KR960039387A - 박막 증착장치 - Google Patents

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Abstract

박막 증착장치는, 반응실을 형성하는 반응케이싱과, 상기 반응실에 배치되어 기판을 지지하는 스테이지와, 상기 스테이지에 접촉되게 상기 반응케이싱상에 지지되어 상기 스테이지상의 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 상기 기판상에 박막을 증착하는 샤워헤드를 포함한다. 복수의 유로계는 샤워헤드와 반응케이싱의 여러 영역에 배치되어 있어, 가열매체를 통과시켜 온도제어기에 제어하에서 영역의 온도를 제어하게 한다.

Description

박막 증착장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 박막 증착장치의 개략도.

Claims (22)

  1. 반응실을 형성하는 반응케이싱과; 상기 반응실에 배치되어 기판을 지지하는 스테이지와; 상기 스테이지상의 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 상기 기판상에 박막을 증착하는 샤워헤드와; 상기 샤워헤드와 상기 반응케이싱 영역에 배치되어 상기 영역의 온도를 제어하는 복수의 온도제어수단을 포함하고, 상기 온도제어수단중 적어도 하나는 가열매체가 통과되도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나는, 상기 반응실의 내벽의 온도를 검출하는 검출수단과; 상기 검출수단에 의해 검출된 온도와 목표온도사이의 차이에 따라 상기 가열매체의 유량을 조절하는 유량조정수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나는, 상기 반응실의 내벽의 온도를 검출하는 검출수단과; 상기 검출수단에 의해 검출된 온도와 목표온도사이의 차이에 따라 상기 가열매체의 유량을 조절하는 온도조절수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나는, 상기 가열매체를 통과하는 하는 유로계와; 상기 유로계에 배치되어 상기 가열매체를 다른 온도제어수단에 의해 제어된 영역의 온도보다 더 낮은 온도로 제어하는 냉각수단을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나는, 상기 가열매체가 통과하게 되며, 각각 수평면에 놓이며 전체원주길이보다 더 짧은 부분 전체원주길이를 따라 연장되어 있는 복수의 원형 동심유로로 이루어지는 유로계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 반응케이싱은 내벽, 외벽, 상기 내벽으로부터 돌출하여 상기 외벽에 대해 유지되는 복수의 리브, 상기 내벽과 상기 외벽사이에서 상기 리브에 의해 형성된 상기 가열매체가 통과하게 되는 유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나는, 상기 가열매체가 통과하게 되는 유로계를 포함하고, 상기 유로계중 적어도 하나는 상기 샤워헤드와 상기 반응케이싱 각각에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 샤워헤드는 수직 원통형부와 노즐부를 포함하고, 상기 수직 원통부와 상기 노즐부 각각은 상기 유로계중 적어도 하나를 가지는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 반응케이싱은 상기 샤워헤드에 접속된 역포트형상의 케이싱부재와 상기 스테이지근처에서 상기 스테이지로부터 이격되어 배치되어 있는 지지기부를 포함하고, 상기 케이싱부재와 상기 지지기부 각각은 상기 유로계중 적어도 하나를 가지고 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 반응케이싱은 상기 스테이지와 상기 지지기부사이에 배치된 시일드판을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  11. 제1항에 있어서, 상기 가열매체는 플루오르계 액상 유체를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 박막은 산화금속 박막이고, 상기 재료가스는 유기금속가스와 산소함유가스를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  13. 반응실에서 가열된 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 기판상에 박막을 증착하는 방법에 있어서, 상기 반응실을 둘러싸는 샤워헤드와 반응케이싱 영역에 배치된 복수의 온도제어수단중 적어도 하나에 가열매체를 통과시키는 단계와; 상기 온도제어수단중 상기 적어도 하나를 통해 흐르는 상기 가열매체의 유량 및/또는 온도를 조정하여 상기 박막이 상기 기판상에 증착되고 있는 동안에 상기 반응실을 둘러싸는 내벽부의 온도를 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
  14. 반응실을 형성하는 반응케이싱과; 상기 반응실에 배치되어 기판을 지지하는 스테이지와; 상기 스테이지상의 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 상기 기판상에 박막을 증착하는 샤워헤드를 포함하고, 상기 샤워헤드는 상기 기판과 접촉하도록 배치된 제1의 평면부재와, 상기 가스공급원과 접촉하도록 배치되며 상기 제1의 평면부재와의 사이에 원형공간을 형성하여 내부에 가열매체가 순환되게 하는 제2의 평면부재와, 상기 원형공간에 배치되어 상기 제1의 평면부재와 상기 제2의 평면부재를 관통하게 연장되며 각각 노즐이 내부에 설치되어 있는 복수의 노즐관을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  15. 제14항에 있어서, 상기 샤워헤드는 상기 제1의 평면부재와 상기 제2의 평면부재사이에 배치된 복수의 리브를 더 포함하고, 상기 리브는 원형 유로를 형성하여 상기 원형공간에서 상기 가열매체를 순환시키게 하는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  16. 제14항에 있어서, 상기 노즐관 각각은 상기 원형 공간에 노출되며 상기 가열매체와 접촉 유지되는 외면을 가지는 실린더형과 직사각형중 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 박막 증착장치.
  17. 제15항에 있어서, 상기 원형 유로는 복수의 유로를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
  18. 제17항에 있어서, 상기 유로는 서로 평행하게 연장되며 서로 밀접하게 배치된 두 개의 유로를 포함하고, 상기 두 개의 유로 각각은 상기 가열매체를 반대방향으로 향하게 하도록 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
  19. 제14항에 있어서, 상기 노즐관 각각은 상기 제1의 평면부재와 상기 제2의 평면부재중 적어도 하나와 일체로 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
  20. 반응실을 형성하는 반응케이싱과; 상기 반응실에 배치되어 기판을 지지하는 스테이지와; 상기 스테이지상의 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 상기 기판상에 박막을 증착하는 샤워헤드를 포함하고, 상기 샤워헤드는 상기 기판과 접촉하도록 배치된 제1의 평면부재와, 상기 가스공급원과 접촉하도록 배치된 제2의 평면부재와, 상기 제1의 평면부재와 제2의 평면부재사이에 배치되며 원형유로를 사이에 형성하여 가열매체를 순환시키는 복수의 리브를 포함하고, 상기 리브는 내부에 복수의 노즐이 형성되어 있고 상기 제1의 평면부재와 상기 제2의 평면부재를 관통하게 연장되어 있는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
  21. 제20항에 있어서, 상기 샤워헤드는 상기 리브위에 설치되며 상기 원형 유로의 일부로서 내주면에 형성된 리세스를 구비하는 링을 더 포함하고, 상기 리브는 상기 제1 부재상에 일체로 형성되어 있고, 상기 제2부재는 상기 노즐과 각각 일렬인 복수의 개구를 내부에 형성하고 있는 것을 특징으로 한 박막 증착방법.
  22. 반응실에서 가열된 기판을 향하여 재료가스를 배출하여 기판상에 박막을 증착하는 방법에 있어서, 상기 재료가스를 상기 기판을 향하여 배출하는 복수의 노즐을 가지는 샤워헤드에 가열매체를 순환시키는 단계와; 상기 노즐을 상기 가열매체로 가열하여 상기 재료가스가 균일한 밀도로 배출되어 상기 기판상에 상기 박막을 증착시키고 있는 동안에 상기 재료가스를 소정의 온도로 균일하게 가열하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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