JP3320276B2 - 精密制御装置 - Google Patents
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
Description
密速度制御などを行う精密制御装置に関し、特に、同期
スキャン型の半導体露光装置に好適な精密制御装置に関
する。
め、精密速度制御などの精密制御技術は、機器の複雑
化、高度化、微細化等に伴い、高精度化・高速化が進ん
でいる。半導体露光装置を例にとれば、近年の半導体素
子の急速な高集積度化により、要求される位置決め精度
は現状でおよそ10ナノメートルにも達しており、数年
以内にナノメートルオーダーの位置決め精度が必要にな
ると予想されている。しかもスループット向上のため
に、こうした高精度の制御をより高速に行なう必要があ
る。
る。これに対応するために、従来の逐次移動型の露光装
置、いわゆるステッパに代わり、図2に示すようなレチ
クル32とウエハ31を同期をとりながら定速移動させ
つつ露光を行なうことにより、ステッパでは実現し得な
かったチップサイズを実現する、いわゆる同期スキャン
型露光装置の開発が進んでいる。
置の構成を示したものであり、同図に示すように、ウエ
ハ31とレチクル32は、反対方向に縮小率と同じ速度
比で同期移動を行なう。このとき、不図示の光源からの
光は矩形状の絞りによって、スキャン方向に幅の狭い短
冊状の光Lとなる。そしてウエハ上の所望の位置に、レ
チクルに描画されたチップのイメージが、レンズ33に
よって一定の縮小率で描画されつつ上述の同期スキャン
動作が行なわれる。これによって、これまでのステップ
駆動型の露光装置では実現し得なかったチップサイズの
露光が実現できるわけである。
制御系の典型的なブロック図を示す。ウエハステージ4
3に対する目標状態量(すなわちこの場合は目標位置)
は、目標状態量生成手段41によって生成されてウエハ
制御系46に送られると同時に、目標状態量変換手段4
8に送られる。目標状態量変換手段48では、目標状態
量を1/β倍(ただしβは縮小率)することによりレチ
クルステージ45に対する目標状態量を生成し、これを
レチクル制御系47に出力する。これによってウエハス
テージ43およびレチクルステージ45それぞれに対す
る同期目標位置が生成されるわけである。そして、ウエ
ハ制御系46における目標状態量とウエハステージ43
の位置Xm との偏差em は、同期誤差補正手段49によ
って1/β倍されてレチクル制御系47に加えられる。
これによって、同期誤差esyncが抑制される。
ャン型露光装置の制御装置は、ウエハ制御系46をマス
タ、レチクル制御系47をスレーブとするマスタ・スレ
ーブ制御系となっている。最終的な性能指標は、ウエハ
ステージ43の位置Xmとレチクルステージ45の位置
をβ倍したものとの偏差である同期誤差esyncで与えら
れる。
術上の課題としては、(1)マスタおよびスレーブ制御
系を独立した1入出力系として捉え、各制御対象を一定
速度で高精度に移動させるいわゆる定速スキャン技術の
ための技術課題、および(2)マスタ制御系とスレーブ
制御系の間の同期誤差を抑える、いわゆる同期制御技術
のための技術課題の2つに集約されるが、(2)の問題
はいってみれば各制御系の結合方法の問題であり、最も
重要なのは(1)の課題である。そこで、以下では
(1)の技術課題、つまり一定速度で高精度にスキャン
制御を行なうための技術課題に焦点を絞って説明する。
RAMで250ナノメートル程度とされており、スキャ
ン型の半導体露光装置においては、ウエハとレチクルと
を、さらにその数〜十分の1程度の精度に保ちつつスキ
ャン制御を行なわなければならない。これを実現するた
めには、以下のような理由で、従来のステップ駆動型の
露光装置では問題とならなかったような、駆動系の非線
形摩擦などが大きな問題となる。
置では、所望の位置に移動し、その位置で整定を待って
焼付けを行なえばよい。したがってステップ移動範囲内
に多少の摩擦などが存在し、走行中の速度ムラがあって
も(位置決め時間が多少悪化するにせよ)、歩留りを左
右するような問題とはならない。これに対し、同期スキ
ャン型の露光装置では、スキャン領域内の摩擦など、高
精度な定速移動を妨げる要因、言い換えればウエハとレ
チクルの同期関係を崩す要因の存在は、焼付けイメージ
のひずみを生じさせ、歩留りを左右するような問題とな
り得るのである。
のための駆動要素として、エアベアリングとリニアモー
タを用いた、非接触移動型の駆動手段が実用化され、半
導体露光装置においてもこれが用いられつつある。これ
によって、従来のボールねじ、転がり軸受および回転モ
ータによる駆動要素と比較して、摩擦の低減が図られ、
制御精度の向上に貢献している。
は、固定子にボイスコイルもしくは永久磁石を複数個用
いることによって長ストロークの可動範囲を可能にする
方法が一般によく用いられる。この理由は、コイル側を
固定子とするムービングマグネット型の場合であれば、
長ストロークの可動範囲を1つのボイスコイルでカバー
すると、駆動電流が大きくなり、発熱による熱変形の問
題が生じやすいことにあり、また、固定子が永久磁石で
あるムービングコイル型の場合であれば、長ストローク
をカバーし得る永久磁石を作るのが困難なことにある。
図4に、ムービングマグネット式のリニアモータを用い
た非接触移動型のステージの例を示す。図4のステージ
は直交する水平2方向の自由度を有するものであり、こ
れによってウエハもしくはレチクルの制御を行なう。
ニアモータによって長ストロークをカバーする場合、固
定子の切り替えに伴う推力のムラが生じてしまう。図5
(a)および(b)はこの様子を示したものである。つ
まり、複数の固定子である、コイルもしくは永久磁石の
磁力のばらつきや、各固定子の位置に依存した磁力のば
らつき、あるいは固定子がボイスコイルである場合に
は、コイルを励磁するタイミングのずれなどによって
も、ステージ位置に依存したリニアモータの推力ムラが
生じる。そしてこれらにより、一定速度でステージをス
キャン走行させた時の偏差は、図6のように推力ムラに
依存した形となる。特に、速度を上げるほどこの偏差ム
ラが大きくなる。このため、こうした制御系で同期スキ
ャン制御を行なった場合は、その同期誤差もやはり推力
ムラに依存した形になる。したがってスキャン速度を十
分に上げることができず、よって装置のスループットを
上げられないという問題を生じる。
に、位置に依存したテーブル、もしくは関数によって制
御系のゲインを変化させ、推力ムラによる偏差ムラを軽
減する方法が従来より用いられている。その典型的な方
法は、制御系全体のゲインを変化せしめる可変ゲイン型
の補償器を用いたものである。この代表例として、特願
平5−305303号「位置決めテーブル装置」があ
る。
めに可変ゲイン型PID補償器62における可変ゲイン
g(x)を1に固定し、スキャン走行領域をある一定速
度で走行するようなステージ目標状態量、すなわち目標
位置xr (t)を目標状態量生成手段61によって生成
し、いわゆる予備スキャン動作を行なう。そしてこのと
きのスキャン領域における、ステージ63への指令値u
(t)と、ステージ63の変位データx(t)を用いて
ステージ63の位置をインデックスとするデータ列u
(x)を作成して記憶手段64にストアする。次に、こ
のu(x)に対して、図7(b)に示すように、高域を
カットし、さらに正規化を行なうことによってゲインテ
ーブルg(x)を作成し、記憶手段64のデータを更新
する。スキャン制御時には、このゲインテーブルをもと
にして、可変手段65によって可変ゲイン型PID補償
器62のゲインを変化させる。
(x)の期待値が1となるようにする方法、あるいはg
(x)の最大値が1となるように、u(x)にバイアス
値を与える方法などが考えられる。こうした従来技術に
より、推力ムラによる影響を抑え、スキャン動作中の同
期誤差を低減することが可能となる。
来技術では、たとえばゲインテーブル参照方式の場合に
ついていえば、以下に示すような問題点がある。
ブルを作成する際に、外乱が制御系に加わるため、ゲイ
ンテーブルg(x)のデータは、推力ムラによるトレン
ドに加えて、種々の外乱によって乱されたものとなって
しまう。
に依存した外乱である。こうした外乱の一つとして、例
えばステージを搭載する除振台の傾きによる影響が考え
られる。これはステージが除振台の端部にある場合に
は、ステージの重力の影響で、ステージが除振台の中央
にある場合に比べて除振台の傾きθが増すためである。
したがって、重力によるステージへの外乱力FG は、図
8に示すように、進行方向に依存し、特に端部での影響
が大きくなる。したがって、予備スキャンによるゲイン
テーブル作成時に、この影響が加わるため、従来技術の
ように単一のゲインテーブルで推力ムラの影響を除去す
る場合、ステージ送り方向の違いによって、特に端部で
の制御特性が著しく悪化してしまう。
するためのゲインテーブルg(x)によって、制御系全
体のゲインを変化させることになるため、もし、ゲイン
テーブルg(x)の値が大きく変動する場合には、この
影響によって場所による制御系の特性、すなわち過渡応
答特性、外乱抑圧特性などが大きく異なってしまう。実
際に、予備スキャンによってゲインテーブルを作成する
際に、上述したように、外乱が制御系に加わるため、ゲ
インテーブルg(x)のデータは、推力ムラによるトレ
ンドだけでなく、種々の外乱によって乱されたものとな
ってしまう。
のゲインテーブル参照による制御装置では、場所による
制御特性の変動が大きくなってしまう。実際のスキャン
動作は、ステージの可動範囲内に配置された複数のチッ
プの露光領域に合わせて、加速・定速スキャン・減速の
動作を繰り返す。したがって、従来技術のように、場所
による制御系特性の変動が大きい場合には、加速・減速
時間がばらついてしまい、装置のスループットが大きく
制限されることになる。またこの問題は関数によって制
御系のゲインを変化させる場合にも全く同様に生じる。
題点に鑑み、精密制御装置において、制御系の特性変動
をより効果的に抑え、もって制御精度の向上を図ること
にある。
成するため、本発明では、被制御物体、被制御物体を駆
動する駆動手段、被制御物体の状態量を計測する状態量
計測手段、被制御物体の状態量の目標値を生成する目標
状態量生成手段、状態量計測手段により計測された被制
御物体の状態量と目標状態量生成手段により生成された
目標状態量とから駆動手段への指令値を生成する制御手
段、状態量計測手段によって計測された被制御物体の状
態量の関数およびもしくは状態量をインデックスとする
テーブル、関数による関数値およびもしくはテーブルの
値によって制御手段の特性を変動せしめる可変手段を有
する精密制御装置において、被制御物体の移動方向に
依存する複数の制御物体の状態量の関数およびもしくは
状態量をインデックスとするテーブルを具備することを
特徴とする。あるいは折点周波数が可変である位相進
み遅れ補償要素およびもしくは位相遅れ進み補償要素を
有し、折点周波数を制御物体の状態量の関数およびもし
くは状態量をインデックスとするテーブルによって変化
せしめるものであることを特徴とする。
述する。図9は、予備スキャンによって作成したゲイン
テーブルの例である。この場合には、期待値が1となる
ように、予備スキャン時のリニアモータへの指令信号u
に対して、フィルタ処理をした後に一定のバイアス値を
かけた例を示している。図中a点、b点およびc点は、
それぞれゲインテーブルの最大値、期待値(=1)およ
び最小値を与える点である。推力ムラによって生じる偏
差ムラは、励磁するコイルまたは永久磁石が切り替わる
ことによって生じる。したがって定速スキャン時の偏差
ムラは一定の周期性を有する。これをωg とする。ωg
は高々数rad/secである。
来の技術でゲインを変えた場合の、上記3点の制御系の
一巡伝達特性のゲインの変化の様子を示したものであ
る。このように、従来技術では、系のゲイン特性全体が
上下するため、場所による制御系の特性変動が非常に大
きくなる。テーブルのゲインによって除去すべき偏差ム
ラの角周波数はωg であり、高々数rad/secであ
るにもかかわらず、高周波域の特性までを変化させる点
に従来技術の問題があった。
体を変化させる代わりに、数1式で与えられる可変位相
補償器を補償手段に加える。
周波数を変化させるわけである。このとき、g<1では
位相進み遅れ補償器、g>1では位相遅れ進み補償器と
なる。
ン特性を図11(a)に示す。ゲインテーブルによって
推力ムラの角周波数ωg を含めた低域のゲインは変化す
るが、高域のゲインは変化しない。この可変位相補償器
を用いた場合の制御系の一巡伝達特性を図11(b)に
示す。推力ムラの周波数ωg を含めた低域のゲインのみ
が変化し、高域には影響がない。したがって、ゲインテ
ーブルによる系の特性変動を最小限に抑えることがで
き、なおかつ偏差ムラも抑えることができるわけであ
る。
タによるウエハステージ制御系を例にとり、本発明の実
施例を説明する。
の構成を示す図である。同図において、1は同期スキャ
ン型縮小投影露光装置におけるステージ、2は除振台、
3はステージ1上に搭載したウエハ、4はステージ1に
固定されたリニアモータの可動子、5は除振台2に固定
されたリニアモータの固定子、6は静圧軸受、7は除振
台2に対しその支持方向に作用するダンパ、8は除振台
2を支持するばね、9はステージ1の位置を計測するレ
ーザ干渉計、10はステージ1上に固定されレーザ干渉
計9からのレーザ光を反射するミラー、11はステージ
1の目標位置を生成する目標状態量生成手段、12は可
変位相補償器13の出力側に接続されたPID補償器、
13は本発明の特徴の1つに対応する可変位相補償器、
14は駆動信号uに対する信号処理手段、15および1
6は本発明の特徴の1つに対応する順方向送りおよび逆
方向送りに対するゲインテーブルをストアするための記
憶手段、17および18は予備スキャンと本スキャンと
で切り替わる切替えスイッチ、19および20は順方向
ステージ送りと逆方向ステージ送りとで切り替わる切替
えスイッチ、21はリニアモータに駆動信号を与えるド
ライバ、22は可変位相補償器13に対する可変手段で
ある。
モータの可動子4、固定子5および静圧軸受6によっ
て、除振台2上をX軸方向に非接触移動する。除振台2
はダンパ7およびばね8によって、床振動から遮断され
る構造となっている。除振台2に対するステージ1上の
ミラー10における変位xm は、レーザ干渉計9によっ
て計測される。そして目標状態量生成手段11によって
生成されるステージ1の目標状態量、すなわち目標位置
Xr と、レーザ干渉計9によって計測されたステージ1
の変位量xm から位置偏差eが生成され、可変位相補償
器13およびPID補償器12とによって構成される、
いわゆる直列補償手段に送られる。さらにその出力uは
ドライバ21に送られて、電流増幅され、その電流出力
iがリニアモータの固定子5に送られる。
手段15および16の機能について説明する。まず、ス
キャン動作に先立って、推力ムラによる影響からゲイン
テーブルを作成するために、予備スキャンを行なう。つ
まり、ステージ1の可動領域全体を、ステージ速度が一
定となるように目標位置Xr を与え、ステージ1の予備
スキャンを行なう。このとき切替えスイッチ17および
18はp側に設定される。
とする。その場合、切替えスイッチ19および20はf
側に設定される。このとき可変位相補償器13は常に1
となるように、g(xm )=1に設定しておく。この状
態で得られる順方向スキャン時の制御指令信号u(t)
と、ステージ位置情報x(t)が信号処理手段14に送
られ、この2つの信号列からステージ位置xm をインデ
ックスとするテーブルu(xm )が作成される。次に、
このテーブルu(xm )に対して信号処理手段14によ
ってフィルタ処理および正規化処理が行なわれ、順方向
のゲインテーブルgf (xm )が作成される。この手順
は先に図9を用いて説明した通りである。そして得られ
たゲインテーブルgf (xm )は、順送り方向に対する
記憶手段15に記憶される。
0がr側に設定され、逆方向スキャン時のゲインテーブ
ルgr (xm )が記憶手段16に記憶される。図12
(a)および(b)にこうして作成される順方向・逆方
向のゲインテーブルを模式的に示す。上述のように、ス
テージ1の移動方向によって、外乱によるゲインテーブ
ルのトレンドが異なるため、従来技術のように、1つの
ゲインテーブルで補正をかける場合には、特にステージ
可動範囲の端部で制御特性が悪化し、スループットに悪
影響を及ぼしていた。これに対して、本発明ではステー
ジ位置に依存した複数のテーブルを有するため、そうし
たゲインテーブルの送り方向依存性にも適切に対応する
ことができる。
ーブルが作成された後に、切替えスイッチ17および1
8がs側に設定され、スキャン動作が行なわれる。その
時、切替えスイッチ19および20は、送り方向によっ
てf側またはr側に切り替えられる。そして、ステージ
位置xm をインデックスとした、順方向・逆方向それぞ
れに対するテーブル値が参照され、可変手段22に渡さ
れる。そして可変手段22によって、可変位相補償器1
3の折点周波数を変化させるわけである。本発明におい
て、テーブル参照による制御系の特性変動が最小限に抑
えられ、なおかつ推力ムラによる偏差ムラの除去には十
分効果があることは既に図9、図10および図11を用
いて詳細に説明した。
定サンプリング周期で離散近似したディジタルフィルタ
で近似的に実現し、マイクロプロセッサを用いて実装す
れば、容易に構成可能である。
図9で示した3点a,b,cにおけるステージ制御系の
単位ステップ応答を模式的に示す。図13(a)は従来
技術における単位ステップ応答を示しており、ゲインテ
ーブルによる影響で、制御系の特性変動が非常に大き
い。したがって実際に従来技術でスキャン制御を行なっ
た場合、整定時間が特に悪化するショットが生じてしま
い、スループットが低下してしまう。これに対して、本
実施例の場合は、図13(b)に示すように、ゲイン変
動による制御系の特性変動を最小限に抑えることがで
き、良好なスループットを得ることができるわけであ
る。
17,18,19および20は、自動的に切り替われば
よく、かかる機能は、図1では示されていないが、マイ
クロプロセッサを用いて実現するのが一般的である。ま
た、上述では、ゲインテーブルを、期待値が1となるよ
うに構成した。したがって、上述では可変位相補償器1
3は位相進み遅れ補償器もしくは位相遅れ進み補償器の
いずれの形にもなる。しかし、ゲインテーブルg(x)
を、最大値が1となるように設定すれば、必ず位相進み
遅れ補償器が構成されることになる。したがって、g<
1で正規化したゲインテーブルを用いた可変位相進み遅
れ補償器で低域のゲインのみを変化させた場合、制御系
の位相補償は必ず増加する。つまり可変位相進み遅れ補
償器によって制御系の安定性は必ず増大する。
装置におけるウエハステージの制御系を対象として説明
を行なったが、本発明は、1入出力系または多入出力系
を問わず、特に高精度で定速制御を必要とする装置、例
えばイメージスキャナや複写機の定速制御における、モ
ータのコギングムラ除去などにも全く同様にして適用す
ることが可能である。また、上記実施例ではPID補償
器による通常の直列補償器と可変位相補償器とによって
補償手段を構成したが、直列補償器はPID補償器に限
られず、それ以外のどのような直列補償器によっても全
く同様に補償手段を構成することが可能である。また、
制御対象の状態量が、変位、速度など、どのような状態
量での場合でも問題なく適用可能である。
と可変位相補償器の2段構成で補償手段を構成したが、
その代わりに、通常の直列補償器の一部を直接可変位相
補償器としてもよい。その場合、より低次数で補償手段
を構成することができる。
の制御系、いわゆる1自由度の制御系に対する適用例を
示したが、これに限らず、2自由度の制御系、例えばフ
ィードフォワードを有する制御系に対しても、同様にし
て適用することが可能である。
可変位相補償を導入し、駆動手段の推力ムラに起因した
偏差ムラを除去するためのゲインテーブルおよびもしく
は関数によって、この時定数を変化させるようにしたた
め、ゲインテーブルもしくは関数による変動が大きい場
合にも、制御系の特性変動を抑えて被制御物体の全可動
領域において良好な制御性能を実現し、かつ前記偏差ム
ラを除去することの可能な制御装置を実現することがで
きる。
乱に対応すべく、移動方向に応じたゲインテーブルおよ
びもしくは関数を持たせることにより、送り方向に依存
しない、良好な制御性能を実現することが可能である。
一実施例を示す図である。
ある。
る。
た非接触移動型のステージの構成を示す斜視図である。
びリニアモータの推力特性を示す図である。
を示す図である。
る。
ルを例示する図である。
示す図である。
性および一巡伝達特性のゲインを示す図である。
ーブルを示す図である。
プ応答を示す図である。
ータの可動子、5:リニアモータの固定子、6:静圧軸
受、7:除振台のためのダンパ、8:除振台のためのば
ね、9:レーザ干渉計、10:ミラー、11:目標状態
量生成手段、12:PID補償器、13:本発明の特長
のひとつである可変位相補償器、14:駆動信号uに対
する信号処理手段、15,16:記憶手段、17,1
8:切替えスイッチ、19および20:切り替わる切替
えスイッチ、21:ドライバ、22:可変手段。
Claims (5)
- 【請求項1】 被制御物体と、前記被制御物体を駆動す
る駆動手段と、前記被制御物体の状態量を計測する状態
量計測手段と、前記被制御物体の状態量の目標値を生成
する目標状態量生成手段と、前記状態量計測手段により
計測された前記被制御物体の状態量と前記目標状態量生
成手段により生成された目標状態量とから前記駆動手段
への指令値を生成する制御手段と、前記状態量計測手段
によって計測された前記被制御物体の状態量の関数およ
びもしくはこの状態量をインデックスとするテーブル
と、前記関数による関数値およびもしくは前記テーブル
の値によって前記制御手段の特性を変動せしめる特性可
変手段とを有する精密制御装置において、前記被制御物
体の状態量の関数およびもしくは前記状態量をインデッ
クスとするテーブルとして、前記被制御物体の移動方向
に依存する複数のものを具備することを特徴とする精密
制御装置。 - 【請求項2】 被制御物体と、前記被制御物体を駆動す
る駆動手段と、前記被制御物体の状態量を計測する状態
量計測手段と、前記被制御物体の状態量の目標値を生成
する目標状態量生成手段と、前記状態量計測手段により
計測された前記被制御物体の状態量と前記目標状態量生
成手段により生成された目標状態量とから前記駆動手段
への指令値を生成する制御手段と、前記状態量計測手段
によって計測された前記被制御物体の状態量の関数およ
びもしくはこの状態量をインデックスとするテーブル
と、前記関数による関数値およびもしくは前記テーブル
の値によって前記制御手段の特性を変動せしめる特性可
変手段とを有する精密制御装置において、前記制御手段
は折点周波数が可変である位相進み遅れ補償要素および
もしくは位相遅れ進み補償要素を有し、前記折点周波数
を前記被制御物体の状態量の関数およびもしくは前記状
態量をインデックスとするテーブルによって変化せしめ
るものであることを特徴とする精密制御装置。 - 【請求項3】 前記テーブルの値は、前記特性可変手段
での特性変動をさせない状態で、前記被制御物体の状態
量と前記制御手段の指令値に基づいて作成することを特
徴とする請求項1または2記載の精密制御装置。 - 【請求項4】 スキャン型の露光装置であって、 所定の移動方向に移動するステージと、 前記ステージを駆動する駆動手段と、 前記ステージの目標位置を生成する目標状態量生成手段
と、 計測された前記ステージの位置と前記目標状態量生成手
段により生成された目標位置とから前記駆動手段への指
令値を生成する制御手段と、 前記ステージの移動方向に応じたステージの状態量の複
数のテーブルおよびもしくは関数と、 前記ステージの前記移動方向によって前記テーブルおよ
びもしくは関数を切り替える切替えスイッチと、 該切替えスイッチにより設定された前記テーブルおよび
もしくは関数によって前記制御手段の特性を変動せしめ
る特性可変手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項5】 前記複数のテーブルおよびもしくは関数
は、前記ステージの移動方向の順方向・逆方向それぞれ
に対するものであることを特徴とする請求項4記載の露
光装置。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24826695A JP3320276B2 (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 精密制御装置 |
EP96306378A EP0762255B1 (en) | 1995-09-04 | 1996-09-03 | Drive control apparatus |
DE69601763T DE69601763T2 (de) | 1995-09-04 | 1996-09-03 | Einrichtung zur Antriebsregelung |
KR1019960037952A KR100226599B1 (ko) | 1995-09-04 | 1996-09-03 | 구동제어장치 및 방법 |
US08/697,950 US5757149A (en) | 1995-09-04 | 1996-09-04 | Drive control apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24826695A JP3320276B2 (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 精密制御装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0974059A JPH0974059A (ja) | 1997-03-18 |
JP3320276B2 true JP3320276B2 (ja) | 2002-09-03 |
Family
ID=17175583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24826695A Expired - Fee Related JP3320276B2 (ja) | 1995-09-04 | 1995-09-04 | 精密制御装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3320276B2 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1167655A (ja) * | 1997-08-11 | 1999-03-09 | Nikon Corp | 走査型露光装置及び同期誤差解析方法 |
KR100480174B1 (ko) * | 2002-08-23 | 2005-04-06 | 엘지전자 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널의 구동장치 및 그의 제조 방법 |
NL2003331A (en) | 2008-09-02 | 2010-03-12 | Asml Netherlands Bv | Device manufacturing method, control system, computer program and computer-readable medium. |
NL2003453A (en) * | 2008-10-09 | 2010-04-12 | Asml Netherlands Bv | A positioning system, method, and lithographic apparatus. |
NL2006981A (en) * | 2010-07-26 | 2012-01-30 | Asml Netherlands Bv | Position control system, lithographic apparatus, and method to control a position of a movable object. |
JP2016012649A (ja) * | 2014-06-27 | 2016-01-21 | キヤノン株式会社 | 指令データの作成方法、位置決め装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法 |
JP7301701B2 (ja) * | 2019-09-26 | 2023-07-03 | 株式会社ソニー・インタラクティブエンタテインメント | 制御装置、制御方法およびプログラム |
-
1995
- 1995-09-04 JP JP24826695A patent/JP3320276B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0974059A (ja) | 1997-03-18 |
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