KR920014807A - 술포닐우레아 유도체, 그 제법 및 이를 함유하는 제초 및 식물생장 억제 조성물 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

술포닐우레아 유도체, 그 제법 및 이를 함유하는 제초 및 식물생장 억제 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (25)

  1. 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물 또는 그의 염 :
    상기 식에서, X는 황소, 황, SO또는 SO2이고, W는 산소 또는 황이고, R1은 수소 또는 메틸이고, R2는 수소, 불소, 염소, 브롬, 요오드, (X)nR3, NO2, NR4R5, -C≡CR6,, 또는 시아노이고, n은 0 또는 1의 수이고, R3은 C1-C4알킬 또는 1내지 4의 할로겐 원자, C1-C3알콕시 또는 C1-C3알킬티오로 치환된 C1-C4알킬이거나, 또는 C2-C4알케닐 또는 1 내지 4의 할로겐 원자로 치환된 C2-C4알케닐이고, R4는 수소, CH3O, CH3CH2O 또는 C1-C3알킬이고, R5는 수소 또는 C1-C3알킬이고, R6은 수소, 메틸 또는 에틸이고, R7은 수소 또는 메틸이고,
    E는 메틴 또는 질소이고, R8은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4할로알킬, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬티오, 할로겐, C2-C5알콕시알킬, C2-C5알콕시알콕시, 아미노, C1-C3알킬아미노 또는 디(C1-C3알킬)아미노이고, R9는C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4할로알콕시, C1-C4할로알킬티오, C1-C4알킬티오, C2-C5알콕시알킬, C2-C5알콕시알콕시, C2-C5알킬티오알킬 또는 시클로프로필이고, R10은 수소, 불소, 염소, 메틸, 트리플루오로메틸, CH3O, CH3CH2O, CH3S CH3SO, CH3SO2또는 시아노이고, R11은 메틸, 에틸, CH3O, CH3CH2O, 불소 또는 염소이고, R12는 메틸, 에틸, CH3O, CH3CH2O, 불소 또는 염소이고, R13은 C1-C3알킬이고, R14는C1-C3알킬, C1-C3알콕시, 염소 또는 OCHF2이며, 단, R8이 할로겐인 경우 E가 메틴이며, R8또는 R9가 OCHF2또는 SCHF2인 경우 E가 메틴이다.
  2. 제1항에 있어서, W가 산소인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  3. 제2항에 있어서, Z가 Z1이고, X가 산소 또는 황인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  4. 제3항에 있어서, E가 메틴인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  5. 제3항에 있어서, E가 질소인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, X가 산소인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  7. 제4항 또는 제5항에 있어서, R2가 수소, 불소, 염소, OCH3, OCHF2, 메틸, SCH3, 메톡시, 에톡시 또는 클로로에콕시이고, R8이 C1-C3알킬, C1-C3알콕시, C1-C2할로알콕시, 트리플루오로메틸, CHF2, CH2F, CH2OCH3, 불소, 염소, NH2, NHCH3, N(CH3)2, SCH3또는 CH2OCH3이고, R9가 C1-C3알킬, C1-C3알콕시, C1-C2할로알콕시 또는 시클로프로필인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  8. 제7항에 있어서, R2가 수소이고, R8이 메틸, 에틸 OCH3, OC2H5, OCHF2OCH2CF3, 염소, NHCH3, N(CH3)2, CH2OCH3이며, R9가 메틸, OCH3, OCHF2, OC2H5또는 시클로프로필인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  9. 제2항에 있어서, X가 황이고, R2가 수소, 불소, 염소, OCH3, OCHF2, 메틸 또는 메틸티오이고, R8이 C1-C3알킬, C1-C3알콕시, C1-C2할로알콕시, CF3, CHF2, CH2F, CH2OCH3, 불소, 염소, NH2, NHCH3, N(CH3)2, SCH3또는 CH2OCH3이고, R9가 C1-C3알킬, C1-C3알콕시, C1-C2할로알콕시 또는 시클로프로필인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  10. 제9항에 있어서, X가 황이고, R2가 수소이고, R8이 메틸, 에틸, OCH3, OCHF2, CO2H5,OCH2CF3, Cl, NHCH3, N(CH3)2또는 CH2OCH3이며, R9가 메틸, OCH3, OCHF2, OC2H5또는 시클로프로필인 일반식(Ⅰ)의 화합물.
  11. 제5항에 있어서, N-〔2-(옥세탄-3-옥시카르보닐)〕페닐술포닐-N'-(4-메톡시-6-메틸-1,3,5-트리아지닐)우레아.
  12. 제4항에 있어서, N-〔2-(옥세탄-3-옥시카르보닐)〕페닐술포닐-N'-(4,6-디메틸피리미딘-2-일)우레아.
  13. 제4항에 있어서, N-〔2-(옥세탄-3-옥시카르보닐)〕페닐술포닐-N'-(4-메톡시-6-메틸피리미딘-2-일)우레아.
  14. 제4항에 있어서, N-〔2-(옥세탄-3-옥시카르보닐)〕페닐술포닐-N'-(4,6-디메톡시피리미딘-2-일)우레아.
  15. a) 하기 일반식(Ⅱ)의 페닐술폰아미드를 염기 존재하에서 하기 일반식(Ⅲ)의 피리미디닐-, 트리아졸릴- 또는 트리아지닐카르바메이트 또는 -티오카르바메이트와 반응시키거나, b) 하기 일반식(Ⅳ)의 술포닐카르바메이트 또는 -티오카르바메이트를 염기 존재하에서 하기 일반식(Ⅴ)의 아민과 반응시키거나, c) 하기 일반식(Ⅱ)의 페닐술폰아미드를 염기 존재하에서 상기 일반식(Ⅶ)의 피리미디닐-, 트리아졸릴- 또는 트리아지닐 이소시아네이트 또는 이소티오시아네이트와, 반응시키는 것을 특징으로 포함하는 일반식(Ⅰ)의 화합물의 제조방법 :
    H2N-Z (Ⅴ)
    Y=N=C-Z (Ⅶ)
    상기 식에서, R1, R2, W, X 및 Z은 제1항에서 일반식(Ⅰ)에 대해 정의한 바와 같고, R15는 페닐 또는 C1-C4알킬- 혹은 할로겐-치환 페닐이며, Y는 산소 또는 황이다.
  16. 하기 일반식(Ⅱ)의 페닐술폰아미드 :
    상기 식에서, R2및 X는 제1항에서 일반식(Ⅰ)에 대해 정의한 바와 같다.
  17. 하기 일반식(Ⅷ)의 페닐술포닐클로라이드 :
    상기 식에서, R2및 X는 제1항에서 일반식(Ⅰ)에 대해 정의한 바와 같다.
  18. 하기 일반식(Ⅵ)의 술포닐카르바메이트 또는 -티오카르바메이트 :
    상기 식에서, R2, W, 및 Z은 제1항에서 일반식(Ⅰ)에 대해 정의한 바와 같고, R15는 페닐 또는 C1-C4알킬-또는 할로겐-치환 페닐이다.
  19. 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 술포닐우레아 및 -티오우레아를 하나 이상 함유하는 제초 및 식물생장 억제 조성물.
  20. 제19항에 있어서, 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 활성성분을 0.1 내지 95%함유하는 조성물.
  21. 유효량만큼의 제1항에 따른 일반식(Ⅰ)의 활성성분 또는 이러한 활성성분을 함유하는 조성물을 식물 또는 그의 환경에 적용하는 것을 포함하는, 바람직하지못한 식물 생장의 조절방법.
  22. 제21항에 있어서, 활성성분을 0.001 내지 2kg/헥트아르의 양으로 적용하는 방법.
  23. 유효량만큼의 제1항하에 따른 일반식(Ⅰ)의 활성성분 또는 이러한 활성성분을 함유하는 조성물을 식물 또는 그의 환경에 적용하는 것을 포함하는 식물 생장 조절방법.
  24. 제21항에 있어서, 유용 농작물내의 잡초를 발아전 또는 발아후 선택적으로 방제하기 위한 방법.
  25. 유용 농작물내의 잡초를 발아전 또는 발아후 선택적으로 방제하기 위한 제19항에 따른 조성물의 용도.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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