JPH05136023A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPH05136023A JPH05136023A JP3326342A JP32634291A JPH05136023A JP H05136023 A JPH05136023 A JP H05136023A JP 3326342 A JP3326342 A JP 3326342A JP 32634291 A JP32634291 A JP 32634291A JP H05136023 A JPH05136023 A JP H05136023A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
- G03F7/70833—Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
-
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】フオトマスク上のパターンを投影光学系を介し
て感光基板上に露光する投影露光装置において、フオト
マスク及び感光基板の相対位置が変化する状態を検出
し、露光を制御することによつて相対関係を一定に保持
しようとするものである。 【構成】フオトマスクを支持する支持部材の近傍にフオ
トマスク付近の振動を検出する振動検出手段を設け、当
該振動検出手段からの振動情報に基づいて露光を制御す
ることにより、フオトマスク及び感光基板の相対関係が
保持されている状態で露光を行うことができる。従つて
装置全体の振動による横シフト及び回転誤差を生じない
ようにすることができる。
て感光基板上に露光する投影露光装置において、フオト
マスク及び感光基板の相対位置が変化する状態を検出
し、露光を制御することによつて相対関係を一定に保持
しようとするものである。 【構成】フオトマスクを支持する支持部材の近傍にフオ
トマスク付近の振動を検出する振動検出手段を設け、当
該振動検出手段からの振動情報に基づいて露光を制御す
ることにより、フオトマスク及び感光基板の相対関係が
保持されている状態で露光を行うことができる。従つて
装置全体の振動による横シフト及び回転誤差を生じない
ようにすることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は投影露光装置に関し、例
えばウエハステージをステツプアンドリピート方式で駆
動するようになされた投影露光装置に適用して好適なも
のである。
えばウエハステージをステツプアンドリピート方式で駆
動するようになされた投影露光装置に適用して好適なも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の投影露光装置においては
図4に示す構成のものがある。すなわちフオトマスク
(以下これをレチクルと称する)5はレチクル支持部材
4によつて支持されており、投影レンズ3を介して、ウ
エハステージ1上に載置された感光基板(以下これをウ
エハと称する)2と共役な位置にある。
図4に示す構成のものがある。すなわちフオトマスク
(以下これをレチクルと称する)5はレチクル支持部材
4によつて支持されており、投影レンズ3を介して、ウ
エハステージ1上に載置された感光基板(以下これをウ
エハと称する)2と共役な位置にある。
【0003】また当該ウエハステージ1の端部には移動
鏡7が固定され当該ウエハステージ1の移動に伴つて移
動するようになされていると共に、投影レンズ3の鏡筒
には固定鏡6が設置されている。
鏡7が固定され当該ウエハステージ1の移動に伴つて移
動するようになされていると共に、投影レンズ3の鏡筒
には固定鏡6が設置されている。
【0004】移動鏡7はレーザ光波干渉測長器(干渉
計)10からビームスプリツタ9を介して入射するレー
ザビームを反射すると共に、固定鏡6は干渉計10から
ビームスプリツタ9及び反射鏡8を介して入射するレー
ザビームを反射し、干渉計10は移動鏡7及び固定鏡6
からの反射光を測定することにより移動鏡7及び固定鏡
6の相対位置を検出するようになされている。
計)10からビームスプリツタ9を介して入射するレー
ザビームを反射すると共に、固定鏡6は干渉計10から
ビームスプリツタ9及び反射鏡8を介して入射するレー
ザビームを反射し、干渉計10は移動鏡7及び固定鏡6
からの反射光を測定することにより移動鏡7及び固定鏡
6の相対位置を検出するようになされている。
【0005】制御装置11は干渉計10によつて検出さ
れた移動鏡7及び固定鏡6の相対位置に基づいて駆動装
置12を用いてウエハステージ1を任意の位置に駆動制
御するようになされている。
れた移動鏡7及び固定鏡6の相対位置に基づいて駆動装
置12を用いてウエハステージ1を任意の位置に駆動制
御するようになされている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところでこの種の投影
露光装置においては、レチクル支持部材4、投影レンズ
3及びウエハステージ1が所定の支持部材(不図示)に
よつて一体に連結されており、ウエハステージ1をX、
Y方向に駆動する際、図4に点線で示すようにウエハス
テージ1を中心に光軸AXが傾斜するような方向に装置
全体が振動するが、この場合照明系(不図示)、レチク
ル5、投影レンズ3及びウエハ2の相対位置は振り子の
ように変わらないことにより、レチクル5及びウエハの
位置ずれは生じないと考えられていた。
露光装置においては、レチクル支持部材4、投影レンズ
3及びウエハステージ1が所定の支持部材(不図示)に
よつて一体に連結されており、ウエハステージ1をX、
Y方向に駆動する際、図4に点線で示すようにウエハス
テージ1を中心に光軸AXが傾斜するような方向に装置
全体が振動するが、この場合照明系(不図示)、レチク
ル5、投影レンズ3及びウエハ2の相対位置は振り子の
ように変わらないことにより、レチクル5及びウエハの
位置ずれは生じないと考えられていた。
【0007】ところがウエハステージ1はX、Y方向に
移動可能なステージであることにより、当該移動によつ
て重心位置が変化する。この場合、振動が発生した際に
装置全体のねじれ又はステージヨーイングによつて当該
振動成分の中にレチクル5及びウエハステージ1に対す
る回転誤差成分が含まれたり、振動の伝達遅れや固定鏡
6とレチクル5間の振動による横シフト量の大きさの相
違によつて当該振動成分の中にレチクル5及びウエハス
テージ1に対するシフト成分又は回転成分が含まれるこ
とにより、レチクル5及びウエハ2の相対位置が変化し
てステツピング誤差を生じ、正確な露光をし得ない問題
がある。
移動可能なステージであることにより、当該移動によつ
て重心位置が変化する。この場合、振動が発生した際に
装置全体のねじれ又はステージヨーイングによつて当該
振動成分の中にレチクル5及びウエハステージ1に対す
る回転誤差成分が含まれたり、振動の伝達遅れや固定鏡
6とレチクル5間の振動による横シフト量の大きさの相
違によつて当該振動成分の中にレチクル5及びウエハス
テージ1に対するシフト成分又は回転成分が含まれるこ
とにより、レチクル5及びウエハ2の相対位置が変化し
てステツピング誤差を生じ、正確な露光をし得ない問題
がある。
【0008】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、レチクル及びウエハの相対位置が変化する状態を検
出し、駆動系及び露光を制御することによつて相対関係
を一定に保持しようとするものである。
で、レチクル及びウエハの相対位置が変化する状態を検
出し、駆動系及び露光を制御することによつて相対関係
を一定に保持しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、フオトマスク5上のパターンを投
影光学系3を介して感光基板2上に露光する投影露光装
置において、フオトマスク5を支持する支持部材4の近
傍にフオトマスク5付近の振動を検出する振動検出手段
22を備え、露光時において、振動検出手段22からの
検出結果に基づいてフオトマスク5の駆動手段23及び
又は感光基板2の駆動手段12及び露光手段を制御する
ようにする。
め本発明においては、フオトマスク5上のパターンを投
影光学系3を介して感光基板2上に露光する投影露光装
置において、フオトマスク5を支持する支持部材4の近
傍にフオトマスク5付近の振動を検出する振動検出手段
22を備え、露光時において、振動検出手段22からの
検出結果に基づいてフオトマスク5の駆動手段23及び
又は感光基板2の駆動手段12及び露光手段を制御する
ようにする。
【0010】
【作用】露光時において、振動センサ22によつて得ら
れる振動成分が、レチクル5及びウエハ2の相対関係を
変化させるものか否かを調べ、変化させる成分である場
合にレチクル5の駆動手段23及び又はウエハ2の駆動
手段12及び露光手段を制御してレチクル5及びウエハ
2の相対関係を保持することにより、露光時におけるレ
チクル5及びウエハ2の相対位置を変化させないように
することができる。
れる振動成分が、レチクル5及びウエハ2の相対関係を
変化させるものか否かを調べ、変化させる成分である場
合にレチクル5の駆動手段23及び又はウエハ2の駆動
手段12及び露光手段を制御してレチクル5及びウエハ
2の相対関係を保持することにより、露光時におけるレ
チクル5及びウエハ2の相対位置を変化させないように
することができる。
【0011】
【実施例】以下図面について、本発明の一実施例を詳述
する。
する。
【0012】図4との対応部分に同一符号を付して示す
図1は本発明による投影露光装置を示し、水銀ランプ等
の光源(不図示)によつてレチクルホルダ14に保持さ
れたレチクル5をほぼ均一な照度で照明する。
図1は本発明による投影露光装置を示し、水銀ランプ等
の光源(不図示)によつてレチクルホルダ14に保持さ
れたレチクル5をほぼ均一な照度で照明する。
【0013】レチクル5を通過した露光光は、両側(も
くしは片側)テレセントリツクな投影レンズ3に入射
し、投影レンズ3はレチクル5に形成された回路パター
ンの投影像を、表面にレジスト層が形成されたウエハ2
上に結像投影する。
くしは片側)テレセントリツクな投影レンズ3に入射
し、投影レンズ3はレチクル5に形成された回路パター
ンの投影像を、表面にレジスト層が形成されたウエハ2
上に結像投影する。
【0014】ウエハ2は駆動装置12によりステツプア
ンドリピート方式で、X、Y方向に2次元移動可能なウ
エハステージ1上に載置され、ウエハ2上の1つの露光
領域に対するレチクル5の転写露光が終了すると、次の
露光位置までステツピングされる。ウエハステージ1の
2次元的な位置は、干渉計10によつて、例えば0.01
〔μm〕程度の分解能で常時検出される。
ンドリピート方式で、X、Y方向に2次元移動可能なウ
エハステージ1上に載置され、ウエハ2上の1つの露光
領域に対するレチクル5の転写露光が終了すると、次の
露光位置までステツピングされる。ウエハステージ1の
2次元的な位置は、干渉計10によつて、例えば0.01
〔μm〕程度の分解能で常時検出される。
【0015】以上のように同一のウエハ2に対してパタ
ーン露光を繰り返し実行することによつて、現像及びエ
ツチング処理が施されたウエハ2上にはレチクルパター
ンがマトリツクス状に形成されることになる。
ーン露光を繰り返し実行することによつて、現像及びエ
ツチング処理が施されたウエハ2上にはレチクルパター
ンがマトリツクス状に形成されることになる。
【0016】ここでレチクル支持部材4上にレチクルホ
ルダ14を介して保持されているレチクル5はレチクル
駆動装置23によつてX、Y方向に2次元移動可能であ
り、当該レチクル5の2次元的な位置は干渉計24によ
つて常時検出される。レチクルホルダ14の端部には干
渉計24からのレーザビームを反射する移動鏡20が固
定されている。このレチクル駆動系は軽量で制御性が高
く、またウエハ2及びレチクル5の倍率比は一般に1:
N(N≧5)であることにより、微細な動きにも十分に
対応し得るようになされている。
ルダ14を介して保持されているレチクル5はレチクル
駆動装置23によつてX、Y方向に2次元移動可能であ
り、当該レチクル5の2次元的な位置は干渉計24によ
つて常時検出される。レチクルホルダ14の端部には干
渉計24からのレーザビームを反射する移動鏡20が固
定されている。このレチクル駆動系は軽量で制御性が高
く、またウエハ2及びレチクル5の倍率比は一般に1:
N(N≧5)であることにより、微細な動きにも十分に
対応し得るようになされている。
【0017】またレチクル支持部材4の端部には振動セ
ンサ22が設置されており、さらに投影レンズ3の鏡筒
に固定されている固定鏡6とほぼ同じ高さ位置に振動セ
ンサ21が設置されている。各振動センサ21及び22
からの情報は振動波形処理装置13に入力され、ウエハ
ステージ1付近(固定鏡6付近)の振動状態及びレチク
ル5付近の振動状態が常時検出される。
ンサ22が設置されており、さらに投影レンズ3の鏡筒
に固定されている固定鏡6とほぼ同じ高さ位置に振動セ
ンサ21が設置されている。各振動センサ21及び22
からの情報は振動波形処理装置13に入力され、ウエハ
ステージ1付近(固定鏡6付近)の振動状態及びレチク
ル5付近の振動状態が常時検出される。
【0018】制御装置11は干渉計10及び24からの
位置計測信号等に基づいて駆動装置12及び23に所定
の駆動指令を与え、ウエハステージ1及びレチクル5の
移動や位置決めを制御するようになされていると共に、
振動波形処理装置13からの情報に基づいて露光装置部
(不図示)の露光動作を制御するようになされている。
位置計測信号等に基づいて駆動装置12及び23に所定
の駆動指令を与え、ウエハステージ1及びレチクル5の
移動や位置決めを制御するようになされていると共に、
振動波形処理装置13からの情報に基づいて露光装置部
(不図示)の露光動作を制御するようになされている。
【0019】以上の構成において、ウエハステージ1の
振動がレチクル5まで伝わりにくい状態(ウエハステー
ジの位置状態)において、ウエハステージ1がステツピ
ング動作した際の露光処理動作の一例を説明する。
振動がレチクル5まで伝わりにくい状態(ウエハステー
ジの位置状態)において、ウエハステージ1がステツピ
ング動作した際の露光処理動作の一例を説明する。
【0020】図2(A)はウエハステージ1を駆動する
際の当該ウエハステージ1のスピードを表すスピード信
号S1を示し、台形状に信号レベルが立ち上がる部分が
ウエハステージ1のステツピング動作状態を表し、当該
台形部の間はウエハステージ1を微調整している状態を
表す。
際の当該ウエハステージ1のスピードを表すスピード信
号S1を示し、台形状に信号レベルが立ち上がる部分が
ウエハステージ1のステツピング動作状態を表し、当該
台形部の間はウエハステージ1を微調整している状態を
表す。
【0021】また図2(B)は振動センサ21の出力S
2を示し、さらに図2(C)は振動センサ22の出力S
3を示す。ここでは振動センサ21の設置位置がウエハ
ステージ1に近いことにより、当該ウエハステージ1の
ステツピング動作時の振動が振動センサ21によく伝わ
つていることを表しているのに対して振動センサ22に
はリニアに伝わつていないことを表している。
2を示し、さらに図2(C)は振動センサ22の出力S
3を示す。ここでは振動センサ21の設置位置がウエハ
ステージ1に近いことにより、当該ウエハステージ1の
ステツピング動作時の振動が振動センサ21によく伝わ
つていることを表しているのに対して振動センサ22に
はリニアに伝わつていないことを表している。
【0022】ここで図2(A)の各台形部間におけるウ
エハステージ1の微調整区間においてウエハステージ1
が目標とする露光領域以内に追い込まれると(時点t
1、t2、t3、t4)、振動波形処理装置13は振動
センサ21及び22の振動状態を判定し、当該振動状態
が検出されないことを確認すると、制御装置11に対し
て露光指令を送出する。制御装置11は当該露光指令に
基づいて図2(D)に示す露光信号S4を露光装置部
(不図示)に送出し、露光動作を実行する。
エハステージ1の微調整区間においてウエハステージ1
が目標とする露光領域以内に追い込まれると(時点t
1、t2、t3、t4)、振動波形処理装置13は振動
センサ21及び22の振動状態を判定し、当該振動状態
が検出されないことを確認すると、制御装置11に対し
て露光指令を送出する。制御装置11は当該露光指令に
基づいて図2(D)に示す露光信号S4を露光装置部
(不図示)に送出し、露光動作を実行する。
【0023】図2の場合、ウエハステージ1の振動がレ
チクル5まで伝わりにくい状態であることにより、ウエ
ハステージ1が目標とする露光領域以内に追い込まれた
時点t1、t2、t3、t4においてすでにウエハステ
ージ1及びレチクル5の振動が収まつており、制御装置
11は露光装置部を特別に制御することなく(すなわち
露光タイミングを遅らせることなく)露光動作を実行す
ることができる。
チクル5まで伝わりにくい状態であることにより、ウエ
ハステージ1が目標とする露光領域以内に追い込まれた
時点t1、t2、t3、t4においてすでにウエハステ
ージ1及びレチクル5の振動が収まつており、制御装置
11は露光装置部を特別に制御することなく(すなわち
露光タイミングを遅らせることなく)露光動作を実行す
ることができる。
【0024】次にウエハステージ1及びレチクル5の平
衡が悪い状態での露光処理動作の一例を説明する。
衡が悪い状態での露光処理動作の一例を説明する。
【0025】図3においてウエハステージ1のスピード
信号S1(図3(A))が所定のウインド以内に収まつ
ている時点t2及びt4(すなわちウエハステージ1が
目標とする露光領域以内に追い込まれた時点)において
も振動センサ22から振動が検出されている。これはウ
エハステージ1及びレチクル5の平衡状態が悪く、時点
t2及びt4においてはステツピング時の振動がレチク
ル5付近に遅れて伝わつたり、レチクル5の振動が継続
することによるものである。
信号S1(図3(A))が所定のウインド以内に収まつ
ている時点t2及びt4(すなわちウエハステージ1が
目標とする露光領域以内に追い込まれた時点)において
も振動センサ22から振動が検出されている。これはウ
エハステージ1及びレチクル5の平衡状態が悪く、時点
t2及びt4においてはステツピング時の振動がレチク
ル5付近に遅れて伝わつたり、レチクル5の振動が継続
することによるものである。
【0026】この場合、ウエハステージ1付近(固定鏡
6付近)が振動していないにもかかわらず、レチクク5
付近が振動していることにより、露光時に横シフト又は
回転誤差が生じる可能性がある。従つて振動波形処理装
置13は時点t2及びt4においては制御装置11に対
して露光指令を送出せず、振動センサ22からの振動状
態を表す出力が0になるのを待ち受ける。
6付近)が振動していないにもかかわらず、レチクク5
付近が振動していることにより、露光時に横シフト又は
回転誤差が生じる可能性がある。従つて振動波形処理装
置13は時点t2及びt4においては制御装置11に対
して露光指令を送出せず、振動センサ22からの振動状
態を表す出力が0になるのを待ち受ける。
【0027】従つてこの時点t2及びt4においては露
光が行われず、続く時点t2´及びt4´において振動
センサ22からの出力が0になつたとき、振動波形処理
装置13は制御装置11に対して露光指令を送出するこ
とにより、制御装置11は当該露光指令に基づいて図3
(D)に示す露光信号S4を露光装置部(不図示)に送
出し、露光動作を実行する。
光が行われず、続く時点t2´及びt4´において振動
センサ22からの出力が0になつたとき、振動波形処理
装置13は制御装置11に対して露光指令を送出するこ
とにより、制御装置11は当該露光指令に基づいて図3
(D)に示す露光信号S4を露光装置部(不図示)に送
出し、露光動作を実行する。
【0028】このようにウエハステージ1が目標とする
露光領域内に追い込まれても、振動センサ21及び22
の出力が0になるまで露光動作を停止するような制御を
することにより、露光時における横シフト又は回転誤差
の発生を未然に防止することができる。
露光領域内に追い込まれても、振動センサ21及び22
の出力が0になるまで露光動作を停止するような制御を
することにより、露光時における横シフト又は回転誤差
の発生を未然に防止することができる。
【0029】以上の構成によれば、振動センサ21及び
22からの振動情報に基づいて露光を制御するようにし
たことにより、露光不良を未然に防止することができ
る。
22からの振動情報に基づいて露光を制御するようにし
たことにより、露光不良を未然に防止することができ
る。
【0030】なお上述の実施例においては、振動が止ま
るまで露光を停止する場合について述べたが、本発明は
これに限らず、振動センサ21及び22の振動量から横
シフト及び回転量を予測し、当該予測結果に基づいて直
接レチクル支持部材4及びウエハステージ1を駆動制御
するようにしても良い。このようにすれば、振動が止ま
るまでの待ち時間によるスループツトの低下を防ぐこと
ができる。
るまで露光を停止する場合について述べたが、本発明は
これに限らず、振動センサ21及び22の振動量から横
シフト及び回転量を予測し、当該予測結果に基づいて直
接レチクル支持部材4及びウエハステージ1を駆動制御
するようにしても良い。このようにすれば、振動が止ま
るまでの待ち時間によるスループツトの低下を防ぐこと
ができる。
【0031】また上述の実施例においては、ウエハステ
ージ1のステツピングによつてレチクル5が振動する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、投影露光
装置の一点を中心に回転するような系においても振動セ
ンサ21及び22の情報を解析してレチクル5及びウエ
ハ2の相対位置を保持し得る条件を導くようにすれば良
い。
ージ1のステツピングによつてレチクル5が振動する場
合について述べたが、本発明はこれに限らず、投影露光
装置の一点を中心に回転するような系においても振動セ
ンサ21及び22の情報を解析してレチクル5及びウエ
ハ2の相対位置を保持し得る条件を導くようにすれば良
い。
【0032】また上述の実施例においては、振動センサ
22を1カ所に取り付けた場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、振動センサ22を数カ所に取り付け
て回転成分を測定するようにしても良い。
22を1カ所に取り付けた場合について述べたが、本発
明はこれに限らず、振動センサ22を数カ所に取り付け
て回転成分を測定するようにしても良い。
【0033】また振動を検出するに際しては、干渉計2
4からの位置情報に基づくレチクル5の位置のサーボ制
御を停止しておくことが望ましく、この場合にはウエハ
ステージ1の移動に伴う振動のみを精度良く検出するこ
とができる。なお投影光学系としては屈折系、反射系、
それらを組み合わせた系のいずれでも良い。
4からの位置情報に基づくレチクル5の位置のサーボ制
御を停止しておくことが望ましく、この場合にはウエハ
ステージ1の移動に伴う振動のみを精度良く検出するこ
とができる。なお投影光学系としては屈折系、反射系、
それらを組み合わせた系のいずれでも良い。
【0034】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、振動検出
手段からの振動情報に基づいて露光を制御するようにし
たことにより、フオトマスク(レチクル)及び感光基板
(ウエハ)の相対関係が保持されている状態で露光を行
なうようにすることができる。かくして装置全体の振動
による横シフト及び回転誤差を生じない投影露光装置を
実現できる。
手段からの振動情報に基づいて露光を制御するようにし
たことにより、フオトマスク(レチクル)及び感光基板
(ウエハ)の相対関係が保持されている状態で露光を行
なうようにすることができる。かくして装置全体の振動
による横シフト及び回転誤差を生じない投影露光装置を
実現できる。
【図1】本発明による投影露光装置の一実施例を示す全
体構成図である。
体構成図である。
【図2】レチクル及びウエハの平衡状態が保持されてい
る場合の露光動作を示す信号波形図である。
る場合の露光動作を示す信号波形図である。
【図3】レチクル及びウエハの平衡状態が保持されてい
ない場合の露光動作を示す信号波形図である。
ない場合の露光動作を示す信号波形図である。
【図4】従来の投影露光装置を示す全体構成図である。
1……ウエハステージ、2……ウエハ、3……投影レン
ズ、4……レチクル支持部材、5……レチクル、11…
…制御装置、13……振動波形処理装置、14……レチ
クルホルダ、21、22……振動センサ。
ズ、4……レチクル支持部材、5……レチクル、11…
…制御装置、13……振動波形処理装置、14……レチ
クルホルダ、21、22……振動センサ。
Claims (1)
- 【請求項1】フオトマスク上のパターンを投影光学系を
介して感光基板上に露光する投影露光装置において、 上記フオトマスクを支持する支持部材の近傍に上記フオ
トマスク付近の振動を検出する振動検出手段を具え、 露光時において、上記振動検出手段からの検出結果に基
づいて上記フオトマスクの駆動手段及び又は上記感光基
板の駆動手段及び露光手段を制御するようにしたことを
特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (2)
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---|---|---|---|
JP3326342A JPH05136023A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | 投影露光装置 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3326342A JPH05136023A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | 投影露光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05136023A true JPH05136023A (ja) | 1993-06-01 |
Family
ID=18186716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3326342A Pending JPH05136023A (ja) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | 投影露光装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5539497A (ja) |
JP (1) | JPH05136023A (ja) |
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US7543371B2 (en) * | 2004-06-23 | 2009-06-09 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Apparatus for a disk drive actuator pivot set height tooling with an active servo compensation |
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1991
- 1991-11-14 JP JP3326342A patent/JPH05136023A/ja active Pending
-
1995
- 1995-05-05 US US08/435,534 patent/US5539497A/en not_active Expired - Lifetime
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---|---|
US5539497A (en) | 1996-07-23 |
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