KR960026081A - 포토마스크 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 다수의 비투과막 패텬을 구비하는 포토마스크에 있어서, 상기 비투과막 패턴중 고립된 부위는 밀집된 부위의 선폭에 비해 소정 크기만큼 더 큰 선폭을 가지도록 구성되는 것을 특징으로 하여, 즉 고립된 패턴(5)의 선폭을 미리 요구되는 선폭보다 크게 형성함으로써 근접효과를 최소화 하고, 균일한 선폭변동의 감광막 패턴을 형성시키며, 이에 따라 제품 수율 및 공정 안정성을 향상시키는 효과가 있는 포토마스크에 관한 것이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3A도 및 제3B도는 본 발명의 일실시예에 따른 포토마스크 및 이를 이용하여 웨이퍼 상에 형성시킨 감광막 패턴의 평면도.
Claims (2)
- 다수의 비투과막 패턴을 구비하는 포토마스크에 있어서, 상기 비투과막 패턴중 고립된 부위는 밀집된 부위의 선폭에 비해 소정 크기만큼 더 큰 선폭을 가지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 비투과막 패턴중 고립된 부위는 밀집된 부위의 선폭에 비해 0.05 내지 0.2㎛ 더 큰 선폭을 가지도록 구성되는 것을 특징으로 하는 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034525A KR960026081A (ko) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940034525A KR960026081A (ko) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 포토마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR960026081A true KR960026081A (ko) | 1996-07-22 |
Family
ID=66688134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019940034525A KR960026081A (ko) | 1994-12-15 | 1994-12-15 | 포토마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR960026081A (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100850201B1 (ko) * | 2002-06-04 | 2008-08-04 | 삼성전자주식회사 | Ｏｐｃ 마스크 제작 방법 및 그를 이용하여 제작된 마스크 |
-
1994
- 1994-12-15 KR KR1019940034525A patent/KR960026081A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100850201B1 (ko) * | 2002-06-04 | 2008-08-04 | 삼성전자주식회사 | Ｏｐｃ 마스크 제작 방법 및 그를 이용하여 제작된 마스크 |
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| WITN | Withdrawal due to no request for examination |