KR927003516A - 환식 아미도카복시 계면활성제, 이의 합성 방법 및 용도 - Google Patents

환식 아미도카복시 계면활성제, 이의 합성 방법 및 용도 Download PDF

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KR927003516A
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진 엠 고제
란달 제이. 버나트
제임스 에이 하트리지.
노만 알 스미쓰.
데니스 이 리쯔
제임스 더블유 케이.
프레드 더블유 브레이트베일
브란코 사직
네드 마일즈 락웰
니나 몬트세라트 맥코넬
윌리암 리차드 모링
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스테판 컴퍼니
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Abstract

내용 없음

Description

환식 아미도카복시 계면활성제, 이의 합성 방법 및 용도
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (109)

  1. 다음 일반식을 갖는 계면활성제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  2. 제1항에 있어서, M이 N, Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함] Ba, Ca, Mg, Al, Ti, Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서부터 선택된 계면활성제.
  3. 제2항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함]로 구성된 그룹에서부터 선택된 계면활성제.
  4. 제1항에 있어서, R1과 R2가 서로 동일하거나 상이한 바 H 또는 C1-22알킬 그룹으로 구성된 그룹에서부터 선택된 계면활성제.
  5. 제1항에 있어서, R1과 R2가 서로 동일하거나 상이한 바 H 또는 C1-18알킬 그룹으로 구성된 그룹에서부터 선택된 계면활성제.
  6. 제1항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-코코프탈라메이트, 소듐 N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 계면활성제.
  7. 제1항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-메틸-N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-코코프탈라메이트, 소듐 N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 당해 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올-암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 계면활성제.
  8. 다음 일반식을 갖는 부식에 안정한 계면활성제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  9. 제8항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함] Ba, Ca, Mg, Al, Ti, Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서부터 선택된 부식에 안정한 계면활성제.
  10. 제8항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH 및 유사한 암모늄 유도체 포함]로 구성된 그룹에서부터 선택된 부식에 안정한 계면활성제.
  11. 제8항에 있어서, R1과 R2가 서로 동일하거나 상이한 바 H 또는 C1-18알킬 그룹으로 구성된 그룹에서부터 선택된 부식에 안정한 계면활성제.
  12. 제8항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-코코프탈라메이트, 소듐 N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 부식에 안정한 계면활성제.
  13. 제8항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-메틸-N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-코코프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 부식에 안정한 계면활성제.
  14. 다음 일반식을 갖는 부식에 안정한 계면활성제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  15. 제14항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함] Ba, Ca, Mg, Al, Ti, Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서부터 선택된 염소에 안정한 계면활성제.
  16. 제14항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함]로 구성된 그룹에서부터 선택된 염소에 안정한 계면활성제.
  17. 제14항에 있어서, R1과 R2가 서로 동일하거나 상이한 바 H 또는 C1-18알킬 그룹으로 구성된 그룹에서부터 선택된 염소에 안정한 계면활성제.
  18. 제14항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-메틸-N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-메틸-N-코코프탈라메이트, 소듐 N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 염소에 안정한 계면활성제.
  19. A) 이미드를 만들 수 있도록 반응할 수 있는 조건하에서 용융된 프탈산 무수물을 최소한 하나의 1차(R5NH2)아민과 반응시키고 (여기서 R5는 치환되었그나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3과 R4는 상기한 바와 같은 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택된다), B) 당해 알칼리 염을 만들 수 있는 반응 조건하에서, Na, K, NH 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택된 양이온을 만들어낼 수 있는 친핵성 쏘스를 상기 이미드에 부가하는 것으로 구성된, 다음 일반식의 계면활성제의 합성방법.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  20. 제19항에 있어서, 단계(B)이후에, 알카리 토금속의 수산화물을 부가하여 당해 알카리-토 염을 만드는 방법.
  21. 제19항에 있어서, 단계(B) 이후에 무기산을 부가하고 이후에 Al, Ti Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택된 금속의 C1-4알콕사이드 또는 최소한 하나의 아민을 부가하여 당해 염을 만드는 방법.
  22. 제19항에 있어서, 단계(A)에서의 반응조건에 불활성 대기하에서 교반하면서 약90°-약150℃범위로 열을 가하고 이 조건을 최소한 약 30분동안 물을 제거하면서 유지시키는 것이 포함되고 단계(B)에는 약 90°-약150℃ 사이의 열을 가하고 이 조건을 최소한 30분동안 물을 부가하면서 유지시키는 것이 포함되는 방법.
  23. (A) 무수물과 아민사이에서 프탈라민산이 만들어질 수 있도록 하는 반응조건하에서, R5-R6이 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 상기한 바와 같은 최소한 하나의 2차(R5R6NH)아민을 용융된 프탈산 무수물과 접촉시키고, (B) Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH 및 유사한 암모늄 유도체 포함] Ba, Ca, Mg, Al, Ti, Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서부터 선택된 양이온을 만드는 쏘스를 상기 프탈산에 부가하여 당해 염을 만드는 단계로 구성된, 다음 일반식을 갖는 계면활성제의 제조방법.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  24. (A) 프탈산 무수물을 교반하면서 최소한 하나의 3차 C1-40아민과 접촉시켜 상기 무수물과 아민의 혼합물을 만들고, (B) R5와 R6이 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 아카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되고 R3과 R4는 상기한 바와 같은 1차 또는 2차 (R5R6NH)아민을 알키리프탈라메이트염이 만들어질 수 있는 조건하에서 상기 혼합물에 부가하는 단계로 구성된, 다음 일반식을 갖는 계면활성제의 합성방법.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  25. 제24항에 있어서, R5및 R6는 서로 무관하게 H 또는 C1-18알킬 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택된 방법.
  26. 제24항에 있어서, 단계(A) 및 (B)간 거의 동시에 일어나는 방법.
  27. 다음 일반식을 갖는 식품 유화제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  28. 제27항에 있어서, R5및 R6는 서로 무관하게 H 또는 C1-18알킬 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고 M이 나트륨 또는 칼륨인 방법.
  29. (A) 총 조성물 중량을 기준으로 할 때 약 0.01-약 5.0%인 다음 일반식을 갖는 식품 유화제, 및
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
    (B) 총 조성물 중량을 기준으로 할 때 약 99.99wt%까지되는 식용 재료로 구성된 식품 조성물.
  30. (A) 선택한 만들어지지 않은 식품성분들과 이 식품 성분 중량을 100으로 할 때 약 0.01-약 5.0wt%되는 다음 일반식을 갖는 계면활성제를 혼합한뒤
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
    (B) 상기 혼합물을 만들어진 식품으로 만들기에 충분한 조건하에서 제조하는 것으로 구성된 만들어지지 않은 식품구성 성분들을 만들어진 식품을 유화시키는 방법.
  31. 다음 일반식을 갖는 피부보호 제품용 유화제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
  32. 제31항에 있어서, R1과 R2가 서로 동일하거나 상이한 바 H 또는 C1-18알킬그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택된 유화제.
  33. 제31항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 포함] Ba, Ca, Mg, Al, Ti, Zr 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서부터 선택된 유화제.
  34. (A) 총 조성물 중량을 기준으로 할 때 약 0.0l-약 10.0wt%되는 일반식을 갖는 기본이 되는 제1화장품 유화제.
    식중, R1및 R2는 서로 무관하게 H 또는 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되었거나 그렇지 않은 선형 또는 분지된 C1-22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹으로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 원자가 M을 만족시키는 정수, M은 양이온.
    (B) 약 0.01-약 10.0wt%되는 제2화장품 유화제, 및 (C) 에몰리언트대 유화제의 비가 약 3:1-약 30:1이 되기에 충분한양만큼 화장품용 에몰리언트로 구성된 용매에 견디는 피부 보호용 조성물.
  35. 제34항에 있어서, 상기 조성물이 비교적 염분에 견디는 피부보호용 조성물.
  36. 제34항에 있어서, 상기 조성물의 pH가 약 5-12인 피부보호용 조성물.
  37. 제34항에 있어서, R1과 R2가 동일하거나 상이하고 기본적으로 H 또는 C1-C18알킬그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 피부보호용 조성물.
  38. 제34항에 있어서, M이 기본적으로 Na, k, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 피부보호용 조성물.
  39. A) 용융된 무수 프탈산을 이 무수물과 아민간의 이미드를 형성시키는 반응 조건하에서 최소한 1차(R5NH2)아민과 접촉시키고 (R5는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택되고 R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택됨), B) 당해 알칼리 염을 형성시키기 위한 반응 조건하에서, Na, K, NH4및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 양이온을 생성하는 친핵성 소스를 상기 이미드에 부가하여 제조된 피부/모발 보호 제품용 유화제.
  40. A) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 0.01-10.0중량%인 다음 구조식의 컨디셔닝 계면활성제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 100% 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약10.0-25.0중량%의 세척용 물질, 및 C) 100%가 되도록하는데 충분한 양의 수성 물질로 구성된 모발보호용 조성물.
  41. 제40항에 있어서, R1과 R2가 동일하거나 상이하고 기본적으로 H 또는 C1-C18알킬그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 모발보호용 조성물.
  42. A) 용융된 무수 프탈산을 이 무수물과 아민간의 이미드를 형성시키는 반응 조건하에서 최소한 1차(R5NH2)아민과 접촉시키고 (R5는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택되고 R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택됨), B) 당해 알칼리 염을 형성시키기 위한 반응 조건하에서, Na, K, NH4및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 양이온을 생성하는 친핵성 소스를 상기 이미드에 부가하여 제조된 모발 보호제품용 컨디셔닝 계면활성제.
  43. 제42항에 있어서, 상기 계면활성제가 소듐 N-도데실프탈라메이트, 소듐 N-옥타데실프탈라메이트, 소듐 N-헥사데실프탈라메이트, 소듐 N-탈로우프탈라메이트, 소듐 N-코코프탈라메이트, 소듐 N-이소도데실옥시프로필프탈라메이트, 이들의 혼합물, 및 이들의 칼륨, 암모늄, 트리에틸암모늄 및 트리에탄올암모늄 염으로 구성된 그룹에서부터 선택되는 모발보호 제품용 컨디셔닝 계면활성제.
  44. (1) A) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 0.01-10.0중량%인 HLB가 비교적 높은 다음 구조식의 유화제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) HLB가 비교적 낮은 약 0.01-10.0중량%의 제2유화제, 및 C) 에몰리언트 대 유화제의 비율이 약 3:1 내지 약 30:1이도록 하는데 충분한 양의 에몰리언트를 포함하고, pH가 약 5-12이며 염분 및 용매에 대해 비교적 내성이 있고 비교적 빠르게 분해되는 물내 오일 형태의 음이온성인 화장품용 조성물을 선택한 피부에 도포하고, (2) 상기 화장품용 조성물을 비교적 단시간내에 상기 피부에 문질러 이 조성물을 분해시키고 상기 에몰리언트를 피부에 침투시키는 것으로 구성된 피부의 처리방법.
  45. (1) A) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 0.05-10.0중량%인 수분산성이고 음이온성인 다음 구조식의 유화제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 100%의 총 조성물을 중량을 기준으로 하여 약 10.0-25.0중량% 모발세척용 물질, 및 C) 100%로 되게하는데 충분한 양의 수성물질로 구성된 샴푸조성물을 젖은 모발에 도포하고 (2) 상기 샴푸 조성물을 상기 젖은 모발과 혼합시키며, (3) 결과의 모발을 물로 헹구어 흑종의 유리 샴푸 조성물을 제거하는 것으로 구성된 모발의 처리방법.
  46. A) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 0.01-10.0중량%인 HLB가 비교적 높은 다음 구조식의 유화제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 0.01-10.0중량%인 HLB가 비교적 낮은 유화제, C) 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 80중량%까지의 오일성 물질, 및 D) 100%가 되도록 하는데 충분한 양의 물로 구성된 유화된 물내 오일 조성물.
  47. 제46항에 있어서, 상기 오일성 물질이 크루드 석유 오일, 증류된 석유오일, 중질 파라핀 오일, 아스팔텐 오일, 톨 오일, 두유 알키드, 아민이유 알키드, 아아민유, 광유, 폐트롤라튬, 이소프로필 팔미테이트, 이소프로필 미리스테이트, 카프릴릭/카프릭 트리글리세라이드, 라놀린, 아세틸화 라놀린 알콜, 디메티콘, 수소첨가된 식물성 오일, 참기름, 잇꽃 오일, 아바코도 오일, 글리세린, 프로필렌 글리콜, 소르비톨, C12-C16알콜 벤조에이트, 시클로메티콘, 코코아 버터, 비타민 E아세테이트, 스쿠알렌, 소듐 피롤리돈 카복실산, 메틸 글루코스 에테르, 판테놀, 멜라닌 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 유화된 물내 오일 조성물.
  48. 다음 구조식을 갖는 농업용 제품에 사용하기 위한 유화제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 서로 무관하게 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온.
  49. 100%의 총 조성물 중량을 기준으로 하여 약 10중량%까지의 제48항 유화제와 함께 적당한 담체내 효과적인 양의 농업용 활성 물질을 포함하는 농업용 화학적 조성물.
  50. A) 적당한 담체내 효과적인 양의 농업용 활성 제초제/살충제 및 100%의 총 중량을 기준으로 하여 약 10중량%까지의 양인 다음 구조식의 분해가능한 계면활성제를 함유하는 분무가능한 유제를 만들고,
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, (B) 상기 유제를 직물에 분무하며, C) 상기 분무된 유제를 주변 온도조건하에 두어 상기 계면활성제가 물에 민감하게 되도록 화학적으로 변화시키는 것으로 구성된, 도포후 씻겨나가는 것을 방지하기 위해 농업용 활성 제초제/살충제를 자라고 있는 작물에 도포하는 방법.
  51. 다음 구조식을 갖는 직물 소프너.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 및 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온.
  52. A) 100%의 활성 성분을 기준으로 하여 약 0.01-10.0중량%인 다음 구조식의 계면활성제를 가정용 세탁기로 세탁하게되는 직물에 부가하고,
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 상기 계면활성제를 상기 직물에 고르게 분산시키며, C) 상기 직물에 건조시키는 것으로 구성된, 직물을 부드럽게 만드는 방법.
  53. 내용 없음
  54. 제52항에 있어서, 상기 계면활성제를 세제 조성물과 함께 상기 세탁기의 세척 단계에 부가하는 방법.
  55. A) 용융된 무수 프탈산을 이 무수물과 아민간의 이미드를 형성시키는 반응 조건하에서 최소한 1차(R5NH2)아민과 접촉시키고 (R5는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택됨), B) 당해 알칼리 염을 형성시키기 위한 반응 조건하에서, Na, K, NH4및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 양이온을 생성하는 친핵성 소스를 상기 이미드에 부가하여 제조된 직물 소프너.
  56. 제55항에 있어서, R5가 C1-Cl8알킬그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 직물 소프너.
  57. 제55항에 있어서, 상기 NH4양이온으로서 (CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체 및 이들의 혼합물이 포함되는 직물 소프너.
  58. A) 개시제, 염기, 물 및 주어진 양의 다음 구조식을 갖는 계면활성제와 함께 에틸렌적으로 불포화된 단량체, 메트아크릴레이트 에스테르, 비닐 에스테르 및 기타 공지의 라텍스형성용 단량체의 균일 혼합물을 제조하고,
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 상기 혼합물을 유제중합반응시켜 안정한 라텍스를 얻으며, C) 상기 라텍스 피복물을 표면에 도포하고, D) 상기 피복물내의 계활성제를 화학적으로 변화시켜 이 피복물에 물에 민감하지 않게 만들기에 충분한 시간동안 상기 피복된 표면을 약 10-300℃에서 건조시키는 단계들로 구성된, 물에 민감한 성분들이 없는 라텍스 중합체 피복물을 제조하는 방법.
  59. 제58항에 있어서, 단계(B)가 원하는 라텍스 조성물을 만들기 위한 기타공지의 성분들을 혼합시키는 것을 포함하는 방법.
  60. 제58항에 있어서, R1및 R2H 또는 C1-Cl8알킬그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 방법.
  61. 제58항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체를 포함] 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 방법.
  62. A) 용융된 무수 프탈산을 이 무수물과 아민간의 이미드를 형성시키는 반응 조건하에서 최소한 1차(R5NH2)아민과 접촉시키고 (R5는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹으로 구성된 그룹으로부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택됨), B) 당해 알칼리 염을 형성시키기 위한 반응 조건하에서, Na, K, NH4및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로부터 선택된 양이온을 생성하는 친핵성 소스를 상기 이미드에 부가하여 제조된 직물 라텍스 중합 계면활성제.
  63. A) 개시제, 염기, 물 및 주어진 양의 다음 구조식을 갖는 계면활성제와 함께 에틸렌적으로 불포화된 단량체, 메트아크릴레이트 에스테르, 비닐에스테르 및 기타 공지의 라텍스형성용 단량체의 균일 혼합물을 제조하고,
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, B) 상기 혼합물을 유제중합반응시켜 안정한 점착 물질을 얻으며, C) 상기 점착물질로 된 피복물을 표면에 도포하고, D) 상기 피복물내의 계활성제를 화학적으로 변화시켜 이 피복물에 물에 민감하지 않게 만들기에 충분한 시간동안 상기 피복된 표면을 약 10-300℃에서 건조시키는 단계들로 구성된, 물에 민감한 성분들이 없는 점착 피복물을 제조하는 방법.
  64. 제63항에 있어서, R1및 R2H 또는 C1-C18알킬그룹 및 이를의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 방법.
  65. 제63항에 있어서, M이 Na, K, NH4[(CH3CH2)3NH, (CH3CH2)2NH2, (HOCH2CH2)3NH, (HOCH2CH2)2NH2및 유사한 암모늄 유도체를 포함] 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 방법.
  66. 제3항에 있어서, 단계(B)가 원하는 점착 조성물을 만들기 위한 기타 공지된 성분들을 혼합하는 과정을 포함하는 방법.
  67. A) 용융된 무수 프탈산을 최소한 3차 C1-C40아민과 접촉시켜 이들 무수 프탈산과 아민의 혼합물을 만들고, (B) 알킬 프탈라메이트 염을 만들기 위한 반응 조건하에서 R5-R6가 독립적으로 H 또는 치환되었거나 비치화되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹으로 이루어진 그룹으로부터 선택되고, R3및 R4는 독립적으로 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹으로 부터 선택되는 1차 또는 2차 (R5R6NH)아민을 상기 혼합물에 부가하여 제조된 라텍스 중합 계면활성제.
  68. 제67항에 있어서, R5및 R6가 독립적으로 H 또는 C1-C18알킬그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택된 라텍스 중합 계면활성제.
  69. (A) 선택한 크루드 석유, 물 및 다음 일반식을 갖는 유화제로 부터 비교적 점도가 낮은 유제를 만들고,
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되거나 비치환된 C1-C40의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되거나 비치환된 C1-C22의 직쇄 또는 분지쇄 알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되며, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, (B) 유제를 원하는 위치까지 이동시키고, (C) 유제를 유화제가 화학적으로 변형되기에 충분한 조건에 놓고 파괴시켜 오일이 혼합물로 부터 분리되도록 만드는 것으로 구성된 향상점을 갖는, 비교적 점도가 높은 크루드 석유를 이동시키는 방법.
  70. 제69항에 있어서, 유화제를 화학적으로 변형시키기에 충분한 조건이 유제를 최소한 약 100℃의 온도까지 가열하는 것을 포함하는 방법.
  71. 제69항에 있어서, 유화제를 화학적으로 변형시키기에 충분한 조건이 유제의 pH를 약 5미만까지 조절하는 것을 포함하는 방법.
  72. 제69항에 있어서, 화학적으로 변형된 유화제를 회수하고, 회수한 불활성화된 유화제의 pH를 약 7.5로 조절하여 유화제를 재활성화시키는 것을 포함하는 방법.
  73. 다음 일반식을 갖는 크루드 석유용 유화제.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되었거나 비치환되었고, 직쇄 또는 분지쇄 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온.
  74. (A) 100%의 총 조성물에 기준하여 약 50중량%까지의 다음 일반식을 갖는 계면활성제를 직물 정련조에 넣고
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되었거나 비치환되었고, 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, (B) 직물을 상기 정련조와 접촉시켜 오염물을 빼내는 것으로 이루어진 향상점을 갖는, 직물을 정련하는 방법.
  75. 스핀파니슁, 파이버피니슁, 코닝, 와인딩등을 하는데 있어서 유화된 윤활유/연화제/분산제를사용하여 직물/섬유를 다음 일반식의 계면활성제로 처리하는 방법.
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되었거나 비치환되었고, 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 독립적으로 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온.
  76. (A) 제조된 건조 펄프 100중량%를 기준으로 하여 약 10중량%까지의 다음 일반식을 갖는 계면활성제를 알카리 펄프액에 부가하고
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되었거나 비치환되었고, 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 각각 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 구성된 그룹에서 부터 선택되고, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, (B) 펄프액 및 최소한 부분적으로 리그노가 제거된 리그노셀룰로즈 물질을 빼내고, (C) 물을 사용하여 부분적으로 리그노가 제거된 리그노셀룰로즈 물질로부터 펄프액을 수성상으로 빼내 선택한 카파수를 갖는 펄프를 만드는 것으로 이루어진 향상점을 갖는, 리그노셀룰로즈 물질을 선택한 온도 및 압력에서 선택한 시간동안 알카리 펄프액으로 처리하여 선택한 카파수 범위를 갖는 필프를 만들어 목재 부스러기같은 리그노셀룰로즈 물질로부터 펄프를 제조하는 방법.
  77. (A) 100중량%의 총 조성물을 기준으로 하여 약 10중량%까지의 다음 일반식을 갖는 계면활성제를 폴리우레탄/이오시아누레이트 발포물 형성 조성물과 혼합하고
    식중, R1및 R2는 각각 H 또는 치환되었거나 비치환되었고, 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C40알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴 또는 R3-O-R4그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로 부터 선택되고, R3및 R4는 독립적으로 치환되었거나 비치환되었고 직쇄 또는 분지쇄인 C1-C22알킬, 시클로알킬, 알킬렌, 알카릴, 아릴그룹 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹에서 부터 선택되고, Y는 M의 원자가를 만족시키는 정수, M은 양이온, (B) 이 혼합물로 부터 발포물을 만드는 것으로 이루어진, 폴리우레탄/이소시아누레이트 발포물을 제조하는 방법.
  78. 계면활성을 나타내기에 효과적인 양의 다음 구조식 염을 포함하는 계면활성제 용액.
    식중, Rl, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40인 아릴알킬그룹임.
  79. 제78항에 있어서, 용액중에 있는 염의 양이 약 0.05-약 20%인 계면활성제 용액.
  80. 제79항에 있어서, 용액중에 있는 염의 양이 약 0.5-약 10%인 계면활성제 용액.
  81. 제78항에 있어서, R1, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬 그룹인 계면활성제 용액.
  82. 계면활성을 나타내기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 산과
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
    다음 구조식을 갖는 염의 혼합물을 포함하는 계면활성제 용액
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  83. 제82항에 있어서, 용액중에 있는 산과 염의 혼합물 양이 약 0.05-약 20%인 계면활성제 용액.
  84. 제83항에 있어서, 용액중에 있는 산과 염의 혼합물 양이 약 0.5-약 10%인 계면활성제 용액.
  85. 제82항에 있어서, Rl, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬 그룹인 계면활성제 용액.
  86. 제82항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 90:10-약 10:90인 계면활성제 용액.
  87. 제82항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 70:30-약 30:70인 계면활성제 용액.
  88. 계면활성을 나타내기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 산을 포함하는 계면활성제 용액.
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  89. 콘디셔닝시키기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 염을 포함하는 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  90. 제89항에 있어서, 샴푸중에 있는 염의 양이 약 0.05-약 20%인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  91. 제90항에 있어서, 샴푸중에 있는 염의 양이 약 0.5-약 10%인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  92. 제89항에 있어서, 샴푸의 pH값이 3.0-약 9.0인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  93. 제92항에 있어서, 샴푸의 pH값이 4.5-약 6.5인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  94. 제89항에 있어서, Rl, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬그룹인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  95. 제89항에 있어서, 효과적인 양의 N,N-디(수소첨가된 탈로우)프탈라민산 디-(수소첨가된 탈로우)암모늄 염을 포함하는 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  96. 콘디셔닝시키기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 산과
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
    다음 구조식을 갖는 염의 혼합물을 포함하는 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  97. 제96항에 있어서, 샴푸중에 있는 산과 염의 혼합물의 양이 약 0.05-약 20%인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  98. 제97항에 있어서, 샴푸중에 있는 산과 염의 혼합물의 양이 약 0.5-약 10%인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  99. 제96항에 있어서, 샴푸의 pH값이 약 3.0-약 9.0인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  100. 제99항에 있어서, 샴푸의 pH값이 약 4.5-약 6.5인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  101. 제96항에 있어서, Rl, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬그룹인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  102. 제96항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 90:10-약 10:90인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  103. 제96항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 70:30-약 30:70인 제제화된 콘디셔닝 샴푸.
  104. 유화시키기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 염을 포함하는 유화제 용액.
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  105. 제104항에 있어서, R1, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬그룹인 유도체 용액.
  106. 유화시키기에 효과적인 양의 다음 구조식을 갖는 산과
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
    다음 구조식을 갖는 염의 혼합물을 포함하는 유화제 용액.
    식중, R1, R2, R3및 R4는 같거나 상이한 바, 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40알킬 그룹 또는 알킬 그룹이 직쇄 또는 분지쇄인 C10-C40아릴알킬그룹임.
  107. 제29항에 있어서, R1, R2, R3및 R4가 탈로우 지방 알킬그룹인 유화제 용액.
  108. 제30항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 90:10-약 10:90인 유화제 용액.
  109. 제30항에 있어서, 혼합물중에 있는 산대 염의 비가 약 70:30-약 30:70인 유화제 용액.
    ※ 참고사항 : 최초출된 내용에 의하여 공개하는 것임,
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