KR960700093A - 안정한 자동석출 배스를 유지시키기 위한 장치(apparatus for maintaining a stable autodeposition bath) - Google Patents

안정한 자동석출 배스를 유지시키기 위한 장치(apparatus for maintaining a stable autodeposition bath) Download PDF

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Abstract

본 발명은 화학적 배스로부터 금속이온 및 오염물을 최소한 주기적으로 제거하기 위한 자동 시스템에 관한 것으로 이 시스템은 화학적 배스의 처리 사이클에 대한 준비에 있어서, 제1사전결정된 양의 화학적 배스를 제1탱크로부터 이온교환 컬럼을 통해 다시 제1펌프로 순환시키는 제1조작 상태; 이 곳으로 부터의 잔류 화학적 배스를 다시 제1탱크로 되돌리기 위해 탈이온수를 제2탱크로부터 IEX 컬럼안으로 순환시키는 제2조작 상태; 탈이온수를 IEX컬럼을 통해 순환시키고, 헹굼수를 폐기 포트로부터 배출시키는 제3조작 상태; 재생된 산을 이온교환 컬럼을 통해 순환시키고, 사용된 산을 폐기 포트로부터 배출시키는 제4조작상태; 이곳으로 부터의 산 재생물을 헹구고 폐기 포트 밖으로 배출시키기 위해 탈이온수를 IEX컬럼을 통해 순환시키는 제5조작상태; 이 곳으로부터의 잔류 헹굼수를 대체시키고, 폐기 포트 밖으로 배출시키기 위해 화학적 배스를 IEX컬럼안으로 순환시키는 제6조작 상태를 위하여, 펌프 및 밸브의 유체 회로를 제어하기 위해 프로그램된 마이크로공정기로 이루어진다.

Description

안정한 자동석출 배스를 유지시키기 위한 장치(APPARATUS FOR MAINTAINING A STABLE AUTODEPOSITION BATH)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (62)

  1. 화학적 배스를 함유한 제1탱크; 상기 화학적 배스로부터 금속이온 오염물을 제거하기 위한 이온교환 물질을 함유한 이온교환(IEX)컬럼; 화학적 배스를 상기 제1탱크로부터 끌어내어, 상기 IEX 컬럼을 통해 이송시켜서, 처리된 화학적 배스를 상기 IEX 컬럼으로부터 상기 제1탱크로 다시 되돌리기 위한 제1제어신호에 응답되는 제1순환 수단; 상기 화학적 배스의 전도도를 나타내는 제1전도 신호를 제공하기 위한, 상기 제1탱크중의 상기 화학적 배스중에 위치되는 제1전도도 측정 수단; 처리된 화학적 배스의 전도도를 나타내는 제2전도도 신호를 제공하기 위한, IEX 컬럼중의 처리로부터 상기 제1탱크로 되돌려지는 상기 화학적 배스중에 침지되는 제2전도도 측정 수단; 및 상기 제1제어 신호를 발생시키며, 그리고 상기 화학적 배스의 결과로서 생기는 순환동안에, 상기 제1제어 신호를 상기 제1순환 수단으로 턴오프되도록 종결시키기 위한, 사전 결정된 최소 수준으로 감소되는 제1 및 제2전도도 신호사이의 차이를 탐지하기 위해 제1조작 상태로 프로그램되는 제1제어 수단을 포함함을 특징으로 하는, 화학적 배스로부터 금속 이온 및 오염물을 최소한 주기적으로 제거하기 위한 자동 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 탈이온수(DI수)를 함유한 제2탱크; 잔류 화학적 배스를 대체시키고, 이 대체된 화학적 배스를 상기 제1탱크로 되돌리기 위한, 사전결정된 양의 DI수를 상기 IEX 컬럼안으로 펌핑시키기 위해 제2제어신호에 응답되는 제2순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제2제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제1상태 후속의 제2조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  3. 제2항에 있어서, 처리를 위해 페기물을 상기 시스템으로부터 배출시키기 위한 폐기 포트; IEX 컬럼을 헹구기 위해 한쪽 방향으로 DI수를 제2탱크로부터 상기 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 이곳으로 부터의 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제3제어신호에 응답되는 제3순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제3제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제2상태 후속의 제3조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  4. 제3항에 있어서, 화학적 재생물을 함유한 제3탱크; 화학적 재생물을 상기 제3탱크로부터 상기 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 화학적 재생물을 상기 폐기 포트로부터 배출시키며, 이로 인하여 똑같은 것을 재생시키기 위해 금속 이온을 상기 이온교환 컬럼으로부터 제거하기 위한, 제4제어신호에 응답되는 제4순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제4제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제3상태 후속의 제4조작 상태로 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  5. 제4항에 있어서, 상기 폐기 포트를 통해 배출되는 유체의 전도도를 나타내는 제3전도도 신호를 발생시키기 위한, 상기 폐기 포트내에 위치되는 제3전도도 수단; 및 제3제어신호를 제2헹굼 사이클이 상기 IEX 컬럼에 대해 개시되도록 발생시키고, 상기 제3제어신호를 종결시키기 위한, 사전결정된 값으로 감소되는 상기 제3전도도 신호를 탐지하기 위해 상기 제4상태 후속의 제5조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  6. 제4항에 있어서, 잔류 화학적 재생물을 IEX 컬럼으로부터 제거하기 위해 DI수를 사용하여 한쪽 방향으로 상기 IEX 컬럼을 헹구기 위해 필요한 최소한의 사전결정된 시간 기간동안 상기 제3제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제4상태 후속의 제5조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  7. 제6항에 있어서, 실질적으로 모든 외부 입자들이 IEX컬럼으로부터 제거됨을 보증하기 위해 DI수를 상기 제2탱크로부터 상기 IEX 컬럼을 통해 반대쪽 방향으로 펌핑시키기 위한, 제5제어신호에 응답되는 제5순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제5제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제5상태 후속의 제6조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 화학적 배스는 자동석출 방법중의 사용을 위한 라텍스 기저 코팅 조성물로 이루어 짐을 특징으로 하는 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 제2순환 수단은 실질적으로 IEX컬럼의 막힘을 줄이기 위해 상기 화학적 배스로부터 고체 입자를 제거하기 위한, 상기 제1탱크와 상기 IEX컬럼의 유입구 사이의 제1필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 상기 제1순환 수단은 이온교환 물질 및 다른 고체 입자가 상기 제1탱크로 되돌려지기 전에 이것을 처리된 상기 화학적 배스로부터 제거시키기 위한, 상기 IEX컬럼의출구와 상기 제1탱크 사이의 제2필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  11. 제3항에 있어서, 신선한 화학적 재생물을 함유한 제3탱크; 한번 사용된 화학적 재생물을 함유한 제4탱크; 사전결정된 양의 한번 사용된 화학적 재생물을 상기 제4탱크로부터 상기 IEX컬럼을 통해 핌핑시키고, 이곳으로부터 배출된 재생물을 상기 폐기 포트로부터 배출시키며, 이로 인하여 최소한 부분적으로 상기 이온교환 물질을 재생시키기 위한 제4제어신호에 응답되는 제4순환 수단; 신선한 화학적 재생물을 상기 제3탱크로부터 상기 IEX컬럼을 통해 펌핑시키고, 한번 사용된 화학적 재생물을 상기 폐기 포트로부터 배출시키기위한, 제5제어신호에 응답되는 제5순환 수단; 한번 사용된 화학적 재생물을 이곳으로부터 상기 제4탱크안으로 옮겨놓기 위해 DI수를 상기 제2탱크로부터 상기 IEX컬럼안으로 상기 한쪽방향으로 펌핑시키기 위한, 제6제어신호에 응답되는 제6순환수단; 필요한 시간 기간동안에 상기 제4제어신호를 발생시키기 위한 상기 제4조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단; 상기 이온교환 물질의 재생을 완결시키기 위해 필요한 시간 기간동안에 상기 제5제어신호를 발생시키기 위한 제5조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어수단; 사전결정된 양의 한번 사용된 재생된 화학제품을 상기 제4탱크안에 채우거나 이송시키기 위해 필요한 시간 기간동안에 상기 제6제어신호를 발생시키기 위한 제6조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어수단; 및 사전결정된 양의 DI수를 사용하여 상기 한쪽 방향으로 상기 IEX컬럼을 헹구기 위해 필요한 시간 기간동안에 상기 제3제어신호를 발생시키기 위한 제7조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  12. 제11항에 있어서, 실질적으로 모든 외부 입자들이 IEX컬럼으로부터 제거됨을 보증하기 위해 DI수를 상기 제2탱크로부터 상기 IEX컬럼을 통해 반대쪽 방향으로 펌핑시키고, 이곳으로부터 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제7제어신호에 응답되는 제7순환 수단; 및 잔류 화학적 재생물을 실질적으로 제거하기 위해 충분한 DI수를 상기 IEX컬럼을 통해 상기 반대 방향으로 이송시키기 위해 필요한 시간 기간동안에 상기 제7제어신호를 발생시키기 위한 제8조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하느 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제4탱크중의 한번 사용된 재생 화학제품의 수준을 나타내는 신호를 발생시키기 위한, 상기 제4탱크중의 제1수준 탐지 수단; 및 한번 사용된 화학적 재생물의 수준이 사전결정된 최저 수준으로 감소될때 상기 제4제어신호를 종결시키고, 상기 제4조작 상태를 개시시키기 위해, 상기 제1수준 탐지 수단으로부터 상기 신호에 응답하기 위한, 상기 제4조작 상태로 추가로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  14. 제13항에 있어서, 상기 제3탱크중의 상기 신선한 화학적 재생물의 수준을 나타내는 신호를 발생시키기 위한 상기 제3탱크중의 제2수준 탐지 수단; 및 사전결정된 최초 수준으로 감소되는 상기 제3탱크중의 신선한 재생 화학제품의 수준을 나타내는 상기 제2수준 탐지 수단으로부터 상기 수준신호로 응답되는, 상기 제5제어신호의 발생을 종결시키거나 억제시키기 위한 상기 제5조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  15. 제14항에 있어서, 신선한 화학적 재생물을 이것의 공급원으로부터 상기 제3탱크안으로 펌핑시키기 위한 제1펌프 제어신호에 응답되는 제1펌핑 수단; 및 상기 사전결정된 최저 수준으로 감소되는 상기 제3탱크중의 신선한 재생 화학제품의 수준을 나타내는 상기 제2수준 탐지 수단으로부터 상기 수준 신호로 응답되는 상기 제1펌프 제어신호를 상기 제1펌핑 수단으로 적용시키고, 사전결정된 최대 수준으로 증가되는 상기 제3탱크중의 신선한 재생 화학제품의 수준을 나타내는 상기 제2수준 탐지 수단으로부터 수준 신호에 응답되는 상기 제1펌프 제어신호를 종결시키기 위해 추가로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  16. 제10항에 있어서, 상기 제1필터에 걸리는 압력이 사전결정된 값을 초과할때 제1막힘 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1필터 수단의 유입구 및 출구에 교차되어 연결된 제1압력 탐지 수단; 및 상기 조작 상태가 완결된 후, 상기 제1필터가 대체될 때까지 상기 시스템의 추가의 조작을 억제시킴으로 인하여 상기 제1막힘 신호에 응답되도록 추가로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  17. 제16항에 있어서, 상기 제2필터 수단의 출구 압력이 사전결정된 최저값으로 감소될때 제2막힘 신호를 발생시키기 위한, 상기 제2필터 수단이 출구에 연결되는 제2압력 탐지 수단; 및 제1조작 상태를 연결시킨 후, 상기 제1필터가 대체될때까지 상기 시스템이 추가의 조작을 억제시킴으로 인하여 상기 제2막힘 신호에 응답되도록 추가로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  18. 제2항에 있어서, 사전결정된 최저 및 최고 수준을 별도로 나타내는 DI수 액체 수준 신호를 발생시키기 위한 상기 제2탱크중에 설치된 수준 탐지 수단; DI수가 상기 제2탱크안으로 흐르도록 턴온시키기 위한 밸브조작 신호에 응답되는 DI수의 가압 공급원 및 상기 제2탱크 사이에 연결된 자동 밸브 수단; 및 상기 밸브 조작 신호를 발생시키기 위해 최저 수준의 DI수 수준 신호에 응답되고, 계속해서 상기 밸브 조작 신호를 종결시키기 위해 최대 수준의 DI수를 수준 신호에 응답되도록 추가로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  19. 제1항에 있어서, 상기 이온교환 물질은 아미노디아세테이트 이온교환 수지로 이루어짐을 특징으로 하는 시스템.
  20. 제5항에 있어서, 잔류 DI수를 IEX컬럼으로부터 대체시키고, 이것을 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 사전결정된 양의 상기 화학적 배스를 상기 제1탱크로부터 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키기 위해 제5제어신호에 응답되는 제5순환 수단; 및 상기 제1조작 상태를 준비하는데 필요한 시간 기간동안에 상기 제5제어신호를 발생시키기위한 상기 제5상태 후속의 제6조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  21. 제7항에 있어서, 잔류 DI수를 IEX컬럼으로부터 대체시키고, 이것을 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 사전결정된 양의 상기 화학적 배스를 상기 제1탱크로부터 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키기 위해 제6제어신호에 응답되는 제6순환 수단; 및 상기 제1조작 상태를 준비하는 데 필요한 시간 기간동안에 상기 제6제어신호를 발생시키기 위한 상기 제6상태 후속의 제7조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  22. 제12항에 있어서, 잔류 DI수를 IEX컬럼으로부터 대체시키고, 이것을 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 사전결정된 양의 상기 화학적 배스를 상기 제1탱크로부터 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키기 위해 제8제어신호에 응답되는 제8순환 수단; 및 상기 제1조작 상태를 준비하는 데 필요한 시간 기간동안에 상기 제8제어신호를 발생시키기 위한 상기 제8상태 후속의 제9조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  23. 탈이온수(DI수)를 함유한 제1탱크; 화학적 재생물을 함유한 제2탱크; 상기 화학적 배스를 함유한 제3탱크; 이곳을 통해 이송되는 상기 화학적 배스로부터 금속이온 오염물을 제거하기 위한 이온교환 수지를 함유한 이온교환(IEX)컬럼; 처리를 위해 상기 시스템으로부터 페기물을 배출시키기 위한 폐기 포트; 제1펌프 제어신호에 의해 에너자이즈될 수 있는 제1펌프 수단; 제2펌프 제어신호에 의해 에너자이즈될 수 있는 제2펌프 수단; 상기 제3탱크와 상기 폐기 포트 사이의, 상기제1펌프 수단 및 상기 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제1밸브 수단; 상기 제3탱크로부터 상기 제3탱크로 되돌아가는, 상기 제1펌프 수단 및 상기 IEX컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제2밸브 수단; 상기 제1탱크 및 상기 제3탱크 사이의, 상기 제2펌프수단 및 상기 IEX컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제3밸브 수단; DI수에 대한 유체 경로를 상기 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 흐르도록 하기 위한 상기 제1탱크 및 상기 폐기 포트 사이의, 상기 제2펌프 수단 및 상기 IEX컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제4밸브 수단; 상기 제2탱크 및 상기 IEX컬럼 사이의, 상기 제2펌프 수단 및 상기 IEX컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제5밸브 수단; 및 하기를 포함하는 연속적인 조작 상태에 대해 자동 방법 제어시퀸스를 제공하도록 프로그램되어 있는 제어수단을 포함함을 특징으로 하는, 화학적 배스로부터 금속이온 및 오염물이 최소한 주기적으로 제거되는, 화학적 배스의 안정화를 제공하기 위한 자동화된 시스템; 상기 제1밸브 수단을 열기 위하여 조작 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단; 및 사전 결정된 양의 상기 화학적 배스를 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키고, 이곳으로부터 과량의 DI수를 대체시키며, 그리고 과량의 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한 상기 제1펌프 수단에 대해 상기 제1펌프 제어신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그램된 잔류 DI수를 상기 IEX컬럼으로부터 제거하여, 제거된 DI 수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한 제1상태; 및 상기 제2밸브 수단을 열기 위해 조작 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단; 및 사전결정된 양의 상기 화학적 배스를 처리하기 위해 상기 IEX 컬럼을 통해 핌핑시키고, 다시 상기 제3탱크로 돌려보내기 위한 상기 제1펌프 수단에 대해 상기 제1펌프제어 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그램 되어 있는, 상기 화학적 배스로부터 금속이온을 제거하기 위한, 상기 화학적 배스를 상기 IEX컬럼을 통해 공급하기 위한 제2상태.
  24. 제23항에 있어서, 상기 제3밸브 수단을 열기 위해 조작 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단; 및 사전 결정된 양의 DI수를 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키고, 잔류 화학적 배스를 대체시키며, 이것을 상기 제3탱크로 되돌리기 위한 상기 제2펌프 수단에 대해 상기 제2펌프 제어신호를 발생 및 적용시키기위한 수단을 포함하도록 프로그램 된 잔류 화학적 배스를 상기 IEX컬럼으로부터 제거하여, 이 잔류 화학적 배스를 상기 제3탱크로 되돌리기 위한, 제3상태를 위해 프로그램되어 있는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  25. 상기 제4밸브 수단을 열기 위해 조작 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단; 및 사전결정된 양이 화학적 재생물을 상기 IEX컬럼을 통해 상기 폐기 포트로 펌핑시키기 위한 상기 제2펌프 수단에 대해 상기 제2펌프제어신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그램 되어 있는, 상기 IEX컬럼중의 수지재료를 재생시키기 위하여, 상기 IEX컬럼을 상기 화학적 재생물로 플러싱하기 위한 제5상태를 위해 프로그램된 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  26. 상기 제4밸브 수단을 열기 위해 조작 신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단; 및 사전결정된 양이 DI수를 상기 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 펌핑시키기위한 상기 제2펌프 수단 및 상기 폐기 포트에 대해 상기 제2펌프 제어신호를 발생 및 적용시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그램되어 있는 상기 제5조작 상태의 완결후에 DI수를 사용하여 상기 IEX컬럼을 2번 헹구기 위한 제6상태에 대하여 프로그램된 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  27. 제26항에 있어서, 실질적으로는 모든 외부 입자가 상기 IEX 컬럼으로부터 제거되는 것을 보증하기 위하여, DI수에 대한 유체 경로가 상기 IEX 컬럼을 통해 상기 한쪽 방향에 관련하여 반대 방향으로 흐르도록 하기 위한, 상기 제1탱크 및 상기 폐기 포트 사이의 상기 제2펌프 수단 및 상기 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제6밸브 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  28. 제26항에 있어서, 상기 화학적 배스가 상기 IEX 컬럼안으로 이송되기 전에 여과시키기 위한, 상기 제1밸브 수단 및 제2밸브 수단을 별도로 포함하는 유체 회로와 순차적으로 연결되어 있는 상기 제3탱크와 상기 IEX 컬럼사이의 제1필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  29. 제28항에 있어서, 상기 화학적 배스를 상기 IEX 컬럼을 통해 처리한 후, 및 상기 제3탱크로 되돌리기 전에 여과시키기 위한, 상기 제1밸브 수단을 포함하는 유체 회로와 순차적으로 연결되어 있는 상기 제3탱크와 상기 IEX 컬럼 사이의 제2필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  30. 제29항에 있어서, 상기 제1 및 제2필터의 조작 조건을 별도로 나타내는 각각의 압력 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1 및 제2필터에 별도로 연결되어 있는 제1 및 제2압력 탐지 수단; 상기 제1필터에 걸친 압력 차이가 사전 결정된 규모 이상으로 증가되면 제1막힘 신호를 발생시키고, 상기 제2필터에서의 출구 압력이 사전 결정된 규모 이하로 감소되면 제2막힘 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1 및 제2압력 탐지 수단으로부터 상기 압력 신호에 응답되는 상기 제어수단; 상기 제1 및 제2필터의 막힘을 별도로 나타내는 별개의 경보를 발생시키기 위한, 상기 제1 및 제2막힘 신호에 응답되는 경보 수단; 및 진행될 수 있는 상기 제1 및 제2조작 상태를 완결시킨 후, 상기 제1 및 제2필터 둘다가 조작될 때까지 상기 시스템의 추가의 조작을 억제시키기 위한, 상기 압력 신호에 추가로 응답되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  31. 제29항에 있어서, 만약 상기 압력 수단에 걸친 압력 차이가 사전 결정된 값 이상으로 증가된다면 제1압력 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1필터 수단을 거쳐 연결되어 있는 제1탐지 수단; 제1경보 신호를 발생시키고, 상기 제1 또는 제2상태의 조작을 완결시키기 위한, 만약 둘 중 어느하나가 조작된다면, 상이한 압력 문제가 바로잡힐 때까지 조작의 추가의 상태를 억제시키기 위한, 상기 제1압력 신호에 응답되는 상기 제어수단; 및 조작자가 올바른 작동을 할 필요가 있음을 경계시키기 위해 압력 문제를 나타내는 경보를 발생시키기 위한, 상기 제1경보 신호에 응답되는 제1경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  32. 제31항에 있어서, 만약 출구 압력이 사전결정된 규모 이하로 감소된다면 제2압력 신호를 발생시키기 위한, 상기 제2필터에 연결되어 있는 제2압력 탐지 수단; 제2경보 신호를 발생시키고, 상기 제1 또는 제2상태의 조작을 완결시키기 위한, 만약 둘 중 어느하나가 조작된다면, 적당한 압력이 회복될때까지 조작의 추가의 상태를 억제시키기 위한, 상기 제2압력 신호에 응답되는 상기 제어수단; 및 출구 압력중의 바람직하지 못한 감소를 나타내는 경보를 발생시키기 위한, 상기 제2경보 신호에 응답되는 제2경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  33. 제26항에 있어서 ,상기 제1펌프 수단의 각각의 스트로크를 나타내는 제1스트로크 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1펌프 수단에 연결되어 있는 제1스트로크 수단; 및 상기 제1펌프에 의해 시간 기간동안에 펌핑되는 상기 화학적 배스의 양을 결정하기 위한, 상기 제1스토로크 신호를 카운팅하기 위해 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  34. 제33항에 있어서, 상기 제2펌프 수단의 각각의 스트로크를 나타내는 제2스트로크 신호를 발생시키기 위한, 상기 제2펌프 수단에 연결되어 있는 제2스트로크 수단; 및 DI수 또는 화학적 재생물을 펌핑시키는 상기 제2펌프에 의해 시간 기간동안에 펌핑되는 유체의 양을 결정하기 위한, 상기 제2스토로크 신호를 카운팅하기 위해 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  35. 제26항에 있어서, 최소한 하나의 상기 제1 내지 5밸브 수단의 고장 조작을 탐지하고, 이러한 고장 조작을 나타내는 경보 신호를 발생시키기 위한, 상기 제1 내지 5밸브 수단에 연결되어 있는 경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  36. 재35항에 있어서, 상기 경보 수단은 상기 제1 내지 5밸브 수단중에 포함된 각각의 고장난 밸브를 별도로 나타내는 별개의 경보 신호를 발생시키기 위한 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  37. 제35항에 있어서, 상기 제어수단은 기능불량이 고쳐진 후에까지 상기 시스템의 조작을 종결시키기위한, 상기 경보 신호에 응답되는 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  38. 언제 상기 코팅 조성물중의 금속 이온 농도가 사전결정된 수준까지 증가되는지를 결정하는 단계; 상기 코팅 조성물을 상기 제4탱크로부터 상기 IEX컬럼을 통해 처리후에, 제4탱크로 다시 순환시키는 단계; 충분한 양의 상기 코팅 조성물이 금속이온의 농도가 상기 제4탱크중의 상기 코팅 조성물중에서 수용될 수 있을 수준으로 감소되도록 금속 이온의 제거를 위해 언제 처리되는 지를 결정하는 단계; 그리고 상기 IEX컬럼을 통해 상기 코팅 조성물의 순환을 종결시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는, 탈이온수(DI)를 함유하기 위한 제1탱크, 재생된 화학제품을 함유하기 위한 제2탱크, 한번 사용된 재생된 화학제품을 함유하기 위한 제3탱크, 상기 코팅조성물을 함유하기 위한 제4탱크, 및 이온교환 물질을 함유하는 이온교환(IEX)컬럼을 함유하는 자동석출 시스템 중에 사용되는 코팅 조성물의 배스로부터 금속 이온 및 오염물을 제거하기 위한 방법.
  39. 제38항에 있어서, 상기 금속이온 농도 결정 단계는 상기 코팅 조성물의 적정 읽기를 수동으로 행하는 것으로 이루어짐을 특징으로 하는 방법.
  40. 제38항에 있어서, 충분한 양의 코팅 조성물이 언제 처리되는지를 결정하는 상기 단계는 제4탱크중에 남아있는 상기 코팅 조성물의 전도도를 측정하는 단계; 상기 IEX컬럼으로부터 상기 제4탱크로 되돌려지는 상기 코팅 조성물이 전도도를 측정하는 단계; 상기 제4탱크중의 코팅 조성물의 전도도와 상기 제4탱크로 되돌려지는 코팅 조성물 사이의 전도도 차이를 컴퓨팅하는 단계; 그리고 상기 종결 단계를 일으키기 위하여 상이한 수준을 확립시키는 단계를 포함함을 특징으로하는 방법.
  41. 제38항에 있어서, 상기 코팅 조성물이 응고된 부분의 상기 코팅 조성물, 및 다른 입자 재료의 제거를 위해 상기 IEX컬럼으로 들어가기 전에, 제1필터를 통해 이송되는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  42. 제41항에 있어서, 상기 코팅 조성물이 이온교환 물질의 입자 및 다른 입자들의 제거를 위해 상기 IEX컬럼을 빠져나온 후 그러나 상기 제4탱크로 되돌려지기 전에, 제2필터를 통해 이송되는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  43. 제42항에 있어서, 상기 제1필터가 언제 막히는지를 탐지하는 단계; 상기 제1필터가 막히게 될 때 경보를 발생시키는 단계; 그리고 상기 제1필터가 교체될 때까지, 상기 조성물의 처리를 완결시킨 후의 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  44. 제42항에 있어서, 상기 제2필터가 언제 막히는지를 탐지하는 단계; 상기 제2필터가 막히게 될 때 경보를 발생시키는 단계; 그리고 상기 제2필터가 교체될 때까지, 상기 조성물의 처리를 완결시킨 후의 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  45. 제42항에 있어서, 상기 제1 및 제2필터중의 하나 또는 둘다가 언제 막히는 지를 탐지하는 단계; 상기 제1 및 제2필터 각각이 막힘을 별도로 나타내는 경보를 발생시키는 단계; 그리고 상기 제1 및 2필터가 막히지 않을때까지, 상기 조성물의 처리를 완결시킨 후의 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  46. 제38항에 있어서, 상기 코팅 조성물의 처리를 완결시킨 후에 잔류 코팅 조성물을 IEX컬럼으로부터 대체시키기 위해 충분한 양의 상기 DI수를 상기 IEX컬럼안으로 순환시키는 단계, 그리고 대체된 코팅 조성물의 일부분을 상기 제4탱크안으로 이송시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  47. 제46항에 있어서, 액체의 상기 IEX컬럼으로부터 상기 제4탱크로의 어떠한 추가의 흐름도 막는 단계; DI수를 한쪽 방향으로 IEX컬럼을 통해 순환시키는 단계; DI수의 흐름을 폐기 포트 밖으로 배출시키기 위해 상기 IEX컬럼으로부터 배출시키는 단계; 그리고 IEX컬럼을 실질적으로 코팅 조성물이 없도록 헹군 후에 상기 IEX컬럼을 통한 DI수의 순환을 종결시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  48. 제47항에 있어서, 화학적 재생물을 상기 제2탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해서, 상기 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계; 상기 이온교환물질을 재생시키기 위하여 사전 결정된 양의 화학적 재생물을 상기 IEX컬럼을 통해 언제 이송시키는지를 탐지하는 단계; 그리고 상기 IEX컬럼을 통해 재생된 화학제품의 흐름을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  49. 제48항에 있어서, DI수를 상기 제1탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해 한쪽 방향으로, 상기 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계; 실질적으로 모든 외부 입자가 IEX컬럼으로부터 제거됨을 보증하기 위해 DI수를 상기 제1탱크로부터 상기 IEX컬럼을 통해 한쪽 방향으로, 상기 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계 ; 사전결정된양의 DI수가 IEX 컬럼을 헹구기 위해 상기 IEX 컬럼을 통해 언제 이송되는지를 탐지하는 단계;그리고 상기 IEX컬럼을 통한 DI수의 회전을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  50. 제47항에 있어서, 한번 사용된 화학적 재생물을 상기 제3탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해, 상기 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계; 사전 결정된 양의 한번 사용된 화학적 재생물이 상기 IEX컬럼을 통해 언제 이송되는지를 탐지하는 단계; 한번 사용된 화학적 재생물의 순환을 종결시키는 단계 ; 화학적 재생물을 상기 제2탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해, 상기 페기 포트 밖으로 순환시키는 단계 ; 한번 사용된 재생된 화학제품의 이전 흐름에 더하여 필요한, 사전결정된 양의 신선한 재생된 화학제품이 상기 IEX컬럼중의 상기 이온교환 물질을 실질적으로 재생시키기 위하여 상기 IEX컬럼을 통해 언제 이송되는지를 탐지하는 단계; DI수를 상기 제3탱크안으로 방출시키기 위하여 상기 제1탱크로부터 한번 사용된 재생된 화학제품을 대체시키기 위한 상기 IEX컬럼안으로 순환시키는 단계; 그리고 한번 사용된 재생된 화학제품의 흐름을 상기 IEX컬럼으로부터 이곳에서의 수준이 사전결정된 수준에 이르거나 사전결정된 양의 한번 사용된 재생된 화학제품이 이곳에서 방출될 때 상기 제3탱크로 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  51. 제50항에 있어서, DI수를 상기 제1탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해, 상기 배출 포트 밖으로 두 방향으로 순환시키는 단계; 사전결정된 양의 DI수가 재생된 화학제품 및 외부 입자 재료가 실질적으로 없도록 IEX컬럼을 헹구기 위해 상기 IEX컬럼을 통해 언제 이송되는지를 탐지하는 단계; 그리고 상기 IEX컬럼을 통한 DI수의 순환을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  52. 제49항에 있어서, 상기 IEX컬럼을 통한 상기 조성물의 순환을 개시시키는 단계에 앞서, IEX컬럼으로부터의 잔류 DI수를 대체시키기 위하여 사전 결정된 양의 상기 코팅 조성물을 상기 제4탱크로부터 상기 IEX컬럼안으로 순환시키는 단계; 그리고 대체된 DI수를 상기 배출 포트 밖으로 배출시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  53. 코팅 조성물을 함유한 제1탱크; IEX컬럼을 통해 이송된 상기 코팅 조성물로부터 금속 이온 오염물을 제거하기 위해 이온교환 물질을 함유한 이온교환(IEX)컬럼; 상기 IEX컬럼을 헹구기 위해 탈이온수(DI수)를 함유한 제2탱크; 처리를 위해 폐기물을 상기 시스템으로부터 배출시키기 위한 폐기 포트; 제1사전결정된 양의 코팅 조성물을 상기 제1탱크로부터 끌어내어, 이 코팅 조성물을 이곳에서의 잔류 DI수를 대체시키고 상기 폐기 포트로부터 배출되도록 순환시키기 위해 상기 IEX컬럼안으로 이송시키기 위한 제1제어신호에 응답되는 제1순환 수단; 추가의 코팅 조성물을 상기 제1탱크로부터 끌어내어 이것을 상기 IEX컬럼을 통해 순환시키고, 모든 그러나 잔류 부분의 코팅 조성물을 상기 IEX컬럼으로부터 상기 제1탱크로 되돌리기 위한 제2제어 신호에 응답되는 제2순환 수단; 및 요구된 시간 기간동안에 상기 제1신호를 발생시키기 위한 제1상태의 조작, 및 코팅 조성물의 상기 배스의 금속이온 농도를 사전결정된 농도로 감소시키기 위해 최소한 필요한 시간 기간동안에 상기 제2제어신호를 발생시키기 위한 제2상태의 조작으로 프로그램되는 제어수단을 포함함을 특징으로 하는 코팅 조성물 배스로부터 금속이온 및 오염물을 최소한 주기적으로 제거하기 위한 자동화된 자동석출 시스템.
  54. 제53항에 있어서, 상기 코팅 조성물의 전도도를 나타내는 제1전도도 신호를 제공하기 위한, 상기 제1탱크중의 상기 코팅 조성물 배스중에 위치되는 제1전도도 측정 수단; 처리된 코팅 조성물의 전도도를 나타내는 제2전도도 신호를 제공하기 위한 상기 IEX컬럼중의 처리물로부터 상기 제1탱크로 되돌려지는 코팅 조성물 중에 침지되는 제2전도도 측정 수단; 및 상기 제2순환 수단을 턴오프시키기 위해 상기 제2제어신호를 종결시키기 위한, 사전결정된 최소값으로 감소되는 상기 제1 및 제2전도도 신호 사이의 차이를 탐지하기 위해 제2상태의 조작으로 추가로 프로그램 되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  55. 제54항에 있어서, 잔류 코팅 조성물을 대체시키기 위해 사전결정된 양의 DI수를 상기 IEX컬럼안으로 펌핑시키고, 대체된 코팅 조성물을 상기 제1탱크로 되돌리기 위한, 제3제어신호에 응답되는 제3순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제3제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제2상태 후속의 제3상태 조작으로 프로그램 되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  56. 제55항에 있어서, IEX컬럼을 헹구기 위하여 DI수를 상기 제2탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해 한쪽 방향으로 펌핑시키고, 이곳으로부터의 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제4제어신호에 응답되는 제4순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제4제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제3상태 후속의 제4상태 조작으로 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  57. 제56항에 있어서, 화학적 재생물을 함유한 제3탱크; 화학적 재생물을 재생시키기위하여, 상기 제3탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해 펌핑시키고, 이 화학적 재생물을 상기 폐기 포트로부터 배출시킴으로 인하여, 상기 이온교환 물질로부터 금속이온을 제거하기 위한, 제5제어신호에 응답되는 제5순환 수단; 및 필요한 시간 기간동안에 상기 제5제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제4상태 후속의 제5조작 상태로 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  58. 제57항에 있어서, 상기 폐기 포트를 통해 배출되는 유체의 전도도를 나타내는 제3전도도 신호를 제공하기 위한, 상기 폐기 포트내에 위치되는 제3전도도 수단; 및 상기 IEX컬럼에 대한 제2헹굼을 개시시키기 위해 상기 제4제어신호를 발생시키고, 상기 제4제어신호를 종결시키기 위해 사전결정된 값으로 감소되는 제3전도도 신호를 탐지하기 위한, 상기 제5상태 후속의 제6조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  59. 제57항에 있어서, IEX컬럼으로부터 잔류 화학적 재생물을 제거시키기 위해 DI수를 사용하여 상기 IEX컬럼을 헹구기 위해 필요한 최소한의 사전결정된 시간 기간 동안에 상기 제4제어신호를 발생시키기 위한, 상기 제4상태 후속의 제6조작 상태로 프로그램되는 상기 제어수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  60. 제59항에 있어서, IEX컬럼으로부터 실질적으로 외부 입자가 제거되도록 IEX컬럼을 헹구기 위해 DI수를 상기 제2탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키고, 이곳으로부터 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제6제어신호에 응답되는 제6순환 수단; 상기 폐기 포트를 통해 배출되는 유체의 전도도를 나타내는 제3전도도 신호를 제공하기 위한, 상기 폐기 포트내에 위치되는 제3전도도 수단; 및 상기 IEX컬럼에 대해 제2헹굼 사이클을 개시시키도록 사전결정된 시간 기간동안에 상기 제4제어신호를 발생시키고, 연속되는 제2헹굼 사이클에 대해 상기 제6제어신호를 발생시키며, 동시에 상기 제6제어신호를 종결시키기 위해 사전 결정된 값으로 감소되는 상기 제3전도도 신호를 탐지하기 위한, 상기 제6상태 후속의 제7조작 상태로 프로그램 되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동 석출 시스템.
  61. 제57항에 있어서, 실질적으로 외부 입자가 제거되도록 IEX컬럼을 헹구기 위해 DI수를 상기 제2탱크로부터, 상기 IEX컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키고, 이곳으로부터 DI수를 상기 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제6제어신호에 응답되는 제6순환수단; 및 사전 결정된 시간 기간동안에 상기 제4제어신호를 발생시키고, 그 후에 상기 IEX컬럼으로부터 화학적 재생물의 헹굼을 완결시키도록 사전결정된 시간 기간동안에 상기 제6제어신호를 발생시키는 상기 제4제어신호를 종결시키기 위한, 상기 제5상태 후속의 제6조작 상태로 프로그램되는 상기 제어 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  62. 제53항에 있어서, 상기 코팅 조성물은 라텍스 기저 코팅 조성물로 이루어짐을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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