KR930005013B1 - 이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리방법 및 장치 - Google Patents

이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리방법 및 장치 Download PDF

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KR930005013B1
KR930005013B1 KR1019910004130A KR910004130A KR930005013B1 KR 930005013 B1 KR930005013 B1 KR 930005013B1 KR 1019910004130 A KR1019910004130 A KR 1019910004130A KR 910004130 A KR910004130 A KR 910004130A KR 930005013 B1 KR930005013 B1 KR 930005013B1
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다다시 다나까
마사아끼 사까모도
모토무 와다
타까요시 사사끼
마사끼 다니모토
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다이도 메탈 고오교오 가부시기가이샤
이이지마 요시오
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

내용 없음.

Description

이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리방법 및 장치
제1a, 1b, 1c도는 각각 본 발명에 따르는 표면처리 기술의 제1실시예를 각각 나타내는 부분 단면 개략도.
제1d도는 표면처리가 시행되는 이분할 슬라이딩 베어링을 나타내는 사시도.
제2a, 2b, 2c도는 각각 본 발명에 따르는 제2실시예를 각각 나타내는 부분 단면개략도.
제3도는 이분할 슬라이딩 베어링의 수평이송용의 로드타입 장치를 나타내는 부분단면도.
제4도는 직립 방향으로 이분할 슬라이딩 베어링을 미는 장치를 나타내는 정면도.
제5도는 슬라이드 플레이트 기구와 전기 공급장치를 나타내는 부분단면도.
제6도는 승강 및 이송장치를 나타낸 개략도.
제7a, 7b도는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리 기술의 종래예를 나타내는 개략도.
제8도는 및 제9도는 제3실시예의 주요부를 각각 나타내는 부분 단면도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1,2,10 : 피스톤 실린더기구 6 : 승강장치
7 : 전기공급장치 8 : 도체부재
9 : 척킹기구 11 : 피스톤실린더 가이드기구
13 : 회수챔버 14 : 세정탱크
A : 탱크 C : 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치
D1: 플레이트 기구 D2: 로드부재
E : 수평이동기구 F : 표면층 형성장치
F1: 슬라이드 플레이트 기구 J : 외측 프레임
본 발명은 이분할 슬라이딩 베어링의 내표면 및/또는 외표면의 표면처리방법 및 장치에 관한 것이다.
종래에는 이분할 슬라이딩 베어링의 내표면에는 표면처리액이 담겨져 있는 탱크내에 놓여진 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링의 내표면의 중심선을 따라 축방향으로 양극봉을 배열시키는 방식으로써 수미크론 내지 수십미크론의 두께를 갖는 도금층을 형성시키기 위한 전기도금이 행해진다. 이때, 이분할 슬라이딩 베어링의 상부 및 하부에는 소정의 도금 두께가 얻어지지 않게되는 부분이 발생한다. 따라서, 각각 이분할 슬라이딩 베어링의 형태이고 도체재료로 제조되는 소위 대용금속(dummy metal) 또는 스페이서 금속인 부재들은 이분할 슬라이딩 베어링의 상부 및 하부에 고정 설치된다. 그 다음에, 이분할 슬라이딩 베어링이 고정설치된 도금케이스는 탈지탱크(degreasing tank), 전해탈지탱크, 산침적탱크(acid dipping tank), 도금탱크, 회수탱크, 수세탱크(water rinsing tank), 중화탱크 및 세정탱크 등을 통하여 처리된다. 처리된 이분할 슬라이딩 베어링은 케이스로부터 분리되어서 이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리가 완료되는 것이다.
그러나, 이와 같은 종래 방식의 기술은 아래 기술된 것과 같은 문제점을 갖고 있게 된다 :
(a) 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링이 고정 설치되는 케이스 또는 지그는 처리액으로 침적되어 이 분할 슬라이딩 베어링이 취출되기 전에 소정의 정도로 처리되도록 된다. 그러나, 처리액의 바람직하지 못한 배출량은 도입되고 추출되는 처리대상물의 표면적에 비례하여 증대된다. 이와 같이 바람직하지 못한 용액 배출은 도금케이스 등의 구조의 복잡성에 비레하여 그 양이 확대될 것이다. 따라서, 각 처리액은 회수처리액의 농도의 증가, 즉, 세정수의 오염농도의 증가로 인하여 오염된다는 문제가 발생하고, 최악의 경우에는 도금의 질이 저하되고, 폐수처리 등의 문제가 발생하게 된다.
(b) 이분할 슬라이딩 베어링에 균일하게 전기를 공급하기 위하여 도금케이스 또는 지그의 전원부와의 균일한 접촉상태가 필요하게 된다. 그러나, 이분할 슬라이딩 베어링과 스페이서의 사이, 스페이서와 도금케이스 또는 지그의 사이, 도금케이스 또는 지그와 장치의 훅크의 사이의 접촉부와 같이 과도하게 많은 접촉부가 존재하게 된다. 따라서, 균일한 전기의 공급이 전체 접촉 저항의 크기에 의해 방해받게 되고, 결과적으로 도금 두께의 정밀성이 악화된다.
(c) 또한, 도금케이스 또는 지그내의 이분할 슬라이딩 베어링의 수직위치는 전류분배 특성에서 변화를 야기할 것이다. 종래에는, 제7a, 7b도에 방법은 상기 문제점인 바람직하지 않은 전류분배 특성의 변화를 감소시키기 위하여, 각각 이분할 슬라이딩 베어링과 같은 내경을 갖는 스페이서(101)를 전기도금시에 상부 및 하부에 배치시키는 방식을 채용하여 사용하였다. 그러나, 이러한 방법도 상기 전류 분배특성의 변화를 방지하는데 만족스럽지 못하였고, 최악의 경우 도금 케이스 또는 지그등의 경사로 인하여 도금 두께의 정밀성이 얻어질 수 없게 되었다.
(d) 전술한 바와 같은 방식에서 사용되는 스페이서(101)는 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링이 고정 설치되는 각각의 도금케이스 또는 지그 마다 제공되어야 한다. 스페이서(101)가 각 도금작동시마다 도금처리를 받게되므로써, 스페이서의 표면은 서서히 두꺼워지고 과도하게 거칠어진다.
이는 스페이서에 인접하는 이분할 슬라이딩 베어링부분에서 도금층의 두께의 정밀성이 얻어지지 않게 한다. 또한, 각 처리액은 회수처리액의 농도의 증가, 즉, 세정수의 오염밀도의 증가로 인하여 오염되는 다른 문제가 발생하게 된다. 최악의 경우에 세정수에 관한 문제가 발생하게 된다.
(e) 종래의 방법에 있어서는, 불용성 침적물이 지그에 부착되고, 도금케이스 또는 지그가 알카리 용액 및 산성용액 내에 침적되는 과정중에 상기 (a)항에서 설명한 바와 같은 오염등의 발생과 동시에 화학반응으로 인하여 상기 침적물의 양은 증가된다. 또한, 각 처리용액의 각각 다른 온도에서 사용되도록 배치되기 때문에, 케이스 또는 지그가 고온과 저온의 반복상태에 처해지게 된다. 그결과, 상기 케이스 또는 지그에 변형이 발생하여 이분할 슬라이딩 베어링을 고정 설치하는데 있어서의 정확성이 저하된다. 최악의 경우에는, 상기 이분할 슬라이딩 베어링에 가해지는 도금의 두께에 있어서의 정밀성이 저하된다.
(f) 최근에는 엔진의 성능이 향상되고, 엔진으로부터의 소음이 감소되어야 하기 때문에, 이분할 슬라이딩 베어링 및 이분할 슬라이딩 베어링의 표면은 매우 정밀하게 마무리 처리되어야 한다. 또한, 이분할 슬라이딩 베어링이 균일한 품질을 나타내도록 해야하는 요구가 있다. 따라서, 전술한 종래의 방식에 있어서 이와 같은 요구들을 충족시키기 위해서는 단단한 강성의 도금케이스와, 큰 규격의 도금장치 및 폐수처리 시설이 필요로 하게 된다.
또한. 대량의 물이 공급되어야 한다. 그 결과, 당연히 초기비용을 과다하게 상승시키게 되고 가동비용 및 유지비용의 증대를 초래하게 된다.
(g) 이분할 슬라이딩 베어링을 케이스에 고정시키는 공정, 케이스를 장치에 정 설치시키는 공정, 케이스를 장치에서 떼어내는 공정 및 케이스로부터 이분할 슬라이딩 베어링을 추출하는 공정등의 지나치게 많은 작업공정이 반복되어야 하는 것과 같은 생산작업상에 있어서의 다른 문제들이 발생하게 된다. 따라서, 상기 공정작업들이 사람 또는 자동 기계장치에 의해 수행되는 경우 상기의 반복적인 공정 작업을 완료하는데 지나치게 많은 비용이 필요로 하게 되며, 결과적으로 제조비용의 감소가 어렵게 되는 것이다.
따라서, 본 발명의 목적은 종래의 기술에서 일어나는 전술한 바와 같은 문제점들을 극복하고자 하는 것이다.
상기 본 발명의 목적을 성취하기 위하여, 본 발명은 아래와 같은 단계를 포함하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리법을 제공하게 된다 :
표면처리물질로서 이분할 슬라이딩 베어링에 가해지게 되는 합금의 양극과 표면처리액을 수용하는 탱크를 준비하는 단계와 ; 상기 표면처리액 안으로 이분할 슬라이딩 베어링을 하나씩 차례로 연속하여 넣는 단계와 ; 이분할 슬라이딩 베어링이 상호 접촉되는 상태에서 표면처리 액안으로 넣어진 이분할 슬라이딩 베어링을 표면처리액 내에서 이동시키면서 상기 표면처리액을 통하여 양극과 이분할 슬라이딩 베어링에 의해 수행되는 음극 사이에 전기를 통전공급 시킴으로써 이분할 슬라이딩 베어링의 표면에 합금의 표면층이 부착되도록 가해지는 방식으로 표면처리를 행하는 단계와 ; 표면처리가 가해진 이분할 슬라이딩 베어링을 탱크로부터 하나씩 차례로 연속하여 취출하는 단계.
본 발명의 다른 특징으로서 아래와 같은 부재들을 포함하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치를 제공한다 :
표면처리액을 수용하는 탱크와 ; 상기 탱크내에 배치되어 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링의 접촉상태를 유지하면서 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링을 이동 가능하게 배열시키기 위해 작용하는 슬라이드 플레이트기구(F1), (F2)와, 상기 표면처리액의 외측에 배치되어 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링과 전기적으로 접속되는 전원기구를 포함하는 표면층 형성장치와 ; 상기 표면층 형성장치로부터 이격 배치되는 표면처리액 교반파이프와 ; 상기 표면처리액 교반파이프로부터 이격 배치되는 전극.
본 발명에 따라서, 표면처리가 행해지게 되는 복수개의 이분할 슬라이딩 베어링은 하나씩 차례로 연속하여 표면처리액안으로 넣어지고, 상호간에 접촉이 이루어지는 동안 표면처리액 내에서 이동과정중에 가해지는 전기통전에 의해 표면처리가 행해지게 되는 것이다. 따라서, 이분할 슬라이딩 베어링에 연속적으로 표면처리가 행해질 수 있게 되는 것이다. 그 결과, 우수한 작업효율이 실현될 수 있게 된다. 또한, 이분할 슬라이딩 베어링이 표면처리액 내에서 동일한 표면처리 루트를 통과하게 되기 때문에, 모든 이분할 슬라이딩 베어링에 동일한 조건하에서 표면처리가 행해질 수 있게 되는 것이다. 따라서, 이분할 슬라이딩 베어링에는 동일한 품질의 표면처리가 이루어질 수 있게 된다.
기타 다른 본 발명의 목적 및 특징은 이하 발명의 상세한 설명을 통해 보다 확실하게 이해될 수 있게 될것이다.
[실시예 1]
제1a, 1b, 1c도에는 각각 본 발명의 제1실시예가 도시되어 있다. 상기 도면에서는 제1d도에 도시된 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 내측표면(Y)에 Ni도금을 가하게 되는 표면처리의 실시예가 도시되어 있다. 이분할 슬라이딩 베어링(Z)은 1.2mm 두께의 스틸베이스와 구리-납 베어링 합금 소결층(25중량% Pb-0.5중량% Sn-잔여부는 Cu)을 접합시킴으로써 형성되는 내측표면을 갖고, 외경이 63mm, 내경이 60mm, 두께가 1.5mm, 폭이 26.5mm의 크기를 갖는다.
상기 도면에서, 문자 “A”는 50cm 깊이와 60cm×30cm의 사각 단면형상을 갖고, 2.0~4.0의 pH 값을 갖고 40°~60℃의 온도를 갖는 공지의 와트 전해질 Ni 도금액(B)을 담고 있는 탱크를 나타낸다. 문자 “C”는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 넣기 위한 도입장치로서 탱크(A) 위에 배치되는 것을 나타낸다. 상기 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치(C)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 자유낙하될 수 있도록 하는 방식으로써 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하는 호퍼(C1)를 포함한다. 또한 상기 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치(C)는 호퍼(C1)로부터 공급되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 연속하여 이송시키는 피스톤 실린더기구(1)를 부가하여 포함한다.
호퍼(C1)는 수직방향으로 길게 형성되는 원통형태로 되어 이루어진다.
그러나, 호퍼가 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 상기 피스톤 실린더기구(1)로 공급하기 위하여 벨트 컨베이어 기구로 대치되는 것과 같은 다른 구조가 채용될 수 있다. 문자 “D”는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 연속적으로 이동시키기 위한 이분할 슬라이딩 베어링 침적 장치를 나타내는 것으로서, 이분할 슬라이딩 베어링의 각각의 표면처리액 수용탱크(A) 위의 위치로 이동되어 탱크(A)의 하부로 이동되며, 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)는 외측 프레임(J)에 고정 설치된다. 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)는 표면 처리액 수용탱크(A)의 하부를 향하여 상기 각 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 이동 가능하게 지지하는 지지기구를 포함한다. 또한, 상기 침적장치(D)는 상기 표면 처리액 수용탱크(A)의 하부를 향하여 지지기구에 의해 지지되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 강력하게 밀어주는 피스톤 실린더기구(2)를 포함하고 있다. 상기 지지기구는 51cm의 길이를 갖고 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 단부(X)와 접촉되어 위치하고 수직방향으로 신장하는 플레이트 부재(D1)를 포함하고 있다. 지지기구는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 환상의 아크부(U)와 접촉되는 V형상 표면을 갖는 로드부재(D2)를 포함한다. 상기 로드부재(D2)는 피스톤 실린더기구(2)의 작용으로 인하여 표면 처리액 수용탱크(A)의 하부로 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 이동할때 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하기 위한 보조작용을 수행하게 된다. 로드부재(D2)는 수평방향에서 플레이트 부재(D1)로부터 이격되어 위치된다.
플레이트 부재(D1)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 단부(X)가 접촉되는 위치에 대응하는 위치에서 또 상기 플레이트 부재(D1)의 길이방향으로 매몰된 자석(D3)을 포함하고 있고, 상기 자석(D3)은 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 표면의 반대측에 위치된다. 자석(D3)은 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 자유낙하를 방지할 수 있으나 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 피스톤 실린더기구(2)의 작용에 의해 플레이트 기구(D1)를 따라 표면처리액 수용탱크(A)의 하부를 향하여 이동하도록 허용하는 자력을 발휘한다. 제1a도에 도시된 바와같이 다섯개의 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 상호 접촉되는 위치에 있는 동안 플레이트 기구(D1)의 하부위치로부터 중간위치까지의 방향으로 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)에 의해 지지되도록 하는 것이 바람직하다.
문자 “E”는 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)에 의해 표면 처리액 수용탱크의 하부를 향하여 표면처리액 내에서 이동되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 수평방향으로 이동시키는 수평이송기구를 나타내고, 이 수평이송기구(E)는 외측 프레임(J)에 고정 설치된다. 수평이송기구(E)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 수평방향으로 이동될 수 있도록 하는 방식으로 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하기 위한 지지플레이트 부재(5)를 포함하고, 이 지지플레이트 부재(5)는 절연재료로 제조된다.
수평이송기구(E)는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 수평으로 이송시키기 위한 푸셔(3)를 포함하고 있다. 지지플레이트 부재(5)는 내부에 매몰된 자석(E1)을 포함하고, 자석(E1)은 안정적으로 이동 가능하게 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지한다. 푸셔(3)는 표면처리액 수용탱크(A) 위에 배치된 피스톤 실린더기구(도시되지 않음)에 의해 이동되는 와이어(또는 밸트)(E2)에 의해 상호 연결되어서, 푸셔(3)와 이 푸셔(3)에 접촉하여 위치되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 제1a도에서 오른쪽으로 수평 이송된다.
푸셔(3)에 대한 다른 실시예로서 제3도에 도시된 로드(3')가 제공되는 다른 수평이송기구(E1)가 채용될 수 있다. 로드(3')의 상단부는 피스톤 실린더기구(E3)에 결합된다. 또한, 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 수평이동 및 밀기 위한 V형상의 접촉 표면을 갖는 결합부재(E4)가 로드(3')의 하단부에 배치된다. 로드(3')에는 그의 길이방향의 양단부 사이에 지지축(E5)이 포함되어 있어 로드(3')가 자유롭게 요동 가능하도록 지지된다.
문자 “F”는 수평이송기구(E) 또는 수평이송기구(E')에 의해 표면처리액 수용탱크(A)의 하부에서 사전 설정된 위치로 이송되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 상측으로 이송시켜 탱크(A)의 상부까지 이동시키기 위한 표면층 형성장치를 나타낸다. 표면층 형성장치(F)는 또한 표면처리, 즉, 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 음극으로서 작용하도록 배치하면서 공급된 전기에 의해 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 전술한 이송중에 와트 니켈 도금액 내에 침적되는 이분할 슬라이드 베어링(Z)의 표면에 Ni도금이 가해지도록 작용한다. 표면층 형성장치(F)는 외측프레임(J)에 고정 설치된다. 표면층 형성장치(F)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 탱크(A)의 상부를 향하여 상승시키기 위한 승강장치(6)를 포함하고 있다. 표면층 형성장치(F)는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 상호 접촉되도록 위치하고 상측으로 이동될 수 있는 방식으로서 상승되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하기 위한 슬라이드 플레이트 기구(F1)를 포함한다. 슬라이드 플레이트 기구(F1)는 그 내부에 매몰되는 자석을 갖도록 배치되고 플레이트의 형태를 갖는다.
표면층 형성장치(F)는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 크기에 상응하도록 결정된 간격만큼 슬라이드 플레이트 기구(F1)로부터 이격되어 배치된 로드부재(F2)를 포함한다. 로드부재(F2)는 14개의 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 상호간에 접촉되어 위치하면서 탱크(A)의 상부를 향하여 이동되는 경우 베어링(Z)의 후면부(U)가 표면처리되는 것을 방지하도록 작용한다. 로드부재(F2)는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하는데 보조적인 역할을 수행한다. 표면층 형성장치(F)는 또한 표면처리액의 위의 슬라이드 플레이트 기구(F1)의 상단부에 배치되는 전기공급장치(7)를 포함하고 있다. 전기공급장치(7)는 전류가 표면처리액에 침수되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)에 가해지도록 하기 위하여 표면처리액의 외측에서 이동되는 이분할 슬라이딩 베어링과 접촉하도록 배치된 도체부재를 포함한다.
제4도에 도시된 바와 같이, 푸싱기구(피스톤 실린더기구)(2)는 피스톤 실린더기구(F9)와 이 피스톤 실린더기구(F9)에 접속 연결되며 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 상승시키도록 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 하부와 접촉하여 배치된 승강접촉부(F3)를 포함한다. 슬라이드 플레이트기구(F1)는 플레이트 부재와 유사한 구조를 갖고, 자석(F5)이 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 2개의 단부와의 접촉부에 상응하는 부분에 매몰되는 절연재료로 제조된다. 또한, 슬라이드 플레이트기구(F1)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 원형 아아크부의 내측부(Y)에 상응하는 위치에서 12mm의 폭과 330mm의 길이를 갖는 관통구멍(F6)을 구비한다. 관통구멍(F6)은 슬라이드 플레이트기구(F1)의 상단부에 인접한 위치로부터 그의 바닥부에 인접한 위치로 형성된다. 로드부재(F2)는 로드부재(D2)와 유사한 구조를 갖고, 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 원형 아아크 형상의 후면부(U)와 접촉할 수 있도록 된 V형상의 홈을 갖도록 배치된다. 로드부재(F2)는 슬라이드 플레이트기구(F1)와 유사하게 탱크(A)의 하부로부터 탱크(A)의 상부위치까지 형성된다. 따라서, 로드부재(F2)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 상측으로 이동될때 표면처리의 적용으로부터 이분할 슬라이딩 베어링의 후면부(U)를 보호한다. 또한, 로드부재(F2)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 상측으로 이동될 수 있도록 하는 방식으로 슬라이드 플레이트기구(F1)의 자석(F5)이 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 지지하게 하는 보조역할을 한다. 제5도에 도시된 바와같이, 전기공급장치(7)는 표면처리액으로부터 취출되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)의 원형 아아크부(U) 및 단부(X)와 접촉하게 될 수 있는 형상으로 형성되도록 배채되는 도체부재(8)를 포함하고 있다. 도체부재(8)는 전기공급장치(도시하지 않음)의 부(－)측에 연결된다.
문자 “G”는 관통구멍(F6)에 상응하는 위치에 배치되고 표면처리액 즉, 0.2kgf/㎠의 압력레벨에서 관통구멍(F6)을 향하여 와트 Ni도금액을 분사하도록 배치된 표면처리액 교반파이프를 나타낸다. 표면처리액 교반파이프(G)는 20mm의 외경과 18mm의 내경 칫수를 갖는 원통형 파이프 형태로 구성되고, 또한 관통구멍(F6)에 상응하도록 각각 2mm의 외경은 갖고 30mm의 피치로 배치되는 10개의 구멍을 갖는다. 커버파이프(G1)는 교반파이프(G)의 상부를 덮도록 동심적으로 끼워 맞춤된다. 커버 파이프(G1)는 표면처리를 가하는 조건이 변화하고 이에 따라 탱크(A)내의 용액 레벨이 변화하는 경우 표면처리액 교반파이프(G)의 유효 작동길이를 조정하기 위하여 회전되도록 구성된다. 문자 “H”는 폭이 126mm, 높이가 550mm, 두께가 5.0mm인 니켈 플레이트로 제조되는 전극부를 나타내고, 이 전극부(H)는 이분할 슬라이딩 베어링이 표면처리, 즉, Ni도금처리를 받는 경우 표면처리액과 관련하여 작동하는 양극으로서 작용한다. 문자 “I”는 표면처리(도금공정)가 된 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 탱크(A)로부터 이격되어 배치된 회수챔버(13) 및 세정탱크(14)로 이송시키기 위하여 상기 이분할 슬라이딩 베어링을 취출하기 위한 승강 및 이송장치를 나타낸다. 승강 및 이송장치(I)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 척으로 고정시키기 위한 척킹기구(9)(제1a, 1c, 2a, 2c도 및 제6도 참조)와 척킹기구(9)를 수직방향으로이송시키기 위한 피스톤 실린더기구를 포함하고 있다.
승강 및 이송장치(I)는 또한 취출된 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 회수챔버(13) 및 세정탱크(14)위에 위치시켜 후처리공정을 수행하도록 수평방향으로 이동시키는 피스톤 실린더 가이드 기구(11)를 포함하고 있다. 상기 승강 및 이송장치(I)는 또한 피스톤 실린더 기구(11)에 의해 회수챔버(13) 또는 세정탱크(14)와 대면하는 위치까지 이동되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 상기 회수챔버(13) 또는 세정탱크(14)안으로 도입하기 위한 피스톤 실린더기구(10)(제1c, 2c, 6도 참조)를 포함하고, 이 피스톤 실린더기구(10)는 상기 처리공정이 완료된 후 다음 공정으로 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 이동시키는 작용을 하게 된다. 척킹기구(9)는 압축공기로 작동되는 한쌍의 아암(I1)을 갖는 공지의 척킹기구이다. 회수챔버(13)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 표면에 부착된 표면처리액을 제거하기 위해 표면처리액의 희석액으로 채워진다. 이런 공정을 거치는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 수가 증가함에 따라서, 희석액의 농도가 진해지게 된다. 따라서, 일정 농도 이상으로 진해진 희석액은 농도가 진해진 다음 탱크(A)로 회수된다. 세정탱크(14)는 표면처리액의 회수챔버(13)에서 제거된 다음에 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 표면상에 남아있는 소량의 잔여 표면처리액을 최종적으로 제거하게 된다.
다음에는 본 발명의 상기 제1실시예에 따른 Ni 도금처리 과정에 대해 설명하기로 한다.
먼저, 이분할 슬라이딩 베어링과 동일한 형상을 갖고 동일한 재료로써 제조된 20개의 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서를 호퍼(C1)를 통해 피스톤 실린더기구(1)에 의해 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)에 공급한다. 그 다음에, 제품으로 될 이분할 슬라이딩 베어링(Z)을 호퍼(C1)를 통하여 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)에서 안정상태가 될 때까지 연속하여 공급한다. 이분할 슬라이딩 베어링(Z)은 그 다음에 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)로부터 수평이송기구(E)로 약 15개/분의 속도로써 이동된다. 그 다음에는 이분할 슬라이딩 베어링(Z)은 승강장치(6)의 스트로크에 상응하는 약 70mm만큼 승강기구(6)에 의해 상측으로 이동되기 전에 푸셔(3)에 의해 이분할 슬라이딩 베어링 표면처리장치(F)로 보내지고, 0.4m/분의 속도로 상승되도록 서로에 대해 접촉상태로 위치되는 동안 슬라이드 플레이트 기구(F1)에 의해 연속적으로 지지된다. 앞선 이분할 슬라이딩 베어링(Z) 또는 스페이서가 전기 공급장치(7)에 도달하여 접촉할때, 상측으로 이동되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z) 또는 스페이서는 음극으로서 작용하여 전류가 전기공급장치(7)를 통하여 약 12A/d㎡의 전류밀도로 공급된다. 동시에, 표면처리액이 0.2kgf/㎠ 또는 그 이하의 압력 레벨하에서 표면처리액 교반파이프(G)를 통하여 분사된다.
따라서, 표면처리로서 Ni도금 작업이 시작된다. Ni도금작업이 12개의 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서에 가해진 다음에 Ni도금 처리상태가 안정상태로되어(즉, 첫번째 그룹의 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서에 사전 설정된 양의 Ni도금이 가해지지 않음) 평균두께가 1.52μm로 되는 Ni도금층이 이분할 슬라이딩 베어링(Z) 각각의 내측표면(Y)에 형성된다. 이렇게 형성된 Ni도금층의 특성이 표 1에 나타나 있다. Ni도금처리가 된 후, 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)은 연속하여 회수챔버(13)와 세정탱크(14)로 이송되도록 승강 및 이송장치(I)에 의해 상승된다. 그 결과, 와트 Ni도금액의 많은 양은 상승작동시 탱크(A)로 떨어지게 되고, 이 분할 슬라이딩 베어링(Z)에 부착되어 남아 있는 잔여 Ni도금액은 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 와트 Ni도금액의 희석액으로 침적될때 회수된다. 그 다음에 세정탱크(14)내의 세정수에 의해 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z)이 세정된다. 이렇게하여 Ni도금작업이 완료된다. 회수챔버내의 희석액은 이를 재사용할 수 있도록 소정의 농도로 상승된 후에 탱크(A)로 보내는 것이 바람직하다.
전술한 표면처리 작업이 완료되면, 처리공정이 시작되는 상태와 유사하게 20개와 스페이서는 호퍼(C1), 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D) 및 수평이송기구(E)를 통하여 이분할 슬라이딩 베어링 표면처리장치(F)에 있는 표면처리공정으로 공급된다. 다음에 이들은 안정상태에 유사한 공정을 거치기 위하여 처리액(B)으로 부터 빼내어진다. 이경우, 이분할 슬라이딩 베어링 침적장치(D)내에 위치되는 최종 다섯개의 스페이서는 하나의 이분할 슬라이딩 베어링에 상응하는 만큼씩 피스톤 실린더기구(2)의 푸쉬다운 스트로크를 연속적으로 확대하므로써 수평이송기구(E)로 연속하여 이송된다.
이분할 슬라이딩 베어링 표면 처리장치(F)에서, 승강장치(6)의 상승 스트로크는 최종스페이서가 승강장치(6)에 위치될때 하나의 이분할 슬라이딩 베어링에 해당하는 정도만큼씩 연속적으로 확대된다. 그 결과, 모든 스페이서가 탱크(A)의 외측으로 이동된다. 최종 스페이서를 처리하기 위하여 스트로크가 확대되는 전술한 처리공정의 다른 실시예로서, 피스톤 실린더기구가 일정한 스트로크를 형서하면서 하나의 이분할 슬라이딩 베어링에 상응하는 피치만큼씩 연속하여 하향 이동하는 방식의 다른 구조를 채용할 수도 있다. 또한, 승강장치(6)가 최종 스페이서를 처리하도록 연속하여 상향 이동될 수 있다.
본 발명에 따른 표면처리로서 Ni도금 처리된 이분할 슬라이딩 베어링을 비교하기 위하여, 다른 종래 방식으로써 Ni도금처리는 제7a도 및 제7b도에 도시된 도금케이스 및 이분할 슬라이딩 베어링을 스페이서를 통해 결합함으로써 카세트가 형성되는 방식으로서 행해지게 된다. 다음에 이렇게 배치된 카세트에 동일한 와트 Ni도금액 및 동일한 도금 처리조건을 이용하여 Ni도금처리 작업을 행하게 된다. 이렇게 하여 형성된 Ni도금층의 특성이 표 1에 도시되어 있다.
표 1에서 분명하게 알 수 있는 바와같이, 본 발명에 따른 Ni도금층은 종래 방식의 비교실시예에 비하여 도금 두께의 정밀성, 거칠기, 접착력 및 음극효율에 있어 훨씬 우수한 특성을 나타낸다.
이제까지 Ni도금층이 형성되도록 처리하는 실시예로서 제1a도 내지 제1c도를 참고로 하는 경우에 관해서 설명하였으나, 본 발명은 다른 금속 또는 합금금속층의 형성을 위한 표면처리시에도 적용 가능하다.
[실시예 2]
제2a, 2b, 2c도에는 각각 본 발명의 제2실시예가 도시되어 있다. 제2실시예에 따라서, 두 타입의 납합금 전해도금층은 제1실시예에 따라 Ni도금층이 처리된 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 표면상에 형성된다. 도면에서 제1실시예에서와 동일한 구성요소들이 동일한 참조번호 및 문자로 표시된다. 문자 “A”는 10중량%의 Sn과 나머지 Pb로 구성되는 합금도금액과 10중량%의 Sn과 2중량%의 Cu 및 나머지 Pb로 구성되는 합금도금 액을 각각 담고 있는 납합금 도금을 위한 공지의 붕불화물액을 나타낸다. 탱크(A)는 60cm×30cm의 사각 단면이고 깊이가 90cm인 탱크로 이루어진다. 이실시예에 따라서, 두 타입의 도금용액(JN)을 담기 위해 두개의 탱크(A)가 준비된다. 문자 “K”는 탱크(A) 상부에 배치되고 탱크(A)위의 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 연속 이송시키기 위한 피스톤 실린더기구(1)를 포함하는 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치(C')를 나타낸다. 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치(C')는 또한 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 지지하기 위한 프레임(K1)을 포함한다. 문자 “L”은 탱크(A)내에 담겨진 도금액(J) 안으로 이분할 슬라이딩 베어링 도입장치(K)에 의해 이송되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 이송 및 침적시키기 위한 표면층 형성장치를 나타낸다. 표면층 형성장치(L)는 이분할 슬라이딩 베어링의 이동중에 표면처리 즉 이 이분할 슬라이딩 베어링 자체를 음극으로 형성시켜 전류를 통전시킴으로써 납합금 도금액(JS)내에 침적되는 상기 이분할 슬라이딩 베어링의 표면에 Pb합금 도금을 가하도록 구성된다.
표면층 형성장치(L)는 외측 프레임(J)에 고정 설치된다. 또한 상기 표면층 형성장치(L)는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)과 외부전원(도시하지 않음)사이의 전기접속을 이루도록 하기 위하여 도체재료로 제조되는 전기공급장치(7)를 포함하고 있다. 또한 상기 표면층 형성장치(L)는 탱크(A)의 하부를 향하여 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 하향이동시키기 위한 피스톤 실린더기구(2)를 포함하고, 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)이 자유낙하되지 않으면서 탱크(A)의 하부로 이동될 수 있도록 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 지지하기 위한 슬라이드 플레이트 기구(F1)를 포함하고 있다. 상기 슬라이드 플레이트 기구(F1)는 Pb합금도금 처리가 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 표면에 행해지도록 작용하고, 제1실시예에 따른 구조와 동일한 구조를 갖도록 구성되어 있다. 슬라이드 플레이트 기구(F1)는 이분할 슬라이딩 베어링 지지기구를 포함하고 있다. 이분할 슬라이딩 베어링 지지기구는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 외주와 접촉되는 긴 부재(F4)와, 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)에 대해 긴 부재(F4)에 힘을 가하는 스프링 부재(F5)를 포함하고 있다. 문자 “G”는 제1실시예에 따르는 구조와 동일한 구조를 갖는 교반 파이프를 나타낸다. 교반파이프(G)는 제1실시예와 동일하게 커버파이프(G1)를 갖는다. 문자 “M”은 폭 126mm, 길이 550mm, 두께 20.0mm이고, 10중량%의 Sn과 잔여부의 Pb로 제조되는 양극 플레이트를 나타낸다. 양극 플레이트는 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)의 내측표면에 Pb합금 조성물을 공급하도록 작용한다.
문자 “N”는 이분할 슬라이딩 베어링 표면처리기구에 의해 표면처리가 행해지게 되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 수용하여 탱크(A)의 하부로 수평 이송시키기 위한 수평 이송기구를 나타낸다. 이송거리가 약간 더 길게되는 방식으로 구성된 구조임을 제외하고는 제1실시예에 따른 수평이송 기구와 유사하게, 본 실시예에 따른 수평이송기구(N)는 푸셔(3), 푸셔(3)를 이동시키기 위한 와이어 또는 벨트(N1), 플레이트 부재(5') 및 이 플레이트 부재(5')내에 매몰되는 자석(E1)을 포함하고 있다. 상기 수평이송기구(N)의 다른 실시예로서, 제3도에 도시된 기구(E')가 채용될 수 있다. 문자 “O”는 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 탱크(A)의 상부위치로 상승시키도록 수평이송기구(N)에 의해 이동되는 상기 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 수용하기 위한 이분할 슬라이딩 베어링 승강장치로서 외측 프레임(J)에 설치된다. 상기 이분할 슬라이딩 베어링 승강장치(O)는 수평이송기구에 의해 보내진 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 수용하는 승강기구(6')을 포함하고, 승강기구(6')상에 놓여지는 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 탱크(A)의 상부위치로 상승기키는 승강기구(6')를 포함하고, 이 승강기구(6')는 제1실시예에 따른 것과 유사하게 배치된다. 또한, 상기 이분할 슬라이딩 베어링 승강장치(O)는 길이가 91cm인 플레이트 부재(D1)와 승강기구(6')에 의해 상승되는 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 지지하는 로드부재(D2)를 포함하는, 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)은 상향이동될 수 있는 방식으로 지지된다. 그러나, 로드부재(D2)는 구조체에 생략될 수 있다.
문자 “I”는 탱크(A)의 상부위치로 상승된 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)을 탱크(A)로부터 이격되어 위치되는 회수탱크(13')와 세정탱크(14')로 이송시키기 위한 승강 및 이송장치를 나타낸다. 전술한 구성요소들은 각각 제1실시예에 따른 회수탱크(13) 및 세정탱크(14)와 승강 및 이송장치(I)와 유사하게 구성된다.
제2실시예에 따른 표면처리로서의 Pb합금 도금처리 작업과정에 대해 설명하기로 한다. 제1실시예에 따른 표면처리가 행해진 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서는 피스톤 실린더기구(1)에 의해 이분할 슬라이딩 베어링 표면층 형성장치(L)로 이송된 다음에 전기공급장치(7)와 접촉될때까지 피스톤 실린더기구(2)에 의해 하향이동된다. 그 다음에는 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서는 이것의 어느 하나와 전기공급장치(7) 사이의 접촉상태를 유지하면서 Pb합금 도금액 안으로 침적되기 때문에 전기공급 상태로 된다. 그 결과, Pb합금도금 작업이 시작된다. 선단의 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서가 표면처리 장치의 하단부에 도달할때 Pb합금도금의 안정상태가 이루어지게 된다. 따라서, 제품화되는 이분할 슬라이딩 베어링에는 15개/분(즉, 0.4m/분)의 속도로 Pb합금 도금 처리가 이루어지게 된다. 그 다음에, 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)은 수평이송기구(N)에 의해 승강기구(6')로 이송되어, 승강기구(6')의 작용에 의해 승강기구(6')를 위해 배열된 승강 스트로크에 상응하는 만큼씩 표면처리액 위의 위치로 이송된다. 그 다음에 이분할 슬라이딩 베어링(Z2)은 제1실시예에서와 동일한 과정을 거치게 된다. 전술한 승강 스트로크는 두 단계로 분리될 수 있다. 탱크(A)내의 도금액의 온도는 25°~35℃로 되고, 교반 파이프(G)로부터 분사되는 도금액의 압력은 0.2kgf/㎠로 되며, 음극의 전류밀도는 30A/D㎡로 되고, 10중량%의 Sn과 잔여부가 Pb인 합금도금층의 평균두께는 19.1㎛로 되며, 8중량%의 Sn과 2주량%의 Cu와 잔여부가 Pb인 합금 도금층의 평균두께는 19.6㎛가 된다. 이렇게 형성된 도금층의 특성이 표 1에 나타나 있다.
본 발명에 따르는 표면처리로서 Pb합금 도금처리가 가해진 이분할 슬라이딩 베어링과의 비교를 위해서 스페이서(101)를 통해 제7a도 및 제7b에 도시된 케이스(100)와 이분할 슬라이딩 베어링(Z1)을 결합시킴으로써 형성된 종래의 카세트에 6A/d㎡의 전류밀도(10중량%의 Sn과 잔여부가 Pb로 이루어진 도금액)와 3A/d㎡의 전류밀도(8중량%의 Sn과 2중량%의 Cu와 잔여부가 Pb로 이루어진 도금액)를 제외하고는 제2실시예와 유사한 두개의 Pb합금 도금액을 사용하여 Pb도금처리가 행해진다. Pb합금 도금층의 특성이 검토되고, 그 결과를 표 1에 나타낸다.
표 1에서 분명하게 알 수 있는 바와같이, 본 발명에 따르는 Pb합금 도금층이 도금 두께의 정밀성, 거칠기, 접착력 및 음극의 작동효율에 있어 비교 실시예에 따르는 Pb합금 도금층에 비해 우월한 특성을 나타낸다.
[표 1]
Figure kpo00002
* 도금이 처리되기전의 이분할 슬라이딩 베어링의 두께의 표준 편차는 0.45㎛,표면거칠기는 1.1㎛이하, Ni도금의 목표두께는 1.50㎛이고, Pb합금도금의 목표두께는 20.0㎛.
** Ni 도금 및 납 합금도금의 두께는 전해식 코쿨 필름 두께 측정장치로서 측정되고, 접착력은 미합중국 특허, 제4,501,154호에 개시된 복합층 재료의 접착력을 측정하는 방법에 따라 측정된다.
*** 음극 효율은 (실제 침적두께)/(이론상 침적두께)×100%의 식에 의해 산출된다.
[실시예 3]
제8도 및 제9도는 각각 제1b도 및 제2b도에 상응하는 도면으로서, 본 발명의 제3실시예의 주요부를 도시하는 부분 단면도이다. 제3실시예에 따라 제1a도 및 제1b도에 도시된 로드부재(D2), (F2)가 이분할 슬라이딩 베어링 지지장치로 대치된다. 기타 다른 구조는 제1실시예 또는 제2실시예의 것과 동일하다. 본 실시예에 따른 이분할 슬라이딩 베어링 지지장치는 이분할 슬라이딩 베어링의 두단부에 인접하여 위치하는 긴 부재(D4) 또는 (F7)를 포함하고, 상기 긴 부재(D4) 또는 (F7)를 이분할 슬라이딩 베어링의 두단부 쪽으로 가하기 위한 스프링부재(F5) 또는 (F8)를 포함하며, 따라서 이분할 슬라이딩 베어링이 표면처리액 내에서 이동될때 이분할 슬라이딩 베어링의 후면측상에 발생할 문제를 극복할 수 있도록 작용한다. 특히, 이분할 슬라이딩 베어링이 Ni도금이 아닌 표면처리 예를들어 Pb합금 도금 처리되는 경우 우수한 효과를 나타낸다.
본 발명에 따라서, 아래 서술된 것과 같은 우수한 효과를 얻을 수 있게 된다 :
(1) 본 발명에 따르는 표면처리장치에 의해서, 도금처리가 가해지게 되는 이분할 슬라이딩 베어링이 도금장치 안으로 연속하여 도입되고, 이에 따라 탱크안으로 연속하여 도입되는 이분할 슬라이딩 베어링의 선도부만이 결함있는 제품으로 되고, 이분할 슬라이딩 베어링의 선도부의 갯수는 처리작업의 초기 단계에서 처리용액 탱크내에 수용될 수 있는 이분할 슬라이딩 베어링의 수에 상응하게 된다. 따라서, 그다음에 탱크안으로 이분할 슬라이딩 베어링이 연속하여 도입될 수 있고 양호한 제품으로 될 수 있도록 기대된다. 케이스를 지지하기 위한 종래의 기술에 따라 케이스 각각에 스페이서가 반드시 제공되어야만 한다. 따라서, 이분할 슬라이딩 베어링 또는 스페이서의 갯수는 제조작업이 하루내내 지속된다고 하더라도 증가되지 않게 된다. 또한 동일한 내측 및 외측 직경을 갖는 베어링에 완전히 연속적으로 도금 처리가 가해질 수 있게 된다.
(2) 도금용 지그가 구조체에서 생략되고, 오직 이분할 슬라이딩 베어링만이 이동되므로써, 이분할 슬라이딩 베어링에 부착되는 도금액의 불필요한 인출이 제한될 수 있다. 또한, 이분할 슬라이딩 베어링이 개별적으로 탱크로부터 취출되므로서, 도금용 지그들 사이에 위치되는 도금액이 불필요하게 취출되는 종래의 문제점의 발생은 방지된다. 따라서, 물로써 이분할 슬라이딩 베어링을 세정하는데 있어서의 효율성이 상당히 개선된다.
(3) 도금장치 및 폐수 처리장치의 크기가 상당히 감소될 수 있다. 즉, 장치의 전체크기가 감소될 수 있다. 따라서, 기계가공라인에 바로 연결되는 배열구성이 실현될 수 있고, 자동 조작이 행해질 수 있게 되어, 처리과정중의 상품이 감소되고, 계획 생산이 실현될 수 있게 된다.
(4) 모든 이분할 슬라이딩 베어링이 동일한 장치를 통과하도록 배치구성되므로서, 도금층의 두께, 거칠기, 접착력 및 조성등의 도금품질은 안정적이고 균일하게 될 수 있다.
(5) 양극의 수가 탱크에서 하나로 감소되고 교반수단 또는 도금 탱크에서 하나로 감소됨으로써, 조정 및 제어작업은 상당히 단순하게 수행될 수 있다.
(6) 음극(이분할 슬라이딩 베어링)과 양극 사이의 간격이 훨씬 짧아지고 정밀하게 유지될 수 있으므로써 고속도금 작업은 실현될 수 있고, 또한 도금액의 양이 감소됨으로서 도금두께는 도금액의 상부와 하부에서 조정될 수 있다. 따라서 상당히 쉽게 사용될 수 있는 장치가 제공될 수 있다.
전술한 바와같이, 종래의 구조예에 있어 발생하는 문제점들이 완벽하게 극복될 수 있게 된다.
이상 전술한 바와같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 대상으로 설명하였지만, 이는 구조 및 조합에 있어 상세부가 변화될 수 있고, 부품의 배열구성도 청구범위에 기재된 바와같이 본 발명의 정신 및 범위에서 벗어남이 없이 재구성될 수 있다.

Claims (22)

  1. 탱크에 있는 이분할 슬라이딩 베어링상에 표면층을 형성하는 표면처리방법에 있어서, 이분할 슬라이딩 베어링이 전기도금 탱크상의 위치로 각각 도입되는 단계와 ; 이분할 슬라이딩 베어링이 U형상의 통로상에서 전기도금 탱크를 통하여 이송되는 단계와 ; 이분할 슬라이딩 베어링이 탱크로부터 각각 취출되어 후처리 단계로 공급되는 단계로 이루어지며, 상기 이송되는 단계에서 이분할 슬라이딩 베어링이 제1수직 이송기구에 의하여 하향하여 단계적으로 이동하고 다음에 수평이동기구에 의하여 따로따로 제2수직이송기구상으로 지나게 되며 마지막으로 제2수직이송기구에 의하여 상향하여 단계적으로 이송되고, 여기서 표면층의 형성은 음극으로 연결된 이분할 슬라이딩 베어링들이 서로 접촉하여 배열된 슬라이드 플레이트 기구상에서 두개의 수직이송기구중 적어도 하나로 이분할 슬라이딩 베어링들이 수직으로 이동되면서 수행되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 후처리 단계가 상기 전기도금 탱크로부터 이분할 슬라이딩 베어링의 표면에 잔존하는 표면처리액을 회수하기 위하여 회수 탱크 안으로 하나씩 연속하여 이분할 슬라이딩 베어링을 침적시키는 단계와, 상기 회수탱크로 부터 하나씩 연속하여 취출된 이분할 슬라이딩 베어링을 세정탱크에서 세정하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  3. 제1항에 있어서, Ni 표면층이 이분할 슬라이딩 베어링의 표면상에 형성되고, 다음에 Pb합금 표면층이 이분할 슬라이딩 베어링의 표면상에 형성되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  4. 제1항에 있어서, 상기 이분할 슬라이딩 베어링이 0.2m/분 내지 1m/분의 속도로 도금탱크를 통과하여 지나는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  5. 도금탱크에서 이분할 슬라이딩 베어링상에 표면층을 형성시키는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치에 있어서, 도금탱크 상부의 위치로 이분할 슬라이딩 베어링을 따로 따로 도입하기 위한 도입수단과 ; U형상의 통로상에서 도금탱크를 통하여 이분할 슬라이딩 베어링을 이송하기 위한 이송수단과 ; 도금탱크로 부터 이분할 슬라이딩 베어링을 따로따로 취출하고 이것을 후처리 수단으로 공급하기 위한 이동수단으로 이루어지며, 상기 이송수단은 이분할 슬라이딩 베어링을 서서히 하향하여 이송시키기 위한 제1수직 이송기구와, 이분할 슬라이딩 베어링을 제2수직이송기구로 따로 따로 보내기 위한 수평이송기구와, 이분할 슬라이딩 베어링을 서서히 상향하여 이송시키기 위한 제2수직이송기구로 이루어지고, 여기서 두개의 수직이송기구중 적어도 하나가 표면층을 형성하기 위한 도금수단으로 사용되며, 음극으로 연결되는 이분할 슬라이딩 베어링이 도금수단으로 사용되는 수직이송기구에 있는 슬라이드 플레이트 기구상에서 서로 접촉하며 미끄럼 가능하게 유지되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  6. 제5항에 있어서, 어느 하나의 수직이송기구의 슬라이드 플레이트 기구가 이분할 슬라이딩 베어링을 미끄럼 가능하게 유지하기 위한 자석을 구비한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  7. 제5항에 있어서, 상기 수평이송기구의 슬라이드 플레이트 기구가 이분할 슬라이딩 베어링을 미끄럼 가능하게 유지하기 위한 자석을 구비한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  8. 제5항에 있어서, 로드부재가 슬라이드 플레이트 기구에 대향하여 제공되어 슬라이드 플레이트 기구로부터 이격되어 향하는 측면상에서 이분할 슬라이딩 베어링을 미끄럼 가능하게 지지하는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  9. 제5항에 있어서, 이분할 슬라이딩 베어링에 탄력있게 힘을 가하는 측면가이드하는 하나의 긴부재가 이분할 슬라이딩 베어링의 양측면에 제공된 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  10. 제5항에 있어서, 상기 수평이송기구가 이분할 슬라이딩 베어링을 위한 푸셔와, 이 푸셔를 지지하는 와이어와, 이 와이어를 이동시키기 위한 피스톤 실린더 기구를 포함한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  11. 제5항에 있어서, 상기 수평이송기구는 피스톤 실린더 기구가 한 단부에 결합하고 다른 단부가 이분할 슬라이딩 베어링과 결합하여 이동시키는 선회 가능한 로드를 포함하는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  12. 제1항에 있어서, 상기 이분할 슬라이딩 베어링이 어느 하나의 수직이송기구의슬라이드 플레이트 기구 상에서 자력으로 유지되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  13. 제1항에 있어서, 상기 이분할 슬라이딩 베어링이 수평이송기구에 있는 슬라이드 플레이트 기구상에서 수평으로 이동되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 이분할 슬라이딩 베어링이 수평이송기구의 슬라이드 플레이트 기구상에서 자력으로 유지되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  15. 제1항에 있어서, 상기 표면처리액은 표면층이 형성되는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면에 인접하여 공급되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  16. 제15항에 있어서, 상기 표면처리액이 이분할 슬라이딩 베어링에 대향하는 파이프의 구멍으로부터 분사되어서 공급되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 표면처리액이 0.2kgf/㎠의 과도압력에서 파이프의 구멍으로부터 분사되는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리방법.
  18. 제5항에 있어서, 상기 수평이송기구는 이분할 슬라이딩 베어링을 수평방향으로 이동 가능하게 하는 슬라이드 플레이트 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  19. 제6항 또는 7항에 있어서, 상기 자석 또는 자석들이 슬라이드 플레이트 기구에 매몰된 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  20. 제5항에 있어서, 도금수단으로 사용된 수직이송기구의 슬라이드 플레이트 기구가 표면처리액을 이동시키기 위한 기구에 대향하여 배열된 긴 관통구멍을 구비한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면처리장치.
  21. 제20항에 있어서, 상기 표면처리액을 이동시키기 위한 기구가 도금될 이분할 슬라이딩 베어링의 표면에 표면처리액을 분사하기 위한 구멍을 구비한 파이프를 포함한 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링의 표면 처리장치.
  22. 제21항에 있어서, 상기 파이프가 도금수단으로 사용된 수직이송기구의 슬라이드 플레이트 기구와 이 슬라이드 플레이트 기구로부터 10mm 내지 50mm의 거리에 있는 양극사이에 배치되고, 양극으로부터 10mm 내지 50mm의 거리에 있는 것을 특징으로 하는 이분할 슬라이딩 베어링 표면처리장치.
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