KR940002538B1 - 개시제로서 이온성 염료 화합물을 함유하는 감광성 재료 - Google Patents

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Abstract

내용 없음.

Description

개시제로서 이온성 염료 화합물을 함유하는 감광성 재료
본 발명은 신규한 광경화성 조성물 및 이를 사용하는 감광성 재료에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 광개시제로서 이온성 염료-대이온(counter ion) 착화합물, 예를들면 양이온성 염료-보레이트 음이온 착화합물 또는 음이온성 염료-요오도늄 이온 착화합물을 함유하는 유리 라디칼 부가중합성 조성물에 관한 것이다.
미드 코포레이션(Mead Corporation)의 미합중국 특허 제 4,399,209호 및 제 4,440,846호에는 광경화성 조성물을 함유하는 마이크로캡슐로부터의 영상 형성제의 방출이 조절된 노출에 의해 영상을 형성하는 영상화 재료 및 영상화 방법이 기술되어 있다. 이러한 영상화 재료는 화학선에 노출되어 영상을 형성하며 균일한 파괴력을 받는다. 대표적으로, 영상 형성제는 마이크로캡슐로부터 방출되어 영상을 맺고, 그후에 현상제와 반응하여 가시적 영상을 형성하는 색채 전구 물질이다.
이들 기술을 이용하는 시판되고 있는 전색성(panchromatic) 영상화 재료를 디자인하는데 있어서 직면하게 되는 문제점중의 한가지는 대부분의 고강경화성 조성물이 화학선에 대해 감응하는 파장이 비교적 짧다는 점이다. 대부분의 경우, 이들 조성물은 예를들어 350 내지 480nm의 자외선 또는 청색광에 대해서 감응할 뿐이다.
전색 감광재료는 마합중국 특허원 제 339,917호(1982년 1월 18일)와 미합중국 특허원 제 620,994호(1984년 6월 15일)에 기술되어 있다. 이들 영상화 재료는 마이크로캡슐 3셋트를 함유하는 감광층을 포함하고 있다. 마이크로캡슐 각 셋트는 자외선 또는 청색 스펙트럼에서 상이한 방사선 대에 감응하며, 시안, 마젠타 또는 황색 영상-형성제를 함유한다. 이들 마이크로캡슐에 사용된 개시제의 흡수 스택트럼은 결코 완전히 구분되지 않는다. 흡수 곡선이 항상 어느 정도 증복되며, 때때로 이는 중요하다. 그러므로, 교차노출을 피하기 위해서는 노출조건을 주의하여 조절해야 한다.
이들 영상화 재료에 사용된 광경화성 조성물의 감응성을 장파에까지 확장시키는 것이 바람직하다. 광경화성 주성물의 감응성을 장파에까지 확장시키으로써 개시제의 흡수 스펙트럼에서의 중복량 및 이에 수반되는 교차-노출을 감소시킬 수 있다. 조성물이 가시 스펙트럼(400 내지 700nm) 전체에 걸쳐 선택된 파장대에 대해 감응성을 갖도록 고안될 수 있다면 특히 바람직할 수 있는데, 그 이유는 이것이 영상 공정화 없이 직접 반사 또는 전달 영상화에 의해 노출될 수 있는 가시광선-감광재료를 제공하기 때문이다.
본 발명에 이르러, 이온성 염료-대이온 화합물, 예를들면 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물이 유리 라디칼 부가반응의 광개시제로 유용한 것으로 밝혀졌다. 이러한 화합물은 반응성 대이온에 이온결합된 가시광선 흡수제(이온성 염료)로 이루어진다. 대이온은 염료의 여기후에 대이온이 여기된 염료에 전자를 제공하거나 여기된 염료로부터 전자를 수용하는 점에서 반응성이다. 이러한 전자 이동 과정으로 단량체의 중합반응을 개시시킬 수 있는 라디칼이 생성된다.
화합물이 에너지를 흡수하고 유리 라디칼을 생성하는 메카니즘은 완전히 명확한 것은 아니다. 화학선에 노출된 후, 염료이온이 단일 상태로 여기되고 이것이 대이온으로부터 전자를 받거나 대이온에게 전자를 제공하는 것으로 여겨진다. 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물의 경우의 메카니즘은 다음 반응도식으로 설명될 수 있다 :
Figure kpo00001
염료 단일 상태의 수명은 삼중 상태의 수명에 비해 대단히 짧다. 측정된 소광 속도 상수는 이온성 화합물이 단일 상태에 의해 매우 효과적으로 전자이동을 일으킴을 나타낸다. 중합성 화합물의 용액에서 대이온과 염료의 밀차고딘 이온 결합이, 단일 상태의 수명이 대단히 짧은 경우에라도 전자가 이동될 정도로 전자이동을 촉진하는 바람직한 공간 분포를 제공하는 것으로 생각된다. 물론, 이는 전자이동이 단일 상태에 제한됨을 의미하는 것은 아니다. 삼중 상태가 현저하게 밀집된 이온성 염료는 단일 상태, 삼중 상태 또는 단일 및 삼중 상태 모두를 통해 전자가 이동될 수 있다.
전자의 이동후, 라디칼이 형성된다. 본 발명에서 개시제로서 사용된 이온성 화합물은 역 전자 이동을 일으키지 않는 것으로 보인다. 전자 이동후, 염료 및 대 이온이 해리되어 역 전자 이동이 일어나지 않는 것으로 생각된다.
본 발명에 사용된 이온성 화합물은 조우 착화합물(encounter complexes), 엑시플렉스(exiplexes) 및/또는 접촉이온쌍을 생성하는 충돌 착화합물과 같은 다른 감광성 시스템에서 충돌로 생성되는 종류와 다르다[참조 : 예를들어, Kavarnos, George J. and Turro, Nicholas J., "Photosensitization by Reversible Electron Transfer", Chem. Rev. 1896, 401 내지 449].
본 발명에 따르면 이온성 염료 및 대이온은 해리된 이온쌍으로서가 아닌 안정된 비-천이 화합물로서 광중합성 조성물에 존재한다. 화합물의 형성은 확산 및 충돌에 좌우되지 않는다. 충돌 의존성 착화합물을 함유하는 사진 재료 및 조성물과는 달리, 본 발명의 감광 재료에 존재하는 모든 감광 염료는 노출 전에 필수적으로 대이온가 이온 결합된다.
본 발명에서 개시체로서 사용되는 이온성 화합물은 또한 TMPTA 등과 같은 비극성 용매에 용해됨을 특징으로 할 수 있다. 이들 화합물은 약 0.1% 이상, 바람직하게는 약 0.3% 이상의 양으로 용해된다. 이 양이 많은 양은 아니나 극성 용매에서의 이온성 물질의 통상적인 저용해도에 해당되는 것으로 여겨진다. 화합물은 용해되는 반면, 염료 및 대이온은 용액중에서 해리되지 않는다. 이들은 서로 이온결합된 채로 남는다.
염료-감광시킨 광중합성 조성물에서, 가시광은 상응하는 흡수대를 갖는 염료에 의해 흡수되고 염료는 여기된 전자상태로 되며, 이의 수명은 여기된 상태의 특성(단일 또는 삼중)에 따라 10-9내지 10-3sec 일 수 있다. 이때 전자형태로 흡수된 에너지는 염료 분자로 이동하거나 그 분자로부터 이동되어 유리 라디카를 생성해야 한다. 선행 개시제 시스템에서는 이러한 이동이 확산에 의해 조절된다. 여기된 염료는 조성물내의 다른 분자와 상호작용(충돌)하여 염료를 소광시키고 유리 라디칼을 생성해야 한다. 본 발명에서 이동은 확산(충돌)에 의해 조절되지 않는다. 전자 이동은 확산에 의해 조절되는 속도 이상으로 일어난다. 슈테론-볼머(Stern-Volmer) 반응속도론의 관점에서, 이는 여기된 염료의 소광 상수(kq)가 1010이상, 특히 이온성 화합물의 경우 1012이상임을 의미한다. 이러한 속도에서 전자 이동이 단일 상태를 통해 일어날 수 있다.
따라서, 본 발명은 이온성 염료의 여기된 상태로부터 유리 리다칼을 생성시키는 방법을 제공하는 것이며 이로써 장파장에서 감응하는 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.
유리 라디칼 부가반응의 개시제로서 이온성 염료-대이온 화합물의 사용에 있어서, 특별한 잇점중의 하나는 실제적으로 상이한 파장에서 흡수하는 각종 염료중에서 선택할 수 있다는 점이다. 화합물의 흡수 특성은 근본적으로 염료에 의해 결정된다. 따라서 400nm 이상에서 흡수하는 염료를 선택하면 감광 재료의 감응성은 가시범위로 확장될 수 있다. 또한 실제적인 누화없이 적색, 녹색 및 청색 광에 대해 각각 감응하는 화합물을 선택할 수 있다.
이온성 염료-대이온 화합물은 특히 전색 감광성 재료를 제광하는데 유용한다. 이러한 재료의 경우, 별개의 감광성을 갖는 3셋트의 마이크로캡슐을 함유하는 감광층이 지지체상에 제공된다. 마이크로캡슐 각 세트는 각각 시안, 마젠타 및 황색 색상-형상제를 함유한다.
시안-형성 캡슐이 마젠타 또는 황색-형성 캡슐을 경화시키지 않고 예정된 파장에서 에정된 파장 범위에 걸쳐서 차별적으로 경화되고, 또한 마젠타-형성 또는 황색-형성 캡슐은 시안-형성 캡슐 또는 황색-형성 또는 마젠타-형성 캡슐중의 다른 하나를 경화시키지 않고 각각 제2 및 제3파장에 노출될 때 선택적으로 경화될 수 있도록 전색 감광성 재료에서 3셋트의 마이크로캡슐의 흡수 특성은 충분히 상이해야 한다. 이러한 특성을 갖는 마이크로캡슐(예를들면, 교차-노출되지 않고 별개의 파장에 노출시 선택적으로 경하될 수 있는 시안-, 마젠타, 및 황색-형성 캡슐)은 "명백히 상이한 감응성"을 갖는다고 말한다.
전술한 바와같이, 대부분의 광경화성 조성물은 자외선 또는 청색 광에 감응하며 약 480nm 보다 큰 파장에는 감응하지 않는 경향이 있기 때문에, 3가지 파장에서 감응성이 뚜렷한 마이크로캡슐을 만드는 것은 어렵다. 이는 종종, 캡슐이 교차-노출되지 않도록 노출양을 주의하여 조절함으로써만 달성할 수 있다.
본 발명은 적어도 하나느이 개시제의 흡수 피크를 더 높은 파장(예를들면, 400nm 보다 큰 파장)으로 이동시킴으로써 뚜렷한 감응성을 쉽게 만들 수 있게 해준다. 이 방법에서는, 3가지 파장에서의 뚜렷한 감도를 예를들면, 350nm 내지 480nm의 좁은 파장 범위내에서 달성하려고 시도하는 대신에, 예를들면 350 내지 550nm 또는 그 이상의 더 넓은 법위에 걸쳐서 뚜렷한 감응성을 달성할 수 있다. 본 발명에 따라서, 마이크로캡슐의 감응성은 600nm, 일부의 경우 약 700nm까지의 가시 스펙트럼으로 확장될 수 있다. 각각 적색, 녹색 및 청색 광에 감응하는 화합물을 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명의 주목적은 가시광, 예를들면, 약 400㎚보다 더 큰 파장에 감응하는 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은 미합중국 특허 제 4,399,209호 및 제 4,440,846호에 기재된 영상화 재료에 유용한, 가시광-감응 광경화성 조성성물을 제공하는 것이다.
본 발명의 기타 목적은 약 400nm보다 큰 파장에 감응하고 내광성 물질로서 또는 중합체 상을 형성시키는데 유용한 광경화성 조성물을 제공하는 것이다.
이러한 목적 및 다른 목적들이 한가지 태양으로 하기에 제공되는 본 발명에 따라 달성된다.
유리 라디칼 부가 중합성 또는 가교결합성 화합물 및 이온성 염료-대이온 화합물로 이루어지는 광경화성 조성물(여기서, 이온성 염료-대이온 화합물은 화학 방사선을 흡수하여, 상기의 부가 중합성 또는 가교결합성 화합물의 유리 라디칼 부가 중합 또는 가교결합을 개시시키는 유리 라디칼을 제조할 수 있다).
본 발명의 다른 태양은 표면에 감광성 미이크로캡슐(이는 유리 라디칼 부가중합성 또는 가교결합성 화합물 및 이온성 염료-대이온 화합물로 이루어지는 광경화성 조성물을 포함하는 내부상을 함유한다)의 층을 갖는 지지체로 이루어지는 감광성 재료에 있다.
본 발명의 또 다른 태양은 표면에 감광성 마이크로캡슐이 층을 갖는 지지체로 이루어지는, 전색 영상을 생성시키는 데에 유용한 가광성 물질에 있으며, 여기서 감광성 마이크로캡슐은 제1세트의 마이크로캡슐과 연합된 시안 영상-형성체를 갖는 제1세트의 마이크로캡슐, 제2세트 마이크로캡슐과 연합된 마젠타 영상- 형성제를 갖는 제2세트의 마이크로캡슐 및 제3세트 마이크로캡슐과 연합된 황색 영상-형성제를 갖는 제3세트의 마이크로캡슐로 이루어지며, 상기 제1, 제2 및 제3세트의 마이크로캡슐 중 하나 이상이 유리 라디칼 부가 중합성 또는 가교결합성 화합물 및 이온성 염료-대이온 화합물을 포함하는 광경화성 조성물을 포함하는 내부상을 함유한다.
본 발명의 다른 태양은 표면에 광경화성 조성물 층을 갖는 지지체로 이루어지는 감광성 재료에 있으며, 상기의 광경화성 주성물을 소광 상수(kq)가 1010이상, 바람직하게는 1012이상인 이온성 염료-대이온 화합물 및 유리 라디칼 부가 중합성 또는 가교결합성 화합물로 이루어진다.
본 발명의 더욱 특별한 태양에 따라서, 이온성 화합물은 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물, 더욱 특히 시아닌 염료-보레이트 음이온 화합물이거나 요오도늄 또는 피릴륨 이온을 갖는 이온성 크실렌 염료 화합물과 같은 음이온성 염료 화합물이다.
본 명세서에 참조예로 병용하는 미합중국 특허 제 4,399,209호 및 제4,440,846호 및 미합중국 특허원 제 339, 917호(1982년 1월 18일 출원) 및 제 620,994호(1984년 6월 15일 출원)는 본 발명을 완결시키는데 필요할 것이다.
양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물은 본 분야에 공지되어 있다. 이들의 제조방법 및, 영상(image)시스템에서 이들의 용도는 미합중국 특허 제 3,567,453호 ; 제 4,307,182호 ; 제4,343,891호 ; 제4,447,521호 ; 및 제 4,450,227호에 기술되어 있다. 본 발명에 사용하는 화합물은 일반식(I)로 나타낼 수 있다.
Figure kpo00002
상기식에서 D+는 양이온성 염료이고 ; R1, R2, R3및 R4는 알킬, 아릴, 알크아릴, 알릴, 아르알킬, 알케닐, 알키닐, 알리사이클릭 및 포화 또는 불포화 헤테로사이클릭 그룹중에서 독립적으로 선택한다.
유용한 염료는 보레이트 음이온과 광환원성이나 암(dark) 안정성 착화합물을 형성하며, 양이온성 메틴, 폴리메틴, 트리아릴메틴, 인돌린, 티아진, 크산텐, 옥사진 및 아크리딘 염료가 될 수 있다. 더욱 특히, 이 염료는 양이온성 시아닌, 카보시아닌, 헤미시아닌, 로다민 및 아조메탄 염료가 될 수 있다. 양이온성인 것이외에도, 이 염료는 착화합물을 중화 또는 탈감응시키거나, 또는 착화합물의 암 안정성을 경감시키는 그룹을 함유하지 않아야 한다. 염료가 일반적으로 함유하지 않아야 하는 그룹의 예로는 유리 카복실산 또는 설폰산 그룹과 같은 산그룹이 있다.
유용한 양이온성 염료의 구체적인 예로는 메틸레 블루, 사프라닌 0, 말라카이트 그린, 일반식(Ⅱ)의 시이닌 염료 및 일반식(Ⅲ)의 로다민 염료 및 이외 혼합물이 있다.
Figure kpo00003
상기식에서, n은 0, 1, 2, 3이고 : R은 알킬이며 ; Y는 CH=CH, N-CH3, C(CH3)2, O, S, Se 이고 ; R' 및 R은 알킬 및 아릴이다.
이들을 시험해 보진 않았지만, 미합중국 특허 제 3,495,987호에 기술된 양이온성 시아닌 염료는 본 발명에 유용할 것이다.
빛에 노출될 시 염료에 전자를 이동시킨 후 생성되는 보레이트 라디칼(식 1)이 다음과 같이 라디칼을 생성하면서 쉽게 해리되도록 보레이트 음이온을 고안한다 :
Figure kpo00004
특히 바람직한 음이온의 예로 트리페닐부틸 보레이트 및 트리아니실부틸 보레이트 음이온이 있는데, 왜냐하면 이들은 트리페닐보란 또는 트리아니실보란 및 부틸라디칼로 쉽게 해리되기 때문이다. 반면, 테트라부틸보레이트 라디칼은 안정하지 않고, 염료로부터 역전자 이동으로 전자를 쉽게 다시 받으며, 효율적으로 해리되지 않기 때문에, 테트라부틸 보레이트 음이온은 아마 잘 작용하지 않을 것이다. 마찬가지로, 페닐 라디칼이 쉽게 생성되지 않기 때문에, 테트라페닐 보레이트 음이온은 매우 적합하지 않다.
R1, R2, R3및 R4중 하나이상 셋이하가 알킬 그룹인 것이 바람직하다. R1, R2, R3및 R4각각은 탄소수가 20까지일 수 있으며, 통상적으로 탄소수가 1 내지 7이다. R1내지 R4가 알킬그룹과 아릴 그룹 또는 아르알킬 그룹의 결합인 것이 더욱 바람직하며, 아릴 그룹 3개와 알킬 그룹 1개의 결합인 것이 가징 바람직하다.
R1내지 R4의 알킬그룹의 대표적인 예로는 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸, 스테아릴 등이 있다. 이 알킬그룹은 예를들면 하나이상의 할로겐, 시아노, 아실옥시, 아실, 알콕시 또는 하이드록시 그룹으로 치환될 수 있다.
R1내지 R4의 아릴 그룹의 대표적인 예로는 페닐, 나프틸 및 치환된 아릴 그룹(예를들면 아니실)이 있다. 알크아릴 그룹에는 메틸 페닐, 디메틸 페닐 등이 포함된다. R1내지 R4의 아르알킬 그룹의 대표적인 예로는 벤질이 있다. 대표적인 알리사이클릭 그룹에서는 시클로부틸, 시클로펜틸 및 시클로헥실 그룹이 포함된다. 알키닐 그룹의 예로는 프로피닐 및 에티닐이고, 이케닐 그룹의 예로는 비닐 그룹이 있다.
일반적으로, 유용한 이온성 염료 화합물은 실험적으로 확인해야 하지만, 대단히 유용한 염료 및 대이온의 결합물은 하기와 같이 간단히 표현할 수 있는 웰러(Weller) 방정식[참고 : Rehm, D. and Weller, A., Isr. J Chem. (1970), 8, 259-271]을 참고하여 확인할 수 있다.
△G=Eox-Ered-Ehr (식 3)
상기식에서, G는 깁스(Gibbs) 자유 에너지에서의 변화이고 ; Eox는 보레이트 음이온 BR4 -의 산화 포텐셜이고 ; Erd 는 양이온성 염료의 환원 포텐셜이고 ; Ehr는 염료를 야기시키는데에 사용되는 광에너지이다.
유용한 화합물은 자유 에너지의 변화가 음의 값이다. 유사하게, 화합물이 암 안정성이기 위해서는 염료의 환원 포텐셜과 보레이트의 산화 포텐셜과의 차이가 음의 값이어야 한다. 즉, Eox-Ered〉0 이어야 한다.
전술한 바와같이 식 2는 간단한 표현이며, 화합물이 본 발명에 유용한지 어떤지의 여부를 확실히 예측할 수 없다. 이러한 결정에 영향을 미치는 다수의 기타요인이 존재한다. 이러한 요인의 하나는 착화합물에 미치는 단량체의 영향이다. 또 하나의 요인은 이온간의 라디칼 간격이다. 또한, 웰러 방정식의 결과가 지나치게 큰 음수값인 경우, 방정식으로부터의 일탈이 가능하다는 것은 공지되어 있다. 또한, 웰러 방정식으로부터는 단지 전자 이동만을 예측할 수 밖에 없으며, 특정한 염료 착화합물이 유효한 중합반응 개시제인지 어떤지의 여부는 예측할 수 없다. 이 방정식은 유용한 최초의 근사 방정식이다.
본 발명에 유용한 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물의 특정예는 그들이 λmax값과 함께 하기의 표에 기재되어 있다.
[표 1a]
Figure kpo00005
[표 1b
Figure kpo00006
[표 1c]
Figure kpo00007
[표 1d]
Figure kpo00008
양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물은 보레이트염을 공지된 방법으로 염료와 대이온 교환으로 반응시켜 제조할 수 있다[참조 : Hishiki, Y., Repts. Sci. Research Inst. (1953),29, pp 72-79].유용한 보레이트염은 나타륨염(예 : 나트륨 테트라페닐보레이트, 나트륨 트리페닐부틸보레이트, 나트륨 트리아닐실부틸보레이트)및 암모늄염(예 : 테트라에틸암노늄 테트라페닐보레이트)이다.
또한, 음이온성 염료 화합물도 본 발명에 유용하다. 일반식(Ⅳ)의 음이온성 염료-요오도늄 이온 화합물 및 일반식(Ⅴ)의 음이온성 염료-피릴륨 화합물은 음이온성 염료 착화합물의 대표적인 예이다.
Figure kpo00009
상기식에서, D-는 음이온성 염료이고 ; R5및 R6은 페닐 또는 나프틸과 같은 방향족 핵중에서 독립적으로 선택되고 ; n은 1 또는 2이다.
음이온성 염료의 대표적인 예에는 크산텐 및 옥소놀이 포함된다. 요오도늄 및 피릴륨이온 이외에도, 음이온성 염료와 설포늄 양이온으로 이루어지는 기타 화합물이 대단히 유용한다.
양이온성 염료 화합물의 경우에서와 같이, 유용한 염료-양이온 결함물은 웰러 방정식으로 통해 자유 에너지가 음의 값인 것으로 확인할 수 있다.
음이온성 염료 화합물의 선택된 예는 표2에 기재되어 있다[λmax. 약 570nm(TMPTA)].
[표 2]
Figure kpo00010
본 발명에서 유용한 유리 라디칼 부가 중합성 또는 가교결합성 화합물의 가장 대표적인 예로는 에틸렌성 불포화 화합물 및 특히 폴리에틸렌성 불포화 화합물이다. 이러한 화합물에는 하나 이상의 에틸렌성 불포화그룹(예 : 비닐 또는 알릴그룹)을 갖는 단량체, 및 말단에 또는 펜던트(pendant)에 에틸렌성 불포화를 갖는 중합체가 포함된다. 이러한 화합물은 본 분야에 널리 공지되어 있으며 다가 알콜(예 : 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨 등)의 아크릴산 또는 메타크릴산 에스테르 ; 및 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트로 종결된 에폭시 수지, 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트로 종결된 폴리에스테르 등을 포함한다. 대표적인 예는 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트, 에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA), 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨 하이드록시펜타크릴레이트(DPHPA), 헥산디올-1, 6-디메타 크릴레이트, 및 디에틸렌글리콜 디메타크릴레이트이다.
통상 이온성 염료 화합물은 광경화성 조성물중의 공중합성 또는 가교결합성 물질의 중량을 기준하여 약 1중량% 이하의 양으로 사용한다. 다욱 바람직하게는, 약 0.2 내지 0.5%중량%의 양으로서 사용한다.
이러한 화합물을 개시제로서 단독으로 사용할 수 있는 반면, 필름 속도는 아주 낮아지는 경향이 있으며 산소 억제가 일어난다. 화합물을 자가산화제(autoxidizer)와 함께 사용하는 것이 바람직한 것으로 밝혀졌다. 자가산화제는 유리 라디칼 연쇄공정중에서 산소를 소비할 수 있는 화합물이다.
유용한 자가산화제의 예로서 N,N-디알킬 아닐린이 있다. 바람직한 N,N-디알킬아닐린의 예는o-,m-, 또는p- 위치중 하나 이상이 다음의 그룹들로 치환된 디알킬아닐린이다. : 메틸, 에틸, 이소프로필, 3급-부틸, 3, 4-테트라메틸렌, 페닐, 트리플루오로메틸, 아세틸, 에톡시카보닐, 카복시, 카복실레이트, 트리메틸실릴메틸, 트리메틸실릴, 트리에틸실릴, 트리메틸게르마닐, 트리에틸게르마닐, 트리메틸스탄닐, 트리에틸스탄닐,n-부톡시,n-펜틸옥시, 페녹시, 하이드록시, 아세틸-옥시, 메틸티오, 에틸티오, 이소프로필티오, 티오-(머캡토-), 아세틸티오, 플루오로, 클로로, 브로모 및 요오도.
본 발명에서 유용한 N,N-디알킬아닐린의 대표적인 예로는 4-시아노-N,N-디메틸아닐린, 4-아세틸-N,N-디메틸아닐린, 4-브로모-N,N-디메틸아닐린, 에틸 4-(N,N-디메틸아닐린)벤조에이트, 3-클로로-N,N-디메틸아닐린, 4-클로로-N,N-디메틸아닐린, 3-에톡시-N,N-디메틸아닐린, 4-플루오로-N,N-디메틸아닐린, 4-메틸-N,N-디메틸아닐린, 4-에톡시-N,N-디메틸아닐린, N,N-디메틸티오아니시딘, 4-아미노-N,N-디메틸아닐린, 3-하이드록시-N,N-디메틸아닐린, N, N, N', N'-테트라메틸-1,4-디아닐린, 4-아세트아미도-N,N-디메틸아닐린 등이 있다.
바람직한 -N,N-디알킬아닐린은o-위치가 알킬그룹으로 치환된 것이며, 2,6-디이소프로필--N,N-디메틸아닐린, 2,6-디에틸-N,N-디메틸아닐린, N, N, 2, 4, 6-펜타메틸아닐린(PMA) 및p-3급-부틸-N,N-디메틸아닐린이 포함된다.
본 발명에 있어서 자가산화제는 약 4내지 5중량%의 농도로 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광경화성 조성물은 통상적인 방법으로 지지체상에 피복시킬 수 있으며, 중합체 영상(polymerimage)을 형성하기 위한 감광성내식막으로서 또는 사진 석판술(photolithography)에 사용하거나 ; 미합중국 특허 제 4,399,209호 및 제 4,44,846호에 기재된 바와같이 캡슐화할 수 있으며 영상 형성제의 방출을 조절하는데 사용할 수 있다. 전형적으로 후자의 과정에서 감광성 재료를 화학선에 노출시켜 영상을 형성하고 마이크로캡슐 층이 균일한 파괴력(예 : 압력, 마멸, 또는 초음파에너지)을 받게하여 그 결과 현상제와의 반응을 위해 영상 형성제가 마이크로캡슐로부터 방출된다.
미합중국 특허원 제 339,917호에 기재된 바와같이, 색채 영상을 형성하기 위하여 여러 과정을 사용한다. 만일 마이크로캡슐이 적색, 녹색 및 청색광에 감응성인 감광성 조성물을 함유한다면, 영상은 직접 전달 또는 반사 영상화 또는 영상 프로세싱에 의해 형성할 수 있다. 영상 프로세싱은 적색, 녹색 및 청색 성분의 영상에 상응하는 색채분리를 하고 연속적으로 세가지 복사선대(이후에는 색채분리를 통하여 각각 λ-1,λ-2및 λ-3라 칭한다)에 감광성 재료를 노출시켜 수행할 수 있다. 그밖에 기록된 영상 또는 대상을 던(Dunn) 또는 메트릭스 카메라를 통해 검사하며 카메라로부터의 결과는 λ-1,λ-2및 λ-3에 상응하는 3가지 노출원을 전자공학적으로 유도하는 전자 프로세싱을 수반할 수 있다. 또한, 영상은 합성적으로, 예를들면, 컴퓨터-생성 영상으로 제조할 수 있다.
상기의 논제들이 3색상의 전색 영상 형성에 관한 것인 반면, 또한 4색상 영상이 가능하다. 예를들면, 시안, 마젠타, 황색 및 흑생영상 형성제를 함유하는 마이크로캡슐은 4종류의 파장, 즉, λ-1,λ-2,λ-3및 λ-4에서 뚜렷한 감응성을 가질 수 있다.
본 발명에 따라, 전색 시스템중 적어도 한세트의 마이크로캡슐은 이온성 염료 화합물을 함유한다. 또한 다른 세트는 이온성 염료 화합물을 함유할 수 있거나, 상이한 형태의 광개시제를 함유할 수 있다.
본 발명의 바람직한 태양에 따라, 마이크로캡슐이 각각 적색, 녹색 및 청색광에 감응하는 전색 영상 시스템이 제공된다. 하나 이상, 가능하게는 3개의 마이크로캡슐 모두중의 감광성 조성물은 이온성 염료 화합물에 의해 감응한다. 최적의 색상 평형을 위하여, 마이크로캡슐은 각각 약 450nm, 550nm alc 650nm(λmax)에서 감응한다. 이러한 시스템은 직접 전달 또는 반사 영상화에서 가시광원으로 유용하다. 이러한 물질은 채색 사진용 슬라이드를 밀착 인화(contact print) 또는 투영인화(projectde print)하는데 유용하다. 또한 이러한 물질은 적당한 파장의 레이저 또는 광속(光束) 광원을 사용하는 전자 영상화에 유용하다.
이온성 염료 화합물은 400nm 이상의 파장을 흡수하기 때문에, 이들은 색을 나타낸다. 전형적으로, 비노출된 염료 화합물은 상 영역중에 영상 형성제와 존재하므로, 화합물의 색이 영상의 색을 결정하는데 고려되야만 한다. 그러나, 이들 화합물은 영상 형성제에 비해 매우 적은 양으로 사용하며 때때로 노출에 의해 화합물이 표백된다.
본 발명의 광경화성 조성물은 무탄화지 제조시에 공지된 기술(예 : 오일중 하나 이상의 단량체의 코아세르베니션, 계면중합 및 중합) 뿐만 아니라 각종 용융, 분산 및 냉각법을 사용하여 각종 벽 형성제(well former)로 캡슐화할 수 있다. 최대의 감응성을 성취하기 위해서는, 파열에 대한 능력으로 내부상 점도의 변화에 응답하는 고질의 캡슐을 제공하는 캡슐화 기술을 이용하는 것이 중요하다. 보레이트는 산에 민감하기 때문에, 캡슐화 공정은 높은 pH(예 : 약 6이상)에서 행하는 것이 바람직하다.
유용성(oil soluble) 물질은 친수성 벽 형성 물질[예 : 아라비아검, 폴리비닐 알콜, 카복시-메틸셀롤로오즈를 포함하는 젤라틴형 물질(참조 : 그린 등의 미합중국 특허 제 2,730,456호 및 제 2,800,457호) : 레조르시놀-포름알데히드 벽 형성제(참조 :하트 등의 미합중국 특허 제 3,755,190호) ; 이소시아네이트 벽 형성제(참조 : 바실리아데스의 미합중국 특허 제 3,914,511호) ; 이소시아네이트-폴리올 벽 형성제(참조 : 키린타니등의 미합중국 특허 제 3,796,669호) ; 요소-포름 알데히드 벽 형성제, 특히 요소-레조르시놀-포름알데히드 벽 형성제(여기서, 친유도는 레조르시놀을 가하여 증가 시킨다)[참조 : 포리스 등의 미합중국 특허 제 4,001,140호, 제 4,087,376호 및 제 4,089,802호] ; 및 멜라민-포름알데히드 수지 및 하이드록시프로필셀롤로오즈(참조 : 샤클 등의 미합중국 특허 제 4,025,455호)]로 캡슐화하여 왔다.
산소 투과율이 낮은 요소-레조르시놀-포름알데히드 및 멜라민-포름알데히드 캡슐이 바람직하다. 산소 투과율을 낮추기 위한 경우에는, 2단계의 캡슐화를 행하여 이중벽-캡슐을 형성하는 것이 바람직하다.
캡슐 크기는 광의 희석도를 최소화하도록 선택해야만 한다. 전형적으로, 본 발명에 사용된 캡슐의 평균 직경은 대략 1 내지 25μ의 범위이다. 일반적으로, 영상 분해력은 캡슐 크기가 감소함에 따라 증가된다. 캡슐이 너무 작으면, 이들은 기판의 기공 또는 섬유에 도달하기 어렵다. 그러므로,이들 매우 작은 캡슐은 기판에 의해 노출로부터 차단할 수 있다. 또한 압력 또는 다른 파괴 수단에 노출시키는 경우, 파괴되지 않을 수 있다. 이런 관점에서, 캡슐이 평균 직경 범위는 대략 10μ이 바람직한 것으로 측정되었다. 그러나, 기술적으로는 눈으로 볼 수 있는 크기의 범위일 수 있다.
또한 본 발명에 따라, 캡슐화된 것 대신에 개방상 시스템(open phase system)을 사용할 수 있다. 이것은 캡슐 함유물이 안되도록 기판상에 불연속 소적으로서 피복물을 골고루 분산시켜 수행할 수 있다. 이러한 양태용으로 적합한 피복물은 피복물에 필요한 분산에 필적하는 적당한 점도를 가진 중합체 결합체를 포함한다. 적합한 결합제는 젤라틴, 폴리비닐 알콜, 폴리아크릴아미드 및 아크릴성 라티스이다. 본 명세서 또는 첨부된 청구범위에서 불연속 캡슐벽에 대해 언급하지 않는한 "캡슐" 및 "캡슐화"란 말에는 또 다른 개방상 시스템을 포함시키고자 한다.
본 발명의 감광성 물질은 각종 영상 형성제의 상호 작용을 조절하는데 사용할 수 있다.
본 발명의 하나의 태양에서, 캡슐은 내부 상에 양성 가시염료를 함유할 수 있으며, 이러한 경우, 영상은 가시염료에 대한 친화성을 증가시키기 위해 처리된 페이퍼 또는 평지와 노출된 영상 재료를 압력하에 접촉시킴으로써 형성된다. 양성 염료는 예를들면 개시제의 여기 상태를 이완시키거나 노출 방사선을 해롭게 흡수 또는 감쇄시킴으로써, 영상 광화학을 방해하지 않는 착색 염료이다.
본 발명의 바람직한 태양에서는 착색 전구물질 및 발색제와 같은 한쌍의 크로모겐(chromogenic) 물질의 반응에 의해 영상이 형상되며, 여기서 상기 물질중의 하나는 영상 형성제로서 작용하며 광경화성 조성물로 캡슐화될 수 있다. 일반적으로, 이들 물질은 무색 전자 공여형 화합물을 포함하며 본 분야에 널리 공지되어 있다. 이러한 색채 형성제의 대표적인 예로는 그의 부분 골격내에, 락톤, 락탐, 설톤, 스피로피란, 에스테르 또는 아미도 구조를 갖는 거의 무색 화합물, 예를들어, 트리아릴메탄 화합물, 비스페닐메탄 화합물, 크산텐 화합물, 플로오란, 티아진 화합물, 스피로피란 화합물등이 포함된다. 크리스탈 바이올렛 락톤 및 코피켐(Copikem) Ⅹ, Ⅳ 및 ⅩI도 종종 사용된다. 착색 형성체는 단독으로 또는 혼합 형태로 사용될 수 있다.
무탄화지업계에서 통상 사용되는 현상 물진도 또한 본 발명에 유용하다. 그 대표적인 에로는 점토광물(예 : 산점토, 활성점토, 애터필자이트 등) ; 유기산(예 : 탄닌산, 갈산, 갈산프로필 등) ; 산 중합체(예 : 페놀-포름알데히드 수지, 페놀아세틸렌 축함 수지, 하나 이상의 하이드록시그룹을 갖는 유기 카복실산과 포름알데히드와의 축합물 등) ; 금속염 또는 방향족 카복실산(예 : 살리실산아연, 살리실산주석, 2-하이드록시나프토에이트, 3,5 디-3급-부틸살리실산아연, 3,5-디-(α-메틸벤젠)살리실산아연) ; 유용성 금속염 또는 페놀-포름알데히드 노볼락 수지(참조 : 미합중국 특허 제3,672,935호, 제 3,732,120호 및 제 3,737,410호)(예 : 미합중국 특허 제 3,732,120호에 기술된 바와같은 아연 개질된 유용성 페놀-포름알데히드 수지, 탄산아연 등) 및 그의 혼합물이 있다.
미합중국 특허 제 4,399,209호 및 제 4,440,846호에 기재된 바와같이, 현상제는(소위 자장(self-contained) 시스템을 제공하는)감광성 시이트 또는 별개 현상 시이트상에 존재할 수 있다.
자장시스템에서, 현상제는 미합중국 특허 제 4,440,846호에 기재된 바와같이 마이크로캡슐을 포함하는 단일층 내에 제공될 수 있다. 이와는 달리, 색채 형성제 및 색채 현상제는 각각 감광성 캡슐내에 캡슐화될 수 있고, 노출시 두 캡슐 세트는 영상을 형성하기 위해 혼합된 방출되는 색채 형성제 및 현상제를 파괴하여 상을 형성할 수 있다. 또한, 현상제는 가공시 모든 현상제 캡슐이 현상제를 파괴 방출시키지만 색채 형성제 함유 캡슐이 색채 형성제와 현상체를 혼합하는 유일한 부분인 비노출 또는 조사된 부분에서 파괴하도록 비감광성 캡슐내에 캡슐화할 수 있다. 또 다른 대체적인 방법은 감광성 캡슐내에서 현상제를 캡슐화하고 비감광성 캡슐내에서 색채 형성제를 캡슐화하는 것이다.
본 발명은 영상 형성제가 내부 상에 존재하는 태양에 반드시 제한되는 것은 아니다. 이러한 형성제는 상형성을 위해 파괴된 캡슐이 영상-형성제용 용매를 방출하도록 고안된 개방성 시스템 또는 분리된 캡슐과 함께 사용된 결합제 또는 피복제 중에 또는 개방상 시스템의 결합제 중에 또는 분리된 캡슐의 캡슐벽 중에 존재할 수 있다. 염료 또는 크로모겐 물질이 캡슐벽 또는 결합제 중에 고착된 다음, 캡슐 파괴시 내부 상과의 상호작용에 의해 방출되는 태양이 또한 제시되고 있다.
가장 통상적인 본 발명에 대한 기판은 균일한 현상 특성을 얻는데 좋은 투명필름이다. 그러나, 또한 페이퍼가 사용될 수 있다. 페이퍼는 상업용 충격성 원료물질, 또는 특수 페이퍼, 예를들어 주조(cast)-피복 페이퍼 또는 크롬롤(chromerolled) 페이퍼일 수 있다. 폴리에틸렌 테레프탈레이트와 같은 투명필름이 사용될수 있다. 또한, 반투명 기판도 본 발명에 사용될 수 있다.
합성실시예 1 및 2는 각각 보레이트 및 염료-보레이트 화합물의 제법을 설명한다.
[합성 실시예 1]
질소대기하에서 150㎖의 무수 벤젠(1M)중에 트리페닐보란을 용해시킨다. 차가운 수역속에 플라스크를 넣고, 교반하면서 주상기를 통해 n-부틸리튬(1.1eg)을 가한다. 가한 후, 곧 백색 침전이 형성된다. 약 45 내지 60분 동안 교반을 계속한다. 100㎖의 헥산으로희석시키고 여과한 다음, 헥산으로 세척한다. 이렇게 생성된 리튬염을 공기에 약간 불안정하다. 격렬하게 교반시키면서 약 200㎖의 증류수에 백색분말을 용해시키고, 테트라메틸 암모늄 클로라이드 수용액(200㎖ 중에 이론치의 1.2eg)을 가한다. 두꺼운 백색침전이 형성된다. 이러한 수성 혼합물을 실온에서 약 30분동안 교반한 다음 여과시킨다. 수거한 백색고체를 증류수로 세척한다.
또 다른 합성법으로서, 디클로로메탄중 디브로모메탄-메틸설파이드 착화합물의 1.0M 용액 1.0당량을 불활성 대기하에 무수, 무산호 디클로로메탄중 2.0당량의 1-부텐의 1.0M 용액에 교반하면서 서서히 적가한다. 반응 혼합물은 36시간 동안 환류하에 교반하고 디클로로메탄 및 과량의 1-부텐은 간단히 증류하여 제거한다. 잔류물을 진공 증류하여 0.95당량의 무색 모빌유(mobile oil)(비점 66 내지 67℃, 0.35㎜Hg, BNMR ; bs(4.83 PPM))를 수득하고, 불활성 대기하에서 이러한 오일을 무수, 무산소 테트라하이드로푸란중에 용해시켜 1.0M 용액을 수득하고, 테트라하이드로푸란중 염화페닐마그네슘의 2.0M 용액 3.0당량을 교반하면서 적가한다. 16시간 동안 교반한 후, 생성된 용액을 0.2몰 수용액으로서 2당량의 염화테트라메틸 암모늄에 격렬하게 교반하면서 서서히 가한다. 생성된 백색의 응결 고체를 여과시키고 건조시켜 거의 정량적인 양의 목적 생성물을 수득한다(융점 : 250 내지 252℃. BNMR ;bs(-3.7ppm)).
[합성 실시예 2]
매우 미세한 현택액을 제조하기 위해서, 메탄올중 보레이트 염(1g/10㎖)의 현탁액을 초음파 처리한다. 플라스클를 알루미늄호일로 싸서 빛을 차단시킨 다음, 1당량의 염료를 가한다. 이 용액을 뜨거운 판위에서 약 30분동안 저열을 가하면 교반한다. 이를 실온까지 냉각시킨 다음, 5 내지 10용적의 빙수로 희석시킨다. 생성된 고체를 여과시키고 세척물이 무색이 될 때까지 물로 세척한다. 건조 상태까지 흡인 여과시킨다. 진공 건조 오븐내에서 저열(약 50℃)로 개시 화합물을 완전히 건조시킨다. 개시제는 항상 정량적으로 형성된다. H-NMR 분석에 의하면 통상적으로 1 : 1 화합물이 형성이 90% 이상임을 나타낸다. 본 발명의 하기의 제한시키지 않는 실시예에 의해 더욱 상세히 설명한다.
[실시예 1]
[캡슐 제조]
1. 104g의 물 및 24.8g의 이소부틸렌 말레산 무수물 공중합체를 (18%) 600㎖들이 스테인레스 스틸 비이커에 넣어 중량을 잰다.
2. 비이커를 상부 혼합기(overhead mixer)하에 열판상에 놓고 고정시킨다. 날개깃이 6개이고, 경사가 45°인 터빈 추진기가 혼합기에 사용된다.
3. 완전히 혼합한 후, 3.1g의 팩틴(폴리갈락투론산 메틸 에스테르)을 비이커내로 천천히 체질한다. 이 혼합물을 20분 동안 교반한다.
4. pH를 20%의 황산용액을 사용하여 4.0으로 조정하고 0.1g의 콰드를(BASF, 프로필렌 옥사이드를 갖는 2-하이드록시 프로필 에틸렌 디아민)을 가한다.
5. 혼합기를 3000rpm의 속도로 돌리고, 내부 상을 10 내지 15초에 걸쳐 가한다. 10분 동안 계속 유화시킨다.
6. 유화 초기에 열판을 더 올려 유화도중 가열이 지속되도록 한다.
7. 10분이 경과된 후, 혼합 속도를 2000rpm으로 감속시키고, 14.1g의 우레아 용액(50% 중량/중량), 5g의 물중 3.2g의 레조르시놀, 21.4g의 포름알데히드(37%) 및 10㎖의 물중 0.6g이 황상암모늄을 2분 간격으로 가한다.
8. 비이커를 호일로 덮고 열 건(gun)을 제조온도가 65℃가 되도록 사용한다. 65℃에 이르면, 열판을 조절하여 이 온도로 2 내지 3시간의 경화시간 동안 유지시켜 캡슐벽이 형성되도록 한다.
9. 경화후, 열을 끄고, 20%의 수산화나트륨 용액을 사용하여 pH가 9.0이 되도록 조절한다.
10. 무수 아황산수소나트륨(2.8g)을 가하고 캡슐 제제를 실온으로 냉각시킨다.하기의 세가지 내부 상 조성물을 사용하여 전색 영상화시이트에 사용하기 위한 마이크로 캡슐의 세개의 배치를 제조한다. 내부 상 A는 황색 영상-형성제이고 420㎚에서 감응하며 ; 상 B는 마젠타 영상-형성제이고 480㎚에서 감응하며 ; 상 C는 시안 영상-현상제이고 570nm에 감응하는 양이온성 염료-보레이트 음이온 착화합물이다. 마이크로캡슐의 세개의 배치를 혼합하여 지지체상에 피복한 다음, 건조시켜 전색 영상 시이트를 제공한다.
[내부상 A(420㎚)]
Figure kpo00011
[내부상 B(480㎚)]
Figure kpo00012
[내부상 C(570㎚)]
Figure kpo00013
[실시예 2]
[캡슐의 제조]
1. 600㎖ 들이 스테인레스 스틸 비이커에 110g의 물과 4.6g의 이소부틸렌 말레산 무수물 공중합체(건조)를 넣어 중량을 잰다.
2. 비이커를 상부 혼합기하에서 열판상에 클램프로 고정시킨다. 날개짓이 6개이고, 경사가 45℃인 터어빈 추진기가 혼합기에 사용된다.
3. 완전히 혼합한 후, 4.0g의 펙틴(폴리갈락투론산 메틸 에스테르)을 서서히 체로 쳐서 비어커내에 넣는다. 이 혼합물은 실온에서 2시간 동안 교반한다(800 내지 1200rpm).
4. 20% 황산을 가하여 pH 7.0으로 조절한다.
5. 혼합기를 300rpm까지 회전시키고, 10 내지 15초에 걸쳐 내부 상을 가한다. 10분 동안 유화시킨다. 마젠타 및 황색 전구체 상을 25 내지 30℃에서 유화시킨다. 시안 상을 45 내지 50℃(오일), 25 내지 30℃(물)에서 유화시킨다.
6. 유화초기에 열판을 더 올려 유화도중 가열이 지속되도록 한다.
7. 10분 후, 20% 탄산나트륨을 가하여 pH 8.25로 조절하고, 혼합속도를 200rpm으로 감소시킨 다음, 멜라민-포름알데히드 예비중합체 용액(3.9g의 멜라민을 44g이 물에 분산시키고, 6.5g이 포름알데히드 용액(37%)을 가한 다음, 용액이 맑아진후 30분까지 60℃에서 가열하여 제조함)을 서서히 가한다.
8. pH를 6.0으로 조절하고, 비이커를 호일로 덮은 다음, 수욕중에 옮겨 제제의 온도를 65℃로 만든다. 65℃에 이르렀을 때, 열판을 조절하여 이 온도로 2시간(경화시간) 동안 유지시켜 캡슐 벽이 형성되도록 한다.
9. 경화 후, 혼합속도를 6000rpm으로 감소시키고, 포름알데히드 스캐빈저 용액(7.8g의 우레아 및 7.0g 의 물)을 가한 다음, 용액을 다시 40분 동안 경화시킨다.
10. 20% NaOH 용액을 사용하여 pH를 9.5로 조절하고, 실온에서 밤새 교반한다.
하기의 세가지 내부 상 조성물을 사용하여 전색 영상 시이트에 사용하기 위한 세개의 마이크로캡슐 배치를 상기와 같이 제조한다 :
[황색 형성 캡슐(420㎚)]
Figure kpo00014
[마젠타 형성 캡슐(550㎚)]
Figure kpo00015
[시안 형성 캡슐(650㎚)]
Figure kpo00016
마이크로캡슐의 세개의 배치를 혼합하고, 지지체상에 피복하여 본 발명에 따른 영상화 재료를 제공한다.
상기 상세히 기술한 바 및 이의 바람직한 태양을 참조하여, 특허청구의 범위에 정의된 발명의 범주를 벗어나지 않는 한도 내에서 변경 및 개정이 가능하다.

Claims (49)

  1. 화학선을 흡수할 수 있으며 중합성 또는 가교결합성 화합물의 유리 라디칼 중합 도는 가교결합을 개시하는 유리 라디칼을 생성할 수 있는 이온성 염료-대이온 화합물과 유리 라디칼 부가중합성 또는 가교결합성 화합물로 이루어지는 광경화성 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 노출전 이온성 염료-대이온 화합물이 안정한 비-천이화합물인 광경화성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 유리 라디칼 부가중합성 또는 가결결합성 화합물에 가용성인 광경화성 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 이를 빛에 노출시킴에 따라서 염료가 대이온에 의해 소광되는 단일 상태로 여기됨을 특징으로 하는 광경화성 조성물.
  5. 제4항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물을 빛에 노출시킨 후, 전자가 염료에서 대이온으로 또는 대이온에서 염료로 이동하며, 전자 이동속도가 확산에 의해 조절되는 속도보다 큰 광경화성 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 화합물이 음이온성 염료 화합물인 광경화성 조성물.
  7. 제6항에 있어서, 음이온성 염료가 크산텐 및 옥소놀 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 광경화성 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 중합성 또는 가교결합성 화합물이 에틸렌성 불포화 화합물인 광경화성 조성물.
  9. 제6항에 있어서, 이온성 염료-대이온 음이온성 화합물이 염료-요오드늄 이온 착호합물 또는 음이온성 염료-피릴륨 이온 착화합물인 광경화성 조성물.
  10. 제9항에 있어서, 염료가 크산텐 염료인 광경화성 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물이 광경화성 조성물.
  12. 제11항에 있어서, 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물이 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 광경화성 조성물.
    Figure kpo00017
  13. 제12항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 메틴, 폴리메틴, 트리아릴메탄, 인돌린, 아진, 티아진, 크산덴, 옥사진 및 아크리딘 염료로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 광경화성 조성물.
  14. 제13항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 시아닌, 카보시아닌, 헤미시아닌, 로다민 및 아지메틴 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 광경화성 조성물.
  15. 제14항에 있어서, R1, R2, R3및 R4중 적어도 하나가 알킬 그룹이고 적어도 하나는 아릴 그룹인 광경화성 조성물.
  16. 화학선을 흡수할 수 있고 중합성 또는 가교결합성 화합물의 유리 라디칼 중합 또는 가교결합을 개시하는 유리 라디칼을 생성할 수 있는 이온성 염료-대이온 화합물과 유리 라디칼 부가중합성 또는 가교결합성 화합물로 이루어지는 광경화성 조성물의 층을 표면에 피복시킨 지지체로 이루어지는 감광성 재료.
  17. 제16항에 있어서, 노출전에 이온성 염료-대이온 화합물이 안정한 비-천이 화합물인 감광성재료.
  18. 제16항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 부가중합성 또는 가교결합성 화합물에 가용성인 감광성 재료.
  19. 제16항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 이를 빛에 노출시킴에 따라서 염료가 대이온에 의해 소광되는 단일 상태로 여기됨을 특징으로 하는 감광성 재료.
  20. 제16항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물을 빛에 노출시킨 후, 전자가 염료에서 대이온으로 또는 대이온에서 염료로 이동하고, 전자 이동 속도가 확산에 의해 조절되는 속도보다 큰 감광성 재료.
  21. 제16항에 있어서, 착화합물이 음이온성 염료 착화합물인 감광성 재료.
  22. 제21항에 있어서, 음이온성 염료가 크산텐 및 옥소놀 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  23. 제16항에 있어서, 광중합성 또는 가교결합성 화합물이 에틸렌성 불포화 화합물인 감광성 재료.
  24. 제21항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 음이온성 염료 요오도늄 이온 화합물 또는 음이온성 염료 피릴륨 이온 화합물인 감광성 재료.
  25. 제24항에 있어서, 염료가 크산텐인 감광성 재료.
  26. 제16항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물인 감광성 재료.
  27. 제26항에 있어서, 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물이 하기 일반식(Ⅰ)로 표시되는 감광성 재료.
    Figure kpo00018
    상기식에서, D는 양이온성 염료잔기이고, R1, R2, R3및 R4는 동일하거나 상이하며, 알킬, 아릴, 아르알킬, 알크아릴, 알케닐, 알키닐, 알리사이클릭, 헤테로사이클릭 및 알릴 그룹중에서 선택된다.
  28. 제27항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 메틴, 폴리메틴, 트리아릴메탄, 인돌린, 아진, 티아진, 크산텐, 옥사진 및 아크리딘 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  29. 제28항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 시아닌, 카보시아닌, 헤미시아닌, 로다민 및 아자메틴 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  30. 제29항에 있어서, R1, R2, R3및 R4중 적어도 하나가 알킬 그룹이고, 적어도 하나는 아릴 그룹인 감광성 재료.
  31. 화학선을 흡수할 수 있고 중합성 또는 가교결합성 화합물의 유리 라디칼 중합 또는 가교결합을 개시하는 유리 라디칼을 생성할 수 있는 이온성 염료-대이온 화합물과 유리 라디칼 부가중합성 또는 가교결합성 화합물로 이루어지는 광경화성 조성물을 포함하는 내부 상을 함유하며 연합된 영상 형성제를 함유하는 마이크로캡슐의 층을 한쪽 표면에 피복시킨 지지체로 이루어진 감광성 재료.
  32. 제31항에 있어서, 노출전 이온성 염료-대이온 화합물이 안정한 비-천이화합물인 감광성 재료.
  33. 제31항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 부가중합성 또는 가교결합성 화합물에 가용성인 감광성 재료.
  34. 제31항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 이를 빛에 노출시킴에 따라서 염료가 대이온에 소광되는 단일 상태로 여기됨을 특징으로 하는 감광성 재료.
  35. 제31항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물을 빛에 노출시킨 후, 전자가 염료로부터 대이온으로 또는 대이온으로부터 염료로 이동하며, 전자 이동속도가 확산에 의해 조절되는 속도보다 큰 감광성 재료.
  36. 제31항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 음이온성 염료 착화합물인 감광성 재료.
  37. 제36항에 있어서, 음이온성 염료가 크산텐 및 옥소놀 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  38. 제31항에 있어서, 광중합성 또는 광가교결합성 화합물이 에틸렌성 불포화 화합물인 감광성 재료.
  39. 제38항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 음이온성 염료-요오도늄 화합물 또는 음이온성 염료-피릴륨 화합물인 감광성 재료.
  40. 제39항에 있어서, 영상-형성제가 거의 무색인 색소 생성 물질인 감광성 재료.
  41. 제31항에 있어서, 이온성 염료-대이온 화합물이 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물인 감광성 재료.
  42. 제41항에 있어서, 양이온성 염료-보레이트 음이온 화합물이 다음 일반식(Ⅰ)로 표시되는 감광성 재료.
    Figure kpo00019
    상기식에서 D는 양이온성 염료 잔기이고, R1, R2, R3및 R4는 동일하거나 상이하며, 알킬, 아릴, 아르알킬, 알크아릴, 알케닐, 알키닐, 알리사이클릭, 헤테로사이클릭 및 알릴 그룹 중에서 선택된다.
  43. 제42항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 메틴, 폴리메틴, 트리아릴메탄, 인돌린, 티아진, 크산텐, 옥사진 및 아크리딘 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  44. 제43항에 있어서, 양이온성 염료가 양이온성 시아닌, 카보시아닌, 헤미시아닌, 로다민 및 아자메틴 염료로 이루어진 그룹중에서 선택되는 감광성 재료.
  45. 제44항에 있어서, R1, R2, R3및 R4중 적어도 하나가 알킬그룹이고, 적어도 하나는 아릴 그룹인 감광성 재료.
  46. 제31항에 있어서, 언급한 재료가 전색 영상 형성에 유용하며, 마이크로캡슐은 이와 연합된 시안, 영상-형성제를 갖는 마이크로캡슐 제1세트, 마젠타 영상-형성제를 갖는 마이크로캡슐 제2세트 및 황색 영상-형성제를 갖는 마이크로캡슐 제3세트를 포함하여 이때 언급한 마이크로캡슐 제1, 제2 및 제3세트중 적어도 하나는 언급한 이온성 염료-대이온 화합물을 함유하는 광경화성 조성물을 포함하는 감광성 재료.
  47. 제46항에 있어서, 마이크로캡슐을 각기 제1, 제2 및 제3세트의 마이크로캡슐을 경화시키는 3개의 별개의 화학선 파장에 영상 노출시키고, 마이크로캡슐이 균일한 파괴력을 받게하는 단계로 이루어진 방법에 의한 영상 형성에 유용한 감광성 재료.
  48. 제47항에 있어서, 언급한 파장중 적어도 하나가 400nm 이상인 감광성 재료.
  49. 제48항에 있어서, 언급한 3개의 별개 파장이 적색, 녹색 및 청색광인 감광성 재료.
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Families Citing this family (191)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4977511A (en) * 1985-11-20 1990-12-11 The Mead Corporation Photosensitive materials containing ionic dye compound as initiators
JPS62232638A (ja) * 1986-04-02 1987-10-13 Brother Ind Ltd 感光感圧記録シ−ト
US4895880A (en) * 1986-05-06 1990-01-23 The Mead Corporation Photocurable compositions containing photobleachable ionic dye complexes
JPH07120036B2 (ja) * 1987-07-06 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4950581A (en) * 1987-07-06 1990-08-21 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition
US4751102A (en) * 1987-07-27 1988-06-14 The Mead Corporation Radiation-curable ink and coating compositions containing ionic dye compounds as initiators
JPH0820732B2 (ja) * 1987-10-13 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US4874685A (en) * 1987-11-27 1989-10-17 The Mead Corporation Photocurable composition containing a photoreducible dye a thiol and an N,N'-dialkylaniline
US4840866A (en) * 1988-03-24 1989-06-20 The Mead Corporation Microcapsule imaging system having improved dynamic range
US4859572A (en) * 1988-05-02 1989-08-22 Eastman Kodak Company Dye sensitized photographic imaging system
JP2641260B2 (ja) * 1988-07-26 1997-08-13 キヤノン株式会社 光重合開始剤及び感光性組成物
JPH02244051A (ja) * 1988-10-11 1990-09-28 Mead Corp:The 画像形成方法
US4954414A (en) * 1988-11-08 1990-09-04 The Mead Corporation Photosensitive composition containing a transition metal coordination complex cation and a borate anion and photosensitive materials employing the same
CA2005933A1 (en) * 1989-01-09 1990-07-09 Jesse Hipps, Sr. Photohardenable composition containing five member aromatic group with imine moiety
JP2571115B2 (ja) * 1989-01-17 1997-01-16 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物の増感方法及び増感された感光性組成物
US4954415A (en) * 1989-03-09 1990-09-04 The Mead Corporation Photoinitiator compositions containing O-acylthiohydroxamate or an N-alkoxypyridinethione and photohardenable compositions containing the same
CA2009652A1 (en) * 1989-03-09 1990-09-09 Paul Davis Photoinitiator compositions containing disulfides and photohardenable compositions containing the same
EP0390439A1 (en) * 1989-03-27 1990-10-03 The Mead Corporation Complexes useful as photoinitiators and photohardenable compositions containing the same
EP0422686B1 (en) * 1989-10-13 1997-04-16 Fuji Photo Film Co., Ltd. Image-forming material containing an aluminate complex
KR910012820A (ko) * 1989-12-20 1991-08-08 로레인 제이. 프란시스 황산화제 배합물을 함유하는 유리 라디칼 중합성 조성물
EP0438123B1 (en) * 1990-01-16 1995-09-13 Showa Denko Kabushiki Kaisha Near infrared polymerization initiator
EP0450254A1 (en) * 1990-04-03 1991-10-09 Ciba-Geigy Ag Photocurable compositions
JPH043064A (ja) * 1990-04-20 1992-01-08 Oriental Photo Ind Co Ltd 感光体
JP3244288B2 (ja) * 1990-07-23 2002-01-07 昭和電工株式会社 近赤外光消色型記録材料
TW207021B (ko) * 1990-07-23 1993-06-01 Showa Denko Kk
TW363999B (en) * 1991-06-04 1999-07-11 Vantico Ag Photosensitive compositions
GB9121789D0 (en) * 1991-10-14 1991-11-27 Minnesota Mining & Mfg Positive-acting photothermographic materials
CA2120838A1 (en) 1993-08-05 1995-02-06 Ronald Sinclair Nohr Solid colored composition mutable by ultraviolet radiation
US5721287A (en) 1993-08-05 1998-02-24 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of mutating a colorant by irradiation
US6017661A (en) 1994-11-09 2000-01-25 Kimberly-Clark Corporation Temporary marking using photoerasable colorants
US5645964A (en) 1993-08-05 1997-07-08 Kimberly-Clark Corporation Digital information recording media and method of using same
US5733693A (en) 1993-08-05 1998-03-31 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method for improving the readability of data processing forms
US6211383B1 (en) 1993-08-05 2001-04-03 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Nohr-McDonald elimination reaction
US6017471A (en) 1993-08-05 2000-01-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants and colorant modifiers
US5643356A (en) 1993-08-05 1997-07-01 Kimberly-Clark Corporation Ink for ink jet printers
US5700850A (en) 1993-08-05 1997-12-23 Kimberly-Clark Worldwide Colorant compositions and colorant stabilizers
US5773182A (en) 1993-08-05 1998-06-30 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of light stabilizing a colorant
US5681380A (en) 1995-06-05 1997-10-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Ink for ink jet printers
EP0643329B2 (de) * 1993-08-26 2002-02-06 Vantico AG Flüssige strahlungshärtbare Zusammensetzung, insbesondere für die Stereolithographie
EP0646580B1 (de) * 1993-09-16 2000-05-31 Ciba SC Holding AG Vinyletherverbindungen mit zusätzlichen von Vinylethergruppen verschiedenen funktionellen Gruppen und deren Verwendung zur Formulierung härtbarer Zusammensetzungen
US5739175A (en) 1995-06-05 1998-04-14 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition containing an arylketoalkene wavelength-specific sensitizer
US6071979A (en) 1994-06-30 2000-06-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition method of generating a reactive species and applications therefor
US6242057B1 (en) 1994-06-30 2001-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition and applications therefor
US5685754A (en) 1994-06-30 1997-11-11 Kimberly-Clark Corporation Method of generating a reactive species and polymer coating applications therefor
US6008268A (en) 1994-10-21 1999-12-28 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoreactor composition, method of generating a reactive species, and applications therefor
JP3442176B2 (ja) 1995-02-10 2003-09-02 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
TW418215B (en) * 1995-03-13 2001-01-11 Ciba Sc Holding Ag A process for the production of three-dimensional articles in a stereolithography bath comprising the step of sequentially irradiating a plurality of layers of a liquid radiation-curable composition
US5798015A (en) 1995-06-05 1998-08-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of laminating a structure with adhesive containing a photoreactor composition
RU2170943C2 (ru) 1995-06-05 2001-07-20 Кимберли-Кларк Уорлдвайд, Инк. Новые прекрасители
US5811199A (en) 1995-06-05 1998-09-22 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Adhesive compositions containing a photoreactor composition
US5747550A (en) 1995-06-05 1998-05-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Method of generating a reactive species and polymerizing an unsaturated polymerizable material
US5786132A (en) 1995-06-05 1998-07-28 Kimberly-Clark Corporation Pre-dyes, mutable dye compositions, and methods of developing a color
JP2000506550A (ja) 1995-06-28 2000-05-30 キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド 新規な着色剤および着色剤用改質剤
DK0854783T3 (da) * 1995-09-09 2003-02-24 Vantico Ltd Fremgangsmåde til fremstilling af polymerlag med selektivt farvede arealer
TW467933B (en) * 1995-11-24 2001-12-11 Ciba Sc Holding Ag Photopolymerizable compositions comprising borate photoinitiators from monoboranes and the use thereof
TW466256B (en) * 1995-11-24 2001-12-01 Ciba Sc Holding Ag Borate photoinitiator compounds and compositions comprising the same
US6099628A (en) 1996-03-29 2000-08-08 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
CA2210480A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Improved colorant stabilizers
US5782963A (en) 1996-03-29 1998-07-21 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5855655A (en) 1996-03-29 1999-01-05 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
US5891229A (en) 1996-03-29 1999-04-06 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorant stabilizers
ES2144836T3 (es) * 1996-07-29 2000-06-16 Ciba Sc Holding Ag Composicion liquida reticulable por radiacion, en especial para estereolitografia.
DE69710657T3 (de) † 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren
JPH10319584A (ja) * 1997-05-21 1998-12-04 Brother Ind Ltd マイクロカプセルを用いた感光性記録材料
US6524379B2 (en) 1997-08-15 2003-02-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same
EP0915136B1 (en) * 1997-11-05 2004-01-21 Showa Denko Kabushiki Kaisha Photocurable paint composition for road markings
EP1058864A1 (en) * 1998-02-25 2000-12-13 Cycolor, Inc. Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition
JPH11249304A (ja) * 1998-03-02 1999-09-17 Oriental Photo Ind Co Ltd 乾式画像形成材料及び乾式画像形成方法
US6100007A (en) 1998-04-06 2000-08-08 Ciba Specialty Chemicals Corp. Liquid radiation-curable composition especially for producing cured articles by stereolithography having high heat deflection temperatures
BR9906513A (pt) 1998-06-03 2001-10-30 Kimberly Clark Co Fotoiniciadores novos e aplicações para osmesmos
EP1062285A2 (en) 1998-06-03 2000-12-27 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Neonanoplasts and microemulsion technology for inks and ink jet printing
US6228157B1 (en) 1998-07-20 2001-05-08 Ronald S. Nohr Ink jet ink compositions
WO2000010964A1 (de) * 1998-08-21 2000-03-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Photoaktivierbare stickstoffhaltige basen
US6398981B1 (en) 1998-09-18 2002-06-04 Universite Laval Photopolymerizable composition sensitive to light in a green to infrared region of the optical spectrum
DE69930948T2 (de) 1998-09-28 2006-09-07 Kimberly-Clark Worldwide, Inc., Neenah Chelate mit chinoiden gruppen als photoinitiatoren
EP1002817B1 (en) 1998-11-17 2004-04-28 Showa Denko K.K. Photocurable composition
ATE238393T1 (de) 1999-01-19 2003-05-15 Kimberly Clark Co Farbstoffe, farbstoffstabilisatoren, tintenzusammensetzungen und verfahren zu deren herstellung
US6174642B1 (en) 1999-02-25 2001-01-16 Cycolor, Inc. Imaging system employing encapsulated radiation sensitive composition
US6331056B1 (en) 1999-02-25 2001-12-18 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Printing apparatus and applications therefor
US6294698B1 (en) 1999-04-16 2001-09-25 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Photoinitiators and applications therefor
US6368395B1 (en) 1999-05-24 2002-04-09 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same
MXPA02012011A (es) 2000-06-19 2003-04-22 Kimberly Clark Co Fotoiniciaodres novedosos y aplicaciones para los mismos.
US6841589B2 (en) 2001-10-03 2005-01-11 3D Systems, Inc. Ultra-violet light curable hot melt composition
JP4551087B2 (ja) 2001-10-03 2010-09-22 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 相変化支持材料組成物
KR100811393B1 (ko) * 2001-12-04 2008-03-07 주식회사 하이닉스반도체 패턴 붕괴 개선용 포토레지스트 첨가제 및 이를 함유하는포토레지스트 조성물
CN101706639A (zh) 2002-05-03 2010-05-12 Dsmip财产有限公司 可辐射固化树脂组合物及利用该组合物的快速成型方法
US6989225B2 (en) 2002-07-18 2006-01-24 3D Systems, Inc. Stereolithographic resins with high temperature and high impact resistance
US7635727B2 (en) 2003-06-24 2009-12-22 Ppg Industries Ohio, Inc. Composite transparencies
EP1622178A1 (en) * 2004-07-29 2006-02-01 Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) 2,2 -Bipyridine ligand, sensitizing dye and dye sensitized solar cell
DE102004058584A1 (de) 2004-12-03 2006-06-08 Basf Ag Strahlungshärtbare Beschichtungsmassen
US8287611B2 (en) 2005-01-28 2012-10-16 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive articles and methods for making same
US7591865B2 (en) 2005-01-28 2009-09-22 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Method of forming structured abrasive article
US8435098B2 (en) 2006-01-27 2013-05-07 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Abrasive article with cured backsize layer
US20080103226A1 (en) 2006-10-31 2008-05-01 Dsm Ip Assets B.V. Photo-curable resin composition
WO2008079934A2 (en) 2006-12-21 2008-07-03 Saint-Gobain Abrasives, Inc. Low corrosion abrasive articles and methods for forming same
IL200997A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Special polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
IL200995A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Polyether-based polyurethane formulations for the production of holographic media
IL200996A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer formulations having a low crosslinking density
JP5524218B2 (ja) 2008-10-01 2014-06-18 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト ホログラフィック媒体製造用のプレポリマー系ポリウレタン配合物
IL200722A0 (en) 2008-10-01 2010-06-30 Bayer Materialscience Ag Photopolymer compositions for optical elements and visual displays
EP2218742A1 (de) 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Photopolymerzusammensetzungen als verdruckbare Formulierungen
EP2218743A1 (de) 2009-02-12 2010-08-18 Bayer MaterialScience AG Prepolymerbasierte Polyurethanformulierungen zur Herstellung holographischer Filme
EP2219073B1 (de) 2009-02-17 2020-06-03 Covestro Deutschland AG Holografische Medien und Photopolymerzusammensetzungen
EP2406318B1 (en) 2009-03-13 2021-04-21 DSM IP Assets B.V. Radiation curable resin composition and rapid three-dimensional imaging process using the same
US8889322B2 (en) 2009-11-03 2014-11-18 Bayer Materialscience Ag Photopolymer formulation having different writing comonomers
ES2535950T3 (es) 2009-11-03 2015-05-19 Bayer Intellectual Property Gmbh Uretanos como aditivos en una formulación de fotopolímeros
WO2011054818A2 (de) 2009-11-03 2011-05-12 Bayer Materialscience Ag Neue, nicht kristallisierende methacrylate, deren herstellung und verwendung
EP2497085B1 (de) 2009-11-03 2014-02-12 Bayer Intellectual Property GmbH Verfahren zur herstellung eines holographischen films
JP2013510203A (ja) 2009-11-03 2013-03-21 バイエル・マテリアルサイエンス・アクチェンゲゼルシャフト 感光性ポリマー組成物における添加剤としてのフルオロウレタン
US20120237856A1 (en) 2009-11-03 2012-09-20 Bayer Intellectual Property Gmbh Selection method for additives in photopolymers
PL2317511T3 (pl) 2009-11-03 2012-08-31 Bayer Materialscience Ag Formulacje fotopolimerowe z nastawialnym mechanicznym modułem Guv
TWI506049B (zh) 2009-11-03 2015-11-01 Bayer Materialscience Ag 具有高折射率和降低之雙鍵密度的丙烯酸胺基甲酸酯
EP2354845B1 (de) 2010-02-02 2015-12-23 Covestro Deutschland AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien
JP5792746B2 (ja) 2010-02-02 2015-10-14 バイエル・インテレクチュアル・プロパティ・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツングＢａｙｅｒ Ｉｎｔｅｌｌｅｃｔｕａｌ Ｐｒｏｐｅｒｔｙ ＧｍｂＨ エステル系書込モノマー含有感光性ポリマー組成物
EP2531892B1 (de) 2010-02-02 2016-01-27 Covestro Deutschland AG Verwendung einer photopolymer-formulierung mit triazin-basierten schreibmonomeren
EP2330461A1 (de) 2010-03-26 2011-06-08 Bayer MaterialScience AG Projektionseinrichtung für einen Picoprojektor und holographischer Projektionsschirm
WO2012020061A1 (de) 2010-08-11 2012-02-16 Bayer Materialscience Ag Difunktionelle (meth)-acrylat-schreibmonomere
EP2450893A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung zur Herstellung holographischer Medien mit hoch vernetzten Matrixpolymeren
EP2450387A1 (de) 2010-11-08 2012-05-09 Bayer MaterialScience AG Photopolymer-Formulierung für die Herstellung holographischer Medien
US8460451B2 (en) 2011-02-23 2013-06-11 3D Systems, Inc. Support material and applications thereof
US9394441B2 (en) 2011-03-09 2016-07-19 3D Systems, Inc. Build material and applications thereof
US9157007B2 (en) 2011-03-09 2015-10-13 3D Systems, Incorporated Build material and applications thereof
US9475889B2 (en) 2011-05-16 2016-10-25 Eastman Kodak Company Photoinitiator and photocurable compositions and uses
US20120295999A1 (en) * 2011-05-16 2012-11-22 Deepak Shukla Photoinitiator and photocurable compositions and uses
EP2766903A1 (de) 2011-10-12 2014-08-20 Bayer Intellectual Property GmbH Kettenübertragungsreagenzien in polyurethan-basierten photopolymer-formulierungen
US20140255824A1 (en) 2011-10-12 2014-09-11 Bayer Intellectual Property Gmbh Sulphur-containing chain transfer reagents in polyurethane-based photopolymer formulations
EP2613318B1 (de) 2012-01-05 2014-07-30 Bayer Intellectual Property GmbH Schichtaufbau mit einer Schutzschicht und einer belichteten Photopolymerschicht
TWI557187B (zh) 2012-05-03 2016-11-11 拜耳材料科學股份有限公司 用於光聚合物之新穎光起始劑
EP2700510B1 (de) 2012-08-23 2015-09-16 Bayer MaterialScience AG Polycarbonatbasierte Sicherheits- und/oder Wertdokumente mit Hologramm im Kartenkörper
EP2888116B1 (de) 2012-08-23 2016-09-21 Covestro Deutschland AG Sicherheits- und/oder wertdokument enthaltend ein visuell schaltbares fenster mit einem hologramm
US8980406B2 (en) 2012-08-28 2015-03-17 3D Systems, Inc. Color stable inks and applications thereof
US9657186B2 (en) 2012-09-13 2017-05-23 3D Systems, Inc. Opaque inks and applications thereof
EP2948427A2 (de) 2013-01-25 2015-12-02 Covestro Deutschland AG Sicherheitselement mit volumenhologramm und druckmerkmal
EP2772917A1 (de) 2013-02-27 2014-09-03 Bayer MaterialScience AG Schutzlacke auf Basis von strahlenvernetzbaren Polyurethandispersionen
TWI640428B (zh) 2013-02-27 2018-11-11 拜耳材料科學股份有限公司 以丙烯酸酯為基底之保護塗層與黏著劑
WO2014152531A1 (en) 2013-03-15 2014-09-25 3D Systems, Inc. Three dimensional printing material system
JP6497850B2 (ja) 2013-05-08 2019-04-10 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ ハロー防止層を有するホログラフィック記録媒体およびその製造
WO2015055576A1 (de) 2013-10-17 2015-04-23 Bayer Materialscience Ag Photopolymer-formulierung zur herstellung holographischer medien mit boraten mit niedriger tg
KR20160079828A (ko) 2013-10-30 2016-07-06 코베스트로 도이칠란트 아게 기재 및 광중합체 필름을 포함하는 복합체
CN106030711B (zh) 2013-12-20 2019-02-22 科思创德国股份有限公司 具有改进的光敏性的全息介质
US11602892B2 (en) 2013-12-23 2023-03-14 3D Systems, Inc. Three dimensional printing materials, systems, and methods
WO2015138567A1 (en) 2014-03-11 2015-09-17 3D Systems, Incorporated 3d printing colorization
EP3134446B1 (de) 2014-04-25 2019-04-24 Covestro Deutschland AG Aromatische glykolether als schreibmonomere in holographischen photopolymer-formulierungen
US20150344694A1 (en) 2014-05-30 2015-12-03 3D Systems, Incorporated Water dispersible support materials for 3d printing
EP3152266B1 (en) 2014-06-04 2020-10-07 3D Systems, Inc. Inks comprising gellants for 3d printing
US9827712B2 (en) 2014-06-09 2017-11-28 3D Systems, Inc. Method of printing grayscale and full-color 3D articles
US9650526B2 (en) 2014-09-09 2017-05-16 3D Systems, Inc. Method of printing a three-dimensional article
KR101989717B1 (ko) 2014-11-24 2019-06-14 3디 시스템즈 인코오퍼레이티드 3d 인쇄를 위한 액체 고무를 포함하는 잉크
CN107001246B (zh) 2014-12-12 2021-02-02 科思创德国股份有限公司 作为光聚合物用书写单体的萘基丙烯酸酯
JP6722672B2 (ja) 2014-12-19 2020-07-15 コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフトＣｏｖｅｓｔｒｏ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ Ａｇ 水分に安定なホログラフィック媒体
TWI698326B (zh) 2015-01-14 2020-07-11 德商科思創德意志股份有限公司 以全相光學元件製備光學鑄件之方法及光學鑄件
EP3313827B1 (de) 2015-06-23 2019-11-06 Covestro Deutschland AG Substituierte triazine
US10435573B2 (en) 2015-11-03 2019-10-08 3D Systems, Inc. Biocompatible inks for 3D printing
EP3166109A1 (de) 2015-11-09 2017-05-10 Covestro Deutschland AG Kit-of-parts enthaltend versiegellungsschicht und photopolymer
US10316214B2 (en) 2016-03-08 2019-06-11 3D Systems, Incorporated Non-isocyanate polyurethane inks for 3D printing
WO2017176977A1 (en) 2016-04-07 2017-10-12 3D Systems, Incorporated Thiol-ene inks for 3d printing
US11078218B2 (en) 2016-11-09 2021-08-03 Covestro Deutschland Ag Process for the production of triaryl organoborates
EP3541793B1 (de) 2016-11-09 2021-03-31 Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung von triaryl-organoboraten
US11242360B2 (en) 2016-11-09 2022-02-08 Covestro Deutschland Ag Process for the manufacturing of triaryl-organo borates
EP4140694A1 (en) 2017-02-01 2023-03-01 3D Systems, Inc. Method of 3d printing using 3d printing ink containing a cyclopolymerizable monomer
CN110603589B (zh) 2017-05-09 2021-11-16 科思创德国股份有限公司 含全息曝光的光致聚合物层和高耐受性涂料层的全息介质
EP3401909A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Folienaufbau enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
TW201906882A (zh) 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 含有用於全像照射的光聚合物層及高度耐性漆層之薄膜結構
US11640136B2 (en) 2017-05-09 2023-05-02 Covestro Deutschland Ag System consisting of two UV-curing dry-transfer coating layers for the protection of a hologram in a photopolymer film composite
EP3401910A1 (de) 2017-05-09 2018-11-14 Covestro Deutschland AG Holographisches medium enthaltend eine photopolymerschicht zur holographischen belichtung und eine lackschicht hoher beständigkeit
TW201906730A (zh) 2017-05-09 2019-02-16 德商科思創德意志股份有限公司 用於保護光聚合物膜複合物中之全像圖之含ｕｖ硬化性黏著層的塑膠膜
EP3435156A1 (de) 2017-07-26 2019-01-30 Covestro Deutschland AG Schutzschicht für photopolymer
US11098209B2 (en) 2017-10-05 2021-08-24 3D Systems, Inc. Cyclopolymerizable compounds for 3D printing
EP3707214B1 (en) 2017-11-07 2024-06-12 3D Systems, Inc. Inks for 3d printing having low print through depth
EP3495886A1 (de) 2017-12-06 2019-06-12 Covestro Deutschland AG Klebstofffreier photopolymerschichtaufbau
JP7093857B2 (ja) 2018-06-22 2022-06-30 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 蛍燐光体を含む３ｄプリント用の造形材料およびサポート材料
US11247386B2 (en) 2018-06-22 2022-02-15 3D Systems, Inc. Method of verifying integrity of a post-process removal of support material
US11370928B2 (en) 2018-11-30 2022-06-28 3D Systems, Inc. Inks for 3D printing having low polymerization shrinkage
JP7290789B2 (ja) 2019-07-12 2023-06-13 スリーディー システムズ インコーポレーテッド ３ｄプリント用の構築材料
EP3772671A1 (de) 2019-08-06 2021-02-10 Covestro Deutschland AG Schichtaufbau für die belichtung von hologrammen
EP4038152A1 (en) 2019-10-01 2022-08-10 3D Systems, Inc. Shelf-stable build materials for 3d printing
EP4038151A1 (en) 2019-10-01 2022-08-10 3D Systems, Inc. Optically active build materials for 3d printing
CN114945616A (zh) 2020-01-24 2022-08-26 3D系统公司 用于三维印刷应用的水溶性蜡质载体材料
US11739221B2 (en) 2020-11-16 2023-08-29 3D Systems, Inc. Build materials for printing 3D articles
JP2023554268A (ja) 2020-12-10 2023-12-27 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 難燃性造形材料および関連するプリントされた３ｄ物品
JP2024509752A (ja) 2021-03-10 2024-03-05 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 耐炎性造形材料および関連するプリントされた３ｄ物品
WO2022192317A1 (en) 2021-03-10 2022-09-15 3D Systems, Inc. Additives for build materials and associated printed 3d articles
JP2024517102A (ja) 2021-05-07 2024-04-19 スリーディー システムズ インコーポレーテッド 造形材料のための添加剤および関連するプリントされた３ｄ物品
EP4405407A1 (en) 2021-09-21 2024-07-31 3D Systems, Inc. Curable compounds and formulations for biomedical applications
WO2023156484A1 (de) 2022-02-21 2023-08-24 Covestro Deutschland Ag Photopolymerzusammensetzungen für thermostabile photopolymere im sichtbaren spektralbereich
CN118742959A (zh) 2022-02-21 2024-10-01 科思创德国股份有限公司 可见光谱范围内的热稳定光聚合物和包含其的光聚合物组合物
WO2023156485A1 (de) 2022-02-21 2023-08-24 Covestro Deutschland Ag Triarylalkylboratsalze als coinitiatoren in nir-photopolymerzusammensetzungen
US20240026183A1 (en) 2022-07-15 2024-01-25 3D Systems, Inc. Hydrogels for 3d printing having high resolution
WO2024052256A1 (de) 2022-09-07 2024-03-14 Covestro Deutschland Ag Spezielle benzopyryliumsalze als farbstoffe für photopolymerzusammensetzungen
WO2024124024A1 (en) 2022-12-09 2024-06-13 3D Systems, Inc. Inks for 3d printing having high modulus and dispersion stability
WO2024186313A1 (en) 2023-03-08 2024-09-12 3D Systems, Inc. Additives for build materials and associated printed 3d articles

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3567453A (en) * 1967-12-26 1971-03-02 Eastman Kodak Co Light sensitive compositions for photoresists and lithography
JPS509178B1 (ko) * 1970-12-28 1975-04-10
US4026705A (en) * 1975-05-02 1977-05-31 General Electric Company Photocurable compositions and methods
US4343891A (en) * 1980-05-23 1982-08-10 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra (hydrocarbyl) borate salt imaging systems
US4447521A (en) * 1982-10-25 1984-05-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Fixing of tetra(hydrocarbyl)borate salt imaging systems
US4746685A (en) * 1984-08-31 1988-05-24 Nippon Oil And Fats Co., Ltd. Light curable dental composition
JPS61213838A (ja) * 1985-03-20 1986-09-22 Nippon Oil & Fats Co Ltd 感光性平版印刷版
GB8529448D0 (en) * 1985-11-29 1986-01-08 Ward Blenkinsop & Co Ltd Thioxanthone derivatives

Also Published As

Publication number Publication date
EP0389067B1 (en) 1994-10-19
KR870005270A (ko) 1987-06-05
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DK553786A (da) 1987-05-21
DE3677527D1 (de) 1991-03-21
CN86108826A (zh) 1987-11-25
EP0223587A1 (en) 1987-05-27
DE3650107D1 (de) 1994-11-24
EP0389067A3 (en) 1990-11-28
BR8605710A (pt) 1987-08-18
DE3650107T2 (de) 1995-05-24

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