KR100330655B1 - 안정한자동석출배스를보유하는장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 화학적 배스로부터 금속이온 및 오염물을 최소한 주기적으로 제거하기 위한 자동 시스템에 관한 것으로, 이 시스템은 화학적 배스의 처리 사이클에 대한 준비에 있어서, 제 1 사전결정된 양의 화학적 배스를 제 1 탱크로부터 이온교환 컬럼을 통해 다시 제 1 펌프로 순환시키는 제 1 조작 상태; 이곳으로부터의 잔류 화학적 배스를 다시 제 1 탱크로 되돌리기 위해 탈이온수를 제 2 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 순환시키는 제 2 조작 상태; 탈이온수를 IEX 컬럼을 통해 순환시키고, 헹굼수를 폐기 포트로부터 배출시키는 제 3 조작 상태; 재생된 산을 이온교환 컬럼을 통해 순환시키고, 사용된 산을 폐기 포트로부터 배출시키는 제 4 조작 상태; 이곳으로부터의 산 재생물을 헹구고 폐기 포트 밖으로 배출시키기 위해 탈이온수를 IEX 컬럼을 통해 순환시키는 제 5 조작 상태; 및 이곳으로부터의 잔류 헹굼수를 대체시키고, 폐기 포트 밖으로 배출시키기 위해 화학적 배스를 IEX 컬럼안으로 순환시키는 제 6 조작 상태를 위하여, 펌프 및 밸브의 유체 회로를 제어하기 위해 프로그램된 마이크로공정기로 이루어진다.

Description

안정한 자동석출 배스를 보유하는 장치
배경
1.0 발명의 분야
본 발명은 일반적으로 금속 이온들이 시간이 지남에 따라 생성되어 주기적으로 제거되어져야만 하는 화학적 배스에 관한 것이다. 더욱 구체적으로는 페인트 도료로 강철을 포함한 재료들을 화학반응에 의해 코팅하도록 제공된 시스템에 관한 것으로, 이러한 시스템에서 자동석출 조성물 배스는 조작이 진행됨에 따라 축적되는 용해되고/되거나 분산된 다가 금속 이온들이 주기적으로 제거됨으로써 안정화된다.
2.0 관련 기술의 설명
자동영동법 및 전기영동법은 특히 금속재료로 제조된 물체들을 코팅 조성물로 코팅하는 두가지 공지방법들이다. 전기영동 효과는 전기장을 사용하며 전형적으로 2-전극 시스템의 한 전극으로써 작용하는 제조공정소재로의 하전된 유기분자들 이동을 조절함으로써 전기석출을 제공한다. 전기적 흐름의 크기 및 적용시간은 제조공정소재가 바람직한 두께로 코팅되도록 제어된다. 자동영동 효과는 불안정화의 조절 및 고분자량의 음성적 또는 중성적으로 하전된 라텍스 폴리머 입자들의, 예컨대, 제조공정소재로의 석출 조절로 자동석출 코팅 프로세스가 수행되도록 하는데, 이 때 소재는 코팅 조성물의 음성 또는 중성 전하를 띈 입자들을 끌어당기도록 소재의 표면에서 양성 전하를 띈 이온들을 생성하도록 화학적으로 처리된 금속표면을 지닌다. 코팅되는 부분들은 전형적으로 원하는 코팅 조성물을 함유하는 코팅 배스에 침지된다. 철, 강철, 아연도금으로 코팅된 금속 등의 제조공정소재들은, 적어도 소재의 외부표면의 주위에, 자동석출 코팅 프로세스에 의해 전형적으로 코팅되어질 수 있다.
자동석출 코팅 프로세스를 수행하는 시스템에 있어서 문제점은 시간이 지날수록 2가 이상을 갖는 금속 이온(다가 이온)들이 배스 또는 자동석출 조성물안으로 용해 및/또는 분산되어, 자동석출 코팅 프로세스의 효과성을 점진적으로 감소시킨다는 것이다. 자동석출 조성물중의 금속 이온 농도가 증가함에 따라 소재상에 이루어지는 코팅의 질은 자동석출 코팅 프로세스가 계속해서 이루어지도록 코팅 조성물 또는 자동석출 배스가 배출되어져야만 하거나 또는 배스의 일부분을 제거하고 새로운 오염되지 않은 코팅 조성물을 첨가해야하는 수준까지 낮아진다. 당해 기술분야에 있어서, 코팅 조성물 배스의 더 경제적인 사용을 제공하고, 그것과 관련하여 모든 환경적인 위해성과 관련된 오염된 배스의 처분 필요성을 없애도록, 금속 이온을 자동석출 배스 또는 코팅 조성물로부터 주기적으로 제거하기 위한 시도가 이루어져 왔다.
1974일 10월 1일자로 발행된, 홀 등(Hall et al)의 미국 특허 제 3,839,097호는 이온교환수지와 같은, 이온교환물질을 사용함으로써 금속 이온들을 제거하여 산성의 수성 코팅 조성물을 안정화시키는 것에 관하여 교시한다. 이온교환 물질은 이것의 이온교환 용량이 회복되도록 주기적으로 재생된다. 이온교환 물질에서 이러한 재생을 달성시키기 위하여, 이온교환 물질 내의 금속 이온들은 제거되고, 코팅 조성물로부터 제거되어질 금속 이온들에 의해 치환되어질 수 있는 양이온들로 대체된다. 하나의 실시예에 있어서, 컬럼내 잔류 코팅 조성물을 재생이용하기 위하여 이온교환 물질 비이드로 충진된 이온교환 컬럼을 먼저 물로 세척한다. 그 후 탈염수를 컬럼에 부어서 깨끗하게 세척한다. 주어진 실시예에 있어서, 이온교환 물질 비이드는 그 다음에 강산 수용액을 가지고 재생시키는데, 이러한 적용에 있어서 이온교환물질은 치환가능한 수소이온을 포함한다. 비록 코팅 조성물 배스를 안정시키기 위한 프로세스 및 이온교환 컬럼중의 이온교환 물질 비이트로부터 금속 이온을 제거한 후 이온교환수지를 재생시키기 위한 추가의 프로세스가 참고문헌중에 교시되어 있을지라도, 프로세스를 수행하기 위한 어떠한 시스템도 개시되거나 설명되어져 있지 않다 [Hall et al., U.S. Patent No. 3,839,097]. 이것을 적용할 목적으로, 홀 등(Hall et al)의 미국 특허 제1도로 참고자료로서 수록한다.
1991년 4월 17일자로 공개된 캐나다 특허 제 2,017,026호, "전해석출 배스의 처리를 위한 방법"에는 탱크(10)증에 함유된 전해석출 배스의 일부분이 연속적이거나 간헐적으로 제거되고, 제거된 부분이 한외여과지(16)를 통과시키는 방법이 교시되어 있다. 여과된 수지, 안료 및 다른 고분자량의 구성분들은 배스로 되돌려진다. 한외여과물만이 이온교환 컬럼(22)을 통과하면 철 및 다른 물질들이 한외여과물로부터 제거된다. 이온교환 컬럼(22)으로부터 나온 여과물은 전해석출 배스로 되돌려지고, 폐기물은 이온교환 컬럼(22)으로부터 제거되어 처분된다. 이온교환 컬럼(22)은 컬럼을 통해 황산을 통과시킴으로써 재생된다. 이것을 달성시키기 위한 시스템은 매우 기본적인 방식으로만 교시되어 있다.
1967년 4월 4일자 간행된 맥베이(McVey)의 미국 특히 제 3,312,189호에는 알루미늄과 같은 금속 표면상에 크로메이트 코팅물을 입히기 위한 장치가 개시되어 있다. 6가 크롬이온과 오염성 음이온 복합물을 함유하는 산성의 조작 수용액이 금속 표면에 가하여진다. 양이온 교환수지를 통해 처리용액의 조절된 양을 통과시키고 이로부터 나오는 유출액을 다시 처리 또는 조작용액으로 반송시키기 위하여 유체흐름 조절 시스템이 사용되어 진다. 전도도 센서는 유출액의 전기적 전도도를 측정하기 위해 사용되어지고, 이 전도도 측정치는 제어기에 의해 이용되어지는데, 제어기는 교환 수지를 통과하지 못하는 용액보다는 높은 소정의 증가분의 이하인 유출액의 전기적 전도도 감소에 응답하여 양이온 교환 수지를 통과하는 용액의 양을 증가시킨다. 본 발명의 분야에 있어서 인식되는 요구를 만족시키기 위해서, 본 발명자들은 자동석출 프로세싱중에 사용되는 코팅 조성물 배스로부터 오염물질들을 주기적으로 제거하기 위한 실질적으로 자동화된 시스템을 고안해서 개발해 내었다. 본 시스템을 설계하는 데 있어서 본 발명자들은, 사용 후에 오염으로 인해 수량의 자동석출 배스가 값비싸게 페기되는 선행의 시스템에 비추어볼 때, 실질적으로는 모든 자동석출 배스 또는 코팅 조성물이 코팅부분에서 사용되어져야 할 필요성을 인식하였다. 본 발명자들은 환경에 해를 끼치는 폐기물생산을 실질적으로 최소화시키는 시스템을 제공하기 위한 요구를 또한 인식하였다. 자동석출 처리를 위한 실질적으로는 자동화된 시스템을 설계함에 따라, 값비싼 자동석출 배스 또는 코팅 조성물질들의 실질적으로 모두 사용함으로써 최대 경제성이 얻어진다.
본 발명자들은 자동영동 또는 자동석출 배스중에 포함된 라텍스 및 안료와 같은 미립자들을 함유하는 화학제품을 이온교환(IEX) 컬럼을 통과시키는 것이 선행 교시와는 대조적임을 인지하였다. 본 발명자들은 상기 조작을 달성시키고, 자동영동 배스에 의한 IEX 컬럼의 막힘과 같은 선행 기술중의 문제점을 극복하기 위하여 본 발명의 시스템을 착상해냈다.
3.0 발명의 요약
본 발명의 목적은 자동석출 방법을 위한 개신된 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 다른 목적은 자동석출 배스의 사용량을 최대화시키고, 유해한 폐기물의 제조를 최소화시키는 자동석출 방법을 위한 개선된 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 금속 이온이 배스로부터 주기적으로 제거되도록 이온교환 컬럼의 사용, 및 추가로 이온교환 컬럼의 주기적 청소 및 재생을 통해 화학적 배스를 안정화시키기 위한 실질적으로는 자동화 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 상기의 목적 및 다른 목적들을 염두에 두고서, 본 발명은 시간이 지남에 따라 따라 배스중에 축적되는 금속 이온 및 다른 오염물을 화학적 배스 또는 자동석출 배스로부터 제거하기 위해 모든 또는 일부의 배스를 많은 필터 및 이온교환 컬럼을 통과시킴으로써 주기적으로 안정되도록 프로그래밍된 실질적으로는 자동화 시스템을 제공한다. 게다가 이 시스템은 처리된 배스를 컬럼으로부터 화학적 또는 자동석출 배스를 보유하는 저장탱크로 반송시키기 위하여 이온교환 컬럼을 통해 탈염수를 공급 탱크로부터 자동적으로 펌핑시키기 위해 제공된다. 이 시스템은 재생된 산을 이온교환 컬럼을 통과시켜서 컬럼에 의해 수집된 금속 이온을 자동석출 배스로부터 제거하기 위한 이온교환 컬럼을 재생시키기 위해 주기적으로 제공된다. 이후, 컬럼은 이온교환 컬럼중에 남아있는 잔류 산이 제거되도록 탈염수로 자동적으로 씻겨내려지고, 그럼으로써 금속 이온 및 오염물의 자동석출 배스세척을 위한 또 다른 사이클을 위해 이온교환컬럼을 준비한다. 폐수 및 폐재생된 산은, 환경적으로 안전한 방식으로 시스템으로부터 처리 플랜트로 자동적으로 공급된다. 본 발명의 다른 구체예에 있어서, 이온교환 컬럼을 통과한 산은, 이온교환 컬럼을 재생하는데 재사용되기 위해서, 가능한 많은 양으로 재사용 탱크중에 수집될 수 있다. 예컨대, 마이크로프로세서와 같은 제어기는 자동석출 또는 화학적 배스, 탈염수, 및 재생된 산을 제어된 방식으로 시스템을 통해서 순환시키기 위해 밸브 수단 및 펌핑 수단을 제어하도록 프로그래밍된다. 공기로 작동하는 디아프램 펌프는 낮은 전단 펌핑이 제공되도록 자동영동 배스를 펌핑시키는데 사용된다.
본 발명의 여러가지 구체예는 첨부된 도면을 참고로 하여 설명되어지며, 같은 항목은 같은 참조명칭에 의해 식별되는데, 여기서
제 1A도 및 제 1B도는 본 발명의 한가지 구체예를 위한 일부의 흐름 개략도;
제 2도는 본 발명의 한가지 구체예를 위한 경고 지시를 제공하는 다수의 램프 및/또는 가시적(visible) 인디케이터를 보여주는 부분적인 전기 회로도; 그리고
제 3도는 본 발명의 한가지 구체예를 위한 다수의 스위치에 대한 배치도이다.
발명의 상세한 설명
제 1도에 있어서, 시스템은 주기적이며 실질적으로는 자동화된 방식으로, 킬레이팅 타입의 이온교환수지(30)를 이용하여 화학적 배스로부터 다가 금속 이온을 분리하도록, 이 도면에서는 특히 자동석출 조성물, 화학적 배스를 처리하고, 킬레이팅 수지(30)를 재생시키는 것을 보여준다. 상기된 것처럼, 본 시스템중에 사용된 바람직한 방법은 "자동석출 조성물로부터 다가 금속 이온을 분리시키는 방법과 이에 유용한 킬레이팅 타입의 이온교환수지를 재생시키는 방법" 이라는 제목하에 1992년 3월 6일자로 출원되어 동시계류중인 관련출원 시리얼 번호 07/847,543호에 상세히 기재 및 도시되어 있으며, 여기에는 이것에 교시된 바가 본 시스템과 관련하여 모순되지 않는다는 정도로 참고예로 인용한다. 참고예에 기재된 바에 따르면, 수지성의 수용성 코팅 조성물은 이곳에 침지된 금속 표면상에 상대적으로 고체 농도가 높은 코팅물을 형성시키기 위한 자동석출 시스템중에 사용된다. 금속 표면에 도포된 코팅물의 두께는 금속성 제조공정소재를 코팅 조성물중에 침지시키는 시간 간격을 변화시키고, 배스 조성물(예컨대, HF, FeF3, 및 라텍스 농축액)을 제어함으로써 조절된다.
본 시스템의 설명이 바람직한 자동석출 방법으로 여기에 도시되어 있을지라도, 이 시스템은 중합체가 포함된 자동석출 배스의 사용에 제한되지 않는다. 이 시스템은 많은 종류의 화학적 배스로부터 시간이 지남에 따라 축적되는 금속 이온을 주기적으로 제거하는데 사용할 수 있다.
전형적으로는, 자동석출 코팅 방법은, 예컨대 철, 강철, 및/또는 아연 도금된 금속의 금속성 제조공정소재들을 도금하는데 사용된다. 코팅 조성물은 전형적으로 용액중에 음성전하를 띈 라텍스 입자들을 제공하도록 처리된 라텍스 폴리머를 포함한다. 코팅 조성물 배스는 침지된 금속성 제조공정소재와 반응하도록 약산성이 유지되어 제조공정소재 표면상의 관련된 금속 이온은 양성전하를 띄게 된다. 그 결과로서, 양성전하를 띄게 된 금속 이온은 음성전하를 띈 라텍스 입자를 용액으로부터 끌어내어, 라텍스 입자가 금속성 제조공정소재의 표면상에 석출되게 한다. 코팅물의 두께는 매우 얇으며, 이 실시예에 있어서, 전형적으로는 0.5 내지 0.7 밀리로 제어되며, 이로 인하여 매우 적은 일부의 코팅 조성물이 다수의 제조공정소재의 코팅중에 사용된다.
제조공정소재의 자동석출 코팅 동안, 시간이 지남에 따라 제조공정소재로부터 용해되어 나오는 금속 이온들이 코팅 조성물내에 축적된다. 코팅 조성물 배스내의 금속 이온 농도가 증가함에 따라, 얻어진 코팅물의 질이 부정적으로 영향을 받게 된다. 또한, 금속 이온의 농도는 코팅 조성물이 응고되기 시작하고 불안정해지는 수준까지 증가될 수 있다. 따라서, 상기 부정적인 이행기에 이르기 전에, 축적된 금속 이온을 코팅 조성물 배스로부터 주기적으로 제거시키는 것이 중요하다.
또한 제 1도에 있어서, 코팅 조성물 배스로부터 금속 이온을 제거하기 위한 시스템은 코팅 조성물 배스(1)를 함유하는 탱크(T4)를 포함한다. 예시적 목적으로, 코팅 조성물 배스(1)를 통해 통과하는 제조공정소재는 강철이고, 이 배스(1)는 주어진 농도의 플루오르산(HF)를 포함한다고 가정한다. 임의의 구체예에 있어서, HF의 농도는 탱크(T4)중에 침지된 변환기(3) 사용을 통해 모니터된다. 변환기(3)로부터의 시그날 라인(5)은 HF의 농도에 비례하는 전압의 전기적 신호를 전송시킨다. 전도도 변환기(129)는 탱크(T4)중의 코팅 조성물 배스(1)중에 침지되어, 배스(1)의 전도도 수준을 표시하는 신호(C1)를 제공한다. 송출 도관 또는 파이프(7)의 한쪽 말단은 코팅 조성물 배스(1)중에 깊게 침지되어 있으며, 다른 한쪽 말단은 공기 조작된 펌프(P1)의 유입구(9)에 연결되어 있다. 공기 조작된 디아프램 펌프는 자동영동 배스를 펌핑시킬 때 낮은 전단이 요구되기 때문에 P1에 대해 바람직하다. 스트로크 인디케이터 어셈블리(11)는 펌프에 의한 각각의 스트로크를 지시하는 신호 SIN1를 발생시키기 위해 압력 스위치(151)를 통해서 펌프(P1)에 연결된다. 주어진 조작 사이클동안에 펌핑에 의해 일어난 스트로크의 수를 모니터함으로써, 펌프를 통과하는 코팅 조성물의 양을 측정할 수 있다. 이 실시예에 있어서, 펌프(P1)의 각각의 스트로크는 0.016 갈론(gallon)을 펌핑시킨다. 펌프(P1)의 배출구(13)는 유체 라인 또는 도관(15)에 의해 필터(F1)의 유입구(17)까지 연결된다. 필터(F1)의 배출구(19)는 자동 공기 조작된 밸브(AV1)의 한쪽 말단까지 연결된다. 유체 라인이 게이지 아이솔레이터(21)에 의해 펌프(P1)와 필터(F1) 사이의 압력을 모니터하는 압력 게이지(PG1)까지 연결됨을 주목한다. 또한, 압력 센서(PS1)는 게이지 아이솔레이터(21)에 의해 필터(F1)를 가로질러 연결된다. 이 실시예에 있어서, PS1은 필터(F1)가 깨끗할 때 저압이 PS1을 가로질러 진행되게 해주는 보통은 오픈 스위치를 나타낸다. 필터(F1)가 막힐때, 압력이 PS1을 가로질러 진행되어 내부 조정가능한 스위치(도시되지 않음)가 닫힘으로써, 이 실시예에 있어서 막힌 필터(F1)을 가르키는 신호(PR1)가 0볼트에서 +5볼트의 상태로 바뀌도록 응답되어 막힌 F1 상태를 나타낸다. 따라서, 신호(PR1)는 소정의 수준을 넘어선 필터(F1)의 유입구(17)와 배출구(19) 사이의 압력 차이를 지시하는 것이다. 또한, 게이지 아이솔레이터(21)는 다른 압력 게이지(PG2)를 필터(F1)의 배출구(19)와 자동 밸브(AV1)의 한쪽 부분 사이의 압력을 측정하기 위해 유체 라인(23)과 연결된다.
밸브(AV1)의 배출구는 체크 밸브(25)를 통해 유체 라인 또는 파이프(27)를 거쳐서 이온교환 컬럼(IEX) (29)까지 연결되어 있으며, 일반적으로 파이프(27)의 한쪽 말단에 연결된 다른 유체 경로 또는 파이프(31)를 통해서 자동 밸브들(AV4 및 AV8)의 유체 포트사이에 연결된 유체 라인 또는 파이프(33)와 연결된다. 자동 밸브(AV4)의 다른 말단 또는 포트는 유체 라인(35)을 거쳐 스로들 밸브(TV4)의 한쪽 말단까지 연결된다. 스로틀 밸브(TV4)의 다른 말단은 티 커플링(37)의 한쪽 포트까지 연결되고, 티 커플링의 다른쪽 포트는 유체 도관 또는 파이프(39)를 거쳐 처리장치(도시되지 않음)까지 연결된다. 유체 전도도 변환기(41)는 이를 통해서 방출되거나 이를 통과하는 유체의 전도도를 지시하는 신호(C3)를 발생시키기 위하여 티(37)상에 설치된다.
도관 또는 유체 라인(43)은 한쪽 말단에서 밸브들(AV4 및 TV4) 사이의 유체 경로(35)안으로 연결되며, 다른쪽 말단에서 자동 밸브(AV3)의 한쪽 포트로 연결된다. 밸브(AV3)의 다른쪽 말단 또는 포트는, 유체 라인(47)의 다른쪽 말단을 거쳐 이온교환 컬럼(IEX)(29)의 유체 포트까지 연결하기 위해서, 유체 라인(45)를 거쳐 자동 밸브(AV6)의 한쪽 포트에 대한 유체 라인(32), 및 자동 밸브(AV2)의 한쪽 포트에 대한 유체 라인(49)인 유체 라인들(47, 49 및 32)의 말단 사이의 공통 연결부까지 연결된다. 자동 밸브(AV6)의 다른쪽 포트는 유체라인(34)를 거쳐 스로틀 밸브(TV2)의 한쪽 포트까지 연결된다. 스로틀 밸브(TV2)의 다른쪽 포트는 유체라인(36)을 거쳐 로토메터(40)와 직렬 연결된 체크밸브(38)을 통해서 펌프(P3)의 배출구(42)까지 연결된다. 체크밸브(38)는 유체를 로토메터(40)로부터 스로틀 밸브(TV4)까지 이송시키기도록 위치시킨다. 유체라인(36)은 또한 유체라인(66)을 거쳐 다른 스로틀 밸브(TV3)의 한쪽 포트까지 연결되고, 이것의 다른쪽 포트는 유체라인(65)을 거쳐 자동밸브(AV8)의 다른쪽 포트까지 연결된다.
스트로크 인디케이터(44)는 주어진 조작 사이클동안의 펌프(P3)의 스트로크 수를 표시하는 시그널(SIN2)을 제공하기 위해 펌프(P3)에 연결되며, 시그널(SIN2)은 압력스위치(153)를 경유하며 펌프를 통해 펑핑되는 유체의 양을 제공하기 위한 것이다(이 실시예에 있어서는 0.016 갈론/스트로크). 펌프(P3)의 유입구(65)는 유체라인 67 및 69를 통해 각각 자동밸브AV7 및 AV의 유체 포트에 공통적으로 연결된다. 자동밸브(AV5)의 다른 유체 포트는, 새로이 재생된 산(68)(이 실시예에 있어서는 HF)을 함유하는 탱크(T2)의 바닥 근처에 위치한 오픈 엔드를 갖는 유체라인(78)을 통해 연결된다. 자동밸브(AV7)의 다른 포트는 유체라인(90)을 거쳐 탈염수(81)를 함유하는 탱크(T1)내 및 탱크바닥에 위치한 프리 엔드를 갖는 흡입 또는 송출 파이프(79)까지 연결된다. 탱크(T1)의 목적은 플랜트내 탈염수의 순간적인 유속이 IEX 29의 탈염수 요구량을 만족시키기에는 불충분한 플랜트들에서 시스템 작동이 가능하도록 탈염수를 저장하는 것이다.
펌프(P2)는 유입구(4)를 갖는데, 유입구는 유체라인(10)을 통해 신선한 재생 화학물질 또는 산의 드럼(도시되지 않음)까지 연결되어 있다. 배출구(12)는 리필 사이클 동안에 탱크(T2)내로 새로이 재생된 산을 방출하기 위해 유체라인(14)을 거쳐 피이드파이프(91)에 연결된다.
전기적으로 조작되는 솔레노이드 밸브(SV11)는 유체라인(93)를 거쳐 탈이온(야)수의 가압공급원(도시되지 않음)까지 연결된 하나의 유체포트를 가진다. 밸브(SV11)의 다른 유체포트는 리필 사이클 동안에 가압공급원으로부터 탈염수를 탱크(T1)안으로 배출시키기 위해 유체 피드라인(95)에 연결된다.
자동밸브(AV2)의 다른 유체포트는 유체라인(97)을 거쳐 필터(F2)의 유입구까지 연결된다. 필터(F2)의 배출구는 유체라인(99)을 거쳐 스로틀밸브(TV1)의 한쪽 포트까지 연결된다. 게이지 아이솔레이터(21)는, 도시된 것처럼, 압력 게이지(PG5)와 압력 스위치(PS2)를 유체라인(99)까지 연결시키는데 사용된다. F2가 막혀 있지 않을 때, 높은 역압력은 관련된 신호(PR2)가 0볼트로 되게 해준다. PS2는, 본 실시에에 있어서, 신호(PR2)가 +5볼트에서 0볼트 상태로 변화도록 내부 스위치를 오프닝함으로써, F2의 막힘에 의해 야기되는 소정의 압력강하에 응답한다. 달리 말하면, 압력 스위치(PS2)는 유체라인(99)이나 필터(F2)의 배출구에서 소정의 값 이하가 되는 압력을 표시하는 신호(PR2)를 제공한다. 스로틀 밸브(TV1)의 다른 포트는 유체라인(101)을 거쳐 체크밸브(103)의 유입 말단까지 연결되고, 체크밸브의 배출 포트는 유체라인(105)을 거쳐 티 커플링(107)의 한쪽 포트까지 연결된다. 전도도 변환기(109)는, 티 커플링기(107)를 통과하는 유체의 전도도를 표시하는 전도도신호(C2)를 제공하기 위해 티 커플링기(107)상에 장치한다. 티 커플링기(107)의 다른쪽 말단은 처리된 코팅 조성물(1)을 탱크(T4)안으로 역 방출시키기 위해 피이드파이프(111)까지 연결된다. 이하, 더욱 상세히 설명한다.
본 발명 시스템(가상으로 보여짐)의 또 다른 구체예는 선택적인 것으로 간주되며, 한번 사용된 재생된 산(113)을 함유하기 위한 탱크(T3)를 포함한다. 이 구체예는 유체라인들(67 및 69)의 공통 연결부와 자동밸브(AV9)의 한쪽 포트사이에 연결된 유체라인(115)을 추가로 포함한다. 자동밸브(AV9)의 다른쪽 포트는 유체라인(117)의 한쪽 말단까지 연결되며, 이 유체라인의 다른쪽 말단은 탱크(T3)내 또는 탱크(T3) 바닥 근처에 위치된다. 유체라인(119)은 유체라인들(31 및 33)의 공통 연결부까지 연결된 한쪽 말단을 가지며, 다른쪽 말단은 자동밸브(AV10)의 한쪽 포트에 연결된다. 밸브(AV10)의 다른 유체포트는 한번 사용된 재생된 산(113)을 방출시키기 위한 유체라인(121)을 거쳐 탱크(T3)안으로 연결된다. 이하, 더욱 상세히 설명한다.
공기의 공급원(도시되지 않음)은 도관 또는 파이프(123)를 거쳐 필터(F3)의 유입구까지 제어된 압력의 "공장(shop) 공기"를 제공한다. 이 필터(F3)의 배출구는 공기 압력 라인(125)을 거쳐 많은 솔레노이드 조작되는 밸브들(SV1 내지 SV10, 및 SVP1 내지 SVP3)에 개별적으로 연결된다. 이 밸브들은, 적당한 시간에 제어기(127)에 의해 발생되는 전기적 제어 신호(50 내지 62)를 통해 제어기(127)에 의해 개별적으로 제어된다. 이하, 더욱 상세히 설명한다.
솔레노이드 밸브들(SV1 내지 SV10)이 개별적으로 동작가능한 상태가 되면,본 실시예에 있어서, 밸브들은 각각 공기압 신호(A, B, C, D, E, F, G, H, J, 및 K)를 발생시키기기 위해 오픈된다. 이 공기압 신호는 자동 공기 조작된 밸브들(AV1 내지 AV10)을 열기위하여 이들 밸브 각각에 연결된다. 유사하게, 제어기(127)에 의해 솔레노이드 밸브들(SVP1, SVP2 및 SVP3) 각각이 동작가능한 상태가 되면 이들 밸브들은, 이 실시예에 있어서, 공기 조작된 펌프들(P1,P2,P3)이 동작가능한 상태가 되도록 하기 위해 이들 펌프 각각에 적용되는 공기압 신호(L,M,N)를 발생시키기 위해 오픈된다.
낮은 수준 센서(131)는 탱크(T1)의 바닥내 및 바닥근처에 위치하여, 소정의 낮은 수준 이하로 떨어지는 탱크(T1)내의 유체 수준을 나타내는 신호(71)를 제공한다. 또한, 높은 수준 센서(133)는 소정의 수준으로 탱크내 상단 아래쪽에 위치하여 수준 센서(133)의 위치에 도달한 탈염수준을 나타내는, 본 실시예에 있어서, +5볼트 수준의 신호(70)를 제공한다. 본 실시예에 있어서, 수준 센서(131 및 133)에 관련된 스위치, 및 이하 언급되는 다른 것은 보통은 개방 스위치이다. 본 명세서에서 설명된 것처럼, 모든 상기 수준 센서는, 예컨대 액체가 관련 수준 센서의 수준 이하일 때 0볼트의 수준 신호를 발생시키고, 액체가 관련 수준 센서의 수준 또는 그 이상일 때 +5볼트 수준 신호를 발생시킨다.
탱크(T2)는, 이곳에서 센서(135) 수준 이하로 떨어진 산을 표시하는 0볼트의 낮은 수준 신호(74)를 발생시키기 위해 탱크의 바닥내 또는 근처에 위치한 낮은 수준 센서(135); 산 수준이 이 센서의 수준 이하로 떨어질 때는 언제든지 0 볼트의 신호(73)를 발생시키기 위한 중간 수준 센서(137); 및 이 실시예에 있어서,센서(139)의 수준에 이르는 탱크내의 산을 나타내는 +5 볼트의 높은 수준 신호(72)를 발생시키기 위해 탱크(72)의 상단 근처에 위치한 높은 수준 센서(139)를 포함한다. 실질적으로 탱크(T2)에서와 같은 방식으로, 탱크(T3)는 낮은 수준 신호(77)을 생산하기 위한 낮은 수준 센서(141), 중간 수준 신호(76)을 생산하기 위한 중간 수준 센서(143), 및 높은 수준 신호(75)을 생산하기 위한 높은 수준 센서(145)를 포함한다.
제 1도의 시스템의 자동 제어동안에, 제어기(127)는 시스템의 상이한 모드의 조작이 요구될때, SV 제어 신호(50 내지 63)를 제공하기 위하여 액체 수준 신호(70 내지 77), 밸브 상태 신호(80 내지 89), 압력 신호(PR1 및 PR2), 전도도 신호(C1내지 C3), 및 스트로크 펄스 신호(SIN1 및 SIN2)에 대해 응답한다. 이러한 조작 모드를 이하 상세히 설명한다.
본 시스템의 공학적인 원형에 있어서, 제어기(127)는 알렌 브레들리 SLC-500 PLC 마이크로프로세서(Allen Bradley, Inc., Milwaukee, WI)에 의해 제공된다. 코팅 조성물을 함유하는 유체를 이송시키기 위한 스로틀 밸브(TV1)는 디아프램 타입 스로틀 밸브 GF 타입 314(George Fischer Ltd., Schaffhausen, Switzerland)이다. 스로틀 밸브(TV2 및 TV4)는 조절가능한 니들 밸브 GF 타입 522이다. 스로틀 밸브(TV-3)는 조절가능한 Y-글로르 밸브 GF 타입 301이다. 수준 센서(131,133,135,137,139,141,143 및 145)는 토마스 플로우트 스위치 모델 4400 센서(Thomas 제조)이다. 밸브(AV1 내지 AV10)는 보조 수동 장치가 부착된 GF 타입220(George Fischer, Scharffhausen, Switzerland)이다. 필터(F1)는 셋코 백 필터(Met Pro Corporation, Sethco Division, Hauppauge, New York)이다. 필터(F2)는 모델 번호 DBG-1의 셋코 백 필터(F1)이다. 공기 조작된 펌프(P1, P2 및 P3)는 말로우 타입 1/2AODP 펌프(Marlow ITT Fluid Techology Corporation, Mid Land Park, New Jersey)에 의해 제공된 것이다.
본 실시예에 있어서, 이온교환 컬럼(29)은 직경 약 12인치, 길이 약 38인치의 비닐 에스테르 탱크에 의해 제공된 것이다. 이온교환 컬럼은 수직으로 배향된 세로축을 갖는다. 이 이온교환 컬럼(29)은 적당한 이온교환 수지(30), 본 실시에서는 앰버라이즈알IRC-718(Rohm & Hass Co., Pennsylvania)로 채워진다. 적당한 IEX 수지(30)의 다른 예로는 수지(상품명 : Miles/Bayer Lewatit TP-207, Purolite S-930, Sybron lonac SR-5, Bio-Rid Chelex 20 또는 Chelex 100, Mitsibushi Diaion CR11) 및 다른 유사한 이미노디아세테이트에 기초한 수지들을 들 수 있다. 본 실시에 있어서, 수지(30)는 이온교환 컬럼(29)을 통과한 코팅 조성물(1)로부터 2가 및 1가의 철 이온을 제거시킨다. 다른 유형의 수지는, 예컨대 크롬이나 아연과 같은 다른 금속 이온을 제거하는데 유용하다. 본 실시에 있어서, 재생된 산(68)은 농도 1% 이상의 플루오르화수소산이다.
솔레노이드 밸브(SV1 내지 SV10)는 브루켓 타입 470 밸브(Ohio Components, Parma, Ohio)에 의해 제공된 것이다. 솔레노이드 조작된 밸브(SV11)는 제어기(127)로부터의 전기적 신호(63)에 의해 제어되는, 전기적으로 조작되는 솔레노이드 밸브이다. 원형 시스템중에 사용된 다른 구성요소는 쉽게 시판될 수 있는 전형적인 표준 구성요소이다. 원형 시스템에 대해 미리 제시된 것처럼 실질적 구성요소는 제한되어 있지 않으며, 어떠한 적당한 대체물이 사용될 수 있음에 추가로 주목한다.
자동 공기 조작되는 밸브(AV1 내지 AV10)는 밸브의 현재위치를 나타내는, 즉 열리거나 닫힌 위치를 나타내는 활동신호를 제공하기 위한 아웃풋 또는 밸브 상태 신호(80 내지 89)의 쌍을 각각 포함한다. 게시된 것처럼, 제어기(127)는 상기 신호(80 내지 89) 쌍의 모니터링을 통하여 각각의 밸브의 상태를 감지한다. 그러한 신호 모니터링의 결과로서, 솔레노이드 밸브 제어 신호(50 내지 63)는 본 시스템 조작의 다양한 모드를 실행시키기 위해 적당한 시간에 제어기(127)에 의해 출력된다. 또한, 제어기(127)는 이들 신호들의 모니터링을 통한 적당한 조작을 위해 밸브(AV1 내지 AV10)를 시험할 수 있다.
본 발명의 다른 구체예에 있어서, 가시적인 경보 시스템이 제공된다. 제어기(127)는 적당한 시간에 램프 신호(L1 내지 L18)를 제공하도록 관련된 릴레이들에 전류가 흐르도록 하기 위하여 릴레이 뱅크(158)를 구동시킨다. 제 2도에서 램프(160 내지 177)는 램프 시그날 또는 전압(L1 내지 L18)에 각각 반응을 하며, 개시된 각 범례에 나타난 바와 같이, 특정 구성요소나 시스템의 작동을 나타내거나, 또는 설정치를 벗어나는 구성요소 또는 시스템 작동을 보여주도록 관련된 패널 메시지를 가시적으로 표시하도록 빛을 발한다. 본 실시예에 있어서, "R"로 지정된 램프는 빨간색, "G"는 녹색, 그리고 "Y"는 노란색을 의미한다. 그러나, 어떠한 요구되는 색깔의 조합물도 램프(160 내지 177)에 이용될 수 있다. 한가지 구체예에 있어서, 제 2도에 도시된 것처럼, 램프(160 내지 177)는 백릿(backlit) 디스플레이 패널(180)의 메시지 디스플레이(160' 내지 177')와 각각 연관된다. 대안적으로, 다른 구체예에 있어서, 램프(160 내지 177)는 백릿 패널(180)에서 보여진 것처럼, 프린트된 관련 경보 또는 구성요소 조작 메시지 (160'내지 177')에 각각 근접한 디스플레이 패널상에 각각 배치한다. 대안적인 구체예에 있어서, 램프(160 내지 177)는 별도로 관련된 메시지 디스플레이(160 '내지 177')에 근접하여 밝혀지도록 전류가 흐르게 된다. 본 시스템을 위한 공학적인 원형에 있어서, 후자의 구체예가 이용된다. 본 실시예에 있어서, 경보는 숙련되지 않은 조작자가 시스템의 조작동안에 발생될 수 있는 문제점을 고칠 수 있게 함을 주목한다.
제 3도에서, 7개의 스위치(SW1 내지 SW7)는 제어기(127)에 연결되어져 있다. 이 실시예에 있어서, 스위치(SW1 내지 SW3 및 SW6)는 3가지 위치의 회전 스위치이고, 한 스위치(SW4)는 2가지 위치의 회전 스위치이다. 스위치(SW5)는 일반적으로 닫힘 누름버튼 스위치이고, 스위치(SW7)는 열림 누름버튼 스위치이다. 이 스위치들은 전형적으로는 시스템중의 제어 패널상에 위치한다. 보여진 것처럼, 스위치(SW1, SW2, SW3 및 SW6)의 접점("a", "b" 및 "d")은 제어기(127)에 연결된다. 스위치(SW4)의 접점 "a"와 "c"는 제어기(127)에 연결된다. 스위치(SW5 및 SW7)의 각각의 접점 "a"와 "b"는 제어기(127)에 연결된다.
이하, 스위치(SW1 내지 SW7)의 상이한 위치에 응답하며 프로그래밍된 제어기(127)를 설명한다. 스위치(SW1)는 "재생/탈염수 펌프 스위치(P3)"로서 제어 패널(도시되지 않음)상에서 확인된다. 스위치(SW1)의 아암(182)이 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키기 위해서 회전될 때, 스위치(SW1)는 "온(ON)"으로 표시된 위치에 놓인다. 제어기(127)는, 솔레노이드 밸브(SVP3)에 전류가 흐르게 함으로써, 이 밸브를 열어 공기압신호(N)가 펌프(P3)에 적용되도록하여, 이 펌프에 전류가 흐르게 함으로써 응답한다. 그러나, 상기 작용은 만약 "시스템 제어"로 지정된 스위치(SW3)에서 접점 "a"와 "b" 또는 접점 "a"와 "d"가 전기적으로 연결되도록 스위치(SW3)의 아암(186)이 회전하도록 조작될 때만 일어날 것이다. 만약 스위치(SW1)의 아암(182)이 이것의 점점 "a"와 "C"를 전기적으로 상호연결시키도록 위치한다면, 스위치(SW1)는 "오프(OFF)"위치를 가르키며, 이 상태에서 펌프(P3)는 전류가 흐르지 않는다. 아암(182)을 접점 "a"와 "d"를 전기적으로 연결시키기 위하여 회전시키면, 프로그래밍된 여러 시퀀스동안의 적당한 시간에 펌프(P3)가 동작가능한 상태가 되도록 프로그래밍하는 "자동(AUTO)" 위치를 가르킨다.
스위치(SW2)는 "페인트 펌프(P1)" 스위치를 나타낸다. 스위치(SW2)의 아암(184)을 관련된 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전시킬 때, 만약 시스템 제어 스위치(SW3)가 그것의 "오프" 위치에 있지 않다면, 이 스위치는 "온"으로 표시된 위치중에 있게 된다(아암(186)은 이것의 접점 "a"와 "c"를 전기적으로 연결시킨다). 스위치 아암(184)을 접점 "a"를 접점 "c"까지 전기적으로 연결시키도록 회전시킬 때, 아암은 스위치(SW2)에 대해서 "오프" 위치로서 표시되고, 이 때는 펌프(P1)가 동작가능한 상태가 아니다. 스위치 아암(184)을 관련 접점 "a"와 "d"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전시키면, 이것은 "자동" 위치를 가르키며, 이 때는 하기된 것처럼 펌프(P1)은 시스템의 자동조작 동안의 프로그래밍된 적당한 시간에 동작가능한 상태가 된다.
스위치(SW3)는 "시스템 제어" 스위치를 나타낸다. 이 스위치의 아암(186)을 이것의 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키도록 위치시킬 때, 스위치는 "자동" 위치를 가르키고, 이것에 응답하여 제어기(127)는 시스템이 자동조작에 놓이도록 프로그래밍된다. 스위치(SW3) 아암(186)을 관련 접점 "a"와 "C"를 전기적으로 연결하도록 회전시키면, 스위치는 "오프" 위치를 나타내고, 시스템 작동을 막는다. 아암(186)을 관련된 접점 "a"와 "d"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전시키면, 이것은 "PB 시동" 위치를 가르킨다. 이 위치에 스위치(SW3)가 있을 때, 제어기(127)는 관련 접점("a" 및 "b")을 상호 연결시키기 위한 이것의 누름버튼 접점(194)을 눌러서 누름버튼 스위치의 활성에 응답하도록 프로그래밍된다. 제어기(127)는 코팅 조성물(1) 처리의 하나의 사이클을 개시하여 후자의 스위치 조작에 응답되도록 프로그래밍되는데 이하, 상세히 설명한다. 추가로 "시스템 제어"스위치(SW3)에 있어서, 이 스위치의 아암을 관련 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키도록 움직여 이것의 "자동" 위치중에 놓일 때, 코팅 조성물(1)의 프로그래밍 처리는 소정의 시간 간격에 주기적으로 반복될 것이다. "시스템 제어" 스위치(SW3)의 아암(186)을 관련 접점 "a"와 "c"를 전기적으로 연결시키기도록 "오프" 위치에 위치시킬 때, 시스템은 수동의 조작 모드중에 놓이고, 조작 사이클은 중지될 것이다. 그러나, 제어기(127)는 어떠한 페인트 또는 코팅 조성물(1)이 이온 교환 컬럼(29)에 남아있는지 여부를 결정하도록 먼저 점검되어져 이에 반응하도록 프로그래밍된다. 만약 응답이 "예스"라면, 제어기(127)는 이온교환 컬럼(29)을 통해 코팅 조성물(1)을 펌핑시키는 시스템의 조작을 위한 일부분의 시퀀스가 계속되도록 프로그래밍된다. 만약 시스템 스위치(SW3)가 이것의 "오프" 위치로 음직였을때 사이클이 중지되므로, 제어기(127)가 이온교환 컬럼(29)을 통한 코팅 조성물(1)의 펌핑이 이미 종결되었다고 결정하면, 제어기(127)는 탈염수(81)을 사용하여 이온교환 컬럼(29)을 플러싱하는 조작 사이클을 개시하도록 프로그래밍된다. 이하, 상세히 설명한다. 이 플러싱 사이클 후에, 제어기(127)는, 스위치(SW3)가 "PB 시동"에 위치하도록 스위치(SW3)의 관련 아암(186)이 관련 접점 "a"와 "d"를 전기적으로 연결시키기 위한 움짐임으로써 조작되어지거나, 또는 스위치(SW3)가 "자동"에 위치하도록 스위치(SW3)의 관련 아암(186)이 관련 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키도록 움직임으로써 조작되는 "시스템 제어" 스위치(SW3)에 대해 응답하도록 준비하기 위하여 시스템중의 모든 파라미터들을 재설정시키도록 그 자신을 초기화 시키도록 프로그래밍된다. 이미 언급된 것처럼, "시스템 제어" 스위치(SW3)를 "PB 시동" 위치로 움직일때, 그 다음, 이 실시예에 있어서는, 제어기(127)는 "시동 클린-업 시퀀스" 누름버튼 스위치(SW7)의 동작가능 상태에 응답하도록 프로그래밍된다.
스위치(SW4)는 "재생(REGEN) 화학적 펌프(P2)" 스위치를 나타낸다. 이 스위치의 "오프" 위치에 있어서, 이 스위치의 아암(188)은 관련 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키기도록 위치한다. 이 "오프" 위치에 있어서, 펌프(P2)는 동작가능하지 않으며, 제어기(127)는 탱크(T2)를 새로운 재생된 산 또는 화학적 재생물(68)로 재충전시키기 위해 재충전 사이클을 재설정하도록 프로그래밍된다. 이하, 상세히 설명한다. 스위치(SW4)는 이것의 아암(188)을 회전시켜 관련 접점 "a"와 "c"를전기적으로 연결시킬때 "자동" 위치로 놓이게된다. 이 위치에서, 펌프(P2)는 제어기(127)의 제어하에 새롭게 재생된 화학물질 또는 산으로 탱크(T2)를 재충전하도록 동작가능한 상태가 되며, 제어기는 소정의 충전수준에 도달한 탱크내 산의 수준을 감지하여 펌프(P2)의 동작상태를 해제시킬 것이다. 이 실시예에 있어서, 제어기(127)는 어떠한 경우에 있어서도 주어진 재충전 사이클중에서 30분 이상의 시간 동안에 펌프(P2)가 동작하지 않도록 프로그래밍된다.
스위치(SW5)는 "긴급 정지" 스위치를 나타낸다. 이 스위치의 누름버튼(190)이 눌러질때, 관련된 접점 "a"와 접점 "b" 사이의 전기적 연결은 끊어지고, 스위치(SW5)는 이 위치를 기계적으로 유지한다. 제어기(127)는 스위치가 앞쪽으로 당겨짐으로써 그것의 비조작 위치로 수동적으로 되돌아갔는지를 먼저 점검을 함으로써 긴급 정지 스위치(SW5)의 조작에 대해 응답되도록 프로그래밍되는데, 이 경우에 있어서, 만약 처리 사이클이 중단되었다면, 그 사이클은 이미 중단되었던 곳으로부터 재개될 것이다. 그러나, 만약 제어기(127)가 "긴급 정지" 스위치(SW5)가 작동되고 있음을 결정하면, 시스템 조작은 종결되나, 이 시스템은 재설정되지 않을 것이다. 다음으로, 모든 경보(이하, 상세히 설명할 것임)는 배출구 압력 낮음 경보(160 및 160'), 높은 델타 압력 경보(161 및 161'), 펌프 흐름 없음 경보(164 및 164'), 및 밸브 고장 경보(163 및 163')를 제외하고는 재설정될 것이다. 그 다음으로, 만약 "긴급 정지" 스위치(SW5)가 작동되지 않는다면, 이미 언급된 것처럼, 제어기(127)는 이미 중단된 조작 사이클을 회복시킬 것이다.
스위치(SW6)는 "DI 메이크-업" 스위치를 나타낸다. 이 스위치는 3
3가지 위치를 갖는데, 그 중 하나는 "온" 위치로서, 아암(192)이 관련된 접점 "a"와 "b"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전되는 위치이다. "오프" 위치는 아암(192)이 관련된 점점 "a"와 "c"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전되도록 연결되어 있다. 끝으로, "자동" 위치는 아암(192)이 관련된 접점 "a"와 "d"를 전기적으로 연결시키기 위해 회전하도록 되어있다. 이 스위치(SW6)가 "온" 위치에 있을때, 제어기(127)는, 탱크(T1)에 탈염수의 재충전이 필요한 것으로 여기고, 탈염수로 탱크(T1)가 재충전되기 시작하도록 솔레노이드 조작된 밸브(SV11)를 동작가능한 상태로 만들거나 오픈시키도록 제어 신호(63)를 출력함으로써 응답한다. 스위치(SW6)가 "오프" 위치에 있을 때, 제어기(127)은 밸브(SV11)의 작동을 억제하도록 프로그래밍된다. 스위치(SW6)가 "자동"위치에 놓일 때, 제어기(127)는 만약 탱크(T1)가 수준센서(133)에 의해 감지된 높은 수준 또는 충전 수준 이하의 탈염수를 유지한다면 밸브(SV11)를 열도록 프로그래밍된다. 그러한 재충전 작동중에, 본 실시예에 있어서, 제어기(127)는 탱크(T1)가 충전되었음을 나타내는 신호(70)를 감지하면 밸브(SV11)를 작동이 멈추도록 프로그래밍된다.
스위치(SW7)는 "시동 클린-업 시퀀스" 누름버튼을 나타낸다. 이 순간적인 접촉 누름버튼 스위치가 눌려질때, 제어기(127)는 먼저 "긴급 정지" 누름버튼 스위치(SW5)가 눌려져 있거나 작동되고 있는가를 결정하기 위해 먼저 점검함으로써, 접촉 누름버튼 아암(194)을 통한 이것의 접점 "a"와 "b"의 전기적 연결에 대해 응답하도록 프로그래밍된다. 만약 응답이 "예스"라면, 제어기(127)는, 조작자에게 긴급 "정지" 누름버튼(SW5)이 작동되고 있고 또한 제어기에 대해 램프 시험 신호로서 작용하고 있다는 것을 주의시키도록 모든 패널 램프(160 내지 177)가 작동되거나 켜지도록 프로그래밍된다. 그러나, 만약 긴급 "정지" 누름버튼(SW5)이 작동되지 않으면, 제어기(127)는 시스템 제어 스위치(SW3)가 이것의 "PB 시동" 위치중에 위치하고 있는가를 결정하기 위해 점검할 것이다. 만약 응답이 "예스"라면, 제어기(127)는 코팅 조성물(1)로부터 금속 이온을 제거시키기 위해 코팅 조성물(1)의 하나의 전체 처리 사이클이 개시되도록 할 것이다. 그러나, 만약 응답이 "노우"라면, 제어기(127)는 시스템 제어 스위치가 이것의 "오프" 위치중에 있는지를 결정하기 위해 점검하도록 프로그래밍된다. 만약 응답이 "예스"라면, 제어기(127)는 밸브 고장 시험을 수행시킬 것이다. 공기 조작된 밸브(AV1 내지 AV10)에는 각각 관련된 램프(도시되지 않음)가 제공되고, 관련된 밸브의 어떠한 것이 작동되지 않는지를 시험할 때 제어기는 플래싱 방식 또는 블랭킹 방식으로 램프를 동작시키도록 프로그래밍된다. 선택적으로, 만약 "시스템 제어" 스위치(SW3)가 이것의 "오프" 위치중에 존재되지 않고, "자동" 위치중에 존재되어 있음을 제어기(127)가 감지한다면, 제어기(127)는 코팅 조성물(1)의 반복적 또는 주기적 처리 사이클을 개시시킬 것이다.
이하, 시스템의 조작에 관하여 설명할 것이다. 제어기(127)는 코팅 조성물의 일부분을 탱크(T4)로부터 이온교환 컬럼(29)을 통해 (화살표(6)과 같이 하류 방향으로) 주기적으로 회전시키고 처리후에 다시 탱크(T4)로 되돌려 보냄으로써, 코팅 조성물 배스(1)에 안정성을 제공하도록 프로그래밍된 마이크로프로세서를 포함한다. 시스템을 조작의 자동 모드로 설정시키기 위해, 작동의 초기화 방법이나 모드가 먼저 안내되어야 한다. 조작의 초기화 모드를 위한 단계들은 하기와 같다:
1. 재생 펌프 스위치(SW1)를 이것의 "자동" 위치로 수동으로 위치시킨다.
2. 폐인트 펌프 스위치(SW2)를 이것의 "자동" 위치로 수동으로 위치시킨다.
3. 긴급 "정지" 스위치(SW5)를 비작동 위치로 수동으로 당긴다.
4. 재생 화학적 펌프 스위치(SW4)를 이것의 "자동" 위치로 수동으로 위치시킨다.
5. DI 메이크-업 스위치(SW6)를 이것의 "자동" 위치로 수동으로 위치시킨다.
6. 제어기(127)는 탱크(T1)중의 탈염수 수준이 높은 수준에 있는지를 측정하기 위해서 높은 수준 신호(70)의 상태를 점검한다. 만약 그렇지 않으면, 제어기(127)는 수준 신호(70)가 감지될 때까지 DI 수를 사용하여 재충전시키고, 그 다음 제어 신호(63)가 종결되고 그 다음 단계가 수행되도록, 밸브(SV11)에 대한 조절신호(63)를 적용하도록 프로그래밍된다.
7. 제어기(127)는 만약 탱크(T2)중의 새로운 재생된 산이 소정의 낮은 수준 위에 있는지를 측정하기 위해서 수준 신호(74)의 존재에 대해 점검한다. 만약 그렇지 않으면, 제어기(127)는 솔레노이드 밸브(SVP2)를 열기위한 조절신호(61)을 생성시켜, 탱크(T2)로 산을 재충전시키기 위하여 펌프(P2)를 동작가능한 상태가 되도록 하기 위한, 펌프(P2)에 대한 공기 신호(M)를 제공한다. 제어기(127)가 수준 신호(72)의 존재를 감지할때, 제어 신호(61)가 종결되고, 밸브(SVP2)가 닫히며, 그럼으로써 펌프(P2)를 작동이 멈추게 한다.
8. 시스템 제어 스위치(SW3)를 이것의 "자동" 또는 "PB 시동" 위치로 수동으로 설정하거나 스위치(SW3)는 이것의 "오프" 위치에 남겨둔다.
9. 만약 시스템 제어 스위치(SW3)가 이것의 "오프" 위치중에 있다면, 시스템은 조작의 수동 모드중에 있으며, 코팅 조성물(1)에 대한 처리 사이클의 초기로 재설정된다.
10. 만약 시스템 제어 스위치(SW3)가 이것의 "오프" 위치중에 있지않다면, "PB 시동" 위치중에 있지 않겠는가? 만약 응답이 "예스"라면, 다음 단계로 진행되고, 만약 "노우"라면, 스위치(SW3)는 "자동"위치에 있게 되며, 14 단계로 진행된다.
11. "시동 클린-업 시퀀스" 스위치(SW7)를 수동으로 눌러서 시스템이 다음의 완전환 프로세스 시이퀀스가 한번에 진행되고, 그런후 시퀀싱을 멈추고 시스템을 "대기상태"로 되돌리도록 한다.
12. 펌프(P1, P2 및 P3)는 에너지가 끊기고, P1 및 P3에 대한 스트로크 카운터(11 및 44)는 각각 재설정된다.
13. 밸브(AV1 내지 AV8)는 코팅 배스(1) 순환을 위한 조작의 다음 모드로 진행되기 전에, 작동상태를 시험하고, 모든 밸브 동작기를 "닫힘" 위치로 재설정하기 위해 연속해서 순환된다.
14. 만약 "시스템 제어" 스위치(SW3)가 "자동" 위치중에 있다면, 제어기 (127)는 "피이드/재생 시퀀스"를 통해 시스템이 자동적이면서 주기적으로 수행되도록 프로그래밍되며, 시퀀스는 그러한 각각의 조작사이클 후에 소정의 수 시간동안 반복된다.
15. 소정의 시간 기간후에, 12 단계로 진행되고, 12 및 13 단계가 수행되며, 그리고 다음 모드인, 조작 모드 II 로 진행된다.
조작의 초기화 모드 I 후, 제어기(127)는 코팅 조성물을 하기의 단계를 거쳐서, 이온교환 컬럼(29)을 통해 하류 방향(화살표(6))으로 순환시키기 위한 조작 모드 II로 진행되도록 프로그래밍된다:
1. IEX 컬럼(29)으로부터 탈염수의 배출을 개시시키기 위해, 밸브(AV1 및 AV3)를 열기 위한 제어 신호(50 및 52)를 각각 발생시킨다.
2. IEX 컬럼으로부터 탈염수를 배출시키기 위해 소징의 수 갈론(관련된 신호(SIN1)의 펄스를 계수함으로써 감지된 각각의 스트로크는 0.016갈론을 나타냄)의 코팅 조성물(1)을 IEX 컬럼(29)안으로 펌핑시키기 위해 펌프(P1)가 동작가능상태가 되도록 공기 신호(L)를 제공하기 위해 밸브(SVP1)를 열기 위한 제어 신호(60)를 발생시킨다.
3. 펌프(P1)는 IEX 컬럼(29)을 보호하기 위해, 페인트(1)로부터 응고된 페인트 및 찌거기가 제거되도록 탱크(T4)로부터 코팅 조성물 배스 또는 페인트(1)를 끌어내어 필터(F1)를 통해 공급한다.
4. 신호(PR1)의 전압 수준을 필터(F1)의 어떠한 막힘이라도 검출되도록 감지되게 한다.
5. 코팅 조성물(1)이 밸브(AV1), 및 체크 밸브(25)를 통과하고, 이곳으로부터 하류 방향(6)으로 IEX 컬럼(29)으로 들어가고, IEX 컬럼(29)으로 들어감에 따라 탈염수를 배출시킨다.
6. 배출되어진 탈염수는 IEX 컬럼(29)으로부터 밸브(AV3) 및 스로틀 밸브(TV4)를 통해 흐른다 (스로틀 밸브는 소정의 흐름 속도로 수동으로 설정된다).
7. 배출된 탈염수는 티 커플링(37)을 통하여 폐수처리 시설로 방출되거나, 또는 폐수처리를 위하여 수집한다.
8. SV3를 작동이 멈추게 하기 위해 제어 신호(52)를 종결시키는데, 그럼으로 인해 밸브(AV3)를 닫기위한 공기 제어 신호(C)가 종결된다. 그러나, 밸브 AV1은 열어둔채로 둔다.
9. 코팅 조성물 또는 페인트(1)를 IEX 컬럼(29)을 통해 순환시키고, 처리된 페인트(1)를 탱크(T4)로 반송시키기 위한 단계를 제공하기 위한 프로그램을 개시한다.
10. 밸브(AV2)를 열기 위한 공기 제어 신호(B)를 제공하기 위해, 밸브(SV2)를 열기 위한 제어 신호(51)를 발생시킨다.
11. 탱크(T4)로부터의 코팅 조성물(1)이 탱크(T4)로 다시 방출되기 위해, 펌프(P1)를 통해 필터(F1), 밸브(AV1), 체크 밸브(25), IEX 컬럼(29)를 통해 하류(6)로, 밸브(AV2)를 통해, 필터(F2), 스로틀 밸브(TV1)(주어진 흐름속도로 설정됨), 체크 밸브(103)을 통해, 티 커플링(107)으로 순환된다.
12. 사이클이 코팅 조성물(1)로부터 금속 이온을 제거하기 위해 완결된 후, 필터(F1)의 막힘에 대한 신호(PR1)의 전압 수준을 모니터함으로써, 예를 들어, 만약 PR1이 +5볼트로 간다면 작동 경보등(L2)은 조작자에게 필터(F1)를 대체시키도록 알려준다.
13. 처리 사이클이 완결된 후, 압력 신호(PR2)의 전압 수준을 모니터함으로써, 예를 들어, 만약 신호가 +5볼트로 간다면 작동 경보등(L1)은 조작자에게 필터(F2)를 대체시키도록 알려준다.
14. IEX 컬럼(29)을 통과하는 코팅 조성물(1)의 소정의 양을 나타내는, 펌프(P1)에 대한 소정의 수의 스트로크를 계수한 후에, 펌프(P1)를 작동을 멈추게하기 위해 제어 신호(60)를 종결시킨다.
15. 스트로크 계수기(11)에 의해 증분되는, 소프트웨어 프로그래밍 중의 계수기(도시되지 않음)를 재설정시킨다.
16. 밸브(AV1)를 닫기 위해 제어 신호(50)를 종결시킨다.
17. 모드 III로 간다.
조작의 다음 모드인, 모드 III 는 하기의 단계들을 사용하여 탈염수로 IEX 컬럼(29)을 플러싱하기 위해 제어기(127)을 프로그래밍하는 것을 포함한다:
1. IEX 컬럼(29)으로부터 잔류 코팅 조성물(1)의 배출를 개시하기 위해, 제어 신호(51)를 계속해서 발생시켜 밸브(AV2)를 열린 상태로 유지하고, 이에 수반하여 제어 신호(56 및 57)을 발생시켜 밸브(SV7 및 SV8)를 각각 열고, 공기신호(G 및 H)를 각각 생성시켜 결국 밸브(AV7 및 AV8)가 열리도록 한다.
2. 펌프(P3)가 동작가능한 상태가 되도록 공기 신호(N)를 발생시키는 밸브(SVP3)를 열기 위해 제어 신호(62)를 발생시킨다.
3. 탱크(T1)으로부터 탈염수를, 밸브(AV7), 펌프(P3), 로토미터(40), 체크 밸브(38), 주어진 흐름속도로 설정된 스로틀 밸브(TV3), 밸브(AV8)를 통해, IEX 컬럼(29)안으로 하류 방향(6)으로 끌어내어, 이로부터의 잔류 조성물을 밸브(AV2), 필터(F2), 스로틀 밸브(TV1), 체크 밸브(103), 및 티 커플러(107)을 통해 탱크(T4)안으로 방출시킨다.
4. 순환동안, 이 조작 사이클 완결후, 모니터링 압력신호(PR2)는, 예를들어 0볼트에서 +5볼트가 되도록 상태가 변화된다면, 경보등(L1)을 작동시켜 조작자에게 필터(F2)를 교체하도록 알려준다.
5. 신호(SIN2)를 모니터함으로써, 언제 다음 단계(6)으로 진행할 것인지를 결정하기 위하여 펌프(P3)의 스트로크 수를 센다.
6. 밸브(AV2)를 작동을 멈추게 하기 위해 제어 신호(51)를 종결시키는 한편, 밸브(AV7 및 AV8)를 작동 상태로 유지시키기 위해 제어 신호(56 및 57)를 유지한다.
7. 밸브(AV3)를 열기 위해 공기 제어 신호(C)를 발생시키는 밸브(SV3)를 작동시키기 위한 제어 신호(52)를 먼저 발생시킴으로써, IEX 컬럼(29)을 탈염수로 플러싱 아웃시키기 위한 다음 사이클을 개시한다.
8. 탈염수를 처리를 위해 시스템 밖으로 방출시키기 위하여, 탱크(T1)로부터, 밸브(AV7), 펌프(P3), 로토미터(40), 체크 밸브(38), 스로틀 밸브(TV3), 밸브(AV8)을 통해, IEX 컬럼(29)을 지나 하류 방향(6)으로, 이곳으로부터 밸브(AV3)를 통해, 스로틀 밸브(TV4), 및 티 커플러(37)을 통해 끌어내면서 관련된 스트로크 인디케이터 신호(SIN2)의 펄스를 계수시킨다.
9. 주어진 양의 탈염수가 IEX 컬럼(29)을 통과한 후에, 펌프(P3)의 작동을멈추게 하기 위해 제어 신호(62)를 종결시킨다.
10. 밸브(AV3, AV7, 및 AV8)을 각각 작동이 멈추도록 제어 신호(52, 56 및 57)를 종결시킨다.
11. 만약 이용된다면, 모드 IV로 가고, 그렇지 않으면 모드 V로 간다.
선택적인 본 발명의 한가지 구체예에 있어서, 조작의 4번째 모드는 먼저 한번 사용된 산(113)을 탱크(T3)로부터 IEX 컬럼(29)을 통해 하류 방향(화살표(6))으로 순환시킴으로써 IEX 컬럼(29)중의 수지(30)의 재생을 개시하기 위한 다음 단계로 들어간다. 이 선택적 모드 IV는 하기의 단계들을 포함한다:
1. 수준 신호(75, 76 및 77)를 모니터하고, 만약 이 모드중의 어떠한 시간에 탱크(T3)중의 사용된 산의 수준이 수준 신호(77)에 의해 지시되는 것처럼 소정의 낮은 수준 이하로 떨어진다면, 이 조작의 모드를 종결시키고, 모드 V로 이동한다.
2. 밸브(AV9)를 열기위해 제어 신호(5B)을 발생시킨다.
3. 밸브(AV8)를 열기위해 제어 신호(57)를 발생시킨다.
4. 밸브(AV3)를 열기위해 제어 신호(52)를 발생시킨다.
5. 펌프(P3)가 동작가능한 상태가 되도록 제어 신호(62)를 발생시킨다.
6. 소정의 양의 사용된 산(113)을 탱크(T3)로부터 연속적으로 이어진 밸브 (AV9), 펌프(P3), 로토미터(40), 체크 밸브(38), 스로틀 밸브(TV3), 밸브(AV8), IEX 컬럼(29)(이것을 통해 하류 방향(6)), 밸브(AV3), 밸브(TV4), 및 재사용된 산(113)이 처리를 위해 시스템으로부터 방출되는 티 커플링(37)을 포함한 흐름경로를 통해 순환시키기 위해, 소정의 스트로크 수에 대한 펌프(P3)의 스트로크 수를계수하기 위해 SIN2를 모니터한다.
7. 펌프(P3)의 소정의 수의 펌프(P3)의 스트로크 또는, 본 실시예에 있어서 +5볼트에서 0볼트로 되는 수준 수준(77)으로 지시되는 것과 같이 낮은 수준으로 떨어지는 탱크(T3)중의 사용된 산의 수준중에서 하나가 발생하면 제어 신호(62)를 종결시킨다.
8. 밸브(AV9)를 닫기위해 제어 신호(59)를 종결시킨다.
9. 밸브(AV3)를 닫기위해 제어 신호(52)를 종결시킨다.
10. 제어 신호(55)를 계속 발생시키고, 곧 모드 V로 진행한다.
모드 V는 IEX 컬럼 수지(30)로부터 금속 이온을 제거시킴으로써 IEX 컬럼(29)중에 함유된 수지(30)의 재생을 완결시키기 위하여, 탱크(T2)로부터 나온 새로운 재생된 산(68)을 IEX 컬럼(29)를 통해(화살표 6) 순환시키기 위해 대비한다. 만약 사용된 산 탱크(T3)를 포함하기 위한, IEX 컬럼(29)내의 수지(30)의 초기 재생을 위해 한번 사용된 산(113)을 사용하기 위한, 본 발명의 구체예가 이용되지 않는다면, 조작 모드 V는 모드 III 후에 곧 바로 시작되며, 탱크(T2)로부터 나온 재생된 산(68)은, IEX 컬럼(29)를 통과한 후에, 처리를 위해 시스템으로부터 배출된다. 조작 모드V를 위한 단계는 하기와 같다:
1. 밸브(AV3)를 열기위해 제어 신호(52)를 발생시킨다.
2. 밸브(AV5)를 열기위해 제어 신호(54)를 발생시킨다.
3. 밸브(AV8)를 열기위해 제대 신호(57)를 발생시킨다.
4. 새로운 재생된 산(68)을 탱크(T2)로부터 IEX 컬럼(29)를 통해 하류 방향(화살표(6))으로 순환시키기 위한 펌프(P3)가 동작가능한 상태가 되도록 위해 제어 신호(62)를 발생시킨다.
5. 소정의 양의 새로운 재생된 산(68)이 언제 IEX 컬럼(29)를 통과하여 폐수처리를 위해서 티 커플링(37)로부터 배출되고 그 시기에 펌프(P3)를 작동이 멈추도록 하기 위한 제어 신호(62)를 종결시 킬지를 결정하도록 펌프(P3)의 스트로크 수를 세기 위하며 신호(SIN2)를 모니터한다.
6. 스트로크 카운터(44)를 재설정시킨다.
7. 밸브(AV3)를 닫기위해 제어 신호(52)를 종결시킨다.
8. 밸브(AV5)를 닫기위해 제어 신호(54)를 종결시킨다.
9. 밸브(AV8)을 열린 상태로 유지시키기 위해 계속해서 제어 신호(57)를 발생시킨다.
모드VI-A는 탈염수를 이용하여 하류 방향(6)으로 IEX 컬럼(29)을 휑궈내고, 폐수 처리를 위한 시스템으로부터 세척수를 방출시키기도록 프로그래밍된 제어기(127)를 통해 제공된다. 만약 사용된 산 탱크(T3)를 포함하고, 한번 사용된 산(113)을 IEX 컬럼(129)내의 수지(30)의 초기 재생을 위하여 사용하기 위한 본 발명의 구체예가 이용된다면, IEX 컬럼(29)으로부터 초기에 배출된 용액은 그 탱크(T3)내에 사용된 산(113)을 재충전시키기 위해 탱크(T3)로 순환된 후, IEX 컬럼(29)을 통해 순환된 어떠한 추가의 세척 용액은 폐수처리를 위해 방출된다. 모드 VI-A는 하기의 단계를 포함한다:
1. 밸브(AV7)를 열기위해 제어 신호(56)를 발생시킨다.
2. 만약 한번 사용된 산(113)이 사용될 수 있는 탱크(T3)를 포함하는 구체예가 이용되지 않는다면 단계 11로 가고, 그렇지 않는다면 다음 단계로 간다.
3. 밸브(AV10)을 열기위해 제어 신호(59)를 발생시킨다.
4. 펌프(P3)가 동작가능상태가 되도록 제어 신호(62)를 발생시킨다.
5. 펌프(P3)를 통해 펌핑되는 탈염수의 양을 모니터하도록, 펌프(P3)의 스트로크 수를 계수하기 위해 신호(SIN3)를 모니터한다.
6. 탱크(T1)내의 탈염수(2)의 수준을 감지하기 위해 수준 신호(70 및 71)를 모니터한다.
7. 만약 수준 신호(71)가 소정양의 탈염수가 IEX 컬럼(29)을 통과하기 3분 이상 전에 동작가능하게 되지 않는다면, 펌프(P3)의 작동이 멈추도록 하기 위해 제어 신호(62)를 종결시키고, 탈염수를 사용하여 탱크(T1)을 수준신호(70)가 "하이"로 될때까지 재충전시키기 위한 밸브(SV11)를 작동시키기 위해 제어 신호(63)를 발생시킨다. 그 다음에 제어 신호(63)가 종결되고, 나머지 린스 사이클을 위해 펌프(P3)를 다시 작동하도록 제어 신호(62)가 재생된다.
8. 탱크(T3)중의 사용된 산의 수준을 추적하기 위해 액체 수준 신호(75, 76 및 77)를 모니터한다.
9. 수준 제어 신호(75)가 동작되고 있음(한번 사용된 산(113)으로 탱크(T3)가 충만함을 나타냄)이 감지될 때나, 또는 IEX 컬럼(29)를 통과하여 탱크(T3)로 지나간 사용된 재생 산의 소정의 양의 지표인 펌프(P3)의 소정의 스트로크 수가 계수 될 때에, 펌프(P3)를 작동이 멈추도록 하기 위해 제어 신호(62)를 종결시킨다.
10. 탱크(T3)가 사용된 산(113)으로 재충전되어질 때, 밸브(AV10)를 닫기위해 제어 신호(52)를 종결시킨다.
11. 폐수 처리로 용액의 목적지를 바꾸도록 밸브(AV3)를 열기 위해 제어 신호(52)를 발생시킨다.
12. 펌프(P3)를 동작가능한 상태가 되도록 제어 신호(62)를 발생시킨다.
13. 펌프(P3)에 대한 추가의 스트로크 카운트를 모으기 위해 스트로크 신호(SIN2)를 계속 모니터한다.
14. 소정의 양의 탈염수(2)가 IEX 컬럼(29)를 통과한 후 펌프(P3)에 대한 제어 신호(62)를 종결시킨다.
15. 하류 세척 모드 VI-A를 종료시키기 위해 밸브(AV3 및 AVB)를 닫기위하여 제어 신호(52 및 57)를 종결시킨다.
모드VI-B는 탈염수를 사용하여 상류 방향(8)으로 IEX 컬럼(29)를 세척하고, 폐수 처리를 위한 시스템으로부터 세척수를 방출시키기 위한 제어기(127)를 통해 제공된다. 이 상류 플러싱 조작은 탈염수의 흐름에 대해 소정의 속도로 IEX 컬럼(29)중의 이온교환 수지(30)를 유동시키기 위하여, 실질적으로는 IEX 컬럼(29)으로부터 외래입자물질을 제거하기 위해 수행된다. 이러한 방식으로, 많은 연이은 조작 사이클에 걸친 외래입자물질의 축적에 의한 IEX 컬럼(29)의 막힘이 예방된다. 시스템의 공학적 원형에 있어서, IEX 컬럼(29)의 상단 디퓨저는 이온교환물질(30)이 컬럼내에서 유지되는 동시에, 응집된 라텍스 재료의 IEX 컬럼(29)을 통한 안팎출입이 안전하도록, 더욱 더 다공성이면서 오픈되고, 또 비틀린 유체경로를 가지도록 변형되어졌다. 모드 VI-B는 하기의 프로그래밍 단계를 포함한다:
1. 밸브(AV2)를 열기위해 제어 신호(51)를 발생시킨다.
2. 밸브(AV4)를 열기위해 제어 신호(53)를 발생시킨다.
3. 밸브(AV7)를 열기위해 제어 신호(56)를 발생시킨다.
4. 펌프(P3)를 동작가능한 상태가 되도록 제어 신호(62)를 발생시킨다.
5. 펌프(P3)를 통해 펌핑되는 탈염수의 양을 모니터하기 위하여, 펌프(P3)의 스트로크 수를 계수하기 위해 신호(SIN2)를 모니터한다.
6. 탱크(T1)내 탈염수(2)의 수준을 감지하기 위해 수준 신호(70 및 71)를 모니터한다.
7. 예를 들어, 소정의 양의 탈염수가 IEX 컬럼(29)을 통과하기 전에 수준신호(71)가 0 볼트로 된다면, 펌프(P3)의 작동이 멈추도록 하기 위해 제어 신호(62)를 종결시키고, 탈염수를 사용하여 탱크(T1)를 재충전시키기 위해 수준신호(70)이 +5볼트가 될때까지 밸브(SV11)를 작동시키기 위해 제어 신호(63)를 발생시킨후, 제어 신호(63)를 종결시키고, 린스 사이클의 나머지를 위해 펌프(P3)를 다시 작동시키도록 제어 신호(62)를 재생시킨다.
8. 소정의 양의 탈염수(2)가 IEX 컬럼(29)을 통과한 후 제어신호(62)를 종결시킨다.
9. 밸브(AV2, AV4, 및 AV7)를 작동이 멈추도록 하기 위해 제어 신호(51, 53 및 56)를 종결시킨다.
조작의 배스 안정화 모드, 구체적으로 모드 I 내지 모드VI는 코팅 조성물(1)로부터 금속 이온을 제거하고, IEX 컬럼(29)중의 수지(30)를 재생시키기 위한 코팅 조성물(1) 처리의 하나의 완전한 사이클을 제공한다. 제어기(127)는 코팅 조성물 배스(1)의 안정화를 위해, 모드 I 내지 모드VI를 주기적으로 반복시키기 위한 자동 조작모드로 프로그래밍될 수 있다.
IEX 컬럼(29)에서 금속 이온들을 제거하기 위해 컬럼을 통해 코팅 조성물을 순환시키기 위한, 특정 시스템의 요구에 의존적인 모드 II 프로그래밍에 있어서, 제어기(127)는, 모드 III 로 진행되기 전, IEX 컬럼(29)를 통해 코팅 조성물(1)의 소정양이 통과하도록 프로그래밍되거나, 또는 전도도 신호(C1 및 C2) 간 차이가 소정의 수준으로 감소하는 시간까지 코팅 조성물(1)을 IEX 컬럼(29)을 통해 순환시키는 시스템을 위한 프로그래밍이 제공되어질 수 있고, 그 다음 모드 II가 종결되고, 이후 모드 III에 개시되도록 프로그래밍되어질 수 있다. 유사하게는, 모드 VI조작에 있어서, 제어기(127)는 소정양의 탈염수(2)를 사용하며 IEX 컬럼(29)을 세척하거나, 전도도 신호(C3)가, 어떤 잔류 재생된 산(68 또는 113)도 IEX 컬럼(29)중에 남겨지지 않음을 나타내는, 소정의 최소 값으로 감소될 때까지 탈염수(2)를 사용하며 IEX 컬럼(29)을 계속해서 세척하도록 프로그래밍될 수 있다. IEX 컬럼(29)내에 높은 농도의 잔류 산이 코팅 조성물(1)을 컬럼내에서 응집하도록 하여 시스템을 막게 한다는 점에 있어서, IEX 컬럼(29)이 완전히 세척되고 모든 잔류산이 제거됨을 보증하는 데 특히 중요하다.
제어기(127)는 또한 복수 타입의 경보에 대한 시험을 위한 조작 모드를 제공하도록 프로그래밍된다. 이 시험 프로그램은 이하, 상세히 설명한다. 프로그래밍은시스템 제어 스위치(SW3)가 이것의 "자동" 또는 "PB 시동" 위치중에 있을때만에 시험 프로그램이 수행될 수 있음에 주목한다. 8가지의 상이한 시험 모드가 있는데, 이것들의 대부분은 수동조작외에 또 자동화된 조작을 필요로한다.
시험 모드 1은 램프(160) 및, 만약 사용된다면, "배출구 압력 낮음"을 나타내는 백릿 패널 디스플레이(160')를 동작가능하게 만들도록 대비한다. 전술된 것처럼, 상기 경보는 필터(T2)와 TV-1 사이의 라인중에서 측정된 압력이 낮음을 나타내는 것으로, 필터(F2)가 막혀있으므로 교체되어야만 함을 의미한다. 이 경보는, 예컨대, 낮을 배출구 압력을 나타내는 +5볼트로부터 0볼트로 되는 것과 같이, 압력신호(PR2) 변화상태의 제어기(127)에 의한 감지를 통해 동작가능한 상태가 된다. 상기 제 1 시험 모드중에 포함된 단계는 하기와 같다 :
1. 만약 펌프(P1)가, 0볼트의 수준에서의 신호(PR2)를 이용하여 15초 이상동안 작동된다면, 낮은 배출구 압력을 나타내는 본 실시예에서 램프(160), 및 만약 사용된다면 디스플레이(160')를 작동가능한 상태가 되도록 램프 신호(L1)가 발생될 것이다. 또한 램프신호(L10)도 램프(169) 및 (만약 사용된다면), 관련된 디스플레이(169')(경보등)이 시간에 발생되어진다. 추가로 디스플레이는 시스템내 개별적인 경보가 작동될 때는 언제든지 항상 동작가능상태가 된다.
2. 만약 낮은 배출구 압력이 주어진 조작 사이클동안에 검출된다면, 조작 사이클을 완결시키지만, 문제점이 해결될 때까지 다음 사이클을 개시시키지 못하고, 또는 그때 만약 어떤 조작 사이클도 수행되지 않는다면, 새로운 사이클은 문제점이 해결될 때까지 개시되지 못한다.
3. 만약 주 보수가 요구된다면, 경보를 일으키는 조건을 수동으로 바로 잡고, "시스템 제어" 스위치(SW3)를 "오프" 위치로 스위칭 시킴에 의해 시스템을 재설정시킨 후, "자동" 또는 "PB 시동" 의 이전의 위치로 되돌린다. 만약 후자라면, 조작의 재시동 사이클을 위해 누름버튼(SW7)을 누른다.
4. 만약 주 보수가 요구되지 않는다면, 즉시 이전 단계를 건너뛰고, 모든 시스템 조작 및 기능을 작동이 멈추도록 하기 위해 "긴급 정지" 누름 버튼(SW5)을 이것의 걸쇠가 걸리는 내려앉은 위치안으로 수동으로 누른다.
5. 고장 조건을 수동으로 조사하여, 바르게 고친다.
6. 문제점을 바로잡은 후, 방해된 사이클중의 시스템 조작을 회복시키기 위해 "긴급 정지"스위치(SW5)를 풀아웃시킨다.
제 2 시험 모드인 "시험 모드 2"는 필터(F1)가 막혀있는지를 검출하기 위해 제공된다. 이 시험 모드는 하기의 단계를 포함한다:
1. 압력 신호(PR1)을 모니터한다.
2. 만약 PR1이 펌프(P1)가 작동상태인 동안에 15초 이상동안 "하이"쪽으로 간다면, 램프(161) 및 관련된 백릿 디스플레이(161') (만약 사용된다면), 그리고 램프(169) 및 관련된 디스플레이(169') 를 작동가능한 상태가 되도록 위해 램프 신호(L1 및 L10)를 발생시킨다.
3. 현재의 조작 사이클을 완결시키고, 문제점이 해결될때까지 새로운 조작 사이클의 실행을 억제시킨다.
4. 만약 문제점이 쉽게 해결될 수 없다면, 똑같이 고치고 "시스템제어" 스위치(SW3)의 사용을 통해 시스템을 수동으로 먼저 스위치의 "오프" 위치로 재설정시킨 후, 필터(F1)을 가로지르는 높은 델타 압력 교차 필터(F1)를 감지하기 전 위치로 재설정시킨다.
5. 만약 문제점이 쉽게 해결될 수 있다면, 이전 단계를 건너뛰고, 시스템의 어떠한 부분의 조작이라도 막기위해 "긴급 정지" 스위치(SW5)를 수동으로 누른다.
6. 필터(F1)를 교환한다.
7. "긴급 정지"스위치(SW5)를 위해 누름버튼을 끌어당긴다.
8. 고장 조건동안에 방해된 조작 사이클을 회복시킨다.
제 3 시험 모드인 "시험 모드 3"은 조작 사이클을 출발하기 전의 용액 수준을 시험하기 위해 제공된다. 이 시험 모드는 하기의 단계를 포함한다;
1. 수준 신호(70내지 77)를 모니터한다.
2. 어떠한 주어진 조작 사이클이라도 출발하기 전에, 관련된 조작사이클의 수준중에 어떠한 것이 맞지 않다면, 램프(162), 및 만약 사용된다면 관련된 백릿 디스플레이(162')가 동작가능하도록 램프 신호(L3)를 발생시킨다.
3. 만약 수준이 연속적으로 교정된다면, 램프 신호(L3)를 종결시킨다.
4. 만약 배스를 안정시키기 위한 모드 I 내지 모드 VI중의 하나로 조작되지 않고 있으면, 그리고 잘못된 유체 수준이 최소한 하나의 탱크(T1, T2, T3)중에서 검출된다면, 램프(162), 및 만약 사용된다면 관련된 백릿 디스플레이(162')가 동작가능하도록 램프 신호(L3)를 발생시킨다.
5. 만약 3분 또는 일부 다른 프로그래밍된 소정의 시간 동안에, 예컨대, 탈염수 수준을 나타내는 0볼트의 수준 신호(70), 및/또는 탱크(T2)중의 새로운 재생된 산 수준을 나타내는 0볼트의 레벨 신호(74), 및/또는 탱크(T3)중의 사용된 산 수준을 나타내는 0볼트의 수준 신호(77) (탱크(T3)증의 사용된 산의 선택적 사용을 가정함)가 코팅 조성물 배스(1)의 처리를 개시시키기 위해 교정되지 않는다면, 램프(162), 및 만약 사용된다면, 관련된 백릿 디스플레이(162')가 동작가능하도록 램프 신호(L3)를 발생시킨다.
6. 만약 램프(L3)가 작동상태가 되면, 시스템 조작의 스타트-업을 억제시킨다.
7. 안전한 방식으로 처리되는 시스템의 어떤 필요한 보수가 가능하도록 "긴급 정지" 스위치(SW5)를 수동으로 누른다.
8. 탱크(T1, T2), 및 만약 사용된다면, 탱크(T3)의 유체 수준의 하나 또는 그 이상에 있어서 유체수준 문제점들을 수동적으로 교정한다.
9. 시스템 조작이 허용되도록 "긴급 정지" 스위치(SW5)를 수동으로 끌어당긴다.
10, 만약 클린-업 시퀀스의 개시가 요구된다면, "시동 클린-업 시퀀스" 스위치(SW7)를 수동으로 누른다.
11. 단계 2로 되돌아간다.
다음 시험 모드인 "시험 모드 4"는 만약 하나의 공기-작동된 자동 밸브중의 하나가 고장나면, 검출하여 가시적 경보를 제공하기 위한 것이다. 전술된 것처럼, 각각의 자동 밸브(AV1 내지 AV10)는 쌍으로 된 밸브 상태라인(80 내게 89)를 각각포함한다. 이 실시예에 있어서, 각각의 상기 쌍의 상태 라인(80 내지 89)를 위하여, 관련된 밸브가 열릴때 하나의 라인은 +5볼트 신호를 가지며, 다른 라인은 0볼트 신호를 갖고, 그리고 관련된 밸브가 닫힐때는 반대 전압 수준 신호를 갖는다. 이러한 방식으로, 제어기(127)는 시스템의 조작동안의 모든 시간에, 밸브(AV1 내지 AV10)들 중의 주어진 어떤 하나의 조건을 모니터할 수 있다. 달리 말하면, 밸브(AV1 내지 AV10)들중의 어떠한 하나의 주어진 조작은 열려있거나 닫혀있는 조작 상태중에 있는 밸브를 나타내는 제어기(127)로 되돌려 보내지는 피이드백 신호로 귀결되는데, 그럼으로써 제어기(127)는 그 상태가 밸브에 필요한 상태인지를 결정한다. 이 시험 모드 4에 관련된 단계는 하기와 같다:
1. 밸브 상태 라인 쌍(80 내지 89)을 모니터한다.
2. 어떠한 밸브(AV1 내지 AV10)가 10초내에 밸브 상태 신호중의 변화를 발생, 본 실시예에 있어서는 특정한 하나 이상의 밸브의 조건을 변화시키기 위한 제어 신호를 발생시키지 못했다는 것을 나타내는 램프(163) 및, 만약 사용된다면, 백릿 디스플레이(163')가 작동되도록 램프 신호(L4)를 발생시킨다.
3. 밸브 고장 경보가 검출되어 제공되면, 모든 자동 밸브는 닫히고 진행될 수 있는 어떠한 시스템 조작도 정지된다.
4. 밸브 고장을 고치는 보수를 실행하기 위해 "긴급 정지" 스위치를 수동으로 누른다.
5. "시스템 제어" 스위치(SW3)를 "오프" 위치로 수동으로 돌려놓는다.
6. 고장난 밸브 또는 밸브들(AV1-AV10)를 위치시키기 위해, "시스템제어" 스위치(SW3)를 "오프" 위치에 있는 동안에, "시동 클린-업 시퀀스"를 위한 누름버튼 스위치(SW7)를 누른다.
7. 제어기(127)는 관련된 밸브의 고장을 나타내기 위해 고장난 공기 솔레노이드 밸브에서 램프를 번쩍이거나 깜박거리게 할 것이다.
8. 고장난 밸브 또는 밸브들(AV1 내지 AV10)을 수동으로 고치거나 대체시킨다.
9. IEX 컬럼(29)을 탈염수를 사용하여 수동으로 세척하고 이 세척수를 페수 처리를 위해 방출시킨다.
10. "시스템 제어" 스위치(SW3)를 "자동" 또는 "PB 시동" 위치로 수동으로 돌려놓는다.
11. "긴급 정지"스위치(SW5) 누름버튼을 수동으로 끌어당긴다.
12. 프로세스 시퀀스를 시퀀스의 제 1단계로부터 다시 시작되도록 "시동 클린-업 시퀀스" 누름버튼 스위치(SW7)를 수동으로 누른다.
다음 시험 시퀀스는 펌프(P1)의 에너자이재이션에 필요한 시퀀스 동안에 펌프(P1)가 작동하지 않는지를 검출하여 경보 램프를 제공하기 위한 "시험모드 5" 이다. 이 시험 모드를 위한 단계는 하기와 같다:
1. 펌프(P1)의 펌프 스트로크를 계수시키기 위해 SIN1을 모니터한다.
2. 펌프(P1)가 동작가능상태가 되면 인제든지 제어 신호(60)를 발생시킨다.
3. 펄스 신호(SIN1)의 수령에 반응을 보이는 펌프(P1)의 작동상태를 나타내기 위한 램프(168), 및 백릿 디스플레이(168')(만약 사용된다면)가 동작가능상태가되도록 램프 신호(L9)를 발생시킨다.
4. 15초 이내 또는 펌프(P1)을 동작가능상태가 되도록 신호(60)을 생성하는 어떤 다른 소징의 시간이내에, 소정의 수 이하의 스트로크 신호(SIN1)가 검출된다면, 펌프(P1)에서의 고장조건(전형적으로는 차단된 방출라인)경보를 제공하기 위한 램프(164) 및 백릿 디스플레이(164')(만약 사용된다면)을 작동시키기 위한 램프신호(L5)를 발생시킨다.
5. 만약 펌프(P1)의 스트로크 속도가 초당 5 스트로크를 초과하거나 펌프(P1)가 액체 대신에 공기를 펌핑시킴을 나타내는 일부 다른프로그래밍된 속도라면, 펌프(164), 및 백릿 디스플레이(164')(만약 사용된다면)를 작동시키기위한 램프 신호(L5)를 발생시킨다. 차단된 흡인관을 나타내는 상기 디폴트 조건에 있어서, 램프(162)는 연속적으로 작동된다.
6. 조작중에 있는 어떠한 시스템 과정도 종결시키고, 모든 자동밸브를 닫는다.
7. "긴급 정지" 누름버튼 스위치(SW5)를 누른다.
8. 펌프(P1)의 기능장애를 고치기 위한 보수를 수동으로 수행한다.
9. 시스템의 조작을 회복시키기 위해 "긴급 정지" 누름버튼(SW5)을 수동으로 끌어당긴다.
경보 시험 모드 6은 펌프(P3)의 조작을 감시하기 한 제어기(127)의 프로그래밍을 제공한다. 이에 관련된 단계는 하기와 같다:
1. 스트로크 지시기 신호(SIN2)를 모니터한다.
2. 펌프(P3)를 필요한 만큼 작동시키기위해 제어 신호(62)를 발생시킨다.
3. 만약 소정의 양의 스트로크 신호(SIN2)가 15초 이내 또는 펌프(P3)를 동작가능한 상태가 되도록 하는 어떤 프로그래밍된 시간 이내에 수신되지 않는다면, 펌프(P3)의 작동에 있어서 불이행을 나타내는 정보를 제공하기 위해 램프(164) 및, 만약 사용된다면, 관련된 백릿 디스플레이(164')가 번쩍거리거나 깜빡거리도록 펄스방식으로 램프 신호(L5)를 발생시킨다.
4. 만약 신호(SIN2)가 초당 5 스트로크를 초과하는 펌프(P3)에 대한 스트로크 속도 또는, 액체 대신 공기를 펌핑시키는 펌프(P3)를 나타내는 일부 다른 프로그래밍된 속도를 나타낸다면, 전 단계에서 나타낸것 처럼 경보를 발생시킨다.
5. 모든 시스템 진행을 정지시킨다.
6. "긴급 정지" 누름버튼(SW5)를 수동으로 밀어넣거나 누른다.
7. 펌프(P3)중의 기능장애를 바로잡기 위해 보수를 수행시킨다.
8. 시스템 조작의 회복을 위해 "긴급 정지" 스위치(SW5)의 누름버튼을 끌어당긴다.
시험의 다음 모든는 "시험 모드 7"이다. 이 시험 모드는 새로운 재생된 산 탱크(T2)중의 산(68)의 수준이 소정의 수준 이하로 떨어질때 경보를 발생시키는데 이용된다. 시험 모드 7을 위한 단계는 하기와 같다:
1. 만약 재생된 산 탱크(T2)중의 산(68)의 수준이, 예컨대, 5초이상 또는 일부 다른 사전프로그래밍된 시간동안에 수준신호(74)가 +5 볼트에서 0볼트로 가는 것에 의해 나타낸 만큼의 소정의 낮은 수준 이하로 떨어진다면, 램프(165), 및 만약 사용된다면, 관련된 백릿 디스플레이(165')가 동작가능한 상태가 되도록 램프신호(L6)를 발생시킨다.
2. 모든 시스템 과정을 정지시킨다.
3. 보수를 실행시키기 위해 "긴급 정지" 누름버튼(SW5)을 수동으로 누른다.
4. 재생된 산 탱크(T2)중의 산의 수준을 수동으로 바로잡는다.
5. 방해된 시스템 방법의 조작을 회복시키기 위해 "긴급 정지" 누름버튼 스위치(SW5)를 끌어당긴다.
또 다른 시험 모드인 "시험 모드 8"은 만약 산의 수준이 소정의 수준을 초과된다면 경보를 발생시키도록 탱크(T2)중의 새로운 재생된 산 수준(68)을 감시하기 위해 제공된다. 시험 모드 8은 하기의 단계를 포함한다:
1. 수준 신호(72)를 모니터한다.
2. 만약, 예를 들어, 5초 이상 또는 일부 다른 사전프로그래밍된 시간 동안에 수준 신호(72)가 0볼트에서 +5볼트로 된다면, 램프(166), 및, 만약 사용된다면, 백릿 디스플레이(166')를 동작가능상태가 되도록 램프 신호(L7)를 발생시킨다; 또한 펌프(p2)의 작동을 중단하도록 신호(61)을 종결시킨다.
3. 중단없이 과정을 계속 수행한다.
4. 안전한 조건 보급을 보증하기 위해 재생된 산 탱크(T2)를 수동으로 점검한다.
특정 적용에 있어서는, 주어진 시간에 코팅 조성물 배스(1)의 수준을 검출하기 위한 수준 센서가 탱크(T4)중에 포함될 수 있으며 모니터될 수 있다. 그러나,전형적인 자동석출 시스템에 있어서, 코팅 조성물 배스(1)을 통과하는 공정소재에 적용되는 코팅 조성물(1)의 매우 얇은 코팅물 때문에, 장시간 사용하는 동안에 코팅 조성물 배스(1)의 수준에는 매우 적은 변화가 있게 된다. 또한, 코팅 조성물 물질는 매우 고가이고, 상기 자동석출 방법의 전형적인 사용자는 코팅 조성물(1)을 최대한으로 사용하도록 특별한 주의를 기울여야 한다. 그 결과로서, 코팅 조성물 배스(1) 수준의 수동적 제어만이 활용된다.
본 발명을 위한 공학적인 원형 시스템에 있어서, 탱크(T1)은 90갈론, 탱크(T2)는 140갈론, 탱크(T3)는 30갈론이며, 그리고 탱크(T4)는, 최소한 3,000갈론 탱크를 필요로하며, 최소한 27,000파운드의 코팅 조성물(1)을 함유할 수 있다. 또한, 탱크(T4)의 크기는 코팅 조성물(1)로 코팅될 공정소재의 크기에 의해 부분적으로 정해지고, 생산 속도는 실제 실시중에 요구된다. 원형 시스템에 있어서, 강철 제조공정소재는 이 제조공정소재를 코팅하기 위한 주어진 시간동안 코팅 조성물 배스(1)중에 침지된다. 그 결과로서, 사용기간 후에, 코팅 조성물중에 철이 형성되기 시작하며 코팅조성물 내에 과량의 금속 이온을 야기시킨다.
금속 이온의 일부분을 제거하기 위하여 언제 코팅 화합물 처리 사이클을 개시해야 할 지를 결정하기 위하여 코팅조성물 배스(1)의 수동적인 적정이 주기적으로 이루어질 수 있다. 사용된 특정 코팅 조성물 및 예컨대 철, 아연, 또는 크롬과 같은 관련 금속 이온과 관련하여 적정이 소정의 수준에 도달하면 처리 사이클은 개시된다. 또한, 특정한 적용에 있어서는 적정이 필요치 않을 수도 있다. 이러한 적용에 있어서, 처리 사이클을 개시시키기 위한 출발점은 특정 금속의 주어진 양을코팅하기 위한 코팅 조성물 배스(1)의 사용 정도에 비례하여 시간을 기초로 하여 결정될 수 있다.
전술된 것처럼, 각각의 밸브(AV1 내지 AV10)는 제어기(127)가 밸브의 조작을 모니터할 수 있게 하는 한쌍의 밸브 상태 신호 라인(80 내지 89)을 각각 갖는다. 상기 밸브들 각각은 2개의 모니터 근접 스위치(도시되지 않음)를 포함하는데, 그중 하나는 오픈 밸브를 나타내는 것과 관련된 밸브 상태 신호 라인들 중의 하나를 따라 신호를 전달하기 위한 것이고, 다른 하나의 스위치는 밸브가 닫힌 위치에 있음을 나타내는 것과 관련된 밸브 상태 신호 라인을 따라 신호를 전달하기 위한 것이다. 배스 안정화 흐름 프로세스에 있어서, 본 발명의 다른 구체예에 있어서, 제어기(127)는 배스 안정화 모드 II 시퀀싱을 개시시키기 전에, 처리를 위해 시스템을 통해 코팅 조성물 배 스(1)을 순환시키기 위한 단계들의 실질적인 시이퀀스를 개시하기 전에 적절한 조작에 대하여 밸브들을 시험하기 위하여, 모든 펌프는 "오프"상태에 두고, 순차적인 방식으로 닫힌 위치에서 열린 위치로 다시 닫힌 위치로 모든 밸브들(AV1부터 AV10)을 순차적으로 순환시키도록 프로그래밍 되어진다.
솔레노이드 밸브(SV1 내지 SV10)의 각각은 관련된 공기 조작된 밸브(AV1 내지 AV10)의 적절한 조작을 나타내기 위해 별도로 갖추어진 램프를 포함함을 추가로 주목한다. 만약 어떠한 밸브(AV1 내지 AV10)중에 고장이 생긴다면, 제어기(127)는 관련된 밸브상의 램프가, 이이 지적된 것처럼, 반짝이거나 깜박일 수 있도록 프로그래밍된다.
상기에서 설명된 것처럼, 시스템중에 제공된 가시적 경보를 재설정시키기 위해서는, 상기 논의된 것처럼, 탱크(T1, T2, 및 만약 사용된다면, T3)의 액체 수준에 관련된 경보는 관련된 탱크내 액체 수준의 회복시에 자동적으로 재설정된다. 그러나, 압력 경보는 먼저 비작용 후, 후속된 "긴급 정지" 스위치(SW5)의 작용에 의해 재설정된다. 또한, 밸브 경보는 시스템을 이것의 비작용 상태중에 위치시키고, 상기 주어진 흐름도중에 제시된 것처럼, 밸브를 제공함으로써 만이 재설정 될 수 있다.
본 발명의 바람직한 구체예에 있어서, IEX 컬럼(29)중에 사용을 위한 수지(30)의 선택은 특히 결정적이다. 상기 설명된 것처럼 선택된 수지(30)는 공지된 시스템에 응집하여 시스템을 막기 쉬운 라텍스-기재 코팅 조성물을 시스템이 취급할 수 있도록 한다. 현재의 시스템은, 실질적으로는 코팅 조성물(1)중의 라텍스 화합물의 최소의 응고와 함께, 금속 이온을 제거시키기 위하여 전체 조성물 및 양극 전해액이 IEX 컬럼(29)을 통과할 수 있게 해준다.
코팅 조성물 배스로부터 금속 이온을 제거시키기 위한 처리 방법에 있어서, 시스템은 플루오르화 수소산(HF)을 코팅 조성물(1)안으로 역 배출시킴으로 인하여, 코팅 조성물 배스(1)중의 HF의 수준이 일정 농도 이상으로 유지된다. 코팅 조성물 배스(1)중의 HF의 측정은 조작자에 의해 배스 자체를 유지시키 위한 것이며, 예컨대, 철 제거를 위하여 코팅 조성물 배스(1)가 언제 처리되어져야 하는지를 나타내는 것과는 관련이 없다.
램프(160 내지 177)에 있어서, 램프(168, 176, 177 및 175)는 만약 펌프(P1, P2 및 P3)중의 하나가 작동상태이거나, 또는 시스템이 작동의 스탠바이 모드에 있는지를 나타내기 위하여 녹색을 띈다. 램프(170 내지 174)는 관련된 사이클이 수행된 개시된 후에 어떤 주어진 조작 사이클의 어떤 단계가 현재 수행되고 있는지를 나타내기 위하여 황색을 띈다. 또한, 원형 시스템에 있어서, 램프(169)는 적색이며, 실질적으로는 램프(160 내지 167)보다 더 크게 만들어진다. 전기한 것처럼, 램프(169)는 시스템이 고장 조건에 있음을 나타낸다. 그 시간에 특정 고장 조건은 하나 이상의 램프(160 내지 167), 및 만약 사용된다면, 백릿 디스플레이(160' 내지 167')의 조명에 의해 제시된다. 이러한 색깔 암호는 제한되지 않으며, 다른 색깔 구성이 이용될 수 있다.
이하, 본 발명의 전형직인 조작 예를 설명한다. "재생 펌프" 스위치(SW1)는 "자동" 위치, "페인트 펌프" 스위치(SW2)는 "자동" 위치, "시스템 제어" 스위치(SW3)는 "PB 시동" 위치, "재생 화학적 펌프" 스위치(SW4)는 "자동" 위치, 그리고 "DI 메이크-업" 스위치(SW6)는 "자동" 위치로 돌려놓는다. 시스템 조작의 본 실시예동안에, 재생된 산 탱크(T2)는 재충전된다.
시스템이 일반적으로 조작될 때, 모든 적색 경보등은, 만약 사용된다면 관련된 백릿 디스플레이에서 처럼, "오프"이다. 이것은 램프(160 내지 167), 램프(169), 및 백릿 디스플레이(160' 내지 167', 및 169')를 포함한다. 만약 상기 램프중의 하나가 작동되거나 빛나게 되는 경보 상황이 발생된다면, 다양한 경보 또는 시험 조건에 대한 상기에서 설명된 것과 같은 올바른 활동이 조작의 다음 사이클이 개시되거나 조작의 방해된 사이클이 완결되기 전에 모든 상기 경보 상황을 제거하도록 취해져야만 된다.
본 실시예에 있어서, 코팅 조성물 배스(1)는 특정 HF 농도로 유지된다. 이 농도는 라인가이드 101 미터(헨켈사 제조품, Parker+Amchem, Madison Heights, Michigan)를 사용하여 수동으로 모니터한다. 전술된 것처럼, 코팅 조성물 배스(1)로부터 금속 이온을 제거하기 위한 배스 안정화의 사이클을 언제 개시시킬 것인지를 결정하기 위해서, 적정에 의한 배스의 주기적인 시험이 수행되어 질 수 있다. 선택적으로는, 철(본 실시예에서) 또는 다른 금속 이온이 페인트 또는 코팅 조성물 배스(1)로 들어가는 속도를 측정하기 위해, 매일 기준으로 코팅되는 제조공정소재의 면적, 코팅 조성물 배스(1)내에 유지되는 제조공정소재의 시간 길이 등을 얻기 위한 분석이 반복적인 생산시설 내에서 이루어질 수 있다. 본 발명의 원형 시스템을 위해 주어진 실시예에 있어서, 코팅 조성물 배스로부터 금속 이온을 제거하기 위한 조작의 각 사이클은 전형적으로는 1 내지 1½파운드의 철을 제거한다.
전기한 시스템 스위치 셋팅을 위해, 배스 안정화 사이클이 개시되려고 할때, 조작자는 모드 II 조작을 시작시키기 위해 단지 "시동 클린-업 시퀀스" 스위치(SW7)를 누르기만하면 된다. 또한, 전술된 것처럼, 시스템은 원하는 주기적 스케쥴상의 배스 안정화 사이클을 자동적으로 시작하도록, 조작의 완전히 자동적인 모드에 놓일 수 있다. 페인트 또는 코팅 조성물(1)이 IEX 컬럼(29)을 통해 순환됨에 따라, IEX 컬럼(29)으로부터 방출되는 액체의 pH 는 IEX 컬럼(29)으로 들어가는 액체의 pH 보다 진형적으로 약간 낮음을 주목한다. 그 결과, 이 반응은 금속 용해로 인해 소실되는 산성도와 사용중인 코팅 조성물중의 금속 산화와의 균형을 맞춘다.
조작 모드 II 동안에, 코팅 조성물(1)은 화살표(6)에 의해 나타낸 것처럼 IEX 컬럼(29)를 통해 아래쪽으로 흐른다. 전형적으로는 IEX 교환 컬럼(29)내의 수지 재료(30)는 코팅 조성물(1)이 수지 재료(30)를 통해 아래로 흐름에 따라 코팅 조성물(1)이 접촉하기 위한 최대 표면적을 제공하도록 비이드 형태이다. 강철로 된 제조공정소재를 코팅하는 본 실시예에 있어서, 제거되어져만하는 금속 이온은 Fe+3이다. 이러한 이온은 수지(30)를 거처서 이온교환 컬럼(29)중에서 H+로 교환되고, Fe 제거된 코팅 조성물(1)은 상기 설명된 것처럼 탱크(T4)로 직접 되돌려진다. IEX 컬럼(29)중의 수지(30)가 소모되면, IEX 컬럼(29)내에 잔류하는 어떠한 코팅 조성물도 제거하도록 IEX 컬럼(29)을 탈염수로 세척하기 위한 모드 III가 개시된다. 이 실시예에 있어서, IEX 컬럼(29)은 다음으로 최소한 모드 V, 및 일부 적용에 있어서는 모드 IV 및 V를 거쳐 재생되어진다. 수지(30)는 약 2% HF산을 사용하여 재생된다.
본 시스템은, 본 실시예에 있어서는 철과 같은, 금속 이온의 코팅조성물 배스(1)내 농도가 코팅에 쓰이는 제조공정소재에 부정적인 영향을 미치는 수준까지 증가되지는 못하게 하며, 및/또는 코팅 조성물(1)의 라텍스가 응고되지 않도록 해준다. 본 발명의 사용으로 인하여, 예컨대 철과 같은, 금속이온은 IEX 컬럼(29)중에서 사용된 수지(30)의 실시예에 의해 나타낸 것처럼 고정화된 킬란트를 사용하여 라텍스로부터 분리된다. 본 발명의 사용을 통해, 라텍스 손실은 이전 코팅 침적물 시스템에 비해 실질적으로 제거되었다.
상기에서 설명된 것처럼, 언제 배스 안정화가 실시되어야 되는가를 결정하기 위한 한가지 방법은 코팅 조성물 배스(1)의 적정 시험을 수동으로 하는 것이다. 이 적정 시험은 코팅 조성물 배스(1)중에 용해된 금속의 상대적인 양을 나타내도록 제공된다. 이 측정은 마이크로 지멘스 단위의 전도도를 측정하거나 읽어내는 표준 전도도 미터의 사용을 통해 이루어진다. 주어진 실시예에 있어서, 배스 전도도는 철 또는 다른 금속 이온 수준에 따라 변화되는데, 이는 계속된 생성으로 증가되며, 배스 안정화 사이클의 사용으로 인해 감소된다.
본 발명의 다양한 구체예가 개시되 설명되었지만, 본 발명은 이것에 제한되지 않는다. 당해 기술분야의 통상의 지식을 가진 자들은 상기 구체예에 대하여, 첨부된 특허청구의 범위의 사상 및 범주내에서 변형이 있을 수 있음을 인정할 것이다. 예컨대, 상기에서 설명된 것처럼, 본 시스템은 중합체를 포함한 자동석출 방법에 사용되는데 제한되지 않고 많은 유형의 화학적 배스로부터 금속 이온을 제거하기 위해 사용될 수 있다. 또한, 모드 VI-B는 화학적 배스(1)가 라텍스 및 중합체를 함유하는 자동석출 배스인 경우 사용을 위해 바람직할지라도, 이 모드는 다른 유형의 화학적 배스가 처리될 때에는 필요하지 않을 수도 있다.

Claims (63)

  1. 화학적 배스로부터 금속 이온 및 오염물질을 주기적으로 또는 비주기적으로 제거하기 위한 자동화 시스템으로서,
    화학적 배스(chemical bath)를 함유하는 제 1 탱크;
    화학적 배스로부터 금속 이온 오염물을 제거하기 위한 이온교환 물질을 함유하는 이온교환(IEX) 컬럼;
    화학적 배스를 제 1 탱크로부터 끌어내고, IEX 컬럼을 통과시키고, 처리된 화학적 배스를 IEX 컬럼으로부터 제 1 탱크로 반송시키기 위한, 제 1 제어 신호에 응답하는 제 1 순환 수단;
    화학적 배스의 전도도를 나타내는 제 1 전도도 신호를 제공하기 위한, 제 1 탱크내 화학적 배스중에 위치한 제 1 전도도 측정 수단;
    처리된 화학적 배스의 전도도를 나타내는 제 2전도도 신호를 제공하기 위한, IEX 컬럼에서 처리되어 제 1 탱크로 반송되는 화학적 배스중에 침지된 제 2 전도도 측정 수단; 및
    제 1 제어 신호를 발생시키며, 그 결과로써 생기는 화학적 배스의 순환동안에, 제 1 전도도 신호와 소정의 최소치로 감소된 제 2 전도도 신호사이의 차이를 감지하여, 제 1 순환 수단의 작동이 멈추도록 제 1 제어 신호를 종결시키는 제 1 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 포함하는 시스템.
  2. 제 1항에 있어서, 탈염수를 함유하는 제 2 탱크;
    잔류하는 화학적 배스를 배출시키고, 배출된 화학적 배스를 제 1 탱크로 반송시키기 위하여, 소정양의 탈염수를 IEX 컬럼안으로 펌핑시키기 위한, 제 2 제어 신호에 응답하는 제 2 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 2 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 1 조작상태 후속의 제 2 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  3. 제 2항에 있어서, 처리를 위한 시스템으로부터 폐기물을 방출시키기 위한 폐기 포트;
    IEX 컬럼을 세척하기 위해 제 2 탱크로부터 탈염수를 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 펌핑시키고, 이로부터의 탈염수를 폐기 포트에서 방출시키기 위한, 제 3제어 신호에 응답하는 제 3 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 3 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 2 조작 상태 후속의 제 3 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  4. 제 3항에 있어서, 화학적 재생물을 함유하는 제 3 탱크;
    화학적 재생물을 제 3 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 그로부터 화학적 재생물을 폐기 포트로부터 방출시킴으로써, 금속 이온을 이온교환 물질로부터제거하여, 이온교환 물질을 재생시키기 위한, 제 4 제어 신호에 응답하는 제 4 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 3 조작상태 후속의 제 4 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  5. 제 4항에 있어서, 폐기 포트를 통해 방출되는 유체의 전도도를 나타내는 제 3 전도도 신호를 발생시키기 위한, 폐기 포트내에 위치하는 제 3 전도도 수단; 및
    IEX 칼럼을 위한 제 2 세척 사이클을 개시하도록 제 3 제어 신호를 발생시키고, 제 3 제어 신호 종결을 위해 소정의 값으로 감소된 제 3 전도도 신호를 감지하기 위한, 제 4 조작 상태 후속의 제 5 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  6. 제 4항에 있어서, 잔류하는 화학적 재생물을 IEX 컬럼으로부터 제거하기 위해, 탈염수를 사용하여 한쪽 방향으로 IEX 컬럼을 세척하는데 필요한 소정 시간 이상 동안 제 3 제어 신호를 발생시키도록, 제 4 조작 상태 후속의 제 5 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  7. 제 6항에 있어서, 모든 외래 입자가 IEX 컬럼으로부터 확실하게 제거되도록, 탈염수를 제 2 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키기 위한, 제 5제어 신호에 응답하는 제 5 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 5 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 5 조작 상태 후속의 제 6 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  8. 제 1항에 있어서, 화학적 배스가 자동석출 프로세스에 사용하기 위한 라텍스 기재 코팅 조성물로 이루어짐을 특징으로 하는 시스템.
  9. 제 1항에 있어서, 제 1 순환 수단이 IEX 컬럼의 막힘을 줄이기 위해 화학적 배스로부터 고체 입자를 제거하도록, 제 1 탱크와 IEX 컬럼의 입구 사이에 제 1 필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  10. 제 9항에 있어서, 제 1 순환 수단이 처리된 화학적 배스를 제 1 탱크로 반송시키기 전에 이온교환 물질 및 다른 고체 입자를 처리된 화학적 배스로부터 제거하도록, IEX 컬럼의 출구와 제 1 탱크 사이에 제 2 필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  11. 제 3항에 있어서, 새로운 화학적 재생물을 함유하는 제 3 탱크;
    한번 사용된 화학적 재생물을 함유하는 제 4탱크;
    소정양의 한번 사용된 화학적 재생물을 제 4 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 그로부터의 재생물을 폐기 포트로부터 방출시킴으로써, 이온교환 물질을 재생시키기 위한, 제 4 제어 신호에 응답하는 제 4 순환 수단;
    새로운 화학적 재생물을 제 3 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 이로부터 한번 사용된 화학적 재생물을 폐기 포트로부터 방출시키기 위한, 제 5 제어 신호에 응답하는 제 5순환 수단;
    한번 사용된 화학적 재생물을 IEX 컬럼으로부터 제 4 탱크로 배출시키기 위해, 제 2 탱크로부터 IEX 컬럼으로 한쪽 방향으로 탈염수를 펌핑하기 위한, 제 6 제어 신호에 응답하는 제 6 순환 수단;
    필요한 시간 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키기 위한 제 4 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단;
    이온교환 물질의 재생을 완결시키는데 필요한 시간 동안에 제 5 제어신호를 발생시키기 위한 제 5 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단;
    소정양의 한번 사용된 재생 화학물질을 제 4 탱크안에 채우거나 제 4 탱크 안으로 이송시키는데 필요한 시간 동안에 제 6 제어 신호를 발생시키기 위한 제 6 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단; 및
    소정양의 탈염수를 사용하여 한쪽 방향으로 IEX 컬럼을 세척하는데 필요한 시간 동안에 제 3 제어 신호를 발생시키기 위한 제 7 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  12. 제 11항에 있어서, 모든 외래 입자가 IEX 컬럼으로부터 확실하게 제거되도록탈염수를 제 2 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키고, 이로부터 탈염수를 폐기 포트로부터 방출시키기 위한, 제 7 제어 신호에 응답하는 제 7 순환 수단; 및
    잔류하는 화학적 재생물을 제거하기 위해 충분한 탈염수를 IEX 컬럼을 반대 방향으로 통과시키는데 필요한 시간 동안에 제 7제어 신호를 발생시키기 위한 제 8 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  13. 제 12항에 있어서, 제 4 탱크내 한번 사용된 재생 화학물질의 수준을 나타내는 신호를 발생시키기 위한, 제 4 탱크내 제 1 수준 감지수단; 및
    한번 사용된 화학적 재생물의 수준이 소정의 최저 수준으로 감소될 때 제 4 제어 신호를 종결시키고, 제 5 조작 상태를 개시시키기 위해, 제 1 수준 감지 수단으로부터의 신호에 응답하기 위한, 제 4 조작 상태로 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  14. 제 13항에 있어서, 제 3 탱크내 새로운 화학적 재생물의 수준을 나타내는 신호를 발생시키는, 제 3 탱크내 제 2 수준 감지 수단; 및
    제 3 탱크내 새로운 재생 화학물질의 수준이 소정의 최저 수준으로 감소하였음을 나타내는 제 2 수준 감지 수단으로부터의 수준 신호에 응답하여, 제 5 제어 신호의 발생을 종결시키거나 억제시키기 위한 제 5 조작 상태로 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  15. 제 14항에 있어서,
    새로운 화학적 재생물을 그것의 공급원으로부터 제 3 탱크안으로 펌핑시키기 위한 제 1 펌프 제어 신호에 응답하는 제 1 펌핑 수단; 및
    소정의 최저 수준으로 감소한 제 3 탱크내 새로운 재생 화학물질의 수준을 나타내는 제 2 수준 감지 수단으로부터의 수준 신호에 응답하여, 제 1 펌프 제어 신호를 제 1 펌핑 수단에 인가하고, 소정의 최대 수준으로 증가한 제 3 탱크내 새로운 재생 화학물질의 수준을 나타내는 제 2 수준 감지 수단으로부터의 수준 신호에 응답하여 제 1 펌프 제어 신호를 종결시키기 위한, 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  16. 제 10항에 있어서, 제 1 필터에 걸리는 압력이 소정의 값을 초과하는 경우 제 1 막힘 신호를 발생시키기 위한, 제 1 필터 수단의 입구 및 출구에 교차하여 연결된 제 1 압력 감지 수단; 및
    제 1 조작 상태가 완결된 다음 제 1 필터가 교체될 때까지 시스템의 더 이상의 조작을 억제시킴으로써 제 1 막힘 신호에 응답하도록 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  17. 제 16항에 있어서, 제 2 필터 수단의 출구 압력이 소정의 최저 값으로 감소하는 경우 제 2 막힘 신호를 발생시키기 위한, 제 2 필터수단의 출구에 연결되는제 2 압력 감지 수단; 및
    제 1 조작 상태를 완결시킨 다음 제 1 필터가 대체될 때까지 시스템의 더 이상의 조작을 억제시킴으로써 제 2 막힘 신호에 응답하도록 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  18. 제 2항에 있어서, 소정의 최저 및 최고 수준을 각각 나타내는 탈염수 액체 수준 신호를 발생시키기 위한 제 2 탱크중에 설치된 수준 감지 수단;
    탈염수가 제 2 탱크안으로 흐르도록 작동시키기 위해 밸브 조작 신호에 응답하는 탈염수의 가압된 공급원과 제 2 탱크 사이에 연결된 자동 밸브 수단; 및
    밸브 조작 신호를 발생시키기 위해 최저 수준의 탈염수 수준 신호에 응답하고, 계속해서 밸브 조작 신호를 종결시키기 위한 최대 수준의 탈염수 수준 신호에 응답하도록 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  19. 제 1항에 있어서, 이온교환 물질이 이미노디아세테이트 이온교환 수지로 이루어짐을 특징으로 하는 시스템.
  20. 제 5항에 있어서, 잔류하는 탈염수를 IEX 컬럼으로부터 배출시키고, 이것을 폐기 포트로부터 방출시키기 위하여, 소정양의 화학적 배스를 제 1 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 펌핑시키기 위한 제 5 제어 신호에 응답하는 제 5순환 수단; 및
    제 1 조작 상태에 대비하여, 필요한 시간 동안에 제 5 제어 신호를 발생시키기 위한 제 5 조작 상태 후속의 제 6 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  21. 제 7항에 있어서, 잔류하는 탈염수를 IEX 컬럼으로부터 배출시키고, 이것을 페기 포트로부터 방출시키기 위한, 소정양의 화학적 배스를 제 1 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 펌핑시키기 위한 제 6 제어 신호에 응답하는 제 6 순환 수단; 및
    제 1 조작 상태에 대비하여, 필요한 시간 동안에 제 6 제어 신호를 발생시키기 위한 제 6 조작 상태 후속의 제 7조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  22. 제 12항에 있어서, 잔류하는 탈염수를 IEX 컬럼으로부터 배출시키고, 폐기 포트로부터 방출시키기 위하여, 소정의 양의 화학적 배스를 제 1 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 펌핑시키기 위한 제 8 제어 신호에 응답하는 제 8순환 수단; 및
    제 1 조작 상태에 대비하여, 필요한 시간 동안에 제 8 제어 신호를 발생시키기 위한 제 8 상태 후속의 제 9 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  23. 화학적 배스로부터 금속 이온 및 오염물을 주기적으로 또는 비주기적으로 제거하여 화학적 배스를 안정화시키는 자동화 시스템으로서,
    탈염수를 함유하는 제 1 탱크;
    화학적 재생물을 함유하는 제 2 탱크;
    화학적 배스를 함유하는 제 3 탱크;
    컬럼을 통과하는 화학적 배스로부터 금속 이온 오염물을 제거하기 위한 이온교환 수지를 함유하는 이온교환(IEX) 컬럼;
    처리를 위한 시스템으로부터 폐기물을 방출시키기 위한 폐기 포트;
    제 1 펌프 제어 신호에 의해 동작가능한 상태가 될 수 있는 제 1 펌프 수단;
    제 2 펌프 제어 신호에 의해 동작가능한 상태가 될 수 있는 제 2 펌프 수단;
    제 3 탱크와 폐기 포트 사이에서, 제 1 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제 1 밸브 수단;
    제 3 탱크으로부터, 그리고 제 3 탱크로 되돌아가는, 제 1 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제 2 밸브 수단;
    제 1 탱크와 제 3 탱크사이에서, 제 2 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제 3 밸브 수단;
    탈염수에 대한 유체 경로를 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 흐르도록 하기 위해, 제 1 탱크와 폐기 포트 사이에서, 제 2 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제 4 밸브 수단;
    제 2 탱크와 폐기 포트 사이에서, 제 2 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 순차적으로 연결되어 있는 제 5 밸브 수단; 및
    연속적인 상태 조작을 위해 자동 프로세스 제어 시퀀스를 제공하도록 프로그래밍된 제어기 수단을 포함하며,
    제어기 수단이 :
    작동 신호를 발생시키고 제 1 밸브수단에 인가시켜 제 1 밸브 수단을 열기 위한 수단과, 소정양의 화학적 배스를 IEX 컬럼내로 펌핑시키고, 이로부터 과량의 탈염수를 배출시키고, 과량의 탈염수를 폐기포트로부터 방출시키기 위해 제 1 펌프 제어 신호를 발생시켜 제 1 펌프 수단에 인가시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그래밍되어, 잔류하는 탈염수를 IEX 컬럼으로부터 제거하고, 제거된 탈염수를 폐기 포트로부터 방출시키기 위한 제 1 상태; 및
    조작 신호를 발생시키고 제 2 밸브수단으로 인가시켜 제 2 밸브 수단을 열기 위한 수단과, 소정양의 화학배스를 처리하기 위해 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 제 3 탱크로 반송시키기 위해 제 1 펌프 제어 신호를 발생시키고 제 1 펌프 수단에 인가시키기 위한 수단을 포함하도록 프로그래밍되어, 화학적 배스로부터 금속 이온을 제거하도록, IEX 컬럼을 통해 화학적 배스를 공급하기 위한 제 2 상태를 포함하는 시스템.
  24. 제 23항에 있어서, 잔류하는 화학적 배스를 IEX 칼럼으로부터 제거하고, 이 잔류 화학적 배스를 제 3 탱크로 반송시키기 위해 제어기 수단을 프로그래밍하는 것을 포함하고, 제 3 상태 프로그래밍이 조작 신호를 발생시키고 제 3 밸브 수단에 대해 인가시켜 제 3 밸브 수단을 열기 위한 수단과, 소정양의 탈염수를 IEX 컬럼안으로 펌핑시키고, 잔류 화학적 배스를 배출시키며, 이를 제 3 탱크로 반송시키 위해 제 2 펌프 제어 신호를 발생시키고 제 2 펌프 수단에 인가시키기 위한 수단을 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  25. 제 24항에 있어서, 1차로 IEX 컬럼을 탈염수로 세척하고, 이 탈염수를 폐기 포트로부터 방출시키기 위한 제 4 상태를 위해 제어기 수단을 프로그래밍하는 것을 추가로 포함하고, 제 4 상태 프로그래밍이 조작신호를 발생시키고 제 4 밸브 수단에 인가시켜 제 4 밸브 수단을 열기 위한 수단과, 1차로 소정양의 탈염수를 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 펌핑시키고, 이로부터 폐기 포트로 펌핑시키기 위해 제 2 펌프 제어 신호를 발생시키고 제 2 펌프 수단에 적용시키기 위한 수단을 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  26. 제 25항에 있어서, IEX 컬럼 내 수지 물질으 재생시키기 위하여 화학적 재생물을 가지고 IEX 컬럼을 플러싱하는 제 5 상태를 위해 제어기 수단을 추가로 프로그래밍하는 것을 포함하고, 제 5 상태 프로그래밍이 조작 신호를 발생시키고 제 5 밸브 수단에 인가시켜 제 5 밸브 수단을 열기 위한 수단; 및 제 5 상태 프로그래밍이 소정양의 화학적 재생물을 IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 이로부터 폐기 포트로 펌핑시키지 위해 제 2 펌프 제어 신호를 발생시키고 제 2 펌프 수단에 인가시키는 수단을 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  27. 제 26항에 있어서, 제 5 조작상태가 완결된 후에 탈염수로 IEX 컬럼을 제 2차로 씻어내는 제 6 상태를 위해 제어기 수단을 추가로 프로그래밍하는 것을 포함하고, 제 6 상태 프로그래밍이 조작 신호를 발생시키고 제 4 밸브 수단에 인가시켜 제 4 밸브 수단을 열기 위한 수단; 및 제 6 상태 프로그래밍이 제 2차로 소정의 양의 탈염수를 IEX 컬럼을 통해 한쪽방향으로 펌핑시키코, 그로부터 폐기 포트로 펌핑시키기 위해 제 2 펌프 제어 신호를 발생시키고 제 2 펌프 수단에 인가시키는 수단을 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  28. 제 27항에 있어서, 모든 외래 입자가 IEX 칼럼으로부터 확실하게 제거되도록 하기 위해, 탈염수에 대한 유체 경로가 IEX 컬럼을 통한 한쪽 방향에 대하여 반대 방향으로 흐르도록, 제 1 탱크와 페기 포트 사이에서, 제 2 펌프 수단 및 IEX 컬럼과 연속하여 연결된 제 6 밸브 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  29. 27항에 있어서, 화학적 배스가 IEX 컬럼안으로 이송되기 전에 여과시키기 위하여, 제 1 밸브 수단 및 제 2 밸브 수단을 각각 포함하는 일련의 유체 회로와 연속하여 IEX 컬럼과 제 3 탱크 사이에 연결된 제 1 필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  30. 제 29항에 있어서, 화학적 배스를 IEX 컬럼을 통해 처리한 후, 및 제 3 탱크로 반송시키기 전에 여과시키기 위한, 제 1 밸브 수단을 포함하는 유체 회로와 연속하여 IEX 컬럼과 제 3 탱크 사이에 연결된 제 2 필터 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  31. 제 30항에 있어서, 제 1 및 제 2 필터의 조작 조건을 나타내는 각각의 압력 신호를 발생시키기 위한, 제 1 및 제 2 필터에 각각 연결되어 있는 제 1 및 제 2 압력 감지 수단;
    제 1 필터에 걸친 압력 차이가 소정의 규모 이상으로 증가되면 제 1 막힘 신호를 발생시키고, 제 2 필터에서의 출구 압력이 소정의 규모 이하로 감소되면 제 2 막힘 신호를 발생시키기 위한, 제 1 및 제 2 압력 감지 수단으로부터의 압력 신호에 응답하는 제어 수단;
    제 1 및 제 2 필터의 막힘을 각각 나타내는 별개의 경보를 발생시키기 위한, 제 1 및 제 2 막힘 신호에 응답하는 경보 수단; 및
    진행중일 수 있는 조작의 제 1 및 제 2 상태를 완결시킨 후, 제 1 및 제 2 필터 둘다가 조작되기 전까지 시스템의 추가의 조작을 억제시키기 위한, 압력 신호에 추가로 응답하는 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  32. 제 30항에 있어서, 압력 수단에 걸친 압력 차이가 소정의 값을 초과하여 증가될 경우에 제 1 압력 신호를 발생시키기 위한, 제 1 필터수단을 걸쳐 연결되어 있는 제 1 감지 수단;
    제 1 경보 신호를 발생시키고, 조작의 제 1 또는 제 2 상태가 작동중인 경우에 조작의 제 1 또는 제 2 상태를 완결시키고, 압력 차이 문제가 해결될 때까지 추가의 조작 상태를 억제하기 위한, 제 1 압력 신호에 응답하는 제어기 수단; 및
    조작자가 올바른 조치를 할 필요가 있음을 주의시키기 위해 압력 문제를 나타내는 경보를 발생시키기 위한, 제 1 경보 신호에 응답하는 제 1 경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  33. 제 32항에 있어서, 출구 압력이 소정의 규모 아래로 감소할 경우에 제 2 압력 신호를 발생시키기 위한, 제 2 필터의 출구에 연결된 제 2 압력 감지 수단;
    제 2경보 신호를 발생시키고, 조작의 제 1 또는 제 2 상태가 작동중일 경우에 조작의 제 1 또는 제 2 상태를 완결시키고, 적절한 압력이 회복될 때까지 추가의 조작의 상태를 억제하키 위한, 제 2 압력 신호에 응답하는 제어기 수단; 및
    출구 압력에 바람직하지 않은 감소를 나타내는 경보를 발생시키기 위한, 제 2 경보 신호에 응답하는 제 2 경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  34. 제 27항에 있어서, 제 1 펌프 수단의 각각의 스트로크(stroke)를 나타내는 제 1 스트로크 신호를 발생시키기 위한, 제 1 펌프 수단에 연결된 제 1 스트로크 수단; 및
    일정 시간에 걸쳐 제 1 펌프에 의해 펌핑되는 화학적 배스의 양을 결정하기 위한, 제 1 스트로크 신호를 계수하기 위해 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  35. 제 34항에 있어서, 제 2 펌프 수단의 각각의 스트로크를 나타내는 제 2 스트로크 신호를 발생시키기 위한, 제 2 펌프 수단에 연결된 제 2스트로크 수단; 및
    탈염수 또는 화학적 재생물을 일정 시간에 걸쳐 펌핑하는데 있어서 제 2 펌프에 의해 펌핑되는 유체의 양을 결정하기 위한, 제 2 스트로크 신호를 계수하기 위해 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템,
  36. 제 27항에 있어서, 하나 이상의 제 1 내지 제 5 밸브 수단의 고장 조작을 감지하고, 이러한 고장 조작을 나타내는 경보 신호를 발생시키기 위한, 제 1 내지 제 5 밸브 수단에 연결되어 있는 경보 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  37. 제 36항에 있어서, 경보 수단이 제 1 내지 제 5 밸브 수단에 포함된 각 고장난 밸브를 나타내는 개별적인 경보 신호를 발생시키기 위한 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  38. 제 36항에 있어서,
    제어기 수단이 기능 불량이 고쳐진 후까지 시스템의 조작을 종결시키기 위한, 경보 신호에 응답하는 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  39. 탈염수를 함유하는 제 1 탱크, 재생 화학물질을 함유하는 제 2 탱크, 한번사용된 재생 화학물질을 함유하는 제 3 탱크, 코팅 조성물을 함유하는 제 4 탱크, 및 이온교환 물질을 함유하는 이온교환(IEX) 컬럼을 포함하는 자동석출 시스템에서 사용되는 코팅 조성물의 배스로부터 금속 이온 및 오염물질을 제거하기 위한 방법으로서,
    코팅 조성물중의 금속 이온 농도가 소정의 수준까지 증가하는 시기를 결정하는 단계;
    코팅 조성물을 제 4 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 처리한 후에 다시 제 4 탱크로 순환시키는 단계;
    제 4 탱크내의 코팅 조성물중의 금속 이온의 농도가 허용가능한 수준으로 감소하도록 금속 이온을 제거하기에 충분한 양의 코팅 조성물을 처리한 시기를 결정하는 단계; 및
    IEX 컬럼을 통해 코팅 조성물의 순환을 종결시키는 단계들을 포함하는 방법.
  40. 제 39항에 있어서, 금속 이온 농도 결정 단계가 코팅 조성물의 적정 판독을 수동으로 행하는 것으로 이루어짐을 특징으로 하는 방법.
  41. 제 39항에 있어서, 충분한 양의 코팅 조성물을 처리한 시기를 결정하는 단계가
    제 4 탱크중에 남아있는 코팅 조성물의 전도도를 측정하는 단계;
    IEX 컬럼으로부터 제 4 탱크로 반송되는 코팅 조성물의 전도도를 측정하는단계;
    제 4 탱크내 코팅 조성물의 전도도와 제 4 탱크로 반송되는 코팅 조성물의 전도도 간의 차이를 계산하는 단계; 및
    종결 단계를 개시시키기 위하여 수준 차이를 확정하는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  42. 제 39항에 있어서, 코팅 조성물의 응고된 부분 및 다른 입자성 물질을 제거하기 위하여, 코팅 조성물이 IEX 컬럼내로 유입되기 전에 코팅 조성물을 제 1필터를 통과시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  43. 제 42항에 있어서, 이온교환물질 입자 및 다른 입자들의 제거를 위해, 코팅 조성물이 IEX 컬럼에 유입된 후, 제 4 탱크로 돌아 나오기 전에 코팅 조성물을 제 2 필터를 통과시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  44. 제 43항에 있어서, 제 1 필터가 막히는 시기를 감지하는 단계;
    제 1 필터가 막히게 될 때 경보를 발생시키는 단계; 및
    코팅 조성물의 처리 완결 후, 제 1 필터가 교체되기 전까지 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  45. 제 43항에 있어서, 제 2 필터가 막히는 시기를 감지하는 단계;
    제 2 필터가 막히게 될 때 경보를 발생시키는 단계; 및
    코팅 조성물의 처리 완결 후, 제 2 필터가 교체되기 전까지 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  46. 제 43항에 있어서, 제 1 및 2 필터중의 하나 또는 둘다가 막히는 시기를 감지하는 단계;
    제 1 및 2 필터 각각의 막힘을 개별적으로 나타내는 경보를 발생시키는 단계; 및
    제 1 및 2 필터의 막힘이 없을 때까지 코팅 조성물의 처리를 완결시킨 후 추가의 조작을 억제시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  47. 제 39항에 있어서, 코팅 조성물의 처리를 완결시킨 후에,
    잔류하는 코팅 조성물을 IEX 컬럼으로부터 배출시키기 위해 충분한 양의 탈염수를 IEX 컬럼안으로 순환시키는 단계; 및
    배출된 코팅 조성물의 일부분을 제 4 탱크안으로 통과시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  48. 제 47항에 있어서, IEX 칼럼으로부터의 어떠한 액체도 제 4 탱크로 흐르지 못하도록 하는 단계;
    탈염수를 한쪽 방향으로 IEX 컬럼을 통해 순환시키는 단계;
    IEX 컬럼으로부터의 탈염수의 흐름을 폐기포트 밖으로 배출시키도록 유도하는 단계; 및
    코팅 조성물이 함유되지 않도록 IEX 컬럼을 세척한 후에 IEX 컬럼을 통한 탈염수의 순환을 종결시키는 단계를 포함함을 특징으로 하는 방법.
  49. 제 48항에 있어서, 화학적 재생물을 제 2 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해서, 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계;
    이온교환 물질을 재생시키기 위하여 소정양의 화학적 재생물을 IEX 컬럼을 통해 언제 통과하였는 지를 감지하는 단계; 및
    IEX 컬럼을 통한 재생 화학물질의 흐름을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  50. 제 49항에 있어서, 탈염수를 제 1 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계;
    모든 외래 입자가 IEX 칼럼으로부터 확실하게 제거되도록 탈염수를 제 1 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계;
    소정양의 탈염수가 IEX 컬럼을 세척하기 위해 IEX 컬럼을 통해 언제 통과하였는 지를 감지하는 단계; 및
    IEX 컬럼을 통한 탈염수의 순환을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  51. 제 48항에 있어서, 한번 사용된 화학적 재생물을 제 3 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 배출 포트 밖으로 순환시키는 단계:
    소정양의 한번 사용된 화학적 재생물이 IEX 컬럼을 통해 언제 통과하였는 지를 감지하는 단계;
    한번 사용된 화학적 재생물의 순환을 종결시키는 단계;
    화학적 재생물을 제 2 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 폐기 포트 밖으로 순환시키는 단계;
    한번 사용된 재생된 화학물질의 이전 흐름에 더하여 필요한, 소정양의 새로운 재생된 화학물질이 IEX 컬럼내의 이온교환 물질을 재생시키기 위하여 IEX 컬럼을 통해 언제 통과하였는 지를 감지하는 단계;
    제 1 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 탈염수를 순환시켜서 한번 사용된 재생된 화학물질을 배출시키고 제 3 탱크로 배출시키기 위한 단계; 및
    한번 사용된 재생된 화학물질의 제 3 탱크내 수준이 소정의 수준에 도달하거나 소정양의 한번 사용된 재생된 화학물질이 이곳에서 배출될 때 IEX 컬럼으로부터 제 3 탱크로의 한번 사용된 재생된 화학물질의 흐름을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  52. 제 51항에 있어서, 탈염수를 제 1 탱크로부터 IEX 컬럼을 통해 배출 포트 밖으로 양 방향으로 순환시키는 단계;
    소정양의 탈염수거 재생된 화학물질 및 외래 입자성 물질이 없도록 IEX 컬럼을 세척하기 위해 IEX 컬럼을 언제 통과하였는지를 감지하는 단계; 및
    IEX 컬럼을 통한 탈염수의 순환을 종결시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  53. 제 50항에 있어서, IEX 컬럼을 통한 코팅 조성물의 순환을 개시시키는 단계에 앞서, IEX 컬럼으로부터의 잔류하는 탈염수를 배출시키기 위해 소정양의 코팅 조성물을 제 4 탱크로부터 IEX 컬럼안으로 순환시키는 단계; 및
    배출된 탈염수를 배출 포트 밖으로 방출시키는 단계를 추가로 포함함을 특징으로 하는 방법.
  54. 코팅 조성물의 배스로부터 금속 이온 및 오염물을 주기적으로 또는 비주기적으로 제거하기 위한 자동화 자동석출 시스템으로서,
    코팅 조성물을 함유하는 제 1 탱크;
    IEX 컬럼을 통과한 코팅 조성물로부터 금속 이온 오염물을 제거하기 위해 이온교환 물질을 함유하는 이온교환(IEX) 컬럼;
    IEX 컬럼을 세척하기 위해 탈염수를 함유하는 제 2 탱크;
    처리를 위해 폐기물을 시스템으로부터 방출시키기 위한 폐기 포트;
    제 1 소정양의 코팅 조성물을 제 1 탱크로부터 끌어내어, 이 코팅 조성물을 IEX 컬럼내로 이송시켜 IEX 컬럼내의 잔류하는 탈염 세척수를 배출시키고, 잔류 탈염 세척수를 폐기 포트로부터 방출되도록 순환시키기 위한 제 1 제어 신호에 응답하는 제 1 순환 수단;
    추가의 코팅 조성물을 제 1 탱크로부터 끌어내어 이것을 IEX 컬럼을 통해 순환시키고, 코팅 조성물의 잔류 부분은 IEX 컬럼으로부터 제 1 탱크로 반송시키기 위한 제 2 제어 신호에 응답하는 제 2 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안 제 1 제어 신호를 발생시키도록 제 1 조작 상태 및, 적어도 필요한 시간 동안 코팅 조성물 배스내의 금속 이온 농도를 소정의 농도로 감소하도록 제 2 제어 신호를 발생시키기 위한 조작의 제 2 조작상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 포함함을 특징으로 하는 시스템.
  55. 제 54항에 있어서, 코팅 조성물 배스의 전도도를 나타내는 제 1 전도도 신호를 제공하기 위한, 제 1 탱크내의 코팅 조성물 배스내에 위치되는 제 1 전도도 측정 수단;
    처리된 코팅 조성물의 전도도를 나타내는 제 2 전도도 신호를 제공하기 위한, IEX 컬럼내에서 처리되어 제 1 탱크로 반송되는 코팅 조성물중에 침지되는 제 2 진도도 측정 수단; 및
    제 2 순환 수단의 작동을 중단시키기 위해 제 2 제어 신호를 종결시키기 위한, 소정의 최소값으로 감소된 제 1 및 제 2 진도도 신호 간 차이를 감지하기 위해 조작의 제 2 조작 상태로 추가로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  56. 제 55항에 있어서, 잔류 코팅 조성물을 배출시키기 위해 소정양의 탈염수를 IEX 컬럼안으로 펌핑시키고, 배출된 코팅 조성물을 제 1 탱크로 반송시키기 위한, 제 3 제어 신호에 응답하는 제 3순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 3 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 2 조작 상태 후속의 제 3 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  57. 제 56항에 있어서, IEX 컬럼을 세척하기 위하여 탈염수를 제 2 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해 한쪽 방향으로 펌핑시키고, 이곳으로부터의 탈염수를 폐기 포트로부터 방출시키기 위한, 제 4 제어 신호에 응답하는 제 4 순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 3 조작상태 후속의 조작의 제 4 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  58. 제 57항에 있어서, 화학적 재생물을 함유하는 제 3 탱크;
    화학적 재생물을 제 3 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해 펌핑시키고, 화학적 재생물을 폐기 포트로부터 방출시켜 이온교환 물질로부터 금속 이온을 제거함으로써, 이온교환 물질을 재생시키기 위한, 제 5 제어 신호에 응답하는 제 5순환 수단; 및
    필요한 시간 동안에 제 5 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 4 조작 상태 후속의 제 5 조작 상태로 프로그래밍되는 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  59. 제 58항에 있어서, 폐기 포트를 통해 방출되는 유체의 전도도를 나타내는 제 3 전도도 신호를 제공하기 위한, 폐기 포트내에 위치한 제 3 전도도 수단; 및
    IEX 컬럼에 대한 제 2 세척 사이클을 개시시키기 위해 제 4 제어 신호를 발생시키고, 제 4 제어 신호를 종결시키기 위해 소정의 값으로 감소하는 제 3 전도도 신호를 감지하기 위한, 제 5 조작 상태 후속의 제 6 조작 상태로 프로그래밍되는 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  60. 제 58항에 있어서, IEX 컬럼으로부터 잔류 화학적 재생물을 제거시키기 위해, 탈염수를 사용하여 IEX 컬럼을 세척하기 위해 필요한 소정의 시간 이상 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키기 위한, 제 4 조작 상태 후속의 제 6 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  61. 제 60항에 있어서, IEX 컬럼으로부터 외래 입자가 제거되도록 IEX 컬럼을 세척하기 위해 탈염수를 제 2 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키고, 이로부터 탈염수를 폐기 포트로부터 배출시키기 위한, 제 6 제어 신호에 응답하는 제 6 순환 수단;
    폐기 포트를 통해 배출되는 유체의 전도도를 나타내는 제 3 전도도 신호를제공하기 위한, 폐기 포트내에 위치한 제 3 전도도 수단; 및
    IEX 컬럼에 대해 제 2 세척 사이클을 개시시키도록 소정의 시간 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키고, 이어서 제 2 세척 사이클을 계속하도록 제 6 제어 신호를 발생시키며, 동시에 제 6 제어 신호를 종결시키기 위해 소정의 값으로 감소한 제 3 전도도 신호를 감지하기 위한, 제 6 상태 후속의 조작의 제 7 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  62. 제 58항에 있어서, 외래 입자가 제거되도록 IEX 컬럼을 세척하기 위해 탈염수를 제 2 탱크로부터, IEX 컬럼을 통해 반대 방향으로 펌핑시키고, 이로부터 탈염수를 페기 포트로부터 방출시키기 위한, 제 6 제어 신호에 응답하는 제 6 순환 수단; 및
    소정의 시간 동안에 제 4 제어 신호를 발생시키기고, 그 후에 IEX 컬럼으로부터 화학적 재생물의 세척을 완결시키도록 소정의 시간 동안에 제 6 제어 신호를 발생시키는 제 4 제어 신호를 종결시키기 위한, 제 5 조작 상태 후속의 제 6 조작 상태로 프로그래밍된 제어기 수단을 추가로 포함함을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
  63. 제 54항에 있어서, 코팅 조성물이 라텍스 기재 코팅 조성물로 이루어짐을 특징으로 하는 자동석출 시스템.
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