KR960015082A - 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물 - Google Patents

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가츠유키 오이카와
도시노부 이시하라
후지오 야기하시
아키노부 다나카
요시오 가와이
지로 나카무라
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가나가와 지히로
신에쓰 가가쿠 고교 가부시키가이샤
고지마 마사시
닛폰 덴신 덴와 가부시키가이샤
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    • Y10S430/106—Binder containing

Abstract

유기용매, 알칼리가용성수지, 산발생제, 및 선택적인 용해억제제로 이루어진 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물에 알킬, 알콕시, 아미노 또는 디알킬아미노기와 알킬술폰산, 아릴술폰산 또는 할로겐원자를 가질 수 있는 피리딘염이 혼합된다. 원자외선에 대한 고감도 및 해상도와 T-탑 패턴형상을 유방하는 PED문제점 및 스커팅현상의 제거때문에 본 발명의 레지스트 조성물은 치수정확도가 개선되고 미세패터닝에 적합하다.

Description

화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (3)

  1. 하기식(1)의 피리딘 염으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물.
    (상기 식에서, R은 수소원자, 알킬, 알콕시, 아미노, 및 디알킬아미노기로 구성된 군으로 부터 선택되며 Y는 알킬술폰산, 아릴술폰산, 및 할로겐원자로 구성된 군으로부터 선택된다.)
  2. (A) 유기용매, (B) 알칼리가용성수지, (C) 산불안정기를 가진 용해억제제, (D) 산발생제, 및 (E) 제1항에 기재된 식(1)의 피리딘 염으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물.
  3. (A) 유기용매, (B) 알칼리가용성수지, (C) 산발생제, 및 (E) 제1항에 기재된 식(1)의 피리딘 염으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950034412A 1994-10-07 1995-10-07 화학증폭 포지티브형 레지스트 조성물 KR100246711B1 (ko)

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