KR910010752A - 고속 댐퍼 다이오드 및 방법 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제5도는 본 발명에 따른 댐퍼 다이오드의 일부의 간이 약단면도
Claims (1)
- 고전압 고전류 고속 스위칭 다이오드에 있어서, 제1도전율형의 불순물이 많이 첨가된 반도체기판과, 제1두께 및 약 1015/:㎤와 길거나 보다 작은 제1불순물 농도의 기판상의 제1형인, 실질적으로 균일하게 불순물이 적게 첨가된 제1반도체 영역과, 제1두께와 실질적으로 같은 제2두께와,제1농도와 실질적으로 같은 제2불순물 농도를 갖는 제1영역위에 놓이는 제1형과 반대되는 제2형으로서, 제1영역과 PN접합을 형성하는 실질적으로 균일하게 불순물이 적게 첨가된 제2반도체 영역과 , 제2영역과 접촉하는 제2도전율형의 불순물이 많이 첨가된 제3영역을 구비하고, 제1및 제2두께는 실질적으로 같은 두께로 대략 50마이크로 미터 이상이고, 제1및 제2농도는 실질적으로 같은 농도로 대략5x1014/㎤이하인 다이오드.※ 참고 사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US44361589A | 1989-11-29 | 1989-11-29 | |
US443,615 | 1989-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR910010752A true KR910010752A (ko) | 1991-06-29 |
KR0149840B1 KR0149840B1 (ko) | 1998-10-01 |
Family
ID=23761509
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900015453A KR0149840B1 (ko) | 1989-11-29 | 1990-09-28 | 고속 댐퍼 다이오드 및 방법 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0431817B1 (ko) |
JP (1) | JP2833205B2 (ko) |
KR (1) | KR0149840B1 (ko) |
DE (1) | DE69026213T2 (ko) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69842207D1 (en) | 1998-06-01 | 2011-05-12 | Mitsubishi Electric Corp | Diode |
AT503964B1 (de) | 2007-01-23 | 2008-02-15 | Siemens Ag Oesterreich | Schaltungsanordnung zur begrenzung von spannungsüberhöhungen |
FR3107988B1 (fr) * | 2020-03-05 | 2023-11-10 | St Microelectronics Tours Sas | Formation d'un thyristor, triac ou diode de suppression de tensions transitoires |
CN116169181B (zh) * | 2022-09-30 | 2023-07-18 | 富芯微电子有限公司 | 一种低漏电低压tvs器件及其制造方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58115871A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-09 | Toshiba Corp | 高周波リミタダイオ−ド |
-
1990
- 1990-09-28 KR KR1019900015453A patent/KR0149840B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1990-11-27 DE DE69026213T patent/DE69026213T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-27 EP EP90312896A patent/EP0431817B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-28 JP JP2323377A patent/JP2833205B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0431817A1 (en) | 1991-06-12 |
KR0149840B1 (ko) | 1998-10-01 |
DE69026213T2 (de) | 1996-10-31 |
DE69026213D1 (de) | 1996-05-02 |
EP0431817B1 (en) | 1996-03-27 |
JP2833205B2 (ja) | 1998-12-09 |
JPH03229471A (ja) | 1991-10-11 |
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