987-12-22 Ibm Corporation Plural robotic drive
JPH01298410A (ja) * 1988-05-27 1989-12-01 Canon Inc 位置決めテーブル装置
NL8902471A (nl) * 1989-10-05 1991-05-01 Philips Nv Tweetraps positioneerinrichting.
US5216590A (en) * 1990-07-13 1993-06-01 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Contactless guided positioning table
JP2864060B2 (ja) * 1991-09-04 1999-03-03 キヤノン株式会社 縮小投影型露光装置及び方法
DE69322983T2 (de) * 1992-02-21 1999-07-15 Canon Kk System zum Steuern von Trägerplatten
JP3217522B2 (ja) * 1992-03-02 2001-10-09 キヤノン株式会社 精密位置決め装置
JP3002351B2 (ja) * 1993-02-25 2000-01-24 キヤノン株式会社 位置合わせ方法および装置
DE69412719T2 (de) * 1993-06-24 1999-02-18 Canon Kk Steuerung für einen mehrphasigen Motor
JPH07161798A (ja) * 1993-12-06 1995-06-23 Canon Inc 位置決めテーブル装置
US5609136A (en) * 1994-06-28 1997-03-11 Cummins Engine Company, Inc. Model predictive control for HPI closed-loop fuel pressure control system
US5557156A (en) * 1994-12-02 1996-09-17 Digital Instruments, Inc. Scan control for scanning probe microscopes

Also Published As

Publication number Publication date
EP0762255A1 (en) 1997-03-12
US5757149A (en) 1998-05-26
DE69601763T2 (de) 1999-09-09
DE69601763D1 (de) 1999-04-22
EP0762255B1 (en) 1999-03-17
KR100226599B1 (ko) 1999-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR970018132A (ko) 구동제어장치 및 방법
KR970018133A (ko) 제진 장치 및 노광 장치
US5847874A (en) Control apparatus for positional control of an optical system
EP0632568B1 (en) Controller for a multiphase motor
CN101369044B (zh) 变焦透镜控制装置及其控制方法
US4443742A (en) Phase locked loop motor control system
US6686716B1 (en) Tuned open-loop switched to closed-loop method for rapid point-to-point movement of a periodic motion control system
EP3118985B1 (en) Control apparatus of vibration actuator, method for controlling vibration actuator, driving apparatus, and imaging apparatus
WO2005072264A2 (en) System and method for adjusting a pid controller in a limited rotation motor system
US10355621B2 (en) Control apparatus, control method, and driving apparatus for vibration-type actuator, and electronic apparatus equipped with vibration-type actuator
IE52943B1 (en) Method and apparatus for controlling a stepper motor
EP1225493B1 (en) Alignment apparatus and method
KR950033545A (ko) 줌 렌즈 장치
US5521892A (en) Closed-loop control system and servo device of optical disk unit
JP6825133B2 (ja) 動作レーザビームの焦点を制御するための方法及び装置ならびにそのような装置を有するレーザ加工ヘッド
JP4630853B2 (ja) 移動体の位置決め制御装置及びレーザ加工装置
JP2010086395A (ja) ２自由度デジタル制御装置
JP2005014169A (ja) フィードバック制御装置および加工装置
JP2021135386A (ja) レンズ装置および撮像装置
JPH0974059A (ja) 精密制御装置
JP3720490B2 (ja) 能動的除振装置
KR100293969B1 (ko) 기계요소및지지수단의변형보상장치,변형보상방법과변형보상장치의보정방법
EP0151220A1 (en) Servo system for the positioning of an optical beam
JP2010198517A (ja) 可変構造制御装置
JP4841008B2 (ja) 移動体機構

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130626

Year of fee payment: 15

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140625

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee