KR970048924A - 반도체소자 제조용 포토마스크 - Google Patents
반도체소자 제조용 포토마스크 Download PDFInfo
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Abstract
반도체소자 제조용 포토마스크가 개시되어 있다.
본 발명의 반도체소자 제조용 포토마스크는 웨이퍼상에 단일의 노광패턴을 형성하기 위한 포토마스크상의 설계패턴이 인접된 적어도 2개 이상의 요소패턴으로 분할되어 이루어지는 것을 특징으로 한다.
따라서, 노광시 빛의 회절로 인하여 반도체소자의 패턴이 변형되고 유효면적이 작아지는 현상을 사전에 보정하는 효과를 얻을 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명의 일 실시예에 따른 포토 마스크를 나타낸 도면.
Claims (4)
- 웨이퍼상에 단일의 노광패턴을 형성하기 위한 포토마스크상의 설계패턴이 인접된 적어도 2개 이상의 요소 패턴으로 분할되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 분할되어 이루어지는 설계패턴은 가로와 세로의 상호 비율이 5배 이하로 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 설계패턴을 이루는 상기 인접된 요소패턴들과의 거리는 0.2㎛이하가 되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 포토마스크.
- 제1항에 있어서, 상기 설계패턴은 동일 또는 상이한 형태의 요소패턴들이 조합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체소자 제조용 포토마스크.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055726A KR970048924A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체소자 제조용 포토마스크 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950055726A KR970048924A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체소자 제조용 포토마스크 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR970048924A true KR970048924A (ko) | 1997-07-29 |
Family
ID=66617859
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1019950055726A KR970048924A (ko) | 1995-12-23 | 1995-12-23 | 반도체소자 제조용 포토마스크 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| KR (1) | KR970048924A (ko) |
-
1995
- 1995-12-23 KR KR1019950055726A patent/KR970048924A/ko not_active Application Discontinuation
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